JP2001094255A - プリント配線基板及びその製造方法 - Google Patents
プリント配線基板及びその製造方法Info
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Abstract
製造することのできるプリント配線基板の製造方法及び
そのような製造方法で得られるプリント配線基板を提供
する。 【解決手段】 絶縁性基板3の上下各面に配線パターン
1及び4を積層し、これら配線パターン1及び4の間を
絶縁性基板3内部に埋設した略円錐型の導体バンプ2,
2,…を介して電気的に接続した基板ユニット10を用
意し、これに接着剤シート5と、放熱材料層としての金
属板6とを配置してプレスすることにより、スルホール
を開けることなく基板厚さ方向の配線パターン1,4相
互間の電気的導通が達成され、しかも放熱材料層を備え
た多層板を形成する。
Description
係り、更に詳細には基板の厚さ方向に複数枚の配線パタ
ーンと絶縁性基板とが積層された「多層板」と呼ばれる
プリント配線基板及びその製造方法に関する。
は、プリント配線基板の厚さ方向にスルホールと呼ばれ
る貫通孔を穿孔する方法が知られている。
程を示した垂直断面図である。
は、絶縁性基板201の厚さ方向にスルホール204が
穿孔されており、このスルホール204の内壁面を鍍金
などを施すことにより金属層205を形成し、この金属
層205を介して絶縁性基板201の上面側の配線パタ
ーン202と下面側の配線パターン203との間で電気
的な導通を達成している。このようにスルホールを形成
する方法では、スルホール204を穿孔してその内壁面
を鍍金する関係上、完成したプリント配線基板にスルホ
ール204の内壁面を鍍金した貫通孔がそのまま残る。
要があるものがある。その場合には薄い配線パターンを
電気が流れるときの抵抗が原因で発熱量が大きくなるの
で、ヒートサプレッサと呼ばれる放熱用の金属板をプリ
ント配線基板210の外側から貼り付ける必要がある。
側にヒートサプレッサを配設する様子を示している。こ
の図6(a)に示したように、プリント配線基板210
の下側に接着剤シート206を配置し、更にヒートサプ
レッサ207を配置してプレスすることによりヒートサ
プレッサ207をプリント配線基板210の下側に配設
する。
方法ではプリント配線基板210自体にその厚さ方向の
貫通孔(スルホール)が開いているため、プリント配線
基板210、接着層206及びヒートサプレッサ207
をプレスすると、接着層206の接着剤がスルホール2
04に流れ込む場合がある。このようにスルホール20
4内に流れ込んだ接着剤はスルホール204を経由して
プリント配線基板210の上面側にまで溢れ出し、プリ
ント配線基板210上面側の導体層202より高い位置
まで突出したり、導体層202の表面を覆うことがあ
る。
するためにエッチングなどの処理を施す必要がある。更
にその配線パターンには半導体素子などを取り付ける必
要上、配線パターン202より高い位置まで接着剤が突
出している場合にはこれを削り取る必要があり、製造工
程が多くなるという問題がある。
接着剤がスルホール204内に流れ込まない場合もある
が、この場合にはスルーホール204内壁面の金属層2
05は露出している。そのため、導体層202をエッチ
ングする際に金属層205がエッチング液に触れて除去
され、導体層202と導体層203との間の電気的導通
が破壊されてしまう。これを防止するためにはスルホー
ル204内を樹脂などで充填して孔を塞ぐ必要がある
が、樹脂充填とその後の成形等の追加の工程が必要とな
り、製造工程が多くなるという問題がある。
なされた発明である。即ち、本発明は、少ない工程で品
質の高いプリント配線基板を製造することのできるプリ
ント配線基板の製造方法及びそのような製造方法で得ら
れるプリント配線基板を提供することを目的とする。
を多層化する際の製造工程が長いという問題がある。
うに一層ずつ順次積層する。即ち、コア材301の上下
両面の導体層をエッチングして配線パターンを形成する
とともに、スルホール322を穿孔し、このスルホール
322の内壁面に鍍金して上下の配線パターンを電気的
に接続する(図21(a))。
板310,320を積層し、さらにその上に導体層31
1,321を積層する(図21(c))。導体層31
1,321の上からレーザー光線などで穴323,32
4を開け、これらの穴323,324の内壁面に鍍金す
るなどして金属層を形成し厚さ方向の電気的導通を達成
する。以下同様に絶縁性基板327,328、導体層3
29,330の積層と、レーザーによる穴あけ、及び鍍
金からなる一連の工程を施すことにより一層ずつ積層し
ていく。
るのに一層ずつ形成してゆく必要があるため、工程数が
長く、製造に手間がかかりすぎるという問題がある。
なされた発明である。即ち、本発明は、少ない工程で品
質の高いプリント配線基板を製造することのできるプリ
ント配線基板の製造方法及びそのような製造方法で得ら
れるプリント配線基板を提供することを目的とする。
板は、絶縁性基板と、前記絶縁性基板の第1の面に形成
された第1の配線パターンと、前記絶縁性基板の第2の
面に形成された第2の配線パターンと、前記絶縁性基板
中に埋設され、前記第1の配線パターンと前記第2の配
線パターンとを電気的に接続する導体バンプと、前記第
2の配線パターン上に積層された接着層と、前記接着層
上に積層された放熱材料層と、を具備する。
層中には、前記第2の配線パターンと前記放熱材料層と
を熱伝達可能に接続する伝熱性バンプが埋設されていて
もよい。
記第2の配線パターンと前記接着層中との間には、少な
くとも1枚以上の絶縁性基板が積層されており、全体が
複数の絶縁性基板と導体板とを積層した多層板であって
も良い。
第1の導体板上に導体バンプを形成する工程と、前記第
1の導体板上に形成した導体バンプの先端側に絶縁性基
板プリプレグを配置する工程と、前記第1の導体板と前
記絶縁性基板プリプレグとをプレスして前記導体バンプ
を前記絶縁性基板プリプレグに貫通させる工程と、前記
絶縁性基板プリプレグの前記導体バンプ先端が貫通した
面上に第2の導体板を配設する工程と、前記第1の導体
板をエッチングして第1の配線パターンを形成する工程
と、前記第2の導体板をエッチングして第2の配線パタ
ーンを形成する工程と、前記第2の配線パターン上に接
着層を形成する工程と、前記接着層上に放熱材料層を積
層する工程と、を具備する。
は、第1の導体板上に導体バンプを形成する工程と、前
記第1の導体板上に形成した導体バンプの先端側に絶縁
性基板プリプレグを配置する工程と、前記第1の導体板
と前記絶縁性基板プリプレグとをプレスして前記導体バ
ンプを前記絶縁性基板プリプレグに貫通させる工程と、
前記絶縁性基板プリプレグの前記導体バンプ先端が貫通
した面上に第2の導体板を配設する工程と、前記第1の
導体板をエッチングして第1の配線パターンを形成する
工程と、前記第2の導体板をエッチングして第2の配線
パターンを形成する工程と、前記第2の配線パターン上
に、配線パターンを備えた絶縁性基板を少なくとも1層
積層する工程と、前記第1の配線パターンと反対側の配
線パターン上に接着層を形成する工程と、前記接着層上
に放熱材料層を積層する工程と、を具備する。
た複数の配線パターン相互間の電気的導通を導体バンプ
を用いることにより達成しているので、スルホールのよ
うな貫通孔は残らない。そのためスルホールを穿孔した
り、このスルホールを塞いだりする工程は必要ないの
で、工程数を少なくすることができる。
方法は、スルホールが形成され、表面に配線パターンを
備えた中間基板ユニットを形成する工程と、表面に配線
パターン及び導体バンプを備えた上側基板ユニットを形
成する工程と、表面に配線パターン及び導体バンプを備
えた下側基板ユニットを形成する工程と、前記上側基板
ユニット、絶縁性基板プリプレグ、中間基板ユニット、
絶縁性基板プリプレグ、及び、下側基板ユニットを積層
する工程と、前記上側基板ユニット及び下側基板ユニッ
トを中間基板ユニットに向けてプレスする工程と、前記
上側基板ユニット又は下側基板ユニット表面に穴あけ加
工して基板ユニットの内側の配線パターンを露出させる
工程と、前記穴あけ加工して得られた穴の表面に導体層
を形成し、基板ユニット表面の配線パターンと、前記露
出した配線パターンとを電気的に接続する工程と、を具
備することを特徴とする。
基板の製造方法は、表面に配線パターン及び導体バンプ
を備えた上側基板ユニットを形成する工程と、表面に配
線パターンを備えた中間基板ユニットを形成する工程
と、表面に配線パターン及び導体バンプを備えた下側基
板ユニットを形成する工程と、前記上側基板ユニット、
絶縁性基板プリプレグ、中間基板ユニット、絶縁性基板
プリプレグ、及び、下側基板ユニットを積層する工程
と、前記上側基板ユニット及び下側基板ユニットを前記
中間基板ユニットに向けてプレスする工程と、前記積層
した上側基板ユニット又は下側基板ユニットに穴及び貫
通孔を形成する工程と、前記穴及び貫通孔内に導体層を
形成して前記配線パターン相互間を電気的に接続する工
程と、を具備する。
工程はドリリングやレーザー光線による方法など、既知
の方法を用いることができる。
ならず、半導体パッケージとしても用いることができ
る。
た複数の配線パターン相互間の電気的導通を導体バンプ
を用いることにより達成しているので、スルホールのよ
うな貫通孔は残らない。そのためスルホールを穿孔した
り、このスルホールを塞いだりする工程は必要ないの
で、工程数を少なくすることができる。
のプリント配線基板及びその製造方法について、一実施
形態について説明する。図1は本実施形態に係るプリン
ト配線基板11の製造工程を示した工程図であり、図2
及び図3は本実施形態に係るプリント配線基板11の製
造工程を図示した垂直断面図である。
の導体板1を用意し、この導体板1の片面に所定のパタ
ーンに従って複数個の略円錐形状の導体バンプ2,2,
…を印刷技術などを用いて形成する(図2(b))。次
いで前記導体板1の表面に形成した導体バンプ2,2,
…の先端側の位置に絶縁性基板プリプレグ3を配置する
(図2(c))。この状態で導体板1と絶縁性基板プリ
プレグ3とを例えば弾性材料を介してプレスする。この
プレスにより導体バンプ2,2,…は絶縁性基板プリプ
レグ3を貫通し、導体バンプ2,2,…の先端は絶縁性
基板プリプレグ3の反対側に突出する。この先端が突出
する際に導体バンプ2,2,…の先端は前記弾性材料に
突き当てられるために変形して先端が丸くなると同時
に、導体バンプ2,2,…の形状は導体板1に平行な方
向に広がり、図2(d)に示したような形状になる。こ
の導体バンプ2,2,…の先端が突き出た側の絶縁性基
板プリプレグ3の面側に鍍金などにより導体層4を形成
する(図2(e))。こうして形成された硬化前の基板
10に加熱などの処理を施すことにより、絶縁性基板プ
リプレグ3を硬化させて基板10を得る。
ついてエッチングなどを施すことにより配線パターンを
形成して基板ユニット10aを得る(図3(a))。
下面側に接着層としての接着剤シート5と、更にその下
側に放熱板としての金属板6とを配置し(図3
(b))、この状態でプレスする。このプレスにより基
板ユニット10aと金属板6とが接着剤シート5により
接着される。
ば、導体バンプ2,2,…を絶縁性基板プリプレグ中に
埋設し、この絶縁性プリプレグ2,2,…を介して基板
厚さ方向に配設された複数の配線パターン間の電気的導
通を図っている。そのため、スルホールを穿孔する必要
がなく、その穿孔のための工程を省略できる分、工程数
を少なくすることができる。また、スルホール自体を設
けないので、基板ユニット10aに貫通孔が形成されな
い。そのため、基板ユニット10aと接着剤シート5と
金属板6とを重ね合わせてプレスしても接着剤シート5
の接着剤がスルホール内に入り込んで起こるトラブルが
未然に防止される。
面側の導体板をエッチングして配線パターンを形成する
際にもスルホール内にエッチング液が流れ込んで基板両
面間の電気的接続が断たれる虞れもない。
された発明に限定されない。例えば、上記実施形態では
プリント配線基板について説明したが、本発明は、プリ
ント基板のみならず半導体パッケージとしても使用可能
である。
ターンを備えた1枚の基板ユニット10aの下面側に接
着層5を介して金属板6を配設した構造のプリント配線
基板11を例にして説明したが、更に多層構造に積層し
た多層板についても同様に適用できる。
の変形例を示した垂直断面図である。このプリント配線
基板では複数の絶縁性基板21〜23と複数の配線パタ
ーン24〜27とを積層した多層構造を備えた多層板2
0の下面側に接着剤シート24と放熱材料層としての金
属板25とを積層した構造を備えている。この場合、金
属板25を取り付けるのと反対側の最外層、即ち図面で
は最上部に位置する絶縁性基板21のみが導体バンプ2
6,26,…で基板厚さ方向の電気的導通が形成されて
いればよく、内側に積層される絶縁性基板22や絶縁性
基板23の電気的導通は導体バンプ、スルホールめっ
き、その他の既知の方法で形成されていれば良い。少な
くとも最外層側の絶縁性基板21が導体バンプ26,2
6,…で電気的導通が形成されており、スルホールが穿
孔されていなければ、接着剤が最外層側にまで溢れ出る
ことがなく、しかも、エッチング液がスルホール内へ進
入して断線を引き起こすトラブルが未然に防止できるか
らである。
実施形態について説明する。なお、第2の実施形態のう
ち、上記第1の実施形態と重複する内容については説明
を省略する。
線基板の製造工程を示した垂直断面図である。本実施形
態のプリント配線基板では接着層中にも導体バンプを埋
設している。
製造方法について説明する。
層としての金属板35を用意し(図5(a))、この金
属板35の表面上に伝熱性バンプ35,35,…を印刷
技術などを用いて形成する(図5(b))。ここで、こ
の伝熱性バンプは熱を伝達しやすい材料からなるバンプ
であればどのような材料から構成されていても良い。上
記第1の実施形態で用いた導体バンプ2,2,…と同じ
ように、銀ペーストのような、熱のみならず電気をも伝
導しやすい性質の材料から構成されたバンプであっても
よい。但しその場合には、このバンプ(導体バンプ)の
先端が押圧される配線パターンはプリント配線基板の接
地部を構成する配線パターンであることが求められる。
の、上下各面に配線パターン1及び4が形成された基板
ユニット10aを用意し、この基板ユニット10aの下
面側に接着層としての接着剤シート34を配置し、更に
その下側に先ほど伝熱性バンプ32,32,…を形成し
た金属板35を配置する(図5(c))。
aとをプレスすると、図5(d)に示したように伝熱性
バンプ32,32,…が接着剤シート34内を貫通して
基板ユニット10aの下面側の配線パターン1と接触し
た状態のプリント配線基板が得られる。
2,32,…が接着剤シート34内を貫通して金属板3
5と配線パターン1との間を熱的に接続しているので、
この伝熱性バンプ32,32,…が熱の通り道として機
能する。そのため、配線パターン1で生じた熱がこの伝
熱性バンプ32,32,…を通って金属板35に放出さ
れるので配線パターン1、ひいてはプリント配線基板の
冷却効果が向上する、という特有の効果が得られる。
施形態について説明する。
の製造工程を図示した工程図である。 本実施形態に係
るプリント配線基板の製造方法を説明するにあたり、最
初に中間基板ユニットしてのコア材の製造について説明
する。図8はコア材の製造工程を示した垂直断面図であ
る。
基板のプリプレグ(以下「プリプレグ」という。)50
を用意し(図8(a))、このプリプレグ50の上下両
面に、例えば銅箔等からなる導体層51,52を積層し
て加熱下に加圧してプリプレグ50を硬化させる(図8
(b))。この硬化時に導体層51,52とプリプレグ
50とが接着し、コア材53が得られる。次にこのコア
材53の導体層51,52にそれぞれエッチング処理な
どを施すことにより所定の配線パターン51a、52a
をそれぞれ形成する(図8(c))。次いでこのコア材
53にドリリングやレーザー光線など既知の方法により
スルホール54を穿孔する(図8(d))。しかる後に
このスルホール54内壁に対して無電解めっきなどを施
して金属層55を形成し、この金属層55を介して配線
パターン51aと52aとの間を電気的に接続する(図
8(e))。
造について説明する。
ユニットの製造工程を示した垂直断面図である。
61,62を形成した積層板63を用意し(図9
(a))、積層板63の下面側の導体層62にエッチン
グ処理を施して所定の配線パターン62aを形成する
(図9(b))。次いでこの配線パターン62a上に導
体バンプ64,64,…を印刷技術等を用いて形成して
上側基板ユニット63aを得る(図9(c))。
層71,72を形成した積層板73を用意し(図10
(a))、積層板73の上面側の導体層71にエッチン
グ処理を施して所定の配線パターン71aを形成する
(図10(b))。次いでこの配線パターン71a上に
導体バンプ74,74,…を印刷技術等を用いて形成し
て下側基板ユニット73aを得る(図10(c))。
の上面側と導体バンプ64を下面側に向けた基板ユニッ
ト63aとの間に絶縁性基板プリプレグ65を配置し、
コア材53の下面側と導体バンプ74を上面側に向けた
基板ユニット73aとの間に絶縁性基板プリプレグ66
を配置する(図11)。この状態で上側基板ユニット6
3aと下側基板ユニット73aとをコア材53に向けて
プレスする。
4,…が絶縁性基板プリプレグ65を貫通してコア材5
3上面の配線パターン51aに押し当てられて配線パタ
ーン62aと配線パターン51aとを電気的に接続す
る。同様に、導体バンプ74,74,…が絶縁性基板プ
リプレグ66を貫通してコア材53下面の配線パターン
52aに押し当てられて配線パターン71aと配線パタ
ーン52aとを電気的に接続する(図12)。
熱して絶縁性基板プリプレグ65,66を硬化させた
後、最上部の導体層61と最下部の導体層72とをエッ
チング処理などによりパターン形成して配線パターン6
1a,72aをそれぞれ形成する(図13)。
ングやレーザー光線を照射するなどの処理を施して配線
パターン61aとその下側にある絶縁性基板60を除去
して穴76を開け、更に下側にある配線パターン62a
の表面を露出させる(図14)。全く同様にして多層板
75の下表面にドリリングやレーザー光線を照射するな
どの処理を施して配線パターン72aとその上側にある
絶縁性基板70を除去して穴77を開け、更に上側にあ
る配線パターン71aの表面を露出させる(図14)。
っきなどの処理を施して金属層78を形成し、配線パタ
ーン61aと配線パターン62aとを電気的に接続する
(図15)。同様に、穴77に対して無電解めっきなど
の処理を施して金属層79を形成し、配線パターン71
aと配線パターン72aとを電気的に接続する。
は、導体バンプ貫通法とドリリングやレーザー光線によ
る穴あけ、メッキ工程とを組み合わせているので、一層
ずつ積層してゆく従来の方法に比べて工程数が少なくて
済み、その分、短時間で効率よくプリント配線基板を製
造することができる。
接着シートを介して放熱材料層としての金属板を貼付し
てもよい。図16は本実施形態の多層板75の下面側に
接着剤シート80を介して金属板81を積層した状態を
示した垂直断面図である。このように金属板81を積層
することにより放熱性を向上させることができる。
実施形態について説明する。なお、上記実施形態と重複
する部分については説明を省略する。図17及び図18
は本実施形態に係る多層板の製造工程を示す垂直断面図
である。図17に示した基板94,114については上
記第3の実施形態と同様の方法により、絶縁性基板プリ
プレグ90,110の各両面に導体板をそれぞれ積層
し、パターン形成して配線パターン91,92及び配線
パターン111,112をそれぞれ形成した後、導体バ
ンプ93,93,…を配線パターン92上に形成し、導
体バンプ113,113,…を配線パターン111上に
形成することにより製造した。また、コア材103につ
いては、絶縁性基板プリプレグ100両面に導体板を積
層した後に加熱硬化し、パターン形成して配線パターン
101,102を形成して得た。
4,下側基板ユニット114とコア材103とを図17
に示したように、上側基板ユニット94、絶縁性基板プ
リプレグ120、コア材103、絶縁性基板プリプレグ
121、下側基板ユニット114をこの順に上から配置
し、導体バンプ93,93,…及び導体バンプ113,
113,…がコア材103の方を向くように配置する
(図17)。
板ユニット114とをコア材103に向けてプレスす
る。
…が絶縁性基板プリプレグ120を貫通して先端部が配
線パターン101と接触し、この導体バンプ93,9
3,…により配線パターン92と配線パターン101と
を電気的に接続させる(図18)。全く同様に、プレス
により導体バンプ113,113,…が絶縁性基板プリ
プレグ121を貫通して先端部が配線パターン102と
接触し、この導体バンプ113,113,…により配線
パターン111と配線パターン102とを電気的に接続
させる(図18)。
を加熱して絶縁性基板プリプレグ120,121を硬化
させ、パターン形成して配線パターン91a,112a
を形成する。しかる後にドリリングを施したりレーザー
光線などを多層板130表面に照射するなどして穴13
0,131を形成するとともに、貫通孔132を穿孔す
る。次に無電解めっき法などにより、金属層133,1
34,135を形成する。この金属層133により配線
パターン91aと配線パターン92との間が電気的に接
続され、金属層134により配線パターン111と配線
パターン112aとの間が電気的に接続される。
a、92、101、111、及び112aの間が電気的
に接続される。
導体バンプ貫通法とドリリングやレーザー光線による穴
あけ、メッキ工程とを組み合わせているので、一層ずつ
積層してゆく従来の方法に比べて工程数が少なくて済
み、その分、短時間で効率よくプリント配線基板を製造
することができる。また、とくにドリリングやレーザー
光線を用いて穴130、131と貫通孔132とを開け
てから金属層133,134及び132を形成するの
で、一度に金属層133,134及び132を形成する
ことができるという効果が得られる。
設された複数の配線パターン相互間の電気的導通を導体
バンプを用いることにより達成しているので、スルーホ
ールのような貫通孔は残らない。そのためスルーホール
を穿孔したり、このスルーホールを塞いだりする工程は
必要ないので、工程数を少なくすることができる。
工程図である。
垂直断面図である。
垂直断面図である。
直断面図である。
垂直断面図である。
直断面図である。
工程図である。
垂直断面図である。
垂直断面図である。
た垂直断面図である。
た垂直断面図である。
た垂直断面図である。
た垂直断面図である。
た垂直断面図である。
た垂直断面図である。
た垂直断面図である。
た垂直断面図である。
た垂直断面図である。
た垂直断面図である。
た垂直断面図である。
垂直断面図である。
Claims (7)
- 【請求項1】 絶縁性基板と、 前記絶縁性基板の第1の面に形成された第1の配線パタ
ーンと、 前記絶縁性基板の第2の面に形成された第2の配線パタ
ーンと、 前記絶縁性基板中に埋設され、前記第1の配線パターン
と前記第2の配線パターンとを電気的に接続する導体バ
ンプと、 前記第2の配線パターン上に積層された接着層と、 前記接着層上に積層された放熱材料層と、 を具備することを特徴とするプリント配線基板。 - 【請求項2】 請求項1に記載のプリント配線基板であ
って、前記接着層中には、前記第2の配線パターンと、
前記放熱材料層とを熱伝達可能に接続する伝熱性バンプ
が埋設されていることを特徴とするプリント配線基板。 - 【請求項3】 請求項1に記載のプリント配線基板であ
って、前記第2の配線パターンと前記接着層中との間に
は、少なくとも1枚以上の絶縁性基板が積層されている
ことを特徴とするプリント配線基板。 - 【請求項4】 第1の導体板上に導体バンプを形成する
工程と、 前記第1の導体板上に形成した導体バンプの先端側に絶
縁性基板プリプレグを配置する工程と、 前記第1の導体板と前記絶縁性基板プリプレグとをプレ
スして前記導体バンプを前記絶縁性基板プリプレグに貫
通させる工程と、 前記絶縁性基板プリプレグの前記導体バンプ先端が貫通
した面上に第2の導体板を配設する工程と、 前記絶縁性基板プリプレグを硬化させる工程と、 前記第1の導体板をエッチングして第1の配線パターン
を形成する工程と、 前記第2の導体板をエッチングして第2の配線パターン
を形成する工程と、 前記第2の配線パターン上に接着層と放熱材料層を配置
する工程と、 前記配線パターンを形成した絶縁性基板、接着層、放熱
材料層をプレスする工程と、を具備することを特徴とす
るプリント配線基板の製造方法。 - 【請求項5】 第1の導体板上に導体バンプを形成する
工程と、 前記第1の導体板上に形成した導体バンプの先端側に絶
縁性基板プリプレグを配置する工程と、 前記第1の導体板と前記絶縁性基板プリプレグとをプレ
スして前記導体バンプを前記絶縁性基板プリプレグに貫
通させる工程と、 前記絶縁性基板プリプレグの前記導体バンプ先端が貫通
した面上に第2の導体板を配設する工程と、 前記絶縁性基板プリプレグを硬化する工程と、 前記第1の導体板をエッチングして第1の配線パターン
を形成する工程と、 前記第2の導体板をエッチングして第2の配線パターン
を形成する工程と、 前記第2の配線パターン上に、配線パターンを備えた絶
縁性基板を少なくとも1層積層する工程と、 前記第1の配線パターンと反対側の配線パターン上に接
着層と放熱材料層を配置する工程と、 前記配線パターンが形成された絶縁性基板、接着層、放
熱材料層をプレスする工程と、を具備することを特徴と
するプリント配線基板の製造方法。 - 【請求項6】 スルホールが形成され、表面に配線パタ
ーンを備えた中間基板ユニットを形成する工程と、 表面に配線パターン及び導体バンプを備えた上側基板ユ
ニットを形成する工程と、 表面に配線パターン及び導体バンプを備えた下側基板ユ
ニットを形成する工程と、 前記上側基板ユニット、絶縁性基板プリプレグ、中間基
板ユニット、絶縁性基板プリプレグ、及び、下側基板ユ
ニットを積層する工程と、 前記上側基板ユニット及び下側基板ユニットを中間基板
ユニットに向けてプレスする工程と、 前記上側基板ユニット又は下側基板ユニット表面に穴あ
け加工して基板ユニットの内側の配線パターンを露出さ
せる工程と、前記穴あけ加工して得られた穴の表面に導
体層を形成し、基板ユニット表面の配線パターンと、前
記露出した配線パターンとを電気的に接続する工程と、
を具備することを特徴とするプリント配線基板の製造方
法。 - 【請求項7】 表面に配線パターン及び導体バンプを備
えた上側基板ユニットを形成する工程と、 表面に配線パターンを備えた中間基板ユニットを形成す
る工程と、 表面に配線パターン及び導体バンプを備えた下側基板ユ
ニットを形成する工程と、 前記上側基板ユニット、絶縁性基板プリプレグ、中間基
板ユニット、絶縁性基板プリプレグ、及び、下側基板ユ
ニットを積層する工程と、 前記上側基板ユニット及び下側基板ユニットを前記中間
基板ユニットに向けてプレスする工程と、前記積層した
上側基板ユニット又は下側基板ユニットに穴及び貫通孔
を形成する工程と、前記穴及び貫通孔内に導体層を形成
して前記配線パターン相互間を電気的に接続する工程
と、を具備することを特徴とするプリント配線基板の製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP26462599A JP3933822B2 (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | プリント配線基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP26462599A JP3933822B2 (ja) | 1999-09-17 | 1999-09-17 | プリント配線基板及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2001094255A true JP2001094255A (ja) | 2001-04-06 |
JP3933822B2 JP3933822B2 (ja) | 2007-06-20 |
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---|---|
JP (1) | JP3933822B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008311612A (ja) * | 2007-06-13 | 2008-12-25 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 多層プリント基板およびその製造方法 |
US7473099B2 (en) | 2006-07-06 | 2009-01-06 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Printed circuit board and manufacturing method thereof |
KR101196529B1 (ko) * | 2004-04-09 | 2012-11-01 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 경연성 기판 및 그 제조 방법 |
JP2012226053A (ja) * | 2011-04-18 | 2012-11-15 | Dainippon Printing Co Ltd | 電子ペーパー用背面電極基材および電子ペーパー |
-
1999
- 1999-09-17 JP JP26462599A patent/JP3933822B2/ja not_active Expired - Fee Related
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