JPS59111327A - 試料交換装置 - Google Patents
試料交換装置Info
- Publication number
- JPS59111327A JPS59111327A JP57220253A JP22025382A JPS59111327A JP S59111327 A JPS59111327 A JP S59111327A JP 57220253 A JP57220253 A JP 57220253A JP 22025382 A JP22025382 A JP 22025382A JP S59111327 A JPS59111327 A JP S59111327A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- chamber
- cassette
- sample chamber
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000012856 packing Methods 0.000 abstract 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 2
- 241001441724 Tetraodontidae Species 0.000 description 1
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Electron Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は電子ビーム露光装に係シ、特に試料を保持した
カセットヲ試料室と試料交換室の間を出し入れする試料
交換機構に関する。
カセットヲ試料室と試料交換室の間を出し入れする試料
交換機構に関する。
従来の試料交換機構は第1図に示す如き構成を有してい
る。すなわち、1は試料を保持したカセット2を搭載し
て2次元的に移動するステージ、3はステージ1を実装
するための試料室、4は試料室3を真空排気するための
真空ポンプ、5は試料室を載置する架台、6は試料交換
室でアリ、ゲート弁7によって試料室3との間が仕切ら
れている。試料交換室6の中にt′i複数のカセツ)1
装てんするホルダ8が実装される。このような構成にお
いてカセット2を交換する場合には、まず、ゲート弁7
を閉じ、試料室3を真空に保持しているものとすると、
ホルダ8を試料交換室6に実装して交換室上蓋9を閉じ
、真空ポンプ10VCよって試料交換室6の中を真空排
気する。しかるのち上下機構11によってホルダ8の中
の最初に装入すべきカセット2が試料交換位置にくるよ
うにホルダ8を上下に移動させたのち、ゲート弁7を開
き、装着機構12によって試料交換位置のカセット2を
ステージ1の上に装着する。次に、ゲート弁7を閉じ、
カセット2を装着したステージ1を電子ビーム照射位置
へ移動して霧光を開始する。このような従来の試料交換
装置にあっては、試料室3と試料交換室6の間でカセッ
トの出し入れ動作を行わせる場合には常にゲート弁7を
開閉しなければならないため、ゲート弁7の開閉に伴う
真空排気時間によってカセット交換時間が遅延され、さ
らにゲート弁7を設けることによって弁の開閉のために
余分な空間を必要とするという欠点があった。
る。すなわち、1は試料を保持したカセット2を搭載し
て2次元的に移動するステージ、3はステージ1を実装
するための試料室、4は試料室3を真空排気するための
真空ポンプ、5は試料室を載置する架台、6は試料交換
室でアリ、ゲート弁7によって試料室3との間が仕切ら
れている。試料交換室6の中にt′i複数のカセツ)1
装てんするホルダ8が実装される。このような構成にお
いてカセット2を交換する場合には、まず、ゲート弁7
を閉じ、試料室3を真空に保持しているものとすると、
ホルダ8を試料交換室6に実装して交換室上蓋9を閉じ
、真空ポンプ10VCよって試料交換室6の中を真空排
気する。しかるのち上下機構11によってホルダ8の中
の最初に装入すべきカセット2が試料交換位置にくるよ
うにホルダ8を上下に移動させたのち、ゲート弁7を開
き、装着機構12によって試料交換位置のカセット2を
ステージ1の上に装着する。次に、ゲート弁7を閉じ、
カセット2を装着したステージ1を電子ビーム照射位置
へ移動して霧光を開始する。このような従来の試料交換
装置にあっては、試料室3と試料交換室6の間でカセッ
トの出し入れ動作を行わせる場合には常にゲート弁7を
開閉しなければならないため、ゲート弁7の開閉に伴う
真空排気時間によってカセット交換時間が遅延され、さ
らにゲート弁7を設けることによって弁の開閉のために
余分な空間を必要とするという欠点があった。
本発明の目的は、試料カセットを試料室内に効率よく装
着することのできる試料交換装置を提供することにある
。
着することのできる試料交換装置を提供することにある
。
本発明は、試料室上蓋に連絡口を設け、該連絡口を載置
テーブルで密にふさぐように構成することにより、試料
室と試料交換室とを密閉して仕切る真空バルブを排除し
て、試料カセットを試料室内に効率良く装着できるよう
にしようというものである。
テーブルで密にふさぐように構成することにより、試料
室と試料交換室とを密閉して仕切る真空バルブを排除し
て、試料カセットを試料室内に効率良く装着できるよう
にしようというものである。
以下、本発明の実施例について説明する。
第2図には、本発明の一実施例が示されている。
図において、試料移動台21を内部に有する試料室16
の上蓋部には、連絡口17が設けられており、該連絡口
17のと部にリフト19によって上下運動可能な如く構
成された蓋状のハウジング18、及び上記試料室16内
にバッキング33によって耐真空保持された外部、駆動
棒27によって上下運動可能に構成される試料載置テー
ブル20が設けられている。このような構成において、
試料室16は排気ポンプ30によって真空にされており
、上記載置テープ′ル20上の試料は、カセット26と
共に移動台21上に転送可能な構成となっている。さら
に上記試料室16と蓋状ノ・クジング18とは、バッキ
ング32によって耐真空的に保持されている。また、カ
セット26上の試料25は、外部の試料ハウジング22
中にセットされた試料ホルダ23中に複数個準備されて
おり、上下機構24によって順次、上記蓋状ハウジング
18を介して、上記上下テーブル20上のカセット26
上に出入されるものである。
の上蓋部には、連絡口17が設けられており、該連絡口
17のと部にリフト19によって上下運動可能な如く構
成された蓋状のハウジング18、及び上記試料室16内
にバッキング33によって耐真空保持された外部、駆動
棒27によって上下運動可能に構成される試料載置テー
ブル20が設けられている。このような構成において、
試料室16は排気ポンプ30によって真空にされており
、上記載置テープ′ル20上の試料は、カセット26と
共に移動台21上に転送可能な構成となっている。さら
に上記試料室16と蓋状ノ・クジング18とは、バッキ
ング32によって耐真空的に保持されている。また、カ
セット26上の試料25は、外部の試料ハウジング22
中にセットされた試料ホルダ23中に複数個準備されて
おり、上下機構24によって順次、上記蓋状ハウジング
18を介して、上記上下テーブル20上のカセット26
上に出入されるものである。
第3図には、第2図図示実施例の試料25の出入れ構成
が示されている。すなわち、試料25の出入の為には、
試料載置テーブル20を外部駆動棒27によって連絡口
17部に挿着せしめることによってバッキング31を介
して試料室16とは真空的に隔絶された試料交換室部3
4を構成ならしめ、該状態において蓋状ノ・ウジフグ1
8部をリフト19を用いて上動せしめ、第3図に示す如
く試料ホルダ23中の任意の試料25を載置テーブル2
0上のカセット26上へに出入れ交換可能とならしめる
ものである。この時、交換室部34の真空排気、リーク
動作は上下可動な如く設けられた排管28及び排気ポン
プ29を介して行なわれるものであり、該構成において
試料室16中が前記排気ポンプ30によ#)〜10−’
Torr台に排気されておシ、該時、交換室34部が
排気ポンプ29により数1011台に予備排気後、即装
置テーブル20を下動ならしめ、カセット26上の試料
を移動台21上に出入れ可能なものとするものである。
が示されている。すなわち、試料25の出入の為には、
試料載置テーブル20を外部駆動棒27によって連絡口
17部に挿着せしめることによってバッキング31を介
して試料室16とは真空的に隔絶された試料交換室部3
4を構成ならしめ、該状態において蓋状ノ・ウジフグ1
8部をリフト19を用いて上動せしめ、第3図に示す如
く試料ホルダ23中の任意の試料25を載置テーブル2
0上のカセット26上へに出入れ交換可能とならしめる
ものである。この時、交換室部34の真空排気、リーク
動作は上下可動な如く設けられた排管28及び排気ポン
プ29を介して行なわれるものであり、該構成において
試料室16中が前記排気ポンプ30によ#)〜10−’
Torr台に排気されておシ、該時、交換室34部が
排気ポンプ29により数1011台に予備排気後、即装
置テーブル20を下動ならしめ、カセット26上の試料
を移動台21上に出入れ可能なものとするものである。
したがって、本実施例によれば、載置テーブル20と蓋
状ハウジング18及び連絡口17を用いて試料交換室部
34を構成せしめ得ることから、従来装置のゲート弁と
同等の機能をもたせているため、構造を単純にして弁開
閉に要する余分な空間を省略し、さらに複数個試料の予
備排気時間等を除くことによってカセット交換時間を短
縮できる利点がある。
状ハウジング18及び連絡口17を用いて試料交換室部
34を構成せしめ得ることから、従来装置のゲート弁と
同等の機能をもたせているため、構造を単純にして弁開
閉に要する余分な空間を省略し、さらに複数個試料の予
備排気時間等を除くことによってカセット交換時間を短
縮できる利点がある。
以上説明したように、本発明によれば、試料力セツlr
試料室内に効率良く装着することができる。
試料室内に効率良く装着することができる。
第1図は従来の試料交換装置の構成図、第2図。
第3図は本発明の実施例を示す図である。
Claims (1)
- 1、真空状態で試料検査する試料室内を真空状態に保持
して試料を装着する試料交換装置において、上記試料室
上蓋部に上記試料室につながる連絡口と、該連絡口上方
に蓋状のノ・ウジングを着脱自在に設けると共に、上記
試料室内に上記連絡口に対して上下運動可能な試料載置
テーブルを設け、該テーブルを上昇せしめ上記試料室上
蓋部面に密に挿着できるようにしたことを特徴とする試
料交換装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57220253A JPS59111327A (ja) | 1982-12-17 | 1982-12-17 | 試料交換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57220253A JPS59111327A (ja) | 1982-12-17 | 1982-12-17 | 試料交換装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59111327A true JPS59111327A (ja) | 1984-06-27 |
Family
ID=16748285
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57220253A Pending JPS59111327A (ja) | 1982-12-17 | 1982-12-17 | 試料交換装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59111327A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62144324A (ja) * | 1985-12-18 | 1987-06-27 | Nec Corp | パタ−ン露光装置 |
JPS62169328A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-25 | Toshiba Mach Co Ltd | 基板交換装置 |
JPS62242326A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体デバイス製造装置 |
-
1982
- 1982-12-17 JP JP57220253A patent/JPS59111327A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62144324A (ja) * | 1985-12-18 | 1987-06-27 | Nec Corp | パタ−ン露光装置 |
JPS62169328A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-25 | Toshiba Mach Co Ltd | 基板交換装置 |
JPS62242326A (ja) * | 1986-04-14 | 1987-10-22 | Mitsubishi Electric Corp | 半導体デバイス製造装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5145303A (en) | Method and apparatus for reducing particulate contamination in processing chambers | |
JP3656701B2 (ja) | 処理装置 | |
JP3391623B2 (ja) | 半導体加工装置のためのローディング及びアンローディング用ステーション | |
US5223001A (en) | Vacuum processing apparatus | |
US5730573A (en) | Clean transfer method and apparatus therefor | |
US4676884A (en) | Wafer processing machine with evacuated wafer transporting and storage system | |
EP0344823A2 (en) | Workpiece processing apparatus | |
JPS6040532A (ja) | デイスク又はウエ−ハ取り扱い及びコ−テイング装置 | |
KR940006209A (ko) | 표면 처리방법 및 장치 | |
JPH0774227A (ja) | マイクロ環境下のロードロック | |
US6136168A (en) | Clean transfer method and apparatus therefor | |
JPS59111327A (ja) | 試料交換装置 | |
WO2005004228A1 (ja) | 処理装置 | |
JP2789198B2 (ja) | マスクローディング機構 | |
JPH06334019A (ja) | 可搬式密閉コンテナ | |
JPS62252128A (ja) | 半導体製造装置の基板導入装置 | |
JP3600848B2 (ja) | 予備真空室のシール性を改善したx線分析装置 | |
JPH0546203Y2 (ja) | ||
JPH05140743A (ja) | 真空処理装置 | |
JPH1092724A (ja) | ロードロック室 | |
JPS60189854A (ja) | 試料交換装置 | |
US3940629A (en) | Device for closing and opening vacuum x-ray film holders | |
JPH0357150A (ja) | イオン注入装置 | |
JPH0746562B2 (ja) | 表示管の製造装置 | |
JPS62204515A (ja) | 試料の搬送装置 |