JP2001080935A - 陶磁器釉薬用フリットの製造方法 - Google Patents
陶磁器釉薬用フリットの製造方法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C8/00—Enamels; Glazes; Fusion seal compositions being frit compositions having non-frit additions
- C03C8/02—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form
- C03C8/04—Frit compositions, i.e. in a powdered or comminuted form containing zinc
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 平滑性、緻密性および鮮映性が高く、汚れの
付き難い陶磁器表面を具現するフリットを提供する。 【解決手段】 酸化物重量比で、ＳｉＯ2 が５５％以
上、Ａｌ2 Ｏ3 が５％以上で、かつＳｉＯ2 とＡｌ2 Ｏ
3 との合計量が６０〜８５％、アルカリ土類金属酸化物
が２〜２０％、ＺｎＯが２〜１５％、アルカリ金属酸化
物が２〜７％、Ｂ2Ｏ3 が０〜５％、ＴｉＯ2 および／
またはＺｒＯ2 が０〜４％、ＭｏＯ3 が０〜３になるよ
う原料を混合する。この混合物を１４５０℃〜１６５０
℃で溶融する。この溶融物を６００〜１５００℃／秒の
冷却速度で急冷する。
付き難い陶磁器表面を具現するフリットを提供する。 【解決手段】 酸化物重量比で、ＳｉＯ2 が５５％以
上、Ａｌ2 Ｏ3 が５％以上で、かつＳｉＯ2 とＡｌ2 Ｏ
3 との合計量が６０〜８５％、アルカリ土類金属酸化物
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物が２〜７％、Ｂ2Ｏ3 が０〜５％、ＴｉＯ2 および／
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う原料を混合する。この混合物を１４５０℃〜１６５０
℃で溶融する。この溶融物を６００〜１５００℃／秒の
冷却速度で急冷する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、平滑性、緻密性お
よび鮮映性が高く、汚れの付き難い陶磁器表面を具現す
るフリットの製造方法、および該フリットをベースとし
た釉薬を用いた陶磁器の製造方法に関する。
よび鮮映性が高く、汚れの付き難い陶磁器表面を具現す
るフリットの製造方法、および該フリットをベースとし
た釉薬を用いた陶磁器の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】今日、和食器、洋食器を始め置物、タイ
ル、洗面ボール、釉薬瓦、衛生用品、調理器、工芸品な
ど多くの陶磁器製品が、日常生活の中に深く根を下ろ
し、至る所で使用されている。しかし食器や調理器、衛
生用製品などでは長年の使用中に次第に汚れが付き易く
なり、遂には汚れが落ちなくなることがよくある。
ル、洗面ボール、釉薬瓦、衛生用品、調理器、工芸品な
ど多くの陶磁器製品が、日常生活の中に深く根を下ろ
し、至る所で使用されている。しかし食器や調理器、衛
生用製品などでは長年の使用中に次第に汚れが付き易く
なり、遂には汚れが落ちなくなることがよくある。
【０００３】従来、陶磁器表面に汚れを付きにくくした
り、付いた汚れを容易に取り除く試みが検討されて来た
が、まだ有効な方法はない。
り、付いた汚れを容易に取り除く試みが検討されて来た
が、まだ有効な方法はない。
【０００４】陶磁器表面に汚れが付く一つの原因とし
て、陶磁器表面に存在する細かいへこみやピンホール、
毛穴などに汚れが付着し、洗浄によっても完全に落ち
ず、汚れが少しづつ堆積して、遂にはその汚れが洗浄で
は取り除くことが困難になることが考えられる。
て、陶磁器表面に存在する細かいへこみやピンホール、
毛穴などに汚れが付着し、洗浄によっても完全に落ち
ず、汚れが少しづつ堆積して、遂にはその汚れが洗浄で
は取り除くことが困難になることが考えられる。
【０００５】陶磁器表面に汚れが付きにくくなるよう
に、釉薬に抗菌剤を添加し、陶磁器表面に抗菌作用を付
加した製品が提案されているが、抗菌作用と汚れの付き
にくさや汚れの落ち易さとは直接関係はない。一方、特
許第２７５６４７４号が提案する光触媒親水性コーティ
ングを陶磁器製品表面に施す方法は極めて有効であると
考えるが、この方法では一旦焼成した製品の表面にさら
に別工程で親水コーティングを施さなければならず、工
程数が増え、コスト高を招く難点がある。
に、釉薬に抗菌剤を添加し、陶磁器表面に抗菌作用を付
加した製品が提案されているが、抗菌作用と汚れの付き
にくさや汚れの落ち易さとは直接関係はない。一方、特
許第２７５６４７４号が提案する光触媒親水性コーティ
ングを陶磁器製品表面に施す方法は極めて有効であると
考えるが、この方法では一旦焼成した製品の表面にさら
に別工程で親水コーティングを施さなければならず、工
程数が増え、コスト高を招く難点がある。
【０００６】釉薬組成としてこれまで主として検討され
てきたのは、付着した汚れを洗剤などにより洗浄する場
合、ある種の洗剤では釉薬層表面が侵されるため、これ
を防止する釉薬組成を特定することであった。しかし、
このように洗剤に強い釉薬組成を特定したとしても、釉
薬瓦、衛生陶器、タイルなどのように建造物の一部とし
て使用される陶磁器製品では、上記特定組成は汚れが付
き難い或いは付いた汚れが落ち易いという効果にはつな
がっていない。
てきたのは、付着した汚れを洗剤などにより洗浄する場
合、ある種の洗剤では釉薬層表面が侵されるため、これ
を防止する釉薬組成を特定することであった。しかし、
このように洗剤に強い釉薬組成を特定したとしても、釉
薬瓦、衛生陶器、タイルなどのように建造物の一部とし
て使用される陶磁器製品では、上記特定組成は汚れが付
き難い或いは付いた汚れが落ち易いという効果にはつな
がっていない。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】そこで、陶磁器表面が
微細なへこみやピンホール、毛穴を有さず、平滑で緻密
性、鮮映性に優れた表面であれば、汚れが付きにくく、
例え汚れがついても容易に取り除くことができることに
着目した。このような陶磁器表面はある特定条件の下で
製造された高粘性フリットを釉薬として用いることで具
現できることを見出し、本発明を完成するに至った。
微細なへこみやピンホール、毛穴を有さず、平滑で緻密
性、鮮映性に優れた表面であれば、汚れが付きにくく、
例え汚れがついても容易に取り除くことができることに
着目した。このような陶磁器表面はある特定条件の下で
製造された高粘性フリットを釉薬として用いることで具
現できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、酸化物重量比
で、ＳｉＯ2 が５５％以上、Ａｌ2 Ｏ3 が５％以上で、
かつＳｉＯ2 とＡｌ2 Ｏ3 との合計量が６０〜８５％、
アルカリ土類金属酸化物が２〜２０％、ＺｎＯが２〜１
５％、アルカリ金属酸化物が２〜７％、Ｂ2 Ｏ3 が０〜
５％、ＴｉＯ2 および／またはＺｒＯ2 が０〜４％、Ｍ
ｏＯ3 が０〜３になるよう原料を混合し、この混合物を
１４５０℃〜１６５０℃で溶融した後、この溶融物を６
００〜１５００℃／秒の冷却速度で急冷することを特徴
とする陶磁器釉薬用フリットの製造方法である。
で、ＳｉＯ2 が５５％以上、Ａｌ2 Ｏ3 が５％以上で、
かつＳｉＯ2 とＡｌ2 Ｏ3 との合計量が６０〜８５％、
アルカリ土類金属酸化物が２〜２０％、ＺｎＯが２〜１
５％、アルカリ金属酸化物が２〜７％、Ｂ2 Ｏ3 が０〜
５％、ＴｉＯ2 および／またはＺｒＯ2 が０〜４％、Ｍ
ｏＯ3 が０〜３になるよう原料を混合し、この混合物を
１４５０℃〜１６５０℃で溶融した後、この溶融物を６
００〜１５００℃／秒の冷却速度で急冷することを特徴
とする陶磁器釉薬用フリットの製造方法である。
【０００９】本発明による製造方法により、重量で、Ｓ
ｉＯ2 が５５％以上、Ａｌ2 Ｏ3 が５％以上で、かつＳ
ｉＯ2 とＡｌ2 Ｏ3 との合計量が６０〜８５％、アルカ
リ土類金属酸化物が２〜２０％、ＺｎＯが２〜１５％、
アルカリ金属酸化物が２〜７％、Ｂ2 Ｏ3 が０〜５％、
ＴｉＯ2 および／またはＺｒＯ2 が０〜４％、ＭｏＯ3
が０〜３であるフリットが得られる。
ｉＯ2 が５５％以上、Ａｌ2 Ｏ3 が５％以上で、かつＳ
ｉＯ2 とＡｌ2 Ｏ3 との合計量が６０〜８５％、アルカ
リ土類金属酸化物が２〜２０％、ＺｎＯが２〜１５％、
アルカリ金属酸化物が２〜７％、Ｂ2 Ｏ3 が０〜５％、
ＴｉＯ2 および／またはＺｒＯ2 が０〜４％、ＭｏＯ3
が０〜３であるフリットが得られる。
【００１０】アルカリ土類金属酸化物としては、Ｍｇ
Ｏ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯなどが単独でまたは２以上
の組合せで用いられる。
Ｏ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯなどが単独でまたは２以上
の組合せで用いられる。
【００１１】アルカリ金属酸化物としては、Ｌｉ2 Ｏ、
Ｎａ2 Ｏ、Ｋ2 Ｏなどが単独でまたは２以上の組合せで
用いられる。
Ｎａ2 Ｏ、Ｋ2 Ｏなどが単独でまたは２以上の組合せで
用いられる。
【００１２】次に、本発明によるフリットの構成成分の
作用および重量比の限定理由について述べる。
作用および重量比の限定理由について述べる。
【００１３】本発明によるフリットにおいて、ＳｉＯ2
およびＡｌ2 Ｏ3 はガラスマトリックスの骨格を形成す
る基本成分である。ＳｉＯ2 が５５％以上、Ａｌ2 Ｏ3
が５％以上でそれらの合計量が６０〜８５％と限定され
るのは、当該フリットからなる釉薬を用いて陶磁器製品
を施釉する際、釉薬溶融時の粘性が高く、泡が釉薬層内
に存在し難くし、毛穴やピンホールの発生が抑えられる
ためである。上記合計量が８５％を越えると、フリット
製造時、１６５０℃以下の温度での溶融が著しく困難に
なる。
およびＡｌ2 Ｏ3 はガラスマトリックスの骨格を形成す
る基本成分である。ＳｉＯ2 が５５％以上、Ａｌ2 Ｏ3
が５％以上でそれらの合計量が６０〜８５％と限定され
るのは、当該フリットからなる釉薬を用いて陶磁器製品
を施釉する際、釉薬溶融時の粘性が高く、泡が釉薬層内
に存在し難くし、毛穴やピンホールの発生が抑えられる
ためである。上記合計量が８５％を越えると、フリット
製造時、１６５０℃以下の温度での溶融が著しく困難に
なる。
【００１４】アルカリ土類金属酸化物は、釉薬層の平滑
性を改善し、透明性と光沢に影響する成分である。アル
カリ土類金属酸化物の重量比が２〜２０％と限定される
のは、アルカリ土類金属酸化物の重量比が２％未満では
必要な平滑釉薬面が得られず、２０％を越えると釉薬の
失透や乳濁等を生じ易くなり、釉薬層の緻密さや鮮映性
が著しく低下するからである。
性を改善し、透明性と光沢に影響する成分である。アル
カリ土類金属酸化物の重量比が２〜２０％と限定される
のは、アルカリ土類金属酸化物の重量比が２％未満では
必要な平滑釉薬面が得られず、２０％を越えると釉薬の
失透や乳濁等を生じ易くなり、釉薬層の緻密さや鮮映性
が著しく低下するからである。
【００１５】ＺｎＯは釉薬の平滑性を改善し、光沢と透
明性に影響する成分である。ＺｎＯの重量比が２〜１５
％と限定されるのは、ＺｎＯの重量比が２％未満では必
要な平滑性、緻密性、鮮映性が得られず、１５％を越え
ると釉薬の失透や乳濁などを招き、表面の緻密さ、平滑
さや鮮映さが失われるためである。
明性に影響する成分である。ＺｎＯの重量比が２〜１５
％と限定されるのは、ＺｎＯの重量比が２％未満では必
要な平滑性、緻密性、鮮映性が得られず、１５％を越え
ると釉薬の失透や乳濁などを招き、表面の緻密さ、平滑
さや鮮映さが失われるためである。
【００１６】アルカリ金属酸化物は釉薬の溶融性を改善
し、透明で光沢のある釉薬層の形成に影響する成分であ
る。アルカリ金属酸化物の重量比が２〜７％と限定され
るのは、アルカリ金属酸化物の重量比が２％未満では平
滑な釉薬層が得られず、７％を越えると釉薬の粘性が必
要以上に低下してへこみやピンホール、毛穴などの欠陥
部を誘発し易くなるからである。
し、透明で光沢のある釉薬層の形成に影響する成分であ
る。アルカリ金属酸化物の重量比が２〜７％と限定され
るのは、アルカリ金属酸化物の重量比が２％未満では平
滑な釉薬層が得られず、７％を越えると釉薬の粘性が必
要以上に低下してへこみやピンホール、毛穴などの欠陥
部を誘発し易くなるからである。
【００１７】Ｂ2 Ｏ3 は釉薬の溶融性に影響する成分で
ある。Ｂ2 Ｏ3 の重量比が０〜５％と限定されるのは、
Ｂ2 Ｏ3 の重量比が５％を越えると釉薬の粘性が著しく
低下し、釉薬層にへこみやピンホール、毛穴などがを誘
発し易くなるからである。
ある。Ｂ2 Ｏ3 の重量比が０〜５％と限定されるのは、
Ｂ2 Ｏ3 の重量比が５％を越えると釉薬の粘性が著しく
低下し、釉薬層にへこみやピンホール、毛穴などがを誘
発し易くなるからである。
【００１８】ＴｉＯ2 およびＺｒＯ2 はいずれも釉薬の
化学的耐久性を向上させる成分である。これら片方又は
両方の合計量が０〜４％と限定されるのは、これら片方
又は両方の合計量が４％を越えると釉薬の結晶化を促進
したり、釉薬が黄色〜黄褐色に着色したりして陶磁器製
品の外観を損なうためである。
化学的耐久性を向上させる成分である。これら片方又は
両方の合計量が０〜４％と限定されるのは、これら片方
又は両方の合計量が４％を越えると釉薬の結晶化を促進
したり、釉薬が黄色〜黄褐色に着色したりして陶磁器製
品の外観を損なうためである。
【００１９】ＭｏＯ3 は釉薬面の光沢と緻密性に影響す
る成分である。ＭｏＯ3 の重量比が０〜３％と限定され
るのは、ＭｏＯ3 の重量比が３％を越えるとフリットが
黄褐色に着色し、釉薬として用いた時に製品の品質を低
下させるからである。
る成分である。ＭｏＯ3 の重量比が０〜３％と限定され
るのは、ＭｏＯ3 の重量比が３％を越えるとフリットが
黄褐色に着色し、釉薬として用いた時に製品の品質を低
下させるからである。
【００２０】溶融温度の限定は本発明において非常に重
要である。通常、陶磁器用釉薬に用いられるフリットは
高々１４００℃程度で溶融し、これより高温で溶融され
ても１４５０℃を越えることは希である。
要である。通常、陶磁器用釉薬に用いられるフリットは
高々１４００℃程度で溶融し、これより高温で溶融され
ても１４５０℃を越えることは希である。
【００２１】これに対し、本発明によるフリットの製造
方法では、原料混合物を１４５０℃〜１６５０℃で溶融
する。以下、その限定理由について説明をする。
方法では、原料混合物を１４５０℃〜１６５０℃で溶融
する。以下、その限定理由について説明をする。
【００２２】本発明が目指すところは、上述したよう
に、釉薬として用いられて、陶磁器に平滑で緻密で、鮮
映性に富む釉薬層を具現し得るフリットを製造すること
にある。そのため、フリット製造時に原料中の未溶融分
が残存する事は好ましくない。未溶融分がフリット中に
残存すると、陶磁器の焼成時に未溶融分の釉薬への溶け
込みが不十分で、表面にブツ状の突起を形成したり、釉
薬に溶け込む際に泡を生じ、表面欠陥となる。このよう
な表面欠陥を無くすためにはフリット製造時に原料中の
未溶融分が残存しないよう、原料を十分高い温度で溶融
する必要がある。本発明の原料溶融温度を１４５０℃以
上という高温にしたのは、このような理由からである。
また、本発明の原料溶融温度の上限を１６５０℃とした
のは耐火煉瓦の耐火性の限界によるものである。
に、釉薬として用いられて、陶磁器に平滑で緻密で、鮮
映性に富む釉薬層を具現し得るフリットを製造すること
にある。そのため、フリット製造時に原料中の未溶融分
が残存する事は好ましくない。未溶融分がフリット中に
残存すると、陶磁器の焼成時に未溶融分の釉薬への溶け
込みが不十分で、表面にブツ状の突起を形成したり、釉
薬に溶け込む際に泡を生じ、表面欠陥となる。このよう
な表面欠陥を無くすためにはフリット製造時に原料中の
未溶融分が残存しないよう、原料を十分高い温度で溶融
する必要がある。本発明の原料溶融温度を１４５０℃以
上という高温にしたのは、このような理由からである。
また、本発明の原料溶融温度の上限を１６５０℃とした
のは耐火煉瓦の耐火性の限界によるものである。
【００２３】本発明において溶融物の冷却速度の限定も
また重要である。
また重要である。
【００２４】本発明における溶融物の冷却速度は６００
〜１５００℃／秒である。冷却速度が６００℃／秒以下
では、後の粉砕工程において微細粉末が得られにくく、
また冷却用水冷ロール表面の金属の酸化が進み、長時間
の使用中にこの酸化物が溶融フリットに溶け込んだり、
フリット表面に噛み込み、釉薬として使用した時に種々
のトラブルを誘発する原因となる。冷却速度を１５００
℃／秒以上にするには、液体窒素中に溶融物を投ずる方
法、高速で回転する巨大な通水ロールによる方法などが
考えられるが、これらの方法は工業的ないし経済的に成
り立たない。また、ロール冷却と水による冷却を組み合
わせる方法が適用できる。この方法では、冷却ロールの
酸化を防止し、フリットの汚染や組成の変動を抑えるた
めに、溶融物をロールで１０００℃以下に冷却する必要
がある。さらに、ロール冷却と水冷を組み合わせる方法
では、溶融物をロール冷却に引き続き水中に投入する
か、或いはこれに水を噴霧することが好ましい。
〜１５００℃／秒である。冷却速度が６００℃／秒以下
では、後の粉砕工程において微細粉末が得られにくく、
また冷却用水冷ロール表面の金属の酸化が進み、長時間
の使用中にこの酸化物が溶融フリットに溶け込んだり、
フリット表面に噛み込み、釉薬として使用した時に種々
のトラブルを誘発する原因となる。冷却速度を１５００
℃／秒以上にするには、液体窒素中に溶融物を投ずる方
法、高速で回転する巨大な通水ロールによる方法などが
考えられるが、これらの方法は工業的ないし経済的に成
り立たない。また、ロール冷却と水による冷却を組み合
わせる方法が適用できる。この方法では、冷却ロールの
酸化を防止し、フリットの汚染や組成の変動を抑えるた
めに、溶融物をロールで１０００℃以下に冷却する必要
がある。さらに、ロール冷却と水冷を組み合わせる方法
では、溶融物をロール冷却に引き続き水中に投入する
か、或いはこれに水を噴霧することが好ましい。
【００２５】上記フリット中の黄硫酸化物はＳＯ3 に換
算して１０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。その
理由は、硫黄酸化物は素地や釉薬構成原料中のアルカリ
成分と反応して、高温で分解し易い化合物、例えば硫酸
バリウムや芒硝を形成し、この分解性化合物が釉薬焼成
中に分解して気泡を発生したり、部分的に釉薬の表面張
力を低下させて釉薬面のへこみやピンホール、毛穴など
の発生を誘発することが顕著になるからである。更に言
えば、ＳＯ3 濃度が１０００ｐｐｍを越えると、釉薬の
粘性を低下させ、泡抜け効果が助長されることもある
が、この効果は普遍的に発揮される訳ではなく、この効
果のため返って、表面の凹凸が大きくなったり、毛穴、
ピンホールの発生が促進されたりする逆効果が生じる嫌
いがある。
算して１０００ｐｐｍ以下であることが好ましい。その
理由は、硫黄酸化物は素地や釉薬構成原料中のアルカリ
成分と反応して、高温で分解し易い化合物、例えば硫酸
バリウムや芒硝を形成し、この分解性化合物が釉薬焼成
中に分解して気泡を発生したり、部分的に釉薬の表面張
力を低下させて釉薬面のへこみやピンホール、毛穴など
の発生を誘発することが顕著になるからである。更に言
えば、ＳＯ3 濃度が１０００ｐｐｍを越えると、釉薬の
粘性を低下させ、泡抜け効果が助長されることもある
が、この効果は普遍的に発揮される訳ではなく、この効
果のため返って、表面の凹凸が大きくなったり、毛穴、
ピンホールの発生が促進されたりする逆効果が生じる嫌
いがある。
【００２６】陶磁器表面に汚れが付きにくく、また、例
え汚れが付いても容易に取り除くことが出来るようにす
るためには、陶磁器表面に微細な欠陥部、例えばピンホ
ールや毛穴がないことと、表面が平滑で、緻密で鮮映性
に優れていることが重要であり、陶磁器の焼成炉の雰囲
気中に硫黄酸化物や水分が存在していても、陶磁器表面
に微細な欠陥部を生じさせないためには、溶融後、冷却
して得られるフリット組成中の硫黄酸化物量を好ましく
は１０００ｐｐｍ以下に抑えることが有効である。
え汚れが付いても容易に取り除くことが出来るようにす
るためには、陶磁器表面に微細な欠陥部、例えばピンホ
ールや毛穴がないことと、表面が平滑で、緻密で鮮映性
に優れていることが重要であり、陶磁器の焼成炉の雰囲
気中に硫黄酸化物や水分が存在していても、陶磁器表面
に微細な欠陥部を生じさせないためには、溶融後、冷却
して得られるフリット組成中の硫黄酸化物量を好ましく
は１０００ｐｐｍ以下に抑えることが有効である。
【００２７】本発明によるフリットは、これに長石、珪
石、石灰、粘土（カオリン等）、亜鉛華、顔料、カルボ
キシメチルセルロース、珪酸ジルコニウム等の釉薬調整
剤を必要に応じて添加して、釉薬となされる。着色が必
要な場合には、釉薬に着色剤を添加することができる。
この釉薬を陶磁器製品に施釉することにより、所望の施
釉陶磁器製品が得られる。
石、石灰、粘土（カオリン等）、亜鉛華、顔料、カルボ
キシメチルセルロース、珪酸ジルコニウム等の釉薬調整
剤を必要に応じて添加して、釉薬となされる。着色が必
要な場合には、釉薬に着色剤を添加することができる。
この釉薬を陶磁器製品に施釉することにより、所望の施
釉陶磁器製品が得られる。
【００２８】
【発明の実施形態】本発明の実施形態を実施例に基づい
て説明する。
て説明する。
【００２９】〔実施例１〕表１および表２に示すよう
に、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、アルカリ土類金属酸化物、
ＺｎＯ、アルカリ金属酸化物、Ｂ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、Ｚ
ｒＯ2 およびＭｏＯ3 が本発明で限定する重量比になる
ように、原料を混合した。この混合物を本発明で限定す
る溶融条件で溶融し、この溶融物を本発明で限定する冷
却速度で急冷した。こうして８種類のフリットＡ〜Ｈを
得た。
に、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、アルカリ土類金属酸化物、
ＺｎＯ、アルカリ金属酸化物、Ｂ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、Ｚ
ｒＯ2 およびＭｏＯ3 が本発明で限定する重量比になる
ように、原料を混合した。この混合物を本発明で限定す
る溶融条件で溶融し、この溶融物を本発明で限定する冷
却速度で急冷した。こうして８種類のフリットＡ〜Ｈを
得た。
【００３０】また、比較のため、本発明に依らない方法
で４種のフリットＩ〜Ｌを得た。
で４種のフリットＩ〜Ｌを得た。
【００３１】これら１２種類のフリットの分析組成、溶
融温度、冷却速度およびフリットの外観は、表１および
表２に示されている通りである。
融温度、冷却速度およびフリットの外観は、表１および
表２に示されている通りである。
【００３２】各フリットに表１および表２に示す釉薬調
整剤を配合し、釉薬を調合した。この釉薬に所定量の水
を加えて、全体をボールミルで粉砕してスリップを得
た。これらのスリップの内、フリットＣおよびＨを用い
たスリップ（以下スリップＣおよびＨとする）以外を、
予め下釉を施したタイル素地上に施釉して、最高温度１
１６０℃、焼成時間９０分の条件で焼成した。
整剤を配合し、釉薬を調合した。この釉薬に所定量の水
を加えて、全体をボールミルで粉砕してスリップを得
た。これらのスリップの内、フリットＣおよびＨを用い
たスリップ（以下スリップＣおよびＨとする）以外を、
予め下釉を施したタイル素地上に施釉して、最高温度１
１６０℃、焼成時間９０分の条件で焼成した。
【００３３】また、スリップＣおよびＨを和食器用生地
に施釉し、焼成スケジュール２４時間、最高温度１２４
０℃で焼成した。
に施釉し、焼成スケジュール２４時間、最高温度１２４
０℃で焼成した。
【００３４】性能評価試験 １）釉薬層表面の緻密性 得られた施釉タイル片試験片および和食器の釉薬層表面
の状態を３０倍の拡大鏡を用いて観察した。毛穴は表面
に存在する小さい浅い穴、ピンホールは表面に存在する
小さい深い孔、へこみは泡が抜けた後の前２者よりも大
きな浅い穴とそれぞれ定義した。緻密性は、毛穴、ピン
ホールおよびへこみの合計数を測定することによって下
記の基準で評価した。
の状態を３０倍の拡大鏡を用いて観察した。毛穴は表面
に存在する小さい浅い穴、ピンホールは表面に存在する
小さい深い孔、へこみは泡が抜けた後の前２者よりも大
きな浅い穴とそれぞれ定義した。緻密性は、毛穴、ピン
ホールおよびへこみの合計数を測定することによって下
記の基準で評価した。
【００３５】 ２０個／１０ｃｍ平方以下の場合、緻密性良好：○ ２１〜１００個／１０ｃｍ平方の範囲の場合、緻密性普
通：△ １０１個／１０ｃｍ平方以上の場合、緻密性不良：×
通：△ １０１個／１０ｃｍ平方以上の場合、緻密性不良：×
【００３６】２）釉薬層表面の平滑性 平滑性は、２７ワットの３波長形白色蛍光燈スタンドを
点燈し、その直下に試験片を置き、試験片上に蛍光燈を
映すことによって下記の基準で評価した。
点燈し、その直下に試験片を置き、試験片上に蛍光燈を
映すことによって下記の基準で評価した。
【００３７】 蛍光灯の像が波を打たず見える場合、平滑性良好：○ 蛍光灯の像の波打ちが著しく像の輪郭が不明瞭な場合、
平滑性不良：× その中間の場合、平滑性普通：△
平滑性不良：× その中間の場合、平滑性普通：△
【００３８】３）釉薬層表面の透明性 透明性は、素地の色合いが釉薬層を通して映し出されて
いる度合いで下記の基準で評価した。
いる度合いで下記の基準で評価した。
【００３９】素地色合いの映し出し度合いが高い場合、
透明性良好：○ 素地色合いの映し出し度合いが低い場合、透明性不良：
× その中間：透明性普通△
透明性良好：○ 素地色合いの映し出し度合いが低い場合、透明性不良：
× その中間：透明性普通△
【００４０】４）釉薬層表面の鮮映性 鮮映性は、平滑性の評価と同じ方法で、下記の基準で評
価した。
価した。
【００４１】蛍光燈の輪郭が明確に映し出されている場
合、鮮映性良好：○ 輪郭がかなりぼやけ蛍光燈が白い固まりのように見える
場合、鮮映性不良：× その中間、鮮映性普通：△
合、鮮映性良好：○ 輪郭がかなりぼやけ蛍光燈が白い固まりのように見える
場合、鮮映性不良：× その中間、鮮映性普通：△
【００４２】５）釉薬層表面の凹凸 凹凸は、試験片を斜めにかざして、釉薬面を観察した
時、釉薬面に凹凸が認められる程度によって下記の基準
で評価した。
時、釉薬面に凹凸が認められる程度によって下記の基準
で評価した。
【００４３】 凹凸が全くないしは殆ど認められない：○ 凹凸が僅かに認められる：△ 凹凸が多く認められる：×
【００４４】６）釉薬層表面の汚れ落ち性 釉薬層表面に付着した汚れの落ち性は、市販の油性マー
カーで表面にマークを付け、３０秒後にこの上に水滴を
３〜５滴落して、乾布でマークを拭き取ることによって
下記の基準で評価した。
カーで表面にマークを付け、３０秒後にこの上に水滴を
３〜５滴落して、乾布でマークを拭き取ることによって
下記の基準で評価した。
【００４５】マークを極めて簡単に取り除くことがで
き、かつ汚れが全く残らない場合、汚れ落ち性良好：○ マークがなかなか落ちないか、落ちてもあとに汚れが残
る場合、汚れ落ち性不良：× その中間、汚れ落ち性普通：△
き、かつ汚れが全く残らない場合、汚れ落ち性良好：○ マークがなかなか落ちないか、落ちてもあとに汚れが残
る場合、汚れ落ち性不良：× その中間、汚れ落ち性普通：△
【００４６】７）総合評価 非常に優れている：◎ 優れている：○ 従来品より多少改善されている：△ 従来品と変わらない：×
【００４７】本発明によるフリットＥによるタイル試験
片の表面粗さを表面粗さ測定器（小坂研究所製「サーフ
コーダＳＥ−４０Ｄ」）によって測定した。表面粗さ測
定の測定条件は、送り速さ：０．１ｍｍ、基準長さ：１
０．０ｍｍ、カットオフ値：０．８ｍｍ、縦倍率：２０
００倍、横倍率：１０倍である。測定結果を図１に示
す。比較のため比較例のフリットＬによる試験片の表面
粗さの測定結果を図２に示す。
片の表面粗さを表面粗さ測定器（小坂研究所製「サーフ
コーダＳＥ−４０Ｄ」）によって測定した。表面粗さ測
定の測定条件は、送り速さ：０．１ｍｍ、基準長さ：１
０．０ｍｍ、カットオフ値：０．８ｍｍ、縦倍率：２０
００倍、横倍率：１０倍である。測定結果を図１に示
す。比較のため比較例のフリットＬによる試験片の表面
粗さの測定結果を図２に示す。
【００４８】両者の比較から、本発明によるフリットを
用いた試験片の表面の平滑性が際立っている事が判る。
用いた試験片の表面の平滑性が際立っている事が判る。
【００４９】〔実施例２〕表３および表４に示すよう
に、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、アルカリ土類金属酸化物、
ＺｎＯ、アルカリ金属酸化物、Ｂ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、Ｚ
ｒＯ2 およびＭｏＯ3 が本発明で限定する重量比になる
ように、原料を混合した。この混合物を本発明で限定す
る溶融条件で溶融し、この溶融物を本発明で限定する冷
却速度で急冷した。こうして８種類のフリットＭ〜Ｔを
得た。
に、ＳｉＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、アルカリ土類金属酸化物、
ＺｎＯ、アルカリ金属酸化物、Ｂ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、Ｚ
ｒＯ2 およびＭｏＯ3 が本発明で限定する重量比になる
ように、原料を混合した。この混合物を本発明で限定す
る溶融条件で溶融し、この溶融物を本発明で限定する冷
却速度で急冷した。こうして８種類のフリットＭ〜Ｔを
得た。
【００５０】また、比較のため、本発明に依らない方法
で４種のフリットＵ〜Ｘを得た。
で４種のフリットＵ〜Ｘを得た。
【００５１】これら１２種類のフリットの分析組成、溶
融温度、冷却速度およびフリットの外観は、表３および
表４に示されている通りである。
融温度、冷却速度およびフリットの外観は、表３および
表４に示されている通りである。
【００５２】各フリットに表３および表４に示す釉薬調
整剤を配合し、釉薬を調合した。この釉薬に所定量の水
を加えて、全体をボールミルで粉砕してスリップを得
た。これを衛生陶器用坏土の鋳込み成型片に施釉して、
焼成スケジュール１８時間、最高温度１１８０℃で保持
時間９０分の条件で焼成した。
整剤を配合し、釉薬を調合した。この釉薬に所定量の水
を加えて、全体をボールミルで粉砕してスリップを得
た。これを衛生陶器用坏土の鋳込み成型片に施釉して、
焼成スケジュール１８時間、最高温度１１８０℃で保持
時間９０分の条件で焼成した。
【００５３】得られた施釉試験片を実施例１と同様の項
目について同様の方法で評価した。
目について同様の方法で評価した。
【００５４】また、本発明によるフリットＲによる陶器
試験片の表面粗さを実施例１と同様にして測定した。測
定結果を図３に示す。比較のため比較例フリットＷによ
る試験片の表面粗さの測定結果を図４に示す。両者の比
較から、本発明によるフリットを用いた試験片の表面の
平滑性が際立っている事が判る。
試験片の表面粗さを実施例１と同様にして測定した。測
定結果を図３に示す。比較のため比較例フリットＷによ
る試験片の表面粗さの測定結果を図４に示す。両者の比
較から、本発明によるフリットを用いた試験片の表面の
平滑性が際立っている事が判る。
【００５５】
【表１】
【００５６】
【表２】
【００５７】
【表３】
【００５８】
【表４】
【００５９】
【発明の効果】本発明で得られるフリットからなる釉薬
を使用した施釉陶磁器製品は、実施例からも明らかなよ
うに、従来の陶磁器表面に比べると明らかに平滑性、緻
密性、透明性、鮮映性に優れ、耐汚染性が著しく良好
で、汚れが着きにくく、例え汚れが付いても容易に洗い
落とせるものである。
を使用した施釉陶磁器製品は、実施例からも明らかなよ
うに、従来の陶磁器表面に比べると明らかに平滑性、緻
密性、透明性、鮮映性に優れ、耐汚染性が著しく良好
で、汚れが着きにくく、例え汚れが付いても容易に洗い
落とせるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】 フリットＥによるタイル試験片の表面粗さの
測定結果を示すグラフである。
測定結果を示すグラフである。
【図２】 フリットＬによるタイル試験片の表面粗さの
測定結果を示すグラフである。
測定結果を示すグラフである。
【図３】 フリットＲによる陶器試験片の表面粗さの測
定結果を示すグラフである。
定結果を示すグラフである。
【図４】 フリットＷによる陶器試験片の表面粗さの測
定結果を示すグラフである。
定結果を示すグラフである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4G062 AA08 AA09 BB01 CC01 CC04 DA06 DA07 DB01 DB02 DB03 DC01 DC02 DC03 DD01 DE03 DE04 DF01 EA01 EA02 EA03 EA10 EB01 EB02 EB03 EC01 EC02 EC03 ED01 ED02 ED03 ED04 EE01 EE02 EE03 EE04 EF01 EF02 EF03 EF04 EG01 EG02 EG03 EG04 FA01 FA10 FB01 FB02 FB03 FC01 FC02 FC03 FD01 FE01 FF01 FG01 FH01 FJ01 FK01 FL01 GA01 GA10 GB01 GC01 GD01 GE01 HH01 HH03 HH05 HH07 HH09 HH11 HH13 HH15 HH17 HH20 JJ01 JJ03 JJ05 JJ07 JJ10 KK01 KK03 KK05 KK07 KK10 MM07 NN40
Claims (6)
- 【請求項１】 酸化物重量比で、ＳｉＯ2 が５５％以
上、Ａｌ2 Ｏ3 が５％以上で、かつＳｉＯ2 とＡｌ2 Ｏ
3 との合計量が６０〜８５％、アルカリ土類金属酸化物
が２〜２０％、ＺｎＯが２〜１５％、アルカリ金属酸化
物が２〜７％、Ｂ2 Ｏ3 が０〜５％、ＴｉＯ2 および／
またはＺｒＯ2 が０〜４％、ＭｏＯ3 が０〜３になるよ
う原料を混合し、この混合物を１４５０℃〜１６５０℃
で溶融した後、この溶融物を６００〜１５００℃／秒の
冷却速度で急冷することを特徴とする陶磁器釉薬用フリ
ットの製造方法。 - 【請求項２】 溶融物の急冷を、溶融物を水冷ロールで
１０００℃以下に冷却し、ついでこれに水を噴霧するか
或いはこれを水中に投入することによって行う、請求項
１記載の陶磁器釉薬用フリットの製造方法。 - 【請求項３】 得られるフリットの硫黄分がＳＯ3 に換
算して１０００ｐｐｍ以下である、請求項１または２記
載の陶磁器釉薬用フリットの製造方法。 - 【請求項４】 請求項１〜３のいずれかに記載の方法に
よって得られた陶磁器釉薬用フリット。 - 【請求項５】 請求項４記載のフリットをベースとして
含む釉薬を陶磁器製品に施釉することを特徴とする施釉
陶磁器製品の製造方法。 - 【請求項６】 請求項５記載の方法によって得られた施
釉陶磁器製品。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11253960A JP3069790B1 (ja) | 1999-09-08 | 1999-09-08 | 陶磁器釉薬用フリットの製造方法 |
| EP00402467A EP1083155A1 (en) | 1999-09-08 | 2000-09-07 | Method of manufacturing frit for ceramic glaze |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11253960A JP3069790B1 (ja) | 1999-09-08 | 1999-09-08 | 陶磁器釉薬用フリットの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP3069790B1 JP3069790B1 (ja) | 2000-07-24 |
| JP2001080935A true JP2001080935A (ja) | 2001-03-27 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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|---|---|
| EP (1) | EP1083155A1 (ja) |
| JP (1) | JP3069790B1 (ja) |
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006206430A (ja) * | 2005-01-24 | 2006-08-10 | Schott Ag | ガラスまたはガラスセラミクスの施釉、ほうろう処理および加飾用の鉛フリーおよびカドミウムフリーガラス |
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