JP2001033357A - 試料搬送装置 - Google Patents
試料搬送装置Info
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- JP2001033357A JP2001033357A JP11237377A JP23737799A JP2001033357A JP 2001033357 A JP2001033357 A JP 2001033357A JP 11237377 A JP11237377 A JP 11237377A JP 23737799 A JP23737799 A JP 23737799A JP 2001033357 A JP2001033357 A JP 2001033357A
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高真空に保持したまま複数の試料を空気に晒
すことなく、表面分析装置等に搬送可能な試料搬送装置
を提供する。 【解決手段】 高真空排気可能なチャンバー２と、チャ
ンバー内で試料を設置した複数個のサンプルホルダー５
を貯蔵するサンプルケース４と、サンプルケースを上下
方向に並進するサンプル保管用マニピュレータ６と、サ
ンプルケースに収納したサンプルホルダー５を水平方向
に並進するサンプル交換用マニピュレータ８と、チャン
バーにゲートバルブ１１を介して設けた真空排気可能な
ドッキング室１２とを備え、ドッキング室をゲートバル
ブ１７を介してターボ分子ポンプ１９で高真空排気可能
としている。高真空に保持したまま移動して、ドッキン
グ室を介して他の真空室を有する分析装置に結合し、試
料を同一条件下で搬送する。
すことなく、表面分析装置等に搬送可能な試料搬送装置
を提供する。 【解決手段】 高真空排気可能なチャンバー２と、チャ
ンバー内で試料を設置した複数個のサンプルホルダー５
を貯蔵するサンプルケース４と、サンプルケースを上下
方向に並進するサンプル保管用マニピュレータ６と、サ
ンプルケースに収納したサンプルホルダー５を水平方向
に並進するサンプル交換用マニピュレータ８と、チャン
バーにゲートバルブ１１を介して設けた真空排気可能な
ドッキング室１２とを備え、ドッキング室をゲートバル
ブ１７を介してターボ分子ポンプ１９で高真空排気可能
としている。高真空に保持したまま移動して、ドッキン
グ室を介して他の真空室を有する分析装置に結合し、試
料を同一条件下で搬送する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、複数個の試料を
真空に保持して搬送する装置に利用し、特に各種真空装
置内に真空を保持したままで複数個の試料を搬送するた
めの試料搬送装置に関する。
真空に保持して搬送する装置に利用し、特に各種真空装
置内に真空を保持したままで複数個の試料を搬送するた
めの試料搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】例えば、従来の表面分析装置では、試料
を清浄化した後、その表面分析装置のＬＥＥＤやＸＰＳ
などで表面分析することが行われている。
を清浄化した後、その表面分析装置のＬＥＥＤやＸＰＳ
などで表面分析することが行われている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、表面分
析装置が複数あり、試料をそれぞれの分析装置に搬送し
て表面分析等を行う場合、試料を空気に晒してしまい良
好な結果を得ることができない。また超高真空に保った
まま、別の場所にある装置間を移動させることができて
も試料１個のみの移動であるため、実験の効率が悪く、
数個の試料を比較する場合、再現性が乏しい。さらに試
料を複数個超高真空室に保持して、各種の表面分析装置
に搬送する試料搬送装置は未だ開発されていない。
析装置が複数あり、試料をそれぞれの分析装置に搬送し
て表面分析等を行う場合、試料を空気に晒してしまい良
好な結果を得ることができない。また超高真空に保った
まま、別の場所にある装置間を移動させることができて
も試料１個のみの移動であるため、実験の効率が悪く、
数個の試料を比較する場合、再現性が乏しい。さらに試
料を複数個超高真空室に保持して、各種の表面分析装置
に搬送する試料搬送装置は未だ開発されていない。
【０００４】そこで、この発明は上記の課題にかんが
み、高真空に保持したまま複数個の試料を空気に晒すこ
となく、表面分析装置等に搬送可能な試料搬送装置を提
供することを目的とする。
み、高真空に保持したまま複数個の試料を空気に晒すこ
となく、表面分析装置等に搬送可能な試料搬送装置を提
供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の試料搬送装置のうち請求項１記載の発明
は、複数個のサンプルホルダーを収納するサンプルケー
スと、サンプルケースを上下方向に並進可能なサンプル
保管用マニピュレータと、サンプルホルダーを脱着し水
平方向に並進可能なサンプル交換用マニピュレータとを
高真空排気可能なチャンバー内に備え、チャンバーにゲ
ートバルブを介して設けたドッキング室と、ドッキング
室に設けたドッキング部とを有しており、ドッキング部
にて他の真空装置に脱着可能かつ移動可能である構成と
した。また、請求項２記載の発明は上記構成に加え、ド
ッキング室が独立して高真空排気可能であることを特徴
する。
に、この発明の試料搬送装置のうち請求項１記載の発明
は、複数個のサンプルホルダーを収納するサンプルケー
スと、サンプルケースを上下方向に並進可能なサンプル
保管用マニピュレータと、サンプルホルダーを脱着し水
平方向に並進可能なサンプル交換用マニピュレータとを
高真空排気可能なチャンバー内に備え、チャンバーにゲ
ートバルブを介して設けたドッキング室と、ドッキング
室に設けたドッキング部とを有しており、ドッキング部
にて他の真空装置に脱着可能かつ移動可能である構成と
した。また、請求項２記載の発明は上記構成に加え、ド
ッキング室が独立して高真空排気可能であることを特徴
する。
【０００６】請求項３記載の発明は、他の真空装置にチ
ャンバーを高真空保持したまま脱着可能であることを特
徴とする。請求項４記載の発明は、他の真空装置が、そ
の場表面観察手段と、サンプル清浄化手段と、サンプル
ホルダーを保持するサンプルステージと、ゲートバルブ
で密閉したドッキング部とを圧力制御可能な高真空室に
備えていることを特徴としている。また請求項５記載の
発明は上記構成に加え、その場表面観察手段が、ＬＥＥ
Ｄ及びＸＰＳのいずれか、或いは両方であることを特徴
とする。
ャンバーを高真空保持したまま脱着可能であることを特
徴とする。請求項４記載の発明は、他の真空装置が、そ
の場表面観察手段と、サンプル清浄化手段と、サンプル
ホルダーを保持するサンプルステージと、ゲートバルブ
で密閉したドッキング部とを圧力制御可能な高真空室に
備えていることを特徴としている。また請求項５記載の
発明は上記構成に加え、その場表面観察手段が、ＬＥＥ
Ｄ及びＸＰＳのいずれか、或いは両方であることを特徴
とする。
【０００７】また、請求項６記載の発明は、サンプル清
浄化手段が、アルゴンスパッタリング装置及びサンプル
アニーリング装置のいずれか、或いは両方であることを
特徴とする。さらに、請求項７記載の発明は、サンプル
ステージがｘ、ｙ、ｚ軸方向に移動可能かつｚ軸回りに
回転可能であることを特徴としている。
浄化手段が、アルゴンスパッタリング装置及びサンプル
アニーリング装置のいずれか、或いは両方であることを
特徴とする。さらに、請求項７記載の発明は、サンプル
ステージがｘ、ｙ、ｚ軸方向に移動可能かつｚ軸回りに
回転可能であることを特徴としている。
【０００８】このような構成の本発明の試料搬送装置で
は、高真空に保持したまま移動でき、高真空室内の複数
個の試料を空気に触れさせることなく各種の真空装置に
搬送することができる。また複数個の試料を空気に触れ
させることなく表面分析装置に同一条件下で搬送できる
ので、実験能率が高く、対照実験において良好な表面分
析ができる。
は、高真空に保持したまま移動でき、高真空室内の複数
個の試料を空気に触れさせることなく各種の真空装置に
搬送することができる。また複数個の試料を空気に触れ
させることなく表面分析装置に同一条件下で搬送できる
ので、実験能率が高く、対照実験において良好な表面分
析ができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下、図１〜図８に基づき同一部
材には同一符号を用いて、本発明による試料搬送装置の
好適な実施の形態について説明する。図１はこの発明に
係る試料搬送装置の概略正面断面図であり、図２は概略
左側面断面図であり、図３は概略平面図である。
材には同一符号を用いて、本発明による試料搬送装置の
好適な実施の形態について説明する。図１はこの発明に
係る試料搬送装置の概略正面断面図であり、図２は概略
左側面断面図であり、図３は概略平面図である。
【００１０】図１〜図３を参照すると、この発明の試料
搬送装置１は、高真空排気可能なチャンバー２と、この
チャンバー２内で試料を設置したサンプルホルダー５を
貯蔵するサンプルケース４と、このサンプルケース４を
上下方向に並進するサンプル保管用マニピュレータ６
と、サンプルケース４に収納されたサンプルホルダー５
を水平方向に並進するサンプル交換用マニピュレータ８
と、チャンバー２にゲートバルブ１１を介して設けられ
た真空排気可能なドッキング室１２とを備え、このドッ
キング室１２をゲートバルブ１７を介してターボ分子ポ
ンプ１９で高真空排気可能になっている。
搬送装置１は、高真空排気可能なチャンバー２と、この
チャンバー２内で試料を設置したサンプルホルダー５を
貯蔵するサンプルケース４と、このサンプルケース４を
上下方向に並進するサンプル保管用マニピュレータ６
と、サンプルケース４に収納されたサンプルホルダー５
を水平方向に並進するサンプル交換用マニピュレータ８
と、チャンバー２にゲートバルブ１１を介して設けられ
た真空排気可能なドッキング室１２とを備え、このドッ
キング室１２をゲートバルブ１７を介してターボ分子ポ
ンプ１９で高真空排気可能になっている。
【００１１】チャンバー２は、超高真空排気可能なゲッ
タポンプ１５と、ゲートバルブ１８を介して超高真空排
気可能なターボ分子ポンプ１９と、図示しない補助真空
ポンプとを有し、清浄な高真空が得られるようになって
いる。さらにチャンバー２には、常圧復帰などのために
ガスを導入するバルブ２２とピラニーゲージ２４とが設
けられている。またドッキング室１２はターボ分子ポン
プ１９で超高真空排気可能になっている。
タポンプ１５と、ゲートバルブ１８を介して超高真空排
気可能なターボ分子ポンプ１９と、図示しない補助真空
ポンプとを有し、清浄な高真空が得られるようになって
いる。さらにチャンバー２には、常圧復帰などのために
ガスを導入するバルブ２２とピラニーゲージ２４とが設
けられている。またドッキング室１２はターボ分子ポン
プ１９で超高真空排気可能になっている。
【００１２】なお、図２及び図３中の２１は圧力ゲージ
を取り付けるポートやビューポートなどであり、密閉フ
ランジなどで封止されている。
を取り付けるポートやビューポートなどであり、密閉フ
ランジなどで封止されている。
【００１３】図４及び図５は本実施形態に係るサンプル
交換用のサンプルケースの一例を示す外観図である。図
４及び図５を参照して、Ｌ字状のサンプルケース４と矩
形状のサンプルケース３は複数のサプルホルダー５を収
納可能であり、サンプル保管用マニピュレータ６により
上下方向に移動可能になっている。
交換用のサンプルケースの一例を示す外観図である。図
４及び図５を参照して、Ｌ字状のサンプルケース４と矩
形状のサンプルケース３は複数のサプルホルダー５を収
納可能であり、サンプル保管用マニピュレータ６により
上下方向に移動可能になっている。
【００１４】サンプル交換用マニピュレータ８はこの先
端をサンプルホルダーのねじ穴７にねじ込んでサンプル
ホルダー５を保持するようになっている。
端をサンプルホルダーのねじ穴７にねじ込んでサンプル
ホルダー５を保持するようになっている。
【００１５】次に、本実施形態に係る表面分析装置につ
いて説明する。図６は本実施形態に係る表面分析装置の
概略正面断面図であり、図７は概略平面図である。図６
及び図７を参照して、本実施形態に係る表面分析装置３
０は、高真空排気可能なチャンバー３２と、このチャン
バー内に設けた上下動可能な加熱装置３４と、サンプル
ホルダー５を載せるサンプルステージ３６と、アルゴン
スパッタリング装置３８と、ＬＥＥＤ４２と、ＸＰＳ４
４と、質量分析装置取付部４６と、ゲートバルブ４５で
密閉するドッキング部４７とを備え、高真空排気可能な
ターボ分子ポンプ４８と、補助ポンプ４９とでこのチャ
ンバー３２を高真空排気可能になっている。到達圧力は
１０−１０Ｔｏｒｒ台である。
いて説明する。図６は本実施形態に係る表面分析装置の
概略正面断面図であり、図７は概略平面図である。図６
及び図７を参照して、本実施形態に係る表面分析装置３
０は、高真空排気可能なチャンバー３２と、このチャン
バー内に設けた上下動可能な加熱装置３４と、サンプル
ホルダー５を載せるサンプルステージ３６と、アルゴン
スパッタリング装置３８と、ＬＥＥＤ４２と、ＸＰＳ４
４と、質量分析装置取付部４６と、ゲートバルブ４５で
密閉するドッキング部４７とを備え、高真空排気可能な
ターボ分子ポンプ４８と、補助ポンプ４９とでこのチャ
ンバー３２を高真空排気可能になっている。到達圧力は
１０−１０Ｔｏｒｒ台である。
【００１６】なお、図７に示した例ではＬＥＥＤやＸＰ
Ｓを取り付けているが、他の表面分析装置を取り付ける
ことも可能である。
Ｓを取り付けているが、他の表面分析装置を取り付ける
ことも可能である。
【００１７】加熱装置３４は試料を設置したサンプルホ
ルダーを覆うことで例えば２０ｍｍ×２０ｍｍという大
きな試料を均一に１０００℃まで加熱し、アニーリング
処理することが可能である。
ルダーを覆うことで例えば２０ｍｍ×２０ｍｍという大
きな試料を均一に１０００℃まで加熱し、アニーリング
処理することが可能である。
【００１８】清浄化処理手段としてアルゴンスパッタリ
ング装置と加熱装置とを用いると、スパッタリングとア
ニーリングのサイクルで試料を清浄化処理できる。その
場観察手段としてＬＥＥＤ、ＸＰＳを取り付けた場合、
表面の長距離秩序、表面の組成分析、表面の状態分析を
行うことができ、反応前後の表面分析が可能である。
ング装置と加熱装置とを用いると、スパッタリングとア
ニーリングのサイクルで試料を清浄化処理できる。その
場観察手段としてＬＥＥＤ、ＸＰＳを取り付けた場合、
表面の長距離秩序、表面の組成分析、表面の状態分析を
行うことができ、反応前後の表面分析が可能である。
【００１９】図８は本表面分析装置のサンプルステージ
の一部概略外観図である。図８に示すように、サンプル
ホルダー５がサンプルステージ３６に設置されている。
このサンプルステージ３６は手動又は自動であってｘ、
ｙ、ｚ軸方向に移動可能で、角度θが０°〜３４０°の
範囲で回転可能である。サンプル交換用マニピュレータ
８をねじ穴７から抜くことにより、このマニピュレータ
８の先端に取り付けられていたサンプルホルダー５をサ
ンプルステージ３６に移設する。
の一部概略外観図である。図８に示すように、サンプル
ホルダー５がサンプルステージ３６に設置されている。
このサンプルステージ３６は手動又は自動であってｘ、
ｙ、ｚ軸方向に移動可能で、角度θが０°〜３４０°の
範囲で回転可能である。サンプル交換用マニピュレータ
８をねじ穴７から抜くことにより、このマニピュレータ
８の先端に取り付けられていたサンプルホルダー５をサ
ンプルステージ３６に移設する。
【００２０】次に本実施形態の試料搬送装置の作用につ
いて説明する。先ず、チャンバー２を高真空にしてサン
プル交換用マニピュレータ８にサンプルホルダー５を取
り付ける。このとき表面分析装置３０も高真空にしてお
く。次に、チャンバー２をゲッタポンプ１５で高真空に
したままゲートバルブ１８を閉め、ターボ分子ポンプ１
９をオフにする。
いて説明する。先ず、チャンバー２を高真空にしてサン
プル交換用マニピュレータ８にサンプルホルダー５を取
り付ける。このとき表面分析装置３０も高真空にしてお
く。次に、チャンバー２をゲッタポンプ１５で高真空に
したままゲートバルブ１８を閉め、ターボ分子ポンプ１
９をオフにする。
【００２１】次いで、試料搬送装置を表面分析装置３０
まで移動する。このときターボ分子ポンプは停止してい
るので試料搬送装置は移動可能である。表面分析装置３
０のドッキング部４７を密閉するゲートバルブ４５と試
料搬送装置１のドッキング室１２とを結合し、図示しな
かった補助真空ポンプで真空に引きながらゲートバルブ
１７を開け、ターボ分子ポンプとドッキング室１２とを
予備排気し、その後ターボ分子ポンプをオンする。この
ようにしてドッキング室１２を高真空排気する。この
後、ゲートバルブ１８を開けると同時にゲートバルブ１
７を閉める。
まで移動する。このときターボ分子ポンプは停止してい
るので試料搬送装置は移動可能である。表面分析装置３
０のドッキング部４７を密閉するゲートバルブ４５と試
料搬送装置１のドッキング室１２とを結合し、図示しな
かった補助真空ポンプで真空に引きながらゲートバルブ
１７を開け、ターボ分子ポンプとドッキング室１２とを
予備排気し、その後ターボ分子ポンプをオンする。この
ようにしてドッキング室１２を高真空排気する。この
後、ゲートバルブ１８を開けると同時にゲートバルブ１
７を閉める。
【００２２】次に、試料搬送装置１のゲートバルブ１１
と、表面分析装置のゲートバルブ４５を開け、マニピュ
レータ８でサンプルホルダー５を表面分析装置３０のサ
ンプルステージ３６まで搬送する。最後に、マニピュレ
ータ８を元に戻し、ゲートバルブ４５を閉め、表面分析
を開始する。試料が空気に触れることなく表面分析装置
に搬送されるので良好な表面分析が可能になる。
と、表面分析装置のゲートバルブ４５を開け、マニピュ
レータ８でサンプルホルダー５を表面分析装置３０のサ
ンプルステージ３６まで搬送する。最後に、マニピュレ
ータ８を元に戻し、ゲートバルブ４５を閉め、表面分析
を開始する。試料が空気に触れることなく表面分析装置
に搬送されるので良好な表面分析が可能になる。
【００２３】このように本発明の試料搬送装置は高真空
に保持したまま移動可能であり、高真空室内の複数の試
料を空気に触れさせることなく各種の真空装置に同一条
件下で搬送することができる。
に保持したまま移動可能であり、高真空室内の複数の試
料を空気に触れさせることなく各種の真空装置に同一条
件下で搬送することができる。
【００２４】
【発明の効果】以上の説明で理解されるように、この発
明の試料搬送装置は高真空のまま試料を脱着可能かつ移
動可能であるので、高真空に保持したまま試料を搬送す
ることができるという効果を有する。また複数の試料を
空気に晒すことなく表面分析装置に同一条件下で搬送す
るので、実験能率が高く、対照実験において良好な表面
分析ができるという効果を有する。
明の試料搬送装置は高真空のまま試料を脱着可能かつ移
動可能であるので、高真空に保持したまま試料を搬送す
ることができるという効果を有する。また複数の試料を
空気に晒すことなく表面分析装置に同一条件下で搬送す
るので、実験能率が高く、対照実験において良好な表面
分析ができるという効果を有する。
【図１】この発明に係る試料搬送装置の概略正面断面図
である。
である。
【図２】この発明に係る試料搬送装置の概略左側面断面
図である。
図である。
【図３】この発明に係る試料搬送装置の概略平面図であ
る。
る。
【図４】この発明による実施形態に係るサンプル交換用
のサンプルケースの一例を示す外観図である。
のサンプルケースの一例を示す外観図である。
【図５】上記実施形態に係るサンプル交換用のサンプル
ケースの一例を示す外観図である。
ケースの一例を示す外観図である。
【図６】上記実施形態に係る表面分析装置の概略正面断
面図である。
面図である。
【図７】上記実施形態に係る表面分析装置の概略平面図
である。
である。
【図８】上記実施形態に係る表面分析装置のサンプルス
テージの一部概略外観図である。
テージの一部概略外観図である。
１ 試料搬送装置 ２，３２ チャンバー ３，４ サンプルケース ５ サンプルホルダー ６ サンプル保管用マニピュレータ ８ サンプル交換用マニピュレータ １１，１８，１７，４５ ゲートバルブ １２ ドッキング室 １５ ゲッタポンプ １９ ターボ分子ポンプ ２２ バルブ ２４ ピラニーゲージ ３０ 表面分析装置 ３４ 加熱装置 ３６ サンプルステージ ３８ アルゴンスパッタリング装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岩澤 康裕 東京都世田谷区北沢３−５−５ (72)発明者 小野 享寿 埼玉県越谷市神明町３−382 (72)発明者 宮本 和夫 埼玉県南埼玉郡宮代町和戸３−８−17 (72)発明者 野村 昌治 茨城県つくば市吾妻２−821−５ Ｆターム(参考） 2G001 AA01 AA03 AA05 BA07 BA08 BA14 BA18 CA03 GA01 GA06 GA13 JA08 JA12 JA14 PA01 PA02 PA06 PA07 PA11 PA12 PA14 PA30 QA01 RA03 RA05 3F060 AA01 AA08 HA00
Claims (7)
- 【請求項１】 複数個のサンプルホルダーを収納するサ
ンプルケースと、このサンプルケースを上下方向に並進
可能なサンプル保管用マニピュレータと、上記サンプル
ホルダーを脱着し水平方向に並進可能なサンプル交換用
マニピュレータとを高真空排気可能なチャンバー内に備
え、 上記チャンバーにゲートバルブを介して設けたドッキン
グ室と、このドッキング室に設けたドッキング部とを有
しており、このドッキング部にて他の真空装置に脱着可
能かつ移動可能とした試料搬送装置。 - 【請求項２】 前記ドッキング室が独立して高真空排気
可能であることを特徴する、請求項１に記載の試料搬送
装置。 - 【請求項３】 前記他の真空装置に前記チャンバーを高
真空保持したまま脱着可能であることを特徴とする、請
求項１又は２に記載の試料搬送装置。 - 【請求項４】 前記他の真空装置が、その場表面観察手
段と、サンプル清浄化手段と、前記サンプルホルダーを
保持するサンプルステージと、ゲートバルブで密閉した
ドッキング部とを、圧力制御可能な高真空室に備えてい
ることを特徴とする、請求項１又は３に記載の試料搬送
装置。 - 【請求項５】 前記その場表面観察手段が、ＬＥＥＤ及
びＸＰＳのいずれか、或いは両方であることを特徴とす
る、請求項４記載の表面分析装置。 - 【請求項６】 前記サンプル清浄化手段が、アルゴンス
パッタリング装置及びサンプルアニーリング装置のいず
れか、或いは両方であることを特徴とする、請求項４記
載の表面分析装置。 - 【請求項７】 前記サンプルステージがｘ、ｙ、ｚ軸方
向に移動可能かつｚ軸回りに回転可能であることを特徴
とする、請求項４記載の試料搬送装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23737799A JP3239116B2 (ja) | 1999-07-20 | 1999-07-20 | 試料搬送装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23737799A JP3239116B2 (ja) | 1999-07-20 | 1999-07-20 | 試料搬送装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001033357A true JP2001033357A (ja) | 2001-02-09 |
| JP3239116B2 JP3239116B2 (ja) | 2001-12-17 |
Family
ID=17014495
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23737799A Expired - Fee Related JP3239116B2 (ja) | 1999-07-20 | 1999-07-20 | 試料搬送装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3239116B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004245652A (ja) * | 2003-02-12 | 2004-09-02 | Foundation For Nara Institute Of Science & Technology | 試料搬送システム |
| KR100631748B1 (ko) | 2005-03-28 | 2006-10-11 | 학교법인 포항공과대학교 | 진공 챔버 내부로의 시료 이송장치, 다기능 시료 홀더, 및시료 체인지 어셈블리 |
| JP2010276369A (ja) * | 2009-05-26 | 2010-12-09 | Sagaken Chiiki Sangyo Shien Center | 真空装置への試料搬送導入装置 |
| JP2014215279A (ja) * | 2013-04-30 | 2014-11-17 | 株式会社 エイブイシー | 材料搬送器具 |
| CN109580325A (zh) * | 2018-11-17 | 2019-04-05 | 金华职业技术学院 | 一种沉积制备薄膜样品的方法 |
| CN110682079A (zh) * | 2019-10-30 | 2020-01-14 | 格力电器（郑州）有限公司 | 设备抽真空用自动对接机构、空调用自动抽真空系统 |
| CN111876747A (zh) * | 2020-08-10 | 2020-11-03 | 北京大学 | 一种真空腔进样系统 |
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