JP2001010993A - 含フッ素化合物の製造方法 - Google Patents
含フッ素化合物の製造方法Info
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 攪拌装置選択に関して能力的かつ経済的によ
り容易な選択が可能、かつ、より安全な作業環境を作業
員にもたらす自動合成装置に移行可能な含フッ素化合物
の製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 ヘキサフルオロプロペン二量体と一般式
(2); 【化1】 【化2】 [式中、Xは、脱離基を表し、Yは、一般式(a)(R
1は、水素原子、及び反応に不活性な置換基を示す)、
一般式(b)(R2は、反応に不活性な置換基を示
す)、一般式(c)(R3は、反応に不活性な置換基を
示す)及び式(d)を示す]で表される化合物をフッ化
アルキルアンモニウム塩とともに、フッ素系溶媒中で反
応させることを特徴とする、一般式(3); 【化3】 (式中、Yは、前記と同様である)で表される含フッ素
化合物の製造方法。
り容易な選択が可能、かつ、より安全な作業環境を作業
員にもたらす自動合成装置に移行可能な含フッ素化合物
の製造方法を提供することを目的とする。 【解決手段】 ヘキサフルオロプロペン二量体と一般式
(2); 【化1】 【化2】 [式中、Xは、脱離基を表し、Yは、一般式(a)(R
1は、水素原子、及び反応に不活性な置換基を示す)、
一般式(b)(R2は、反応に不活性な置換基を示
す)、一般式(c)(R3は、反応に不活性な置換基を
示す)及び式(d)を示す]で表される化合物をフッ化
アルキルアンモニウム塩とともに、フッ素系溶媒中で反
応させることを特徴とする、一般式(3); 【化3】 (式中、Yは、前記と同様である)で表される含フッ素
化合物の製造方法。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、含フッ素化合物の
製造方法に関する。
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般式(4);
【0003】
【化5】 [一般式中、Y’は、一般式(a’)(R4は、水素原
子、アルキル基、ニトロ基、ハロゲノ基、シアノ基、カ
ルボキシル基、カルボキシアルキル基、カルボニル基、
アミド基、アミノ基、ヒドロキシル基、およびアルコキ
シル基等の置換基を示す)、一般式(b’)(R5は、
アルキル基、及び各種置換基を有するアリール基やポリ
オキシエチレン基等を示す)、一般式(c’)(R
6は、アルキル基、及び各種置換基を有するアリール基
やポリオキシエチレン基等を示す)及び式(d’)等を
示す]
子、アルキル基、ニトロ基、ハロゲノ基、シアノ基、カ
ルボキシル基、カルボキシアルキル基、カルボニル基、
アミド基、アミノ基、ヒドロキシル基、およびアルコキ
シル基等の置換基を示す)、一般式(b’)(R5は、
アルキル基、及び各種置換基を有するアリール基やポリ
オキシエチレン基等を示す)、一般式(c’)(R
6は、アルキル基、及び各種置換基を有するアリール基
やポリオキシエチレン基等を示す)及び式(d’)等を
示す]
【0004】
【化6】
【0005】で表される含フッ素化合物は、高度に分岐
したフルオロカーボン鎖を持ち、耐塩基性などの性質を
有するため注目されており、表面修飾剤などの分野で応
用されている。(例えば、液体クロマトカラム充填剤用
表面修飾剤として利用されている。)
したフルオロカーボン鎖を持ち、耐塩基性などの性質を
有するため注目されており、表面修飾剤などの分野で応
用されている。(例えば、液体クロマトカラム充填剤用
表面修飾剤として利用されている。)
【0006】この含フッ素化合物の製造方法としては、
ヘキサフルオロプロペン二量体とベンジル誘導体等を非
プロトン性極性有機溶媒中、無水フッ化カリウムととも
に反応させる方法が知られている。しかしながら、この
方法は、以下の問題点を有する。
ヘキサフルオロプロペン二量体とベンジル誘導体等を非
プロトン性極性有機溶媒中、無水フッ化カリウムととも
に反応させる方法が知られている。しかしながら、この
方法は、以下の問題点を有する。
【0007】1.非プロトン性極性有機溶媒(例えば、
DMF、DMA、アセトニトリル)には、ヘキサフルオ
ロプロペン二量体および無水フッ化カリウムはほとんど
溶解しないので、反応容器には、3相(液相2、固相
1)を充分に混合できる強力な攪拌装置が必要となる。
したがって、反応のスケール・アップの際に装置選択に
関して能力的かつ経済的な困難が伴う。
DMF、DMA、アセトニトリル)には、ヘキサフルオ
ロプロペン二量体および無水フッ化カリウムはほとんど
溶解しないので、反応容器には、3相(液相2、固相
1)を充分に混合できる強力な攪拌装置が必要となる。
したがって、反応のスケール・アップの際に装置選択に
関して能力的かつ経済的な困難が伴う。
【0008】2.実製造プラントを考える場合、非プロ
トン性極性有機溶媒中では原料(無水フッ化カリウム)
あるいは生成物(ハロゲン化カリウムあるいはその他の
カリウム塩)が固体として分離している状態にあるため
移送が困難なので、より安全な作業環境を作業員にもた
らす自動合成装置に移行しにくい。
トン性極性有機溶媒中では原料(無水フッ化カリウム)
あるいは生成物(ハロゲン化カリウムあるいはその他の
カリウム塩)が固体として分離している状態にあるため
移送が困難なので、より安全な作業環境を作業員にもた
らす自動合成装置に移行しにくい。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な問題点を解決し、経済的かつ安全に含フッ素化合物を
製造する方法を提供することを主な目的とする。
な問題点を解決し、経済的かつ安全に含フッ素化合物を
製造する方法を提供することを主な目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記のような
従来技術の問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、攪拌
装置選択に関して能力的かつ経済的により容易な選択が
可能、かつ、より安全な作業環境を作業員にもたらす自
動合成装置に移行可能な製造方法を見出した。すなわ
ち、式(1);
従来技術の問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、攪拌
装置選択に関して能力的かつ経済的により容易な選択が
可能、かつ、より安全な作業環境を作業員にもたらす自
動合成装置に移行可能な製造方法を見出した。すなわ
ち、式(1);
【0011】
【化7】 で表されるヘキサフルオロプロペン二量体と、一般式
(2);
(2);
【0012】
【化8】
【0013】[式中、Xは、脱離基を表し、Yは、一般
式(a)(R1は、水素原子及び反応に不活性な置換基
を示す)、一般式(b)(R2は、反応に不活性な置換
基を示す)、一般式(c)(R3は、反応に不活性な置
換基を示す)及び式(d)を示す]で表される化合物を
フッ化アルキルアンモニウム塩とともに、フッ素系溶媒
中で反応させることを特徴とする、一般式(3);
式(a)(R1は、水素原子及び反応に不活性な置換基
を示す)、一般式(b)(R2は、反応に不活性な置換
基を示す)、一般式(c)(R3は、反応に不活性な置
換基を示す)及び式(d)を示す]で表される化合物を
フッ化アルキルアンモニウム塩とともに、フッ素系溶媒
中で反応させることを特徴とする、一般式(3);
【0014】
【化9】
【0015】(式中、Yは、前記と同様である。)で表
される含フッ素化合物の製造方法を提供する。
される含フッ素化合物の製造方法を提供する。
【0016】
【化10】
【0017】
【発明の実施の形態】本発明に用いる一般式(1)のヘ
キサフルオロプロペン二量体は、ヘキサフルオロプロペ
ンのオリゴメル化によって得られる。一般には、二量体
と三量体の混合物が得られるが、ヘキサフルオロプロペ
ンをフッ化物イオンの存在下、溶媒としてアセトニトリ
ルを使用することにより二量体を選択的に合成すること
ができる(特開昭49−134614号)。ただし、二
量体は、式(1)、式(5)に示す異性体の混合物であ
るが、蒸留等により式(1)を単離して用いてもよく、
混合物のまま用いてもよい。
キサフルオロプロペン二量体は、ヘキサフルオロプロペ
ンのオリゴメル化によって得られる。一般には、二量体
と三量体の混合物が得られるが、ヘキサフルオロプロペ
ンをフッ化物イオンの存在下、溶媒としてアセトニトリ
ルを使用することにより二量体を選択的に合成すること
ができる(特開昭49−134614号)。ただし、二
量体は、式(1)、式(5)に示す異性体の混合物であ
るが、蒸留等により式(1)を単離して用いてもよく、
混合物のまま用いてもよい。
【0018】
【化11】
【0019】本発明に用いる一般式(2)において、X
は、脱離基を示す。例示すれば、ハロゲン原子、置換ス
ルホニル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、塩
素、臭素、ヨウ素が好ましい。置換スルホニル基として
は、トリフルオロメタンスルホニル基、ノナフルオロブ
タンスルホニル基、トリフルオロエタンスルホニル基、
メタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基、p−
ブロモベンゼンスルホニル基、およびp−ニトロベンゼ
ンスルホニル基等が挙げられる。
は、脱離基を示す。例示すれば、ハロゲン原子、置換ス
ルホニル基等が挙げられる。ハロゲン原子としては、塩
素、臭素、ヨウ素が好ましい。置換スルホニル基として
は、トリフルオロメタンスルホニル基、ノナフルオロブ
タンスルホニル基、トリフルオロエタンスルホニル基、
メタンスルホニル基、p−トルエンスルホニル基、p−
ブロモベンゼンスルホニル基、およびp−ニトロベンゼ
ンスルホニル基等が挙げられる。
【0020】一般式(2)におけるYは、一般式
(a)、一般式(b)、一般式(c)及び式(d)を示
す。各式に示すR1、R2およびR3は、反応に不活性
な置換基を示す。好ましくは、電子吸引性置換基であ
り、例示すると、R1は、水素原子、炭素数1〜18の
直鎖状あるいは分枝状のアルキル(飽和あるいは不飽
和)基、また、ニトロ基、ハロゲノ基、シアノ基、カル
ボキシル基、カルボキシアルキル基、カルボニル基、ア
ミド基、アミノ基、及びヒドロキシル基が挙げられる。
(a)、一般式(b)、一般式(c)及び式(d)を示
す。各式に示すR1、R2およびR3は、反応に不活性
な置換基を示す。好ましくは、電子吸引性置換基であ
り、例示すると、R1は、水素原子、炭素数1〜18の
直鎖状あるいは分枝状のアルキル(飽和あるいは不飽
和)基、また、ニトロ基、ハロゲノ基、シアノ基、カル
ボキシル基、カルボキシアルキル基、カルボニル基、ア
ミド基、アミノ基、及びヒドロキシル基が挙げられる。
【0021】R2及びR3は、例示すると、炭素数1〜
18の直鎖状あるいは分枝状のアルキル(飽和あるいは
不飽和)基、また、ニトロ基、ハロゲノ基、シアノ基、
カルボキシル基、カルボキシアルキル基、カルボニル
基、アミド基、アミノ基、及びヒドロキシル基を有する
アリール基やポリオキシエチレン基が挙げられる。
18の直鎖状あるいは分枝状のアルキル(飽和あるいは
不飽和)基、また、ニトロ基、ハロゲノ基、シアノ基、
カルボキシル基、カルボキシアルキル基、カルボニル
基、アミド基、アミノ基、及びヒドロキシル基を有する
アリール基やポリオキシエチレン基が挙げられる。
【0022】本発明に用いるフッ化アルキルアンモニウ
ム塩はフッ素源として用いられ、フッ化テトラブチルア
ンモニウム、フッ化テトラプロピルアンモニウム、フッ
化テトラエチルアンモニウム、フッ化テトラメチルアン
モニウム、フッ化ベンジルトリメチルアンモニウム及び
フッ化ベンジルトリエチルアンモニウム等が挙げられ
る。好ましくは、フッ化テトラブチルアンモニウムであ
る。
ム塩はフッ素源として用いられ、フッ化テトラブチルア
ンモニウム、フッ化テトラプロピルアンモニウム、フッ
化テトラエチルアンモニウム、フッ化テトラメチルアン
モニウム、フッ化ベンジルトリメチルアンモニウム及び
フッ化ベンジルトリエチルアンモニウム等が挙げられ
る。好ましくは、フッ化テトラブチルアンモニウムであ
る。
【0023】本発明に用いるフッ素系溶媒としては、
1,4−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1,3
−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、(トリフルオ
ロメチル)ベンゼン、ペルフルオロデカン、ペルフルオ
ロオクタン、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロシク
ロヘキサン、およびペルフルオロデカリンが挙げられ
る。好ましくは、1,4−ビス(トリフルオロメチル)
ベンゼン、1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼ
ンである。
1,4−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、1,3
−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン、(トリフルオ
ロメチル)ベンゼン、ペルフルオロデカン、ペルフルオ
ロオクタン、ペルフルオロヘキサン、ペルフルオロシク
ロヘキサン、およびペルフルオロデカリンが挙げられ
る。好ましくは、1,4−ビス(トリフルオロメチル)
ベンゼン、1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベンゼ
ンである。
【0024】反応は、一般的には、ヘキサフルオロプロ
ペンの二量体と一般式(2)の化合物及びフッ化アルキ
ルアンモニウム塩をフッ素系溶媒に溶解させ、溶媒が還
流する温度(通常50〜100℃)で、還流させながら
行うとよい。
ペンの二量体と一般式(2)の化合物及びフッ化アルキ
ルアンモニウム塩をフッ素系溶媒に溶解させ、溶媒が還
流する温度(通常50〜100℃)で、還流させながら
行うとよい。
【0025】反応比率については、一般式(2)に対し
て,ヘキサフルオロプロペン二量体1〜1.5当量、フ
ッ化アルキルアンモニウム塩1〜3当量(好ましくは、
1〜1.5当量)で行なうとよい。また精製は,一般的
な方法である蒸留、再結晶及び溶媒抽出によって行うこ
とができる。
て,ヘキサフルオロプロペン二量体1〜1.5当量、フ
ッ化アルキルアンモニウム塩1〜3当量(好ましくは、
1〜1.5当量)で行なうとよい。また精製は,一般的
な方法である蒸留、再結晶及び溶媒抽出によって行うこ
とができる。
【0026】
【実施例】3,3,4,4,5,5,5-ヘプタフルオロ-2,2-ビス
(トリフルオロメチル)ペンチルベンゼンの製造 冷却管、および攪拌装置を備えた5mlのバイアル瓶にフ
ッ化テトラn−ブチルアンモニウム溶液(注1)1.0
047g(フッ化テトラブチルアンモニウムとして1.
5ミリモル)、1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベ
ンゼン1ml、ヘキサフルオロプロペン二量体0.460
0g(1.5ミリモル)、および臭化ベンジル0.12m
l(1.0ミリモル)を入れ、攪拌しつつ80〜100
℃で25時間反応させる。その後、室温まで冷却し、ガ
スクロマトグラフ測定を行った。得られた結果より、目
的物(式6)の収量は、0.092g、収率は22%で
あった。
(トリフルオロメチル)ペンチルベンゼンの製造 冷却管、および攪拌装置を備えた5mlのバイアル瓶にフ
ッ化テトラn−ブチルアンモニウム溶液(注1)1.0
047g(フッ化テトラブチルアンモニウムとして1.
5ミリモル)、1,3−ビス(トリフルオロメチル)ベ
ンゼン1ml、ヘキサフルオロプロペン二量体0.460
0g(1.5ミリモル)、および臭化ベンジル0.12m
l(1.0ミリモル)を入れ、攪拌しつつ80〜100
℃で25時間反応させる。その後、室温まで冷却し、ガ
スクロマトグラフ測定を行った。得られた結果より、目
的物(式6)の収量は、0.092g、収率は22%で
あった。
【0027】
【化12】
【0028】注1:「フッ化テトラn−ブチルアンモニ
ウム溶液」とは、あらかじめ、フッ化テトラn−ブチル
アンモニウムを40重量%濃度で1,3-ビス(トリフルオ
ロメチル)ベンゼンに溶解したものである。
ウム溶液」とは、あらかじめ、フッ化テトラn−ブチル
アンモニウムを40重量%濃度で1,3-ビス(トリフルオ
ロメチル)ベンゼンに溶解したものである。
【0029】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、攪拌装置選
択に関して能力的かつ経済的により容易な選択が可能、
かつ、より安全な作業環境を作業員にもたらす自動合成
装置に移行可能となる。
択に関して能力的かつ経済的により容易な選択が可能、
かつ、より安全な作業環境を作業員にもたらす自動合成
装置に移行可能となる。
Claims (1)
- 【請求項1】 式(1); 【化1】 で表されるヘキサフルオロプロペン二量体と、一般式
(2); 【化2】 【化3】 [式中、Xは、脱離基を表し、Yは、一般式(a)(R
1は、水素原子、及び反応に不活性な置換基を示す)、
一般式(b)(R2は、反応に不活性な置換基を示
す)、一般式(c)(R3は、反応に不活性な置換基を
示す)及び式(d)を示す]で表される化合物をフッ化
アルキルアンモニウム塩とともに、フッ素系溶媒中で反
応させることを特徴とする、一般式(3); 【化4】 (式中、Yは、前記と同様である)で表される含フッ素
化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11181127A JP2001010993A (ja) | 1999-06-28 | 1999-06-28 | 含フッ素化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11181127A JP2001010993A (ja) | 1999-06-28 | 1999-06-28 | 含フッ素化合物の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2001010993A true JP2001010993A (ja) | 2001-01-16 |
Family
ID=16095350
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11181127A Pending JP2001010993A (ja) | 1999-06-28 | 1999-06-28 | 含フッ素化合物の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2001010993A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002060355A (ja) * | 2000-08-18 | 2002-02-26 | Neos Co Ltd | 含フッ素ジクロロベンゼン |
JP2009067692A (ja) * | 2007-09-11 | 2009-04-02 | Central Glass Co Ltd | 含フッ素アルキルスルホニルアミノエチルα−置換アクリレート類の製造方法 |
-
1999
- 1999-06-28 JP JP11181127A patent/JP2001010993A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002060355A (ja) * | 2000-08-18 | 2002-02-26 | Neos Co Ltd | 含フッ素ジクロロベンゼン |
JP4516194B2 (ja) * | 2000-08-18 | 2010-08-04 | 株式会社ネオス | 含フッ素ジクロロベンゼン |
JP2009067692A (ja) * | 2007-09-11 | 2009-04-02 | Central Glass Co Ltd | 含フッ素アルキルスルホニルアミノエチルα−置換アクリレート類の製造方法 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
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|
A977 | Report on retrieval |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A02 | Decision of refusal |
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