JP2001013508A - プラスチック液晶表示素子の製造方法 - Google Patents

プラスチック液晶表示素子の製造方法

Info

Publication number
JP2001013508A
JP2001013508A JP11181527A JP18152799A JP2001013508A JP 2001013508 A JP2001013508 A JP 2001013508A JP 11181527 A JP11181527 A JP 11181527A JP 18152799 A JP18152799 A JP 18152799A JP 2001013508 A JP2001013508 A JP 2001013508A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
liquid crystal
sealing
substrate
gap
sealing material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11181527A
Other languages
English (en)
Inventor
Hikari Nakagawa
光 中川
Eisaku Wada
英作 和田
Masayoshi Yonezawa
正善 米澤
Koji Fujimoto
浩司 藤本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kyocera Display Corp
Original Assignee
Kyocera Display Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kyocera Display Corp filed Critical Kyocera Display Corp
Priority to JP11181527A priority Critical patent/JP2001013508A/ja
Publication of JP2001013508A publication Critical patent/JP2001013508A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 面内のギャップを均一にして液晶表示素子の
品質を高めるとともに、その歩留りを向上させることが
できるプラスチック液晶表示素子の製造方法を提供する
こと。 【解決手段】 液晶注入後の加圧により封止を行う工程
において、シール材13によるシール部分を加圧するこ
となく、前記シール材13に囲繞され表示エリア5とし
て使用される部分のみを加圧用治具11により加圧する
こと。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はプラスチック液晶表
示素子の製造方法に係り、特に、加圧封止工程における
加圧方法に特徴のあるプラスチック液晶表示素子の製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】透明電極用基板としてのプラスチック基
板を用いた液晶表示素子(以下、PLCという)は、ガ
ラス基板のものに比べて軽量でしかも割れにくいという
点が評価され、携帯電話や携帯用情報端末等の分野で大
きな期待が寄せられている。特に、情報端末分野におい
ては情報量の拡大により、画面の高精細化、大型化が進
むため、ガラス基板を用いた液晶表示装置では軽量化に
限界があるため、PLCの開発が期待されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記P
LCであっても、特に、基板の厚みが0.2mm以下の
ものに関しては、基板自体に剛直性がないため、酸化イ
ンジウム錫(ITO)等からなる透明導電膜を所定の形
状にパターニングした後に、透明電極が形成されている
部分とされていない部分とでは基板内の応力の違いによ
って基板が凹凸にたわみ、セル組立て後にギャップむら
となるという問題点があった。
【0004】ここで、簡単にPLCの製造工程を説明す
れば、PLCの基本的な製造工程は、ITO等からなる
透明電極が形成された1対のプラスチック基板を電極面
が対向するように配置する工程、透明電極面に配向膜を
形成する工程、基板を水洗もしくは有機溶剤等で洗浄す
る工程、ギャップ材としての面内スペーサを基板に散布
する工程、ギャップ材としてのシール用スペーサを含有
するシール材を基板上に印刷する工程、透明電極の周辺
部をシール材でシールする工程、前記基板を液晶の注入
口を開口させた複数のシール部が並列形成されたスティ
ック状に切断し、前記シール部の空洞内に液晶を注入す
る工程、液晶を注入後、面内のギャップを均一にするた
め加圧状態にて封止を行う工程、単位液晶セルに切断す
る工程およびこれらの工程を経て形成される単位液晶セ
ルの両側に偏光板を貼り付ける工程から構成されてい
る。
【0005】そして、通常、セル組立て後のギャップむ
らは、多少のものであれば液晶注入後にスティック全体
に加圧をかける加圧封止工程の加圧により均一となる
が、前述のように基板自体にうねりが発生している場合
は、シール材にも加圧をかけることとなる従来の加圧方
法では、表示エリアを構成する面内(以下、単に面内と
いう)のギャップ寸法をシールのギャップ寸法以下とす
ることはできず、不十分な加圧となってギャップの均一
を得られなかった。
【0006】つまり、従来における加圧封入の際に用い
られていた治具は、表示エリアを構成する面内のみなら
ずシール部を含む基板面全体を一様に加圧する構成とさ
れており、しかも、その加圧部は、この加圧によりシー
ル材のシール部分を損なうことがないように、スポンジ
のようなクッション性を有する材料を用いて形成されて
いた。そして、シール材が支柱のような働きをしてシー
ル部に応力が集中するため、基板のうねりを矯正するこ
とは不可能であった。
【0007】本発明は前記した点に鑑みなされたもの
で、面内のギャップを均一にして液晶表示素子の品質を
高めるとともに、その歩留りを向上させることができる
プラスチック液晶表示素子の製造方法を提供するもので
ある。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明の請求項1に係るプラスチック液晶表示素子の製
造方法は、透明電極が形成された1対のプラスチック基
板を電極面が対向するように配置する工程、基板にギャ
ップ材を散布する工程、ギャップ材を含有するシール材
を基板上に印刷する工程、透明電極の周辺部を前記シー
ル材でシールする工程、シール材で囲繞された空洞内に
液晶を注入する工程、液晶を注入後、加圧状態にて封止
を行う工程を有するプラスチック液晶表示素子の製造方
法において、液晶注入後の加圧により封止を行う工程に
おいては、前記シール材によるシール部分を加圧するこ
となく、前記シール材に囲繞され、表示エリアとして使
用される部分のみを加圧用治具により加圧することを特
徴とするものである。
【0009】本発明のプラスチック液晶表示素子の製造
方法によれば、治具の加圧用突出部により表示エリアの
みを加圧することが可能となり、シール材を破損するこ
となく、基板に生じているギャップむらやうねり、撓み
等を矯正して面内を均一ギャップとすることができる。
【0010】また、請求項2に係るプラスチック液晶表
示素子の製造方法は、請求項1に記載のプラスチック液
晶表示素子の製造方法において、前記シール材に含有さ
れるギャップ材の平均粒径を、基板に散布されるギャッ
プ材の平均粒径よりも大きくしたことを特徴とするもの
である。
【0011】本発明のプラスチック液晶表示素子の製造
方法によれば、前記治具の加圧用突出部は表示エリアの
みを加圧することとなり、この加圧によって、表示エリ
アを前記基板に散布されるギャップ材の粒径に合わせ
て、シール材に含有されるギャップ材の粒径に基づくシ
ール材の厚さよりも薄くするように押さえ込むととも
に、基板に生じている撓みをシール材方向に押しやって
面内を均一ギャップとすることができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図1乃
至図6を参照して説明する。
【0013】本実施形態のPLCの製造に用いられる貼
合わせ基板を構成する個々の基板は大判の基板であり、
後に必要個数に分断して所望のPLCを得るようになさ
れているものである。この2枚の基板に対しては、それ
ぞれパターニング工程および配向処理工程の加工を施し
ておく。
【0014】具体的には、一方の基板には、ハードコー
ト層、ガスバリアコート層、アンダーコート層等を有し
てなる0.1〜0.4mmのポリカーボネート、ポリア
リレート、ポリエーテルサルフォン等からなるプラスチ
ック基板を用い、その片面に透明電極を所定の形状にパ
ターニングして形成する。そして、単セルの所定個数分
の列電極群(それぞれ表示用電極、接続電極、端子電極
が1本のストライプ状の列電極に形成)および行電極と
同じ本数のストライプ状の接続電極と端子電極にパター
ニングして列電極基板とし、端子部分および基板間導電
接続部分をのぞきポリイミドを厚さ20〜80nm、好
ましくは40〜50nmに積層し、これをラビングによ
り所定の配向処理を行う。
【0015】本実施形態においては、前記列電極基板に
は、ハードコート層、ガスバリアコート層、アンダーコ
ート層等を有してなる厚さ0.1mmのポリカーボネー
ト製プラスチック基板を用い、その片面にITOからな
る図示しない透明電極を所定の形状にパターニングし
た。また、前記ポリイミド膜の厚さは40nmに積層形
成した。
【0016】対向する他方の基板にも、同様にしてスト
ライプ状の行電極群(それぞれ表示用電極、接続電極、
端子電極が1本のストライプ状の行電極に形成)を形成
し、端子部分および基板間導伝接続部分を除きポリイミ
ドを厚さ20〜80nm、好適には40〜50nmを積
層し、同様にラビングにより配向処理し行電極基板とし
た。
【0017】本実施形態においては、この行電極基板
も、前記列電極基板と同様にハードコート層、ガスバリ
アコート層、アンダーコート層等を有してなる厚さ0.
1mmのポリカーボネート製プラスチック基板を用い、
その片面に設けたITOからなる透明導電膜を所定の形
状にパターニングして形成した。また、前記ポリイミド
膜の厚さは40nmに積層形成した。
【0018】次に、前記行電極基板に対しては、前記単
位液晶セル毎にシール材を塗布してシール部を形成す
る。このシール部の形状は、一辺の中央部に注入口を有
する枠状とされている(シールの形状について図1参
照)。
【0019】前記シール材中には、設定セルギャップに
ほぼ相当する径のギャップ材としてのスペーサ(以下、
シール用スペーサという)を1〜5%程度配合すること
が好ましい。シール用スペーサとしては、平均粒子径が
4.0〜15.0μm、好適には6.0〜7.0μmで
あるスチレン−ジビニルベンゼン共重合体もしくはシリ
カからなるビーズが好ましく採用可能であるが、基板間
導電接続材として、これらの一部もしくは全部をその表
面に金/ニッケル2層メッキ等の導電被膜を施した導電
ビーズを使用することができる。なお、シール部で基板
間導電接続をとる場合には導電ビーズに加えて導電性の
フィラーを2〜10wt%で混合したシール材を用いる
ことができる。本実施形態においては、スチレン−ジビ
ニルベンゼン共重合体からなるビーズに金/ニッケルの
2層をメッキした平均粒径が6.0μmである導電ビー
ズをシール用スペーサとして2wt%と導電性のフィラ
ーを5wt%で混合したものをシール用材として用い
た。
【0020】なお、続く貼合わせ工程に入る前に、プレ
キュア処理を行い、シール材のレベリングと溶剤除去を
行うものとする。
【0021】また、前記列電極基板に対しては、平均粒
径4.0〜15.0μm、好ましくは5.5〜6.5μ
mのギャップ材としての面内スペーサを透明電極面側に
散布する。本実施形態においては、熱可塑性樹脂からな
る表面層を有し、コアがスチレン−ジビニルベンゼン共
重合体である平均粒径が5.7μmである樹脂ビーズを
面内スペーサとして使用した。
【0022】ついで、両基板の電極両面を対向させ、液
晶分子のツイスト角が180°〜260°、好適には2
30°〜250°となるように配置して、位置合わせを
する。本実施形態においては、液晶分子のツイスト角が
240°となるように配置して、位置合わせを行った。
【0023】このとき、シール部が形成された行電極基
板と、スペーサが散布された列電極基板とをそれぞれの
基板上に形成したアライメントマークが合致するように
精度良く重ね合わせ、その後、120℃にて上記重ね合
わせした基板を熱圧着してシール材を硬化させると共
に、加圧して面内ギャップの制御を行った。
【0024】つまり、こうして得られた大判の貼合わせ
基板を単位液晶セル1の各注入口2を開口させて並列す
る複数のスティック状基板(以下、スティックという)
3に切断し、この状態で前記注入口2から液晶を注入し
てから、液晶セルに形成されたシール材4に圧力をかけ
ることなく、前記シール材4で囲繞され、モジュール組
み立て時に表示エリア5として用いられる面内のみに
0.4kgf/cm2〜3kgf/cm2の圧力で加圧
し、UV硬化型樹脂からなる封止材6により注入孔2を
封止し加圧封止工程を終了する。なお、図1には単位液
晶セルを示す。
【0025】本実施形態においては、前述の加圧には、
図2に示すような治具11を用い、前記シール材4に圧
力をかけることなく、面内を1.2kgf/cm2の圧
力で加圧した。なお、この圧力は使用するプラスチック
基板の厚さ等で適宜調節するものとする。
【0026】図2の治具11について説明を追加すれ
ば、本実施形態に用いる治具11は、スティック3の列
方向に整列する単位液晶セル1毎の前記シール材4によ
り囲まれた表示エリアに当接し、その表示エリア5のみ
を加圧可能とされた凸状の加圧用突出部12がベース1
3上に複数配列形成されているものである。本実施形態
において、前記加圧用突出部12はシリコンゴムのよう
な適当な剛性を有する素材を用いて形成されている。な
お、図2には、板状のベース13の片面に前記加圧用突
出部12が形成された治具11aと、ベース13の両面
に前記加圧用突出部12をそれぞれ複数形成した治具1
1bの2種が示されており、本実施形態の加圧方法は、
ベース13の片面に前記加圧用突出部12を形成した治
具1aを二本、ベース13の両面に前記加圧用突出部1
2を複数形成した治具1bを一本用意し、これら三本の
治具11a,11b,11aはベース13の両面に加圧
用突出部12を形成した治具11bを中間に位置させる
ように配設すると共に、各治具11a、11b、11a
にスティック3を1枚ずつそれぞれ挟むように載置し、
その後、一方向(図においては上方)から所定の圧力を
加えることとした。
【0027】このように、本実施形態の治具1は、シー
ル材4によるシール部分を避けて、図3に示すようにモ
ジュール組立て時にベゼル14の開口部分15から露出
することとなる表示エリア5のみに当接し、この加圧用
治具1によりスティック3を上下方向から挟持するよう
にして加圧をかけることにより、表示エリア5に均一な
圧を加えることが可能となった。
【0028】そして、前述のようにシール用スペーサの
平均粒径よりも面内スペーサの平均粒径を小さくしたこ
とにより、前述のようにして加圧された基板の面内ギャ
ップは、図4乃至図6に示すような作用で均一なものと
なる。
【0029】即ち、前述のように電極が形成された部分
とされなかった部分とが混在することによりうねりが生
じた基板21は、図4(電極は図示せず)に示すよう
に、液晶が注入されたことでそれぞれ外方(図において
上下方向)へ多少膨張した状態となっている。
【0030】仮に、シール用スペーサと面内スペーサと
を同径寸法としたときに、この基板21のうねりと膨張
とを矯正すべく、基板21を加圧した場合には、図5に
示すように、基板21に生じていたうねりが撓み(皺)
22となって基板21上に残り、これがギャップむらの
原因となる。
【0031】そこで、シール用スペーサの平均粒径を面
内スペーサの平均粒径より、色むらがでない程度に大き
くしておき、前述の治具1により加圧する。このとき、
前記治具1の加圧用突出部12は表示エリア5のみを加
圧することとなり、この加圧によって、表示エリア5は
面内スペーサの粒径に合わせてシール材4のシール部分
よりも低い位置に押さえ込まれるとともに、基板21に
生じている撓みは、図6に示すようにシール材4方向に
押しやられることとなり、面内ギャップを均一とするこ
とができる。
【0032】なお、シール用スペーサの平均粒径と面内
スペーサの平均粒径との関係は、0.25μm以上の差
を以てシール用スペーサの平均粒径の方が大きいことが
望ましい。本実施形態においては、0.3μmの差を生
じさせてシール用スペーサの平均粒径が大きいものを用
いている。
【0033】また、基板21の撓み22をシール材4方
向へ引っ張って強制的に補正するためには、従来よりも
強い加圧力が必要となるが、前述のように、本実施形態
における加圧用の治具11の加圧用突出部12を、従来
のものに比して剛性の高い素材により形成することによ
り、大きな加圧も可能となる。
【0034】このように面内ギャップを均一にした後、
最後にスティック3を単位液晶セル1毎に切断し、偏光
板を貼り、PLCとする。
【0035】このようにして得られたPLCの面内のギ
ャップばらつきは、任意の複数点を測定する方法による
品質調査(本実施形態においては10点を測定した)に
よれば、0.1μm以下であり、表示むらは観測されな
かった。また、シール際のギャップは5.8μmであっ
た。
【0036】これに対して、前述の封止工程をしない
で、パネル周辺シールおよび面内を均等に加圧したパネ
ルは、面内のギャップばらつきが0.3μmまで及ぶ場
合があり、表示むらが目立った。
【0037】この比較例からも分かるように、本実施形
態の加圧封止工程を得たPLCは、ギャップむらがな
く、表示品位の高いものとなり、その歩留りを向上させ
ることができた。
【0038】なお、このようにして得られたPLCは、
面内を均一とされた部分はベゼル14の開口部15から
露出させて表示エリア5とし、撓みを寄せたシール材4
の際部分は前記ベゼル14により覆って非表示エリア7
とすることはいうまでもない。
【0039】なお、本発明は前記実施形態のものに限定
されるものではなく、必要に応じて種々変更することが
可能である。
【0040】例えば、本実施形態においてはシール部の
形成と面内スペーサの散布を別々の基板に対して行った
が、面内スペーサの散布密度を高める場合等にはシール
部を形成した基板側にも面内スペーサを散布してもよ
い。
【0041】
【発明の効果】以上述べたように本発明に係るプラスチ
ック液晶表示素子の製造方法は、治具によりベゼルの開
口部分から露出することとなる有効表示エリアを加圧す
ることにより均一ギャップとしてギャップむらの問題を
解消することができ、表示品位の高いものとなり、その
歩留りを向上させることができる等の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 単位液晶セルにおける表示エリアおよび非表
示エリアとの関係を示す平面図
【図2】 本発明の加圧封止方法による加圧用治具の形
状および前記加圧用治具とスティックとの位置関係を示
す説明図
【図3】 単位液晶セルをモジュールに組み込んだ際の
ベゼルと表示エリアおよび非表示エリアの関係を示す平
面図
【図4】 本発明の加圧封止方法により加圧した基板の
面内ギャップが均一となる作用の説明図
【図5】 本発明の加圧封止方法により加圧した基板の
面内ギャップが均一となる作用の説明図
【図6】 本発明の加圧封止方法により加圧した基板の
面内ギャップが均一となる作用の説明図
【符号の説明】
1 単位液晶セル 2 注入口 3 スティック 4 シール材 5 表示エリア 6 封止材 7 非表示エリア 11 (加圧用)治具 12 加圧用突出部 13 ベース 14 ベゼル 15 開口部 21 基板 22 撓み
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 米澤 正善 兵庫県尼崎市上坂部1丁目2番1号 オプ トレックス株式会社内 (72)発明者 藤本 浩司 兵庫県尼崎市上坂部1丁目2番1号 オプ トレックス株式会社内 Fターム(参考) 2H089 LA05 LA15 LA24 NA22 NA44 NA45 NA48 QA11 QA12 QA14 QA16 TA01 TA04 TA05 TA15

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透明電極が形成された1対のプラスチッ
    ク基板を電極面が対向するように配置する工程、基板に
    ギャップ材を散布する工程、ギャップ材を含有するシー
    ル材を基板上に印刷する工程、透明電極の周辺部を前記
    シール材でシールする工程、シール材で囲繞された空洞
    内に液晶を注入する工程、液晶を注入後、加圧状態にて
    封止を行う工程を有するプラスチック液晶表示素子の製
    造方法において、 液晶注入後の加圧により封止を行う工程においては、前
    記シール材によるシール部分を加圧することなく、前記
    シール材に囲繞され表示エリアとして使用される部分の
    みを加圧用治具により加圧することを特徴するプラスチ
    ック液晶表示素子の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記シール材に含有されるギャップ材の
    平均粒径を、基板に散布されるギャップ材の平均粒径よ
    りも大きくしたことを特徴とする請求項1に記載のプラ
    スチック液晶表示素子の製造方法。
JP11181527A 1999-06-28 1999-06-28 プラスチック液晶表示素子の製造方法 Pending JP2001013508A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11181527A JP2001013508A (ja) 1999-06-28 1999-06-28 プラスチック液晶表示素子の製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11181527A JP2001013508A (ja) 1999-06-28 1999-06-28 プラスチック液晶表示素子の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2001013508A true JP2001013508A (ja) 2001-01-19

Family

ID=16102333

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11181527A Pending JP2001013508A (ja) 1999-06-28 1999-06-28 プラスチック液晶表示素子の製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2001013508A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002258293A (ja) * 2001-03-05 2002-09-11 Fujitsu Ltd 基板貼り合わせ装置及びそれを用いた基板貼り合わせ方法
WO2007083412A1 (ja) * 2006-01-17 2007-07-26 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002258293A (ja) * 2001-03-05 2002-09-11 Fujitsu Ltd 基板貼り合わせ装置及びそれを用いた基板貼り合わせ方法
WO2007083412A1 (ja) * 2006-01-17 2007-07-26 Sharp Kabushiki Kaisha 液晶表示装置
US8049859B2 (en) 2006-01-17 2011-11-01 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device including a relief area

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS63109413A (ja) 液晶デイスプレイの製造方法
KR20020048875A (ko) 평면표시소자의 제조방법
JP6749075B2 (ja) 液晶表示装置および液晶表示装置の製造方法
KR101880710B1 (ko) 경량 박형의 액정표시장치 제조방법
US7218374B2 (en) Liquid crystal display device and method of manufacturing the same
JP3505022B2 (ja) 液晶表示装置の製造方法
JPH06230398A (ja) 液晶表示素子及びその製造方法
JP2001013508A (ja) プラスチック液晶表示素子の製造方法
JPH08278489A (ja) 液晶表示パネルの製造方法
JPH10142595A (ja) 液晶表示素子およびその製法
JP2001183640A (ja) 高分子分散液晶表示素子の製造方法
KR20040037946A (ko) 액정표시장치용 액정패널 및 그 제조 방법
JP2000171820A (ja) 液晶表示パネル
JP4659956B2 (ja) 液晶表示素子の製造方法
JP2001209062A (ja) プラスチック液晶表示素子の製造方法
JP2003149630A (ja) 液晶セル形成用パネルおよび液晶セルの製造方法
JP2001033791A (ja) フィルム状の液晶表示パネルの製造方法
JP3470871B2 (ja) 液晶表示パネルの製造方法
JP2001215519A (ja) 液晶表示パネルの製造方法
JP2000284249A (ja) 液晶表示素子の製造方法
JPH09258233A (ja) 液晶表示素子及び電子機器
KR100494699B1 (ko) 액정표시장치의 칼라필터 제조방법
JP2002098975A (ja) 液晶装置の製造方法
JP3666943B2 (ja) 液晶表示装置の製造方法
JP2001117082A (ja) 液晶表示パネル用マザー基板