JP2574556B2 - 釉薬組成物及び施釉方法 - Google Patents
釉薬組成物及び施釉方法Info
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- JP2574556B2 JP2574556B2 JP3152185A JP15218591A JP2574556B2 JP 2574556 B2 JP2574556 B2 JP 2574556B2 JP 3152185 A JP3152185 A JP 3152185A JP 15218591 A JP15218591 A JP 15218591A JP 2574556 B2 JP2574556 B2 JP 2574556B2
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Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は毒性が最小限であり、か
つ鉛、カドミウム、砒素、バリウム及びアンチモンを実
質的に含有していない釉薬(glaze)に関する。
つ鉛、カドミウム、砒素、バリウム及びアンチモンを実
質的に含有していない釉薬(glaze)に関する。
【０００２】
【従来の技術とその問題点】幾つかの理由で、被覆され
るべきセラミック製品の性質に合った適当な性質を有す
る、鉛を含有していない釉薬の開発が非常に望ましい商
業的目標となっている。先ず第一に、不適当に配合され
かつ焼成された鉛含有釉薬をセラミック製品で使用する
ことにより鉛中毒が時折発生している。安全でかつ釉薬
が接触する食品に対して許容される鉛の放出量について
の最近の条件に適合する鉛含有釉薬も調製することがで
きるが、上記の鉛中毒の問題は鉛を使用しないことで回
避することができる。更に鉛を使用することに関連して
生じる種々の汚染の制御及び排水中の鉛の濃度に対する
制限は、鉛を含有しない釉薬を使用することによって回
避することができる。
るべきセラミック製品の性質に合った適当な性質を有す
る、鉛を含有していない釉薬の開発が非常に望ましい商
業的目標となっている。先ず第一に、不適当に配合され
かつ焼成された鉛含有釉薬をセラミック製品で使用する
ことにより鉛中毒が時折発生している。安全でかつ釉薬
が接触する食品に対して許容される鉛の放出量について
の最近の条件に適合する鉛含有釉薬も調製することがで
きるが、上記の鉛中毒の問題は鉛を使用しないことで回
避することができる。更に鉛を使用することに関連して
生じる種々の汚染の制御及び排水中の鉛の濃度に対する
制限は、鉛を含有しない釉薬を使用することによって回
避することができる。
【０００３】セラミックの分野においては、釉薬は典型
的にはセラミック物品上に焼付された透明又は不透明な
ガラス状被膜又は該被膜を形成する成分の混合物である
と定義されている。釉薬には主として２種のタイプ即
ち”生(raw)”と”フリット化(fritted) ”とがある。
的にはセラミック物品上に焼付された透明又は不透明な
ガラス状被膜又は該被膜を形成する成分の混合物である
と定義されている。釉薬には主として２種のタイプ即
ち”生(raw)”と”フリット化(fritted) ”とがある。
【０００４】”生”釉薬は典型的には微粉砕された、不
溶性の選鉱(beneficiated)天然材料−陶土や霞石閃長岩
の如き鉱石及び岩石の混合物からなっている。生釉薬は
典型的には磁器の如き基体上で高い焼成温度（１１５０
℃以上）で使用されている（磁器の場合、１３００
℃）。
溶性の選鉱(beneficiated)天然材料−陶土や霞石閃長岩
の如き鉱石及び岩石の混合物からなっている。生釉薬は
典型的には磁器の如き基体上で高い焼成温度（１１５０
℃以上）で使用されている（磁器の場合、１３００
℃）。
【０００５】”フリット化”釉薬は、成分の全部又は一
部が予め溶融及び冷却されて１種又はそれ以上のフリッ
トにされた場合のものである。このフリットを粉砕し、
そして他の構成成分（陶土の如き天然材料）と混合して
最終の釉薬組成物を調合する。
部が予め溶融及び冷却されて１種又はそれ以上のフリッ
トにされた場合のものである。このフリットを粉砕し、
そして他の構成成分（陶土の如き天然材料）と混合して
最終の釉薬組成物を調合する。
【０００６】フリット化は通常は、他の理由から、均一
性を改善し、水溶性又は毒性のある成分を不溶性にする
為に行われる。フリット化釉薬は通常は１１５０℃以下
で焼成されるセラミック製品に使用される。
性を改善し、水溶性又は毒性のある成分を不溶性にする
為に行われる。フリット化釉薬は通常は１１５０℃以下
で焼成されるセラミック製品に使用される。
【０００７】本明細書に記載される組成は、釉薬被膜の
最終組成物に適用され、一部は入手、経済性及び選択の
問題である、それらを形成する構成成分に使用される。
本発明の釉薬組成物はフリット化釉薬として利用される
であろうが、これに限定されるものではない。釉薬の組
成は、基体に対する接着性、基体の熱膨張性に適合する
熱膨張性、透明性又は不透明性、表面仕上り及びキメ(t
exture)及び耐薬品性の如きある種の十分に明確な性質
を確保するために選択される。
最終組成物に適用され、一部は入手、経済性及び選択の
問題である、それらを形成する構成成分に使用される。
本発明の釉薬組成物はフリット化釉薬として利用される
であろうが、これに限定されるものではない。釉薬の組
成は、基体に対する接着性、基体の熱膨張性に適合する
熱膨張性、透明性又は不透明性、表面仕上り及びキメ(t
exture)及び耐薬品性の如きある種の十分に明確な性質
を確保するために選択される。
【０００８】セラミック製品は種々のカテゴリーのもの
に分類され、一般的にはセラミック製品の最も美しいタ
イプの１つが、殆ど英国だけで製造されている骨灰磁器
(bone china)であると考えられている。骨灰磁器は一般
的用語であって、次の概略の組成（％）；仮焼骨灰４０
−５０：陶土２５−３０；陶石(china stone)２５−３
０の組成の基体から作成されたガラス状で半透明な陶磁
器を記載するのに使用されている。骨灰磁器は、特徴的
な非常に高い光沢の透明な釉薬層を有する故に高く評価
されているが、この釉薬層は以前は比較的多量の鉛を釉
薬中に包含させることによってしか得ることができなか
った。従って、骨灰磁器及び細粒(fine)磁器に使用する
のに適した、鉛を含有しない釉薬が強く要望されてい
る。
に分類され、一般的にはセラミック製品の最も美しいタ
イプの１つが、殆ど英国だけで製造されている骨灰磁器
(bone china)であると考えられている。骨灰磁器は一般
的用語であって、次の概略の組成（％）；仮焼骨灰４０
−５０：陶土２５−３０；陶石(china stone)２５−３
０の組成の基体から作成されたガラス状で半透明な陶磁
器を記載するのに使用されている。骨灰磁器は、特徴的
な非常に高い光沢の透明な釉薬層を有する故に高く評価
されているが、この釉薬層は以前は比較的多量の鉛を釉
薬中に包含させることによってしか得ることができなか
った。従って、骨灰磁器及び細粒(fine)磁器に使用する
のに適した、鉛を含有しない釉薬が強く要望されてい
る。
【０００９】各種の鉛を含有しない釉薬は公知文献に記
載されており、その特定の例は次の公知文献に記載され
ている。米国特許第４２８５７３１号明細書には実質的
に鉛とカドミウムとを含有しないフリット組成物が記載
されており、このフリットは、酸化物を基準として下記
の成分から実質的に構成されている。 ＳｉＯ２ ： ３５−４７ Ｂ２Ｏ３ ： ５．５−９ ＢａＯ ： ２４−４２ ＴｉＯ２ ： １．５−４ ＺｒＯ２ ： ６−１０ Ｌｉ２Ｏ ： １−５ ＳｒＯ ： ０−８ ＭｇＯ ： ０−５ ＣａＯ ： ０−５ ＺｎＯ ： １−１０ Ｂｉ２Ｏ３ ： ０−８ ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＺｎＯ＋Ｂｉ２Ｏ３ ： ０−１０ 上記のフリットは約６５−７５×１０−７／℃の熱膨張
係数、約７００℃−９５０℃で焼成するのに適した粘度
及び酸及び塩基に対しての優れた耐久性を示す。
載されており、その特定の例は次の公知文献に記載され
ている。米国特許第４２８５７３１号明細書には実質的
に鉛とカドミウムとを含有しないフリット組成物が記載
されており、このフリットは、酸化物を基準として下記
の成分から実質的に構成されている。 ＳｉＯ２ ： ３５−４７ Ｂ２Ｏ３ ： ５．５−９ ＢａＯ ： ２４−４２ ＴｉＯ２ ： １．５−４ ＺｒＯ２ ： ６−１０ Ｌｉ２Ｏ ： １−５ ＳｒＯ ： ０−８ ＭｇＯ ： ０−５ ＣａＯ ： ０−５ ＺｎＯ ： １−１０ Ｂｉ２Ｏ３ ： ０−８ ＳｒＯ＋ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＺｎＯ＋Ｂｉ２Ｏ３ ： ０−１０ 上記のフリットは約６５−７５×１０−７／℃の熱膨張
係数、約７００℃−９５０℃で焼成するのに適した粘度
及び酸及び塩基に対しての優れた耐久性を示す。
【００１０】米国特許第４２８２０３５号明細書にもま
た鉛及びカドミウムを含有しないフリットが記載されて
おり、これらのフリットは約５２−６５×１０−７／℃
の熱膨張係数、約８５０℃−１１００℃の焼付温度(mat
uring temperature)、酸及び塩基に対して優れた耐久性
を示し、酸化物の重量基準で下記の成分から本質的に構
成されている。 ＳｉＯ２ ： ５１−６０ Ｂ２Ｏ３ ： ４．５−８ ＢａＯ ： ０−１３ ＳｒＯ ： ０−１８ ＢａＯ＋ＳｒＯ ： ６−３０ ＺｒＯ２ ： ４−８ Ａｌ２Ｏ３ ： ５−８ Ｌｉ２Ｏ ： ０−４ Ｎａ２Ｏ ： ０−５ Ｋ２Ｏ ： ０−５ Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ ： １−５ ＭｇＯ ： ０−６ ＣａＯ ： ０−１２ Ｂｉ２Ｏ３ ： ０−１０ ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ２Ｏ３ ： ０−２０
た鉛及びカドミウムを含有しないフリットが記載されて
おり、これらのフリットは約５２−６５×１０−７／℃
の熱膨張係数、約８５０℃−１１００℃の焼付温度(mat
uring temperature)、酸及び塩基に対して優れた耐久性
を示し、酸化物の重量基準で下記の成分から本質的に構
成されている。 ＳｉＯ２ ： ５１−６０ Ｂ２Ｏ３ ： ４．５−８ ＢａＯ ： ０−１３ ＳｒＯ ： ０−１８ ＢａＯ＋ＳｒＯ ： ６−３０ ＺｒＯ２ ： ４−８ Ａｌ２Ｏ３ ： ５−８ Ｌｉ２Ｏ ： ０−４ Ｎａ２Ｏ ： ０−５ Ｋ２Ｏ ： ０−５ Ｌｉ２Ｏ＋Ｎａ２Ｏ＋Ｋ２Ｏ ： １−５ ＭｇＯ ： ０−６ ＣａＯ ： ０−１２ Ｂｉ２Ｏ３ ： ０−１０ ＭｇＯ＋ＣａＯ＋Ｂｉ２Ｏ３ ： ０−２０
【００１１】米国特許第４５５４２５８号明細書には、
Ｂｉ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２からなり、Ｒ２Ｏが２
−８％でありＲＯが０−９重量％である鉛、カドミウム
及び砒素を含有しないガラスフリット組成物が記載され
ている。米国特許第４５９０１７１号明細書にもまた酸
化物基準の重量％で下記成分からなる鉛及びカドミウム
を含有しないフリットが記載されている。 Ｌｉ２Ｏ ： ３−４ Ｎａ２Ｏ ： ０．７５−３ ＢａＯ ： ３．５−９．５ Ｂ２Ｏ３ ： １４−１７．５ Ａｌ２Ｏ３ ：６．７５−８．７５ ＳｉＯ２ ： ４８−５５ ＺｒＯ２ ：６．７５−１０．５ Ｆ ： ３−４
Ｂｉ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＳｉＯ２からなり、Ｒ２Ｏが２
−８％でありＲＯが０−９重量％である鉛、カドミウム
及び砒素を含有しないガラスフリット組成物が記載され
ている。米国特許第４５９０１７１号明細書にもまた酸
化物基準の重量％で下記成分からなる鉛及びカドミウム
を含有しないフリットが記載されている。 Ｌｉ２Ｏ ： ３−４ Ｎａ２Ｏ ： ０．７５−３ ＢａＯ ： ３．５−９．５ Ｂ２Ｏ３ ： １４−１７．５ Ａｌ２Ｏ３ ：６．７５−８．７５ ＳｉＯ２ ： ４８−５５ ＺｒＯ２ ：６．７５−１０．５ Ｆ ： ３−４
【００１２】最後に米国特許第４８９２８４７号明細書
には、適当な濃度のＳｉＯ２、Ｂｉ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、
アルカリ金属酸化物及びＺｒＯ２／ＴｉＯ２から本質的
になる鉛を含有しないガラスフリットが記載されてい
る。釉薬には釉薬として有すべき４つの本質的な条件が
あり、又、本発明における様に高光沢の釉薬が要求され
る場合に必要な５番目の条件が存在する。第一は、釉薬
の焼成又は施釉温度が被覆されるべきセラミック基体が
熱的に変形する温度を越えてはならないことである。第
二は、ひび割れ及び／又は割れを排除するために、釉薬
の熱膨張係数が被覆されるべきセラミック基体の熱膨張
係数と両立し得るものでなければならないことである；
この釉薬は、セラミック基体が冷却されたときに焼成さ
れた被膜が表面圧縮層を形成するように基体の熱膨張係
数よりも幾分低い熱膨張係数を有することが好ましい。
には、適当な濃度のＳｉＯ２、Ｂｉ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、
アルカリ金属酸化物及びＺｒＯ２／ＴｉＯ２から本質的
になる鉛を含有しないガラスフリットが記載されてい
る。釉薬には釉薬として有すべき４つの本質的な条件が
あり、又、本発明における様に高光沢の釉薬が要求され
る場合に必要な５番目の条件が存在する。第一は、釉薬
の焼成又は施釉温度が被覆されるべきセラミック基体が
熱的に変形する温度を越えてはならないことである。第
二は、ひび割れ及び／又は割れを排除するために、釉薬
の熱膨張係数が被覆されるべきセラミック基体の熱膨張
係数と両立し得るものでなければならないことである；
この釉薬は、セラミック基体が冷却されたときに焼成さ
れた被膜が表面圧縮層を形成するように基体の熱膨張係
数よりも幾分低い熱膨張係数を有することが好ましい。
【００１３】第三は、被膜が腐食されると光沢が無くな
り、曇り及び／又は亀裂が生じ、孔が形成され、或は被
膜の外観上又は物理的特性を劣化させる他の欠陥が発生
するので、酸及びアルカリに対して優れた耐久性を有し
ていなければならないことである。第四は、透明釉薬の
場合には、釉薬は良好なガラス安定性を有しかつ焼成中
に実質的に失透してはならないことである。第五は、光
沢のある外観が要求される場合には、釉薬の屈折率が高
くなければならないことである。従来公知の鉛を含有し
ないフリットのある種のものは上記の条件の少なくとも
幾つかを満足させているが、現在まで、施釉されたセラ
ミック基体に特徴的な高い光沢仕上りを与えることが出
来る様な、非常に高い屈折率とともに非常に高品質な釉
薬層が要求される骨灰磁器及び細粒磁器に使用するのに
適する様にせしめる適当な特性の組合せを有する、鉛を
含有しない釉薬は提案されていなかった。骨灰磁器及び
細粒磁器用の鉛を含有しない釉薬を調製する試みを回避
していたのは、釉薬に要求される標準的な機械的及び化
学的耐久性とも関連している後者の問題によるものであ
る。更に骨灰磁器及び細粒磁器は１０６０℃−１１４０
℃という比較的高温で焼成され、従って、骨灰磁器及び
細粒磁器の焼成温度に適合する施釉温度を有する釉薬が
要求されている。
り、曇り及び／又は亀裂が生じ、孔が形成され、或は被
膜の外観上又は物理的特性を劣化させる他の欠陥が発生
するので、酸及びアルカリに対して優れた耐久性を有し
ていなければならないことである。第四は、透明釉薬の
場合には、釉薬は良好なガラス安定性を有しかつ焼成中
に実質的に失透してはならないことである。第五は、光
沢のある外観が要求される場合には、釉薬の屈折率が高
くなければならないことである。従来公知の鉛を含有し
ないフリットのある種のものは上記の条件の少なくとも
幾つかを満足させているが、現在まで、施釉されたセラ
ミック基体に特徴的な高い光沢仕上りを与えることが出
来る様な、非常に高い屈折率とともに非常に高品質な釉
薬層が要求される骨灰磁器及び細粒磁器に使用するのに
適する様にせしめる適当な特性の組合せを有する、鉛を
含有しない釉薬は提案されていなかった。骨灰磁器及び
細粒磁器用の鉛を含有しない釉薬を調製する試みを回避
していたのは、釉薬に要求される標準的な機械的及び化
学的耐久性とも関連している後者の問題によるものであ
る。更に骨灰磁器及び細粒磁器は１０６０℃−１１４０
℃という比較的高温で焼成され、従って、骨灰磁器及び
細粒磁器の焼成温度に適合する施釉温度を有する釉薬が
要求されている。
【００１４】
【問題点を解決するための手段】本発明者は骨灰磁器及
び細粒磁器に使用することができ、優れた結果を与える
鉛及びカドミウムを含有していない釉薬組成物を開発し
た。 従って本発明によれば、次の成分： SiO2 35−60 ％ Bi2O3 5−45 ％ Al2O3 5−20 ％ B2O3 1−15 ％ CaO、MgO、SrO又はBaOの少なくとも１種 2−20 ％ Li2O、Na2O又はK2Oの少なくとも１種 1−10 ％ TiO2 0−10 ％ ZrO2 0−2.5 ％ SnO 0−10 ％ Nb2O5 0−5 ％ Ta2O5 0−5 ％ Sb2O3 0−5 ％ 希土類元素の酸化物 0−10 ％ ZnO 0−10 ％ P2O5 0−10 ％ MnO3及び/又はWO3 0−5 ％ 弗化物イオン 0−5 ％ （上記の％は、全て、組成物の全重量に基づく重量％で
ある）からなり（但し、BaOは２重量％以上の量で含有
されていないものとする）かつ鉛及びカドミウムを実質
的に含有していない釉薬組成物であって、かつ、1100±
40℃の焼成温度と50−90 x 10-7℃-1の熱膨脹係数を有
することを特徴とする骨灰磁器及び細粒磁器上で使用す
るための釉薬組成物が提供される。
び細粒磁器に使用することができ、優れた結果を与える
鉛及びカドミウムを含有していない釉薬組成物を開発し
た。 従って本発明によれば、次の成分： SiO2 35−60 ％ Bi2O3 5−45 ％ Al2O3 5−20 ％ B2O3 1−15 ％ CaO、MgO、SrO又はBaOの少なくとも１種 2−20 ％ Li2O、Na2O又はK2Oの少なくとも１種 1−10 ％ TiO2 0−10 ％ ZrO2 0−2.5 ％ SnO 0−10 ％ Nb2O5 0−5 ％ Ta2O5 0−5 ％ Sb2O3 0−5 ％ 希土類元素の酸化物 0−10 ％ ZnO 0−10 ％ P2O5 0−10 ％ MnO3及び/又はWO3 0−5 ％ 弗化物イオン 0−5 ％ （上記の％は、全て、組成物の全重量に基づく重量％で
ある）からなり（但し、BaOは２重量％以上の量で含有
されていないものとする）かつ鉛及びカドミウムを実質
的に含有していない釉薬組成物であって、かつ、1100±
40℃の焼成温度と50−90 x 10-7℃-1の熱膨脹係数を有
することを特徴とする骨灰磁器及び細粒磁器上で使用す
るための釉薬組成物が提供される。
【００１５】
【好ましい実施態様】本発明の釉薬組成物は１０−２５
重量％のＢｉ２Ｏ３、４５−６０重量％のＳｉＯ２、７
−１５重量％のＡｌ２Ｏ３及び４−１０重量％のＢ２Ｏ
３からなることが好ましい。骨灰磁器又は細粒磁器を施
釉するのに適当なものにする為には、本発明の釉薬は１
０６０℃−１１４０℃の範囲の温度で焼成すべきであ
り、又、好ましくは少なくとも１．４５の屈折率を有す
るべきである。本発明の釉薬の形成に使用する釉薬フリ
ットは、酸化物を生成する材料を混合し、この材料混合
物を溶融ガラスを生じるのに十分に高い温度でガラス溶
融炉に装入し、次いで該ガラスを水中に注入するか或は
水冷ロール間に通してフリット化することによって製造
することが出来る。フリット化工程は酸化性雰囲気或は
溶融及び融解する混合物中に酸素に富んだ成分を含ませ
て行うことが好ましい。このフリットは慣用の粉砕技術
で粉砕いて粉末にすることが出来る。乾燥又は溶融形態
で釉薬を使用する方法も存在するが、骨灰磁器用に使用
する慣用の方法は、水をベースとした微粒子のスラリ
ー、即ち化粧土(slip)の形態であり、基体は浸漬法或は
噴霧法で被覆される。この釉薬化粧土はキャリヤーであ
る媒体の水に加えて、単一の粉砕フリットのみからなっ
ていてもよいし、或はフリット、鉱物、不溶性の製造薬
品並びに少量の流動調整剤から構成され得る。これらの
後者の構成成分としては、凝集剤、凝集防止剤、バイン
ダー、湿潤剤、消泡剤を含み得、又、識別の目的で有機
の染料も含み得る。本発明の釉薬は場合によっては１種
又はそれ以上の顔料も含有し得る。
重量％のＢｉ２Ｏ３、４５−６０重量％のＳｉＯ２、７
−１５重量％のＡｌ２Ｏ３及び４−１０重量％のＢ２Ｏ
３からなることが好ましい。骨灰磁器又は細粒磁器を施
釉するのに適当なものにする為には、本発明の釉薬は１
０６０℃−１１４０℃の範囲の温度で焼成すべきであ
り、又、好ましくは少なくとも１．４５の屈折率を有す
るべきである。本発明の釉薬の形成に使用する釉薬フリ
ットは、酸化物を生成する材料を混合し、この材料混合
物を溶融ガラスを生じるのに十分に高い温度でガラス溶
融炉に装入し、次いで該ガラスを水中に注入するか或は
水冷ロール間に通してフリット化することによって製造
することが出来る。フリット化工程は酸化性雰囲気或は
溶融及び融解する混合物中に酸素に富んだ成分を含ませ
て行うことが好ましい。このフリットは慣用の粉砕技術
で粉砕いて粉末にすることが出来る。乾燥又は溶融形態
で釉薬を使用する方法も存在するが、骨灰磁器用に使用
する慣用の方法は、水をベースとした微粒子のスラリ
ー、即ち化粧土(slip)の形態であり、基体は浸漬法或は
噴霧法で被覆される。この釉薬化粧土はキャリヤーであ
る媒体の水に加えて、単一の粉砕フリットのみからなっ
ていてもよいし、或はフリット、鉱物、不溶性の製造薬
品並びに少量の流動調整剤から構成され得る。これらの
後者の構成成分としては、凝集剤、凝集防止剤、バイン
ダー、湿潤剤、消泡剤を含み得、又、識別の目的で有機
の染料も含み得る。本発明の釉薬は場合によっては１種
又はそれ以上の顔料も含有し得る。
【００１６】セラミック物品に釉薬を被覆する方法は本
発明の中心課題ではなく、いずれの実施可能な方法も許
容することができる。最終の釉薬を形成する成分の実際
の混合及び構成成分の形態は、本明細書に記載の本発明
から外れることなく変更することができる。本明細書の
説明は本発明の要旨の実施態様の単なる説明であり、本
発明はそれらの説明に限定されるものではない。本発明
の釉薬は１０６０℃−１１４０℃の範囲の施釉温度を有
しており、骨灰磁器に適当に使用することができる。本
発明で使用する”施釉温度”(grazing temperature)と
いう用語は、その釉薬が溶融して釉薬で被覆されるべき
セラミック基体に平滑で均一な被膜を生じるのに十分に
流動する温度を意味している。この施釉温度は時には焼
成又は施釉温度とも称される。本発明の釉薬は全体で２
−２０重量％の量のＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ又はＢａＯ
の少なくとも１種を含有する。これらの酸化物の混合物
は有利に使用することができる。しかしながら、その毒
性の点から本発明の釉薬中のＢａＯ含有量は２重量％以
下に保持されかつ０にするのが好ましい。又、本発明の
釉薬は全体で１−１０重量％の量でＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ
又はＫ２Ｏの少なくとも１種を含有することができる。
発明の中心課題ではなく、いずれの実施可能な方法も許
容することができる。最終の釉薬を形成する成分の実際
の混合及び構成成分の形態は、本明細書に記載の本発明
から外れることなく変更することができる。本明細書の
説明は本発明の要旨の実施態様の単なる説明であり、本
発明はそれらの説明に限定されるものではない。本発明
の釉薬は１０６０℃−１１４０℃の範囲の施釉温度を有
しており、骨灰磁器に適当に使用することができる。本
発明で使用する”施釉温度”(grazing temperature)と
いう用語は、その釉薬が溶融して釉薬で被覆されるべき
セラミック基体に平滑で均一な被膜を生じるのに十分に
流動する温度を意味している。この施釉温度は時には焼
成又は施釉温度とも称される。本発明の釉薬は全体で２
−２０重量％の量のＣａＯ、ＭｇＯ、ＳｒＯ又はＢａＯ
の少なくとも１種を含有する。これらの酸化物の混合物
は有利に使用することができる。しかしながら、その毒
性の点から本発明の釉薬中のＢａＯ含有量は２重量％以
下に保持されかつ０にするのが好ましい。又、本発明の
釉薬は全体で１−１０重量％の量でＬｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏ
又はＫ２Ｏの少なくとも１種を含有することができる。
【００１７】本発明の釉薬は酸化アンチモンや、同様の
酸化バリウムを含有し得るが、その使用は望ましいとは
考えられず、従ってその添加量は５％以下に維持すべき
であり、０％であることが好ましい。本発明の釉薬はま
た前記の如き種々の任意成分（添加剤）を含有し得る。
適当な量のＺｒＯ２及び／又はＴｉＯ２を添加すること
は、ＺｒＯ２が釉薬の耐アルカリ・耐洗剤性を改善する
ので有利であり、一方、ＴｉＯ２の添加はガラスの耐酸
性を向上させるであろう。高い原子価の元素（例えばＺ
ｒ＋４、Ｔｉ＋４、Ｎｂ＋５）を添加すると結晶化が促
進される。従ってこれらの元素を有意の量で添加するこ
とによりある種の用途では望ましい不透明或は部分的に
不透明な釉薬を生じる。本発明の釉薬中にＺｎＯを使用
する場合には、その量は２重量％以下の量で使用するこ
とが好ましい。本発明の釉薬中にＷＯ３を使用する場合
には、３重量％以下の量で使用することが好ましい。本
発明の釉薬中にＭｏＯ３を使用する場合には２重量％以
下の量で使用することが好ましく、１重量％未満が更に
好ましい。２重量％以上の量では釉薬を不透明にする傾
向があるであろう。
酸化バリウムを含有し得るが、その使用は望ましいとは
考えられず、従ってその添加量は５％以下に維持すべき
であり、０％であることが好ましい。本発明の釉薬はま
た前記の如き種々の任意成分（添加剤）を含有し得る。
適当な量のＺｒＯ２及び／又はＴｉＯ２を添加すること
は、ＺｒＯ２が釉薬の耐アルカリ・耐洗剤性を改善する
ので有利であり、一方、ＴｉＯ２の添加はガラスの耐酸
性を向上させるであろう。高い原子価の元素（例えばＺ
ｒ＋４、Ｔｉ＋４、Ｎｂ＋５）を添加すると結晶化が促
進される。従ってこれらの元素を有意の量で添加するこ
とによりある種の用途では望ましい不透明或は部分的に
不透明な釉薬を生じる。本発明の釉薬中にＺｎＯを使用
する場合には、その量は２重量％以下の量で使用するこ
とが好ましい。本発明の釉薬中にＷＯ３を使用する場合
には、３重量％以下の量で使用することが好ましい。本
発明の釉薬中にＭｏＯ３を使用する場合には２重量％以
下の量で使用することが好ましく、１重量％未満が更に
好ましい。２重量％以上の量では釉薬を不透明にする傾
向があるであろう。
【００１８】本発明の釉薬に包含させる好ましい稀土類
元素酸化物は酸化ランタンである。又、本発明はその範
囲内にセラミック基体を施釉する方法も含み、該方法は
前記の釉薬組成物でセラミック基体を被覆しかつ被覆し
たセラミック基体を１１００℃±４０℃の焼成温度で焼
成することからなる。本発明の方法によって被覆される
セラミック基体は骨灰磁器であることが好ましい。
元素酸化物は酸化ランタンである。又、本発明はその範
囲内にセラミック基体を施釉する方法も含み、該方法は
前記の釉薬組成物でセラミック基体を被覆しかつ被覆し
たセラミック基体を１１００℃±４０℃の焼成温度で焼
成することからなる。本発明の方法によって被覆される
セラミック基体は骨灰磁器であることが好ましい。
【実施例】次に本発明を以下の実施例を参照して更に詳
しく説明する。実施例１ 下記の組成を有するガラスフリットを調製した。 成 分 重 量 ％ ＳｉＯ２ ３９．９２ Ａｌ２Ｏ３ ７．３７ ＣａＯ ５．０７ ＭｇＯ ０．１３ Ｋ２Ｏ ０．５２ Ｎａ２Ｏ ３．８９ Ｂ２Ｏ３ ６．２８ Ｌｉ２Ｏ ０．５０ Ｂｉ２Ｏ３ ３６．３２ このフリットを冷却し粉砕して微粉末とした。
しく説明する。実施例１ 下記の組成を有するガラスフリットを調製した。 成 分 重 量 ％ ＳｉＯ２ ３９．９２ Ａｌ２Ｏ３ ７．３７ ＣａＯ ５．０７ ＭｇＯ ０．１３ Ｋ２Ｏ ０．５２ Ｎａ２Ｏ ３．８９ Ｂ２Ｏ３ ６．２８ Ｌｉ２Ｏ ０．５０ Ｂｉ２Ｏ３ ３６．３２ このフリットを冷却し粉砕して微粉末とした。
【００１９】釉薬化粧土は、上記フリットを水中でボー
ルミルを使用して、第二の鉛を含有しないフリット、陶
土、ナトリウム長石、ボールクレイ及びベントナイトを
適当な比率で混合して次の最終組成を有する釉薬を調製
した。 成 分 重 量 ％ ＳｉＯ２ ４３．７６ Ａｌ２Ｏ３ ９．６２ ＣａＯ ６．６９ ＭｇＯ ０．０８ Ｋ２Ｏ １．０２ Ｎａ２Ｏ ５．４８ Ｂ２Ｏ３ ９．６２ Ｌｉ２Ｏ ０．３２ Ｂｉ２Ｏ３ ２３．７８ 骨灰磁器基体上に被覆しついで１０６０℃の温度で焼成
したところ、非常に光沢の高い平滑な釉薬層が得られ
た。上記の釉薬は７８．９×１０−７℃−１の熱膨張係
数と６２５℃の軟化温度を有していた。又、この釉薬
は、ｎ＝１．５７５±０．００５の屈折率を有してい
た。
ルミルを使用して、第二の鉛を含有しないフリット、陶
土、ナトリウム長石、ボールクレイ及びベントナイトを
適当な比率で混合して次の最終組成を有する釉薬を調製
した。 成 分 重 量 ％ ＳｉＯ２ ４３．７６ Ａｌ２Ｏ３ ９．６２ ＣａＯ ６．６９ ＭｇＯ ０．０８ Ｋ２Ｏ １．０２ Ｎａ２Ｏ ５．４８ Ｂ２Ｏ３ ９．６２ Ｌｉ２Ｏ ０．３２ Ｂｉ２Ｏ３ ２３．７８ 骨灰磁器基体上に被覆しついで１０６０℃の温度で焼成
したところ、非常に光沢の高い平滑な釉薬層が得られ
た。上記の釉薬は７８．９×１０−７℃−１の熱膨張係
数と６２５℃の軟化温度を有していた。又、この釉薬
は、ｎ＝１．５７５±０．００５の屈折率を有してい
た。
【００２０】実施例２ 下記の組成を有するガラスフリットを調製した。 成 分 重 量 ％ ＳｉＯ２ ４７．３７ Ａｌ２Ｏ３ ６．５１ ＣａＯ ９．７９ Ｋ２Ｏ １．４３ Ｎａ２Ｏ １．２７ Ｂ２Ｏ３ ９．３４ Ｂｉ２Ｏ３ ２４．２９ このフリットを冷却し粉砕して微粉末とした。釉薬化粧
土は、８６部の上記フリットと１４部の陶土とを水中で
ボールミルを使用して分散させ、次の最終組成（重量基
準）を有する釉薬を調製した。 ＳｉＯ２ ４８．１７ Ａｌ２Ｏ３ １０．４４ ＣａＯ ８．７４ Ｋ２Ｏ １．４９ Ｎａ２Ｏ １．１３ Ｂ２Ｏ３ ８．３４ Ｂｉ２Ｏ３ ２１．６９ 骨灰磁器及び細粒磁器基体上に被覆しついで１０８０℃
の温度で焼成したところ、いずれの場合にも非常に光沢
の高い平滑な釉薬層が得られた。上記の釉薬層は６３．
７×１０−７℃−１の熱膨張係数と６２８℃の軟化温度
を有していた。又、この釉薬は、ｎ＝１．５７０±０．
００５の屈折率を有していた。
土は、８６部の上記フリットと１４部の陶土とを水中で
ボールミルを使用して分散させ、次の最終組成（重量基
準）を有する釉薬を調製した。 ＳｉＯ２ ４８．１７ Ａｌ２Ｏ３ １０．４４ ＣａＯ ８．７４ Ｋ２Ｏ １．４９ Ｎａ２Ｏ １．１３ Ｂ２Ｏ３ ８．３４ Ｂｉ２Ｏ３ ２１．６９ 骨灰磁器及び細粒磁器基体上に被覆しついで１０８０℃
の温度で焼成したところ、いずれの場合にも非常に光沢
の高い平滑な釉薬層が得られた。上記の釉薬層は６３．
７×１０−７℃−１の熱膨張係数と６２８℃の軟化温度
を有していた。又、この釉薬は、ｎ＝１．５７０±０．
００５の屈折率を有していた。
【００２１】実施例３ 下記の組成を有するガラスフリットを調製した。 成 分 重 量 ％ Ｂｉ２Ｏ３ ７５．１４ ＳｉＯ２ １９．３８ Ａｌ２Ｏ３ ５．４８ 上記材料をフリット冷却し粉砕して微粉末とした。釉薬
化粧土は、３２．２７部の上記フリットと５７．１６部
の２種の他のリチウム、ナトリウム、カリウム及びカル
シウムアルミナ硼硅酸塩＋１０．６３部の陶土と一緒の
水中でボールミル処理して調製した。焼成したところ、
この釉薬化粧土は表１に示す釉薬層を生じた。この釉薬
化粧土を骨灰磁器上に１０８０℃で焼成して得られた特
性と性質も表１に示した。
化粧土は、３２．２７部の上記フリットと５７．１６部
の２種の他のリチウム、ナトリウム、カリウム及びカル
シウムアルミナ硼硅酸塩＋１０．６３部の陶土と一緒の
水中でボールミル処理して調製した。焼成したところ、
この釉薬化粧土は表１に示す釉薬層を生じた。この釉薬
化粧土を骨灰磁器上に１０８０℃で焼成して得られた特
性と性質も表１に示した。
【００２２】実施例４ 下記の組成を有するガラスフリットを調製した。 成 分 重 量 ％ Ｂｉ２Ｏ３ ７５．１４ ＳｉＯ２ １９．３８ Ａｌ２Ｏ３ ５．４８ 上記材料をフリット冷却し粉砕して微粉末とした。釉薬
化粧土は、上記フリットと更に２種のアルカリ性アルミ
ナ硼硅酸塩フリット、ソーダ長石、陶土、ボールクレ
イ、ベントナイト、石灰石、アルミナ、シリカ、酸化亜
鉛、バライト及び石膏を適当な量でボールミルによって
水中で一緒に混合して調製した。このものを焼成したと
ころ、表１に示した釉薬層が得られた。この釉薬化粧土
を骨灰磁器上に１０８０℃で焼成して得られた特性と性
質も表１に示した。
化粧土は、上記フリットと更に２種のアルカリ性アルミ
ナ硼硅酸塩フリット、ソーダ長石、陶土、ボールクレ
イ、ベントナイト、石灰石、アルミナ、シリカ、酸化亜
鉛、バライト及び石膏を適当な量でボールミルによって
水中で一緒に混合して調製した。このものを焼成したと
ころ、表１に示した釉薬層が得られた。この釉薬化粧土
を骨灰磁器上に１０８０℃で焼成して得られた特性と性
質も表１に示した。
【００２３】実施例５ 下記の組成を有するガラスフリットを調製した。 成 分 重 量 ％ ＳｉＯ２ ４３．３７ Ａｌ２Ｏ３ ６．５１ ＣａＯ ９．７９ Ｋ２Ｏ １．４３ Ｎａ２Ｏ １．２７ Ｂ２Ｏ３ ９．３４ Ｂｉ２Ｏ３ ２４．２９ 上記材料をフリット冷却し粉砕して微粉末とした。釉薬
化粧土は、 ８１．９０部のフリット １３．３３部の陶土 ４．７６部のＮｄ２Ｏ３ を水中で一緒にボールミル処理して調製した。骨灰磁器
上で１０８０℃で焼成したところ、表１に示した組成と
特性を有する釉薬層が得られた。
化粧土は、 ８１．９０部のフリット １３．３３部の陶土 ４．７６部のＮｄ２Ｏ３ を水中で一緒にボールミル処理して調製した。骨灰磁器
上で１０８０℃で焼成したところ、表１に示した組成と
特性を有する釉薬層が得られた。
【００２４】実施例６ 下記の組成を有するガラスフリットを調製した。 成 分 重 量 ％ ＳｉＯ２ ４３．３７ Ａｌ２Ｏ３ ６．５１ ＣａＯ ９．７９ Ｋ２Ｏ １．４３ Ｎａ２Ｏ １．２７ Ｂ２Ｏ３ ９．３４ Ｂｉ２Ｏ３ ２４．２９ 上記材料をフリット冷却し粉砕して微粉末とした。釉薬
化粧土は、 ６８．２６部のフリット １１．１１部の陶土 ２０．６３部のシリカ を水中で一緒にボールミル処理して調製した。骨灰磁器
上で１１２０℃で焼成したところ、表１に示した組成と
特性を有する釉薬層が得られた。
化粧土は、 ６８．２６部のフリット １１．１１部の陶土 ２０．６３部のシリカ を水中で一緒にボールミル処理して調製した。骨灰磁器
上で１１２０℃で焼成したところ、表１に示した組成と
特性を有する釉薬層が得られた。
【００２５】実施例７ 下記の組成を有するガラスフリットを調製した。 成 分 重 量 ％ ＳｉＯ２ ４３．３７ Ａｌ２Ｏ３ ６．５１ ＣａＯ ９．７９ Ｋ２Ｏ １．４３ Ｎａ２Ｏ １．２７ Ｂ２Ｏ３ ９．３４ Ｂｉ２Ｏ３ ２４．２９ 上記材料をフリット冷却し粉砕して微粉末とした。釉薬
化粧土は、 ７１．６８部のフリット １１．６７部の陶土 １６．６５部のＳｒＣＯ３ を水中で一緒にボールミル処理して調製した。骨灰磁器
上で１０８０℃で焼成したところ、表１に示した組成と
特性を有する釉薬層が得られた。
化粧土は、 ７１．６８部のフリット １１．６７部の陶土 １６．６５部のＳｒＣＯ３ を水中で一緒にボールミル処理して調製した。骨灰磁器
上で１０８０℃で焼成したところ、表１に示した組成と
特性を有する釉薬層が得られた。
【００２６】 実施例８（参考例） 下記の組成を有するガラスフリットを調製した。 成 分 重 量 ％ SiO2 37.07 Al2O3 19.54 Na2O 2.48 Li2O 2.48 K2O 7.44 MgO 2.48 CaO 3.71 SrO 9.92 BaO 2.48 Bi2O3 12.39 上記材料をフリット冷却し粉砕して微粉末とした。釉薬
化粧土は、 73.56部のフリット 10.73部の陶土 8.91部の石灰（CaCO3） 5.00部のZrO2 を水中で一緒にボールミル処理して調製した。骨灰磁器
上で１０８０℃で焼成したところ、表１に示した組成と
特性を有する釉薬層が得られた。
化粧土は、 73.56部のフリット 10.73部の陶土 8.91部の石灰（CaCO3） 5.00部のZrO2 を水中で一緒にボールミル処理して調製した。骨灰磁器
上で１０８０℃で焼成したところ、表１に示した組成と
特性を有する釉薬層が得られた。
【００２７】実施例９ 下記の組成を有するガラスフリットを調製した。 成 分 重 量 ％ ＳｉＯ２ ４３．３７ Ａｌ２Ｏ３ ６．５１ ＣａＯ ９．７９ Ｋ２Ｏ １．４３ Ｎａ２Ｏ １．２７ Ｂ２Ｏ３ ９．３４ Ｂｉ２Ｏ３ ２４．２９ 上記材料をフリット冷却し粉砕して微粉末とした。釉薬
化粧土は、 ８１．９１部のフリット １３．３３部の陶土 ４．７６部のＣａ３（ＰＯ４）（骨灰） を水中で一緒にボールミル処理して調製した。骨灰磁器
上で１０８０℃で焼成したところ、表１に示した組成と
特性を有する釉薬層が得られた。
化粧土は、 ８１．９１部のフリット １３．３３部の陶土 ４．７６部のＣａ３（ＰＯ４）（骨灰） を水中で一緒にボールミル処理して調製した。骨灰磁器
上で１０８０℃で焼成したところ、表１に示した組成と
特性を有する釉薬層が得られた。
【表１】 表１
【表２】 表１の続き
【表３】 表１の続き
【表４】 表１の続き
【００２８】実施例１０−２１ 特定の要求に応える為に変性しかつ着色釉薬調合物にす
る任意成分を使用した例を実施例１０−２１で説明す
る。任意成分の役割は実施例２の釉薬に単独に添加した
ときのそれらの効果によって示した。実際には任意成分
は最適の効果を達成するために他の濃度でも、組み合わ
せでも使用でき、かつ多くの場合に使用されるであろ
う。これらの任意成分はここでは本発明の範囲を例示す
るものであって本発明がそれらに限定されるものではな
い。実施例１０−２１の釉薬は実施例２に記載した方法
で製造した。最初に適当な組成のガラスを約１３００℃
で溶融し、フリット冷却し、粉砕して粉末にし、次いで
１４重量％の陶土と水中でボールミルで混合して釉薬化
粧土を調製し、焼成して表２に記載した釉薬組成物とし
た。全ての実験は同一の操作に従って行った。骨灰磁器
のテスト片（板）を釉薬化粧土で被覆し乾燥し、これら
を５．９℃／ｍｉｎ．で１１００℃に４５分間保持して
加熱し、５．９℃／ｍｉｎ．で室温に冷却した。施釉し
た骨灰磁器基体の外観も表２に示した。
る任意成分を使用した例を実施例１０−２１で説明す
る。任意成分の役割は実施例２の釉薬に単独に添加した
ときのそれらの効果によって示した。実際には任意成分
は最適の効果を達成するために他の濃度でも、組み合わ
せでも使用でき、かつ多くの場合に使用されるであろ
う。これらの任意成分はここでは本発明の範囲を例示す
るものであって本発明がそれらに限定されるものではな
い。実施例１０−２１の釉薬は実施例２に記載した方法
で製造した。最初に適当な組成のガラスを約１３００℃
で溶融し、フリット冷却し、粉砕して粉末にし、次いで
１４重量％の陶土と水中でボールミルで混合して釉薬化
粧土を調製し、焼成して表２に記載した釉薬組成物とし
た。全ての実験は同一の操作に従って行った。骨灰磁器
のテスト片（板）を釉薬化粧土で被覆し乾燥し、これら
を５．９℃／ｍｉｎ．で１１００℃に４５分間保持して
加熱し、５．９℃／ｍｉｎ．で室温に冷却した。施釉し
た骨灰磁器基体の外観も表２に示した。
【表５】 表２
【表６】 表２の続き
【表７】 表２の続き
【表８】 表２の続き
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 アイヴアン・ウオツニーク イギリス国．エステイ３・５テイイー. ストーク−オン−トレント．ロントン. アダーレー・グリーン．チエツクレー・ グローブ．７ (56)参考文献 特開 昭56−129634（ＪＰ，Ａ)
Claims (11)
- 【請求項１】 次の成分： SiO2 35−60 ％ Bi2O3 5−45 ％ Al2O3 5−20 ％ B2O3 1−15 ％ CaO、MgO、SrO又はBaOの少なくとも１種 2−20 ％ Li2O、Na2O又はK2Oの少なくとも１種 1−10 ％ TiO2 0−10 ％ ZrO2 0−2.5 ％ SnO 0−10 ％ Nb2O5 0−5 ％ Ta2O5 0−5 ％ Sb2O3 0−5 ％ 希土類元素の酸化物 0−10 ％ ZnO 0−10 ％ P2O5 0−10 ％ MnO3及び/又はWO3 0−5 ％ 弗化物イオン 0−5 ％ （上記の％は、全て、組成物の全重量に基づく重量％で
ある）からなり（但し、BaOは２重量％以上の量で含有
されていないものとする）かつ鉛及びカドミウムを実質
的に含有していない釉薬組成物であって、かつ、1100±
40℃の焼成温度と50−90 x 10-7℃-1の熱膨脹係数を有
することを特徴とする骨灰磁器及び細粒磁器上で使用す
るための釉薬組成物。 - 【請求項２】 10−25重量％のBi2O3を含有する、請求
項１に記載の釉薬組成物。 - 【請求項３】 45−60重量％のSiO2を含有する、請求項
１又は２に記載の釉薬組成物。 - 【請求項４】 7−15重量％のAl2O3を含有する、請求項
１〜３のいずれかに記載の釉薬組成物。 - 【請求項５】 4−10重量％のB2O3を含有する、請求項
１〜４のいずれかに記載の釉薬組成物。 - 【請求項６】 1060℃−1140℃の温度で焼成される、か
つ少なくとも1.45の屈折率を有する、請求項１〜５のい
ずれかに記載の釉薬組成物。 - 【請求項７】 顔料を更に含有する、請求項１〜６のい
ずれかに記載の釉薬組成物。 - 【請求項８】 セラミック基体を請求項１〜７のいずれ
かに記載の釉薬組成物で被覆し、かつ被覆したセラミッ
ク基体を1100±40℃の施釉温度で焼成することからなる
セラミック基体の施釉方法。 - 【請求項９】 セラミック基体が骨灰磁器又は細粒磁器
である請求項８に記載の方法。 - 【請求項１０】 セラミック基体を浸漬法又は噴霧法で
被覆する請求項８又は９に記載の方法。 - 【請求項１１】 請求項８−１０のいずれかに記載の方
法で施釉された骨灰磁器又は細粒磁器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3152185A JP2574556B2 (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | 釉薬組成物及び施釉方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3152185A JP2574556B2 (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | 釉薬組成物及び施釉方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05147973A JPH05147973A (ja) | 1993-06-15 |
| JP2574556B2 true JP2574556B2 (ja) | 1997-01-22 |
Family
ID=15534919
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3152185A Expired - Lifetime JP2574556B2 (ja) | 1991-05-29 | 1991-05-29 | 釉薬組成物及び施釉方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2574556B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| US8445394B2 (en) * | 2008-10-06 | 2013-05-21 | Corning Incorporated | Intermediate thermal expansion coefficient glass |
| JP2016106065A (ja) * | 2013-03-22 | 2016-06-16 | 旭硝子株式会社 | 着色成分を含有するガラスからなる顔料、塗料、樹脂組成物、外装部材 |
| KR102352357B1 (ko) * | 2019-11-04 | 2022-01-17 | 한국세라믹기술원 | 접촉각 및 경도 특성이 우수한 유약층 형성을 위한 유약 조성물을 이용한 도자타일의 제조방법 |
| CN113754281A (zh) * | 2021-08-10 | 2021-12-07 | 湖南陶润会文化传播有限公司 | 一种有光无铅墨绿霞光金属光泽釉及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4282035A (en) * | 1980-02-15 | 1981-08-04 | Corning Glass Works | Lead-free and cadmium-free frits |
-
1991
- 1991-05-29 JP JP3152185A patent/JP2574556B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH05147973A (ja) | 1993-06-15 |
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