JPH06334019A - 可搬式密閉コンテナ - Google Patents
可搬式密閉コンテナInfo
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- JPH06334019A JPH06334019A JP5116714A JP11671493A JPH06334019A JP H06334019 A JPH06334019 A JP H06334019A JP 5116714 A JP5116714 A JP 5116714A JP 11671493 A JP11671493 A JP 11671493A JP H06334019 A JPH06334019 A JP H06334019A
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
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Abstract
に比し、大幅に短縮することが可能な可搬式密閉コンテ
ナのガスパージ方法を提供することを目的とする。 【構成】 コンテナ本体10と、このコンテナ本体の開
口部を気密に閉鎖可能な蓋20とを備え、内部雰囲気を
ガスパージによりコンテナ収納物に好適な内部雰囲気と
される可搬式密閉コンテナにおいて、上記蓋20が1も
しくは複数のパージ用壁孔X1を有する中空体であるこ
とを特徴とする。
Description
示板、レチクル、ディスク類を製造するシステムに用い
られガスパージを容易とする可搬式の密閉コンテナに関
する。
もので、1は半導体ウエハの表面処理を行なう表面処理
炉を内蔵した表面処理装置、2はウエハ検査装置、3は
自走式の移載ロボット、4はウエハ保管庫、5はウエハ
洗浄装置、6はスタッカークレーン、7はリニアモータ
式の搬送装置、8はウエハを段々に複数枚載置可能なウ
エハカセット9(図6に示す)を収納した可搬式の密閉
コンテナである。
ーンルーム)での搬送や保管は、半導体ウエハへの塵埃
の付着を防ぐために、ウエハカセット9を上記密閉コン
テナ8に収納して行なう。
搬式密閉コンテナ、Wはウエハである。10は密閉コン
テナ8のコンテナ本体であって、開口12にフランジ1
3が形成されている。20は中空の底蓋であって、上面
はカセット載置部21となっており、内部には、図7に
示すような施錠・解錠機構を内蔵し、この施錠・解錠機
構は側壁22の孔23からロッド(ラッチ棒)24をコ
ンテナ本体10のフランジ13の内周面に形成された凹
部14へ進退させて施錠・解錠する。底蓋20は上記施
錠時、フランジ13の底にシール材15を介して圧接
し、コンテナ本体10内を外気に対して気密に遮断す
る。16は把手である。なお、底蓋20の底の周部に
は、偏平な脚部21Bが形成されている。
子24aを有し、長手方向進退可能かつ系統可能に片持
ち支持されている。25はカム、26は支点部材、27
はばねである。カム軸28は後述する昇降台31の上壁
中央から底蓋20内に伸び、昇降台31上に底蓋20が
同心に載置された時に、カム25とスプライン係合す
る。昇降台31はカム軸28を所定角度だけ回動するカ
ム軸駆動機構29を内蔵している。
ル汚染が問題になっていたが、半導体集積回路の高密度
化が進むに従い、空気中の酸素によるウエハ表面の自然
酸化膜や空気中の有機ガスの影響が問題となり始め、こ
の自然酸化膜の成長や有機ガス汚染を防止するため、ウ
エハWの移動、搬送、処理等を不活性なガス(N2 ガ
ス、ドライ空気)雰囲気中で行なう必要が生じ、現在で
は、O2 またはH2 Oあるいは必要な場合両方の濃度が
10ppm以下であるN2 ガス雰囲気が要求されてい
る。
等に、図8に示すように、ガスパージ機構(ガスパージ
ステーション)を設けて上記要求に応えるようにしてい
る。図8において、1Aは表面処理装置1の本体ケース
の上記壁の適所に設けられたポート、30は昇降装置、
31は昇降装置30の昇降台であって、ポート1Aの開
口部32を気密に閉鎖するポートドアを兼ねている。3
3はシール材である。34はポート1Aに形成された給
気路であって、一端は開口部32の内周面に開口し、他
端は管路35を介し図示しない不活性ガスボンベに接続
されている。36はポート1Aに形成された排気路であ
って、一端は開口部32の内周面に開口し、他端は表面
処理装置1外へ伸びる管路37に接続されている。3
8、39は開閉弁である。
8の底蓋20は内部空間Aを持つ中空体であって、ラッ
チ棒24が進退する孔23を通してコンテナ本体10内
に連通しているから、コンテナ8の上記ガスパージ時、
底蓋20内の空気も不活性ガスに置換されるが、空気の
排気は図9に実線矢印(1)で示すように、孔23を通
して行なわれるので、時間がかかるという問題がある。
との間に空間Bがあり、この空間Bの空気も不活性ガス
に置換されるが、空気の排気は図9に実線矢印(2)で
示すように、昇降台31と底蓋20の脚部21B間の隙
間Cを通して行なわれるので、時間がかかるという問題
がある。
ジが速やかに行なわれても、上記空間A、Bのガスパー
ジに時間がかかるので、全体としてのパージ特性が悪い
という問題があった。
たもので、コンテナのガスパージに要する時間を、従来
に比し、大幅に短縮することが可能な可搬式密閉コンテ
ナのガスパージ方法を提供することを目的とする。
するため、請求項1では、コンテナ本体と、このコンテ
ナ本体の開口部を気密に閉鎖可能な蓋とを備え、内部雰
囲気をガスパージによりコンテナ収納物に好適な内部雰
囲気とされる可搬式密閉コンテナにおいて、上記蓋が1
もしくは複数のパージ用壁孔を有する中空体である構成
とした。
移載される特定の台を有するパージステーションで行な
われるものにおいて、上記壁孔は、当該特定の台のコン
テナ載置面に向かって開口し、この特定の台には、一端
が、前記コンテナ載置面に開口するパージ用排気管路が
設けられていることを特徴とする。
て進退するラッチ棒を有する施錠・解錠機構を内蔵する
ことを特徴とする。
空気は、パージ用壁孔から追い出され、また、この蓋と
特定の台との間の隙間の空気も、パージ用排気管路を通
して排気されるので、コンテナのガスパージに要する時
間が短縮される。
明する。
蓋20と昇降台31の上面との間の空間Bに開口する1
個(もしくは複数個の)の、パージ用の通気孔となる壁
孔X1が形成されている(底面から見た図を図2に示
す)。また、昇降台31には、一端が上記空間Bに向か
って開口し、他端が当該昇降台31の下面に開口する通
気路X2が形成されている。X3は可撓性の配管であっ
て、一端は、通気路X2の上記他端に接続され、他端
は、本体ケース1A外へ引き出されている。通気路X2
と配管X3は排気路を構成している。60VBは開閉弁
である。他の構成は図6〜図8に示したものと同じであ
る。図2において、40は位置決めピン(図示しない)
が係合する位置決め用の孔、41は蓋開/閉用ピン孔で
ある。
Aには、孔23からN2 ガス等の不活性ガスが侵入し、
底蓋20内の空気は、大気圧より高い圧力のこの不活性
ガスにより壁孔X1から空間Bへ追い出され、空間B内
の空気とともに通気路X2、配管X3を通して装置外へ
排気される。
の空気、底蓋20と昇降台31との間にできる空間Bの
空気を排気するための径路を別に設けたので、ガスパー
ジ時、これらの空間内の空気を速やかに追い出すことが
できる。
底蓋20の周壁に、ラッチ棒24が進退する孔23とは
別の通気孔X4を1もしくは複数個形成してもよい。
の偏平な脚部21Bに下面に、切欠き状の通気路21b
を1もしくは複数個形成してもよい。
を、昇降台31の昇降を利用して底蓋20を上下動させ
ることにより行なっているが、コンテナ8を特定の固定
台に載置し、コンテナ本体10を上下動させることによ
り行なう場合があり、この場合は、この固定台に、通気
路X2、配管X3(可撓性の配管でなくてもよい)を設
ける。
ナであるが、上蓋式の密閉コンテナの場合も、上蓋に通
気孔を形成しておけば、同様の効果を得ることができ
る。
時、コンテナの蓋内の空気が、パージ用の壁孔から追い
出されるから、コンテナ全体のガスパージに要する時間
を、従来に比し、短縮することができる。
説明するための図である。
説明するための図である。
ための図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 コンテナ本体と、このコンテナ本体の開
口部を気密に閉鎖可能な蓋とを備え、内部雰囲気をガス
パージによりコンテナ収納物に好適な内部雰囲気とされ
る可搬式密閉コンテナにおいて、 上記蓋が1もしくは複数のパージ用壁孔を有する中空体
であることを特徴とする可搬式密閉コンテナ。 - 【請求項2】 ガスパージが、コンテナが移載される特
定の台を有するパージステーションで行なわれるものに
おいて、壁孔は、当該特定の台のコンテナ載置面に向か
って開口し、この特定の台には、一端が、前記コンテナ
載置面に開口するパージ用排気管路が設けられているこ
とを特徴とする請求項1記載の可搬式密閉コンテナ。 - 【請求項3】 蓋が、コンテナ本体に対して進退するラ
ッチ棒を有する施錠・解錠機構を内蔵することを特徴と
する請求項1または2記載の可搬式密閉コンテナ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP11671493A JP3355697B2 (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 可搬式密閉コンテナおよびガスパージステーション |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP11671493A JP3355697B2 (ja) | 1993-05-19 | 1993-05-19 | 可搬式密閉コンテナおよびガスパージステーション |
Publications (2)
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JPH06334019A true JPH06334019A (ja) | 1994-12-02 |
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Family
ID=14693998
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---|---|---|---|
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6729823B2 (en) | 2000-08-23 | 2004-05-04 | Tokyo Electron Limited | Processing system for object to be processed |
US6867153B2 (en) | 2003-01-31 | 2005-03-15 | Trecenti Technologies, Inc. | Method of purging wafer receiving jig, wafer transfer device, and method of manufacturing semiconductor device |
US8235212B2 (en) | 2002-12-27 | 2012-08-07 | Asml Netherlands B.V. | Mask transport system configured to transport a mask into and out of a lithographic apparatus |
CN105129242A (zh) * | 2015-09-09 | 2015-12-09 | 郑运婷 | 可拆式温控文物密封展箱 |
CN105129241A (zh) * | 2015-09-09 | 2015-12-09 | 郑运婷 | 可拆式温控文物密封展箱的使用方法 |
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-
1993
- 1993-05-19 JP JP11671493A patent/JP3355697B2/ja not_active Expired - Lifetime
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