JP2524544B2 - 光学活性な置換フェノキシアルカン酸アミド類の製造方法 - Google Patents
光学活性な置換フェノキシアルカン酸アミド類の製造方法Info
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- JP2524544B2 JP2524544B2 JP2330107A JP33010790A JP2524544B2 JP 2524544 B2 JP2524544 B2 JP 2524544B2 JP 2330107 A JP2330107 A JP 2330107A JP 33010790 A JP33010790 A JP 33010790A JP 2524544 B2 JP2524544 B2 JP 2524544B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、除草剤として有用である光学活性な置換フ
ェノキシアルカン酸アミド類の製造方法に関するもので
ある。
ェノキシアルカン酸アミド類の製造方法に関するもので
ある。
カルボン酸からアミド類を製造する方法としては、多
くの方法が知られているが、光学活性なカルボン酸から
アミド類を製造する方法としては、以下に示すような
〜の方法が知られているにすぎない。
くの方法が知られているが、光学活性なカルボン酸から
アミド類を製造する方法としては、以下に示すような
〜の方法が知られているにすぎない。
特開平１−104072号公報 ・酸クロライドを用いた合成方法である。
・縮合剤としては、ジシクロヘキシルカーボジイミド
（DCC），四塩化チタン，ハロゲン化リン化合物，フォ
スファイト化合物を例示。
（DCC），四塩化チタン，ハロゲン化リン化合物，フォ
スファイト化合物を例示。
Bull.Chem.Soc.Japan,3581（1986） ・Ｎ−メチル−２−クロロピリジニウムアイオダイドを
用いた合成方法である。
用いた合成方法である。
J.Chem.Soc.,Perk.Trans.1.,1909（1987） ・酸クロライドを用いた合成方法である。
旭硝子工業技術奨励会報告書271（1987） ・酸クロライドを用いた合成方法である。
しかし、の方法は、高価な縮合剤を活性試薬として
使用する必要があり、〜の方法は、活性中間体を経
由する必要があり、また、生産物のアミド類の光学純度
が出発原料のカルボン酸の光学純度よりも低くなる。
使用する必要があり、〜の方法は、活性中間体を経
由する必要があり、また、生産物のアミド類の光学純度
が出発原料のカルボン酸の光学純度よりも低くなる。
従って、光学活性なカルボン酸からアミド類を製造す
る方法としては、高価な活性試薬を用いる必要がなく、
活性中間体を経由しないで、かつ出発原料の光学純度よ
りもアミド類の光学純度を低下させることなく、従来よ
りも簡単な反応工程で合成する方法が求められていた。
る方法としては、高価な活性試薬を用いる必要がなく、
活性中間体を経由しないで、かつ出発原料の光学純度よ
りもアミド類の光学純度を低下させることなく、従来よ
りも簡単な反応工程で合成する方法が求められていた。
本発明の目的は、光学活性な置換フェノキシアルカン
酸アミド類の新規な製造方法を提供することである。
酸アミド類の新規な製造方法を提供することである。
本発明者らは、前記の問題点を解決するために鋭意研
究した結果、高価な活性試薬を用いる必要がなく、活性
中間体を経由しないで、かつ出発原料の光学純度よりも
アミド類の光学純度を殆ど低下させることなく、従来よ
りも簡単な反応工程で光学活性な置換フェノキシアルカ
ン酸アミド類を合成する方法を見出し、本発明を完成す
るに至った。即ち、本発明は、 次式： （式中、R1はＣ１〜５アルキル基を表し;XはＣ１〜５ア
ルキル基,C１〜５ハロアルキル基又はハロゲン原子を表
し;mは０〜３の整数を表し；＊を付したＣは不斉炭素原
子を表す） で示される光学活性なフェノキシアルカン酸類と 次式： （式中、R2は水素原子又はＣ１〜５アルキル基を表し;Y
はＣ１〜５アルキル基,C１〜５アルコキシ基又はハロゲ
ン原子を表し;nは０〜３の整数を表す） で示されるベンジルアミン類とを反応させることを特徴
とする 次式： （式中、R1,R2,X,Y,m,n及び＊は前記と同義である） で示される光学活性な置換フェノキシアルカン酸アミド
類の製造方法 に関するものである。
究した結果、高価な活性試薬を用いる必要がなく、活性
中間体を経由しないで、かつ出発原料の光学純度よりも
アミド類の光学純度を殆ど低下させることなく、従来よ
りも簡単な反応工程で光学活性な置換フェノキシアルカ
ン酸アミド類を合成する方法を見出し、本発明を完成す
るに至った。即ち、本発明は、 次式： （式中、R1はＣ１〜５アルキル基を表し;XはＣ１〜５ア
ルキル基,C１〜５ハロアルキル基又はハロゲン原子を表
し;mは０〜３の整数を表し；＊を付したＣは不斉炭素原
子を表す） で示される光学活性なフェノキシアルカン酸類と 次式： （式中、R2は水素原子又はＣ１〜５アルキル基を表し;Y
はＣ１〜５アルキル基,C１〜５アルコキシ基又はハロゲ
ン原子を表し;nは０〜３の整数を表す） で示されるベンジルアミン類とを反応させることを特徴
とする 次式： （式中、R1,R2,X,Y,m,n及び＊は前記と同義である） で示される光学活性な置換フェノキシアルカン酸アミド
類の製造方法 に関するものである。
以下、本発明を詳細に説明する。
前記の目的化合物である光学活性な置換フェノキシア
ルカン酸アミド類（III）、その製造原料である
（Ｉ），（II）の化合物において、 R1としては、Ｃ１〜５アルキル基を挙げることができ
る。
ルカン酸アミド類（III）、その製造原料である
（Ｉ），（II）の化合物において、 R1としては、Ｃ１〜５アルキル基を挙げることができ
る。
R2としては、水素原子,C１〜５アルキル基などを挙げ
ることができるが；好ましくは、水素原子がよい。
ることができるが；好ましくは、水素原子がよい。
Ｘとしては、直鎖状又は分岐状のＣ１〜５アルキル基
（例えば、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，
ブチル，イソブチル,sec−ブチル,t−ブチル，ペンチル
など），直鎖状又は分岐状のＣ１〜５アルコキシ基，直
鎖状又は分岐状のＣ１〜５ハロアルキル基，シアノ基，
ハロゲン原子（例えば、フッ素，塩素，臭素，ヨウ素な
ど）などを挙げることができるが；好ましくは、直鎖状
又は分岐状のＣ１〜５アルキル基，直鎖状又は分岐状の
Ｃ１〜５ハロアルキル基，ハロゲン原子などがよく；さ
らに好ましくは、Ｃ１〜５アルキル基ではメチル基がよ
く、Ｃ１〜５ハロアルキル基ではトリフルオロメチル基
がよく、ハロゲン原子ではフッ素原子がよい。
（例えば、メチル，エチル，プロピル，イソプロピル，
ブチル，イソブチル,sec−ブチル,t−ブチル，ペンチル
など），直鎖状又は分岐状のＣ１〜５アルコキシ基，直
鎖状又は分岐状のＣ１〜５ハロアルキル基，シアノ基，
ハロゲン原子（例えば、フッ素，塩素，臭素，ヨウ素な
ど）などを挙げることができるが；好ましくは、直鎖状
又は分岐状のＣ１〜５アルキル基，直鎖状又は分岐状の
Ｃ１〜５ハロアルキル基，ハロゲン原子などがよく；さ
らに好ましくは、Ｃ１〜５アルキル基ではメチル基がよ
く、Ｃ１〜５ハロアルキル基ではトリフルオロメチル基
がよく、ハロゲン原子ではフッ素原子がよい。
Ｙとしては、直鎖状又は分岐状のＣ１〜５アルキル
基，直鎖状又は分岐状のＣ１〜５アルコキシ基，直鎖状
又は分岐状のＣ１〜５ハロアルキル基，ハロゲン原子な
どを挙げることができるが；好ましくは、直鎖状又は分
岐状のＣ１〜５アルキル基（例えば、前記に記載したア
ルキル基など），直鎖状又は分岐状のＣ１〜５アルコキ
シ基，ハロゲン原子などがよく；さらに好ましくは、Ｃ
１〜５アルキル基ではメチル基がよく、Ｃ１〜５アルコ
キシ基ではメトキシ基がよく、ハロゲン原子では塩素原
子がよい。
基，直鎖状又は分岐状のＣ１〜５アルコキシ基，直鎖状
又は分岐状のＣ１〜５ハロアルキル基，ハロゲン原子な
どを挙げることができるが；好ましくは、直鎖状又は分
岐状のＣ１〜５アルキル基（例えば、前記に記載したア
ルキル基など），直鎖状又は分岐状のＣ１〜５アルコキ
シ基，ハロゲン原子などがよく；さらに好ましくは、Ｃ
１〜５アルキル基ではメチル基がよく、Ｃ１〜５アルコ
キシ基ではメトキシ基がよく、ハロゲン原子では塩素原
子がよい。
ｍとしては、０〜３の整数を示すことができるが；好
ましくは1,2又は３がよい。
ましくは1,2又は３がよい。
ｎとしては、０〜３の整数を示すことができるが；好
ましくは０又は１がよい。
ましくは０又は１がよい。
Ｘの置換位置は特に限定されないが；好ましくは、3,
4及び／又は５位がよい。
4及び／又は５位がよい。
Ｙの置換位置は特に限定されないが；好ましくは、２
位がよい。
位がよい。
＊を付したＣは不斉炭素原子であることを示す。
本発明の目的化合物（III）は、例えば、以下に示す
ような製造法によって得ることができる。
ような製造法によって得ることができる。
（式中、R1,R2,X,Y,m,n及び＊は前記と同義である） 目的化合物（III）は、原料化合物（Ｉ）と原料化合
物（II）とを溶媒中で加熱反応させた後に、脱水するこ
とによって製造することができる。
物（II）とを溶媒中で加熱反応させた後に、脱水するこ
とによって製造することができる。
原料化合物（Ｉ）及び（II）は、特開平２−138148号
公報に記載の方法に準じて容易に得ることができる。そ
して、そのような方法で合成した化合物としては、 原料化合物（Ｉ）では、例えば、２−（４−フルオロ
−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブタン酸,2−
（４−クロロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブ
タン酸,2−（４−クロロ−3,5−ジメチルフェノキシ）
ブタン酸,2−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブ
タン酸,2−（４−フルオロ−３−トリフルオロメチルフ
ェノキシ）プロピオン酸,2−（４−クロロ−3,5−ジメ
チルフェノキシ）プロピオン酸,2−（４−クロロ−３−
トリフルオロメチルフェノキシ）プロピオン酸,2−（４
−フルオロ−3,5−ジメチルフェノキシ）プロピオン酸,
2−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）プロピオン
酸などの両対掌体（Ｒ体,S体）などを挙げることができ
る。
公報に記載の方法に準じて容易に得ることができる。そ
して、そのような方法で合成した化合物としては、 原料化合物（Ｉ）では、例えば、２−（４−フルオロ
−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブタン酸,2−
（４−クロロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブ
タン酸,2−（４−クロロ−3,5−ジメチルフェノキシ）
ブタン酸,2−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブ
タン酸,2−（４−フルオロ−３−トリフルオロメチルフ
ェノキシ）プロピオン酸,2−（４−クロロ−3,5−ジメ
チルフェノキシ）プロピオン酸,2−（４−クロロ−３−
トリフルオロメチルフェノキシ）プロピオン酸,2−（４
−フルオロ−3,5−ジメチルフェノキシ）プロピオン酸,
2−（３−トリフルオロメチルフェノキシ）プロピオン
酸などの両対掌体（Ｒ体,S体）などを挙げることができ
る。
原料化合物（II）では、ベンジルアミン,2−クロルベ
ンジルアミン,2−メチルベンジルアミン,2−メトキシベ
ンジルアミン,3−クロルベンジルアミン,3−メチルベン
ジルアミン,3−メトキシベンジルアミン,4−クロルベン
ジルアミン,4−メチルベンジルアミン,4−メトキシベン
ジルアミン,N−メチルベンジルアミン,N−メチル−２−
クロルベンジルアミン,N−メチル−２−メチルベンジル
アミン,N−メチル−２−メトキシベンジルアミン,N−エ
チルベンジルアミン,N−エチル−２−クロルベンジルア
ミン,N−エチル−２−メチルベンジルアミン,N−エチル
−２−メトキシベンジルアミン,N−メチル−３−クロル
ベンジルアミン,N−メチル−３−メチルベンジルアミ
ン,N−メチル−３−メトキシベンジルアミン,N−エチル
ベンジルアミン,N−エチル−３−クロルベンジルアミ
ン,N−エチル−３−メチルベンジルアミン,N−エチル−
３−メトキシベンジルアミン,N−メチル−４−クロルベ
ンジルアミン,N−メチル−４−メチルベンジルアミン,N
−メチル−４−メトキシベンジルアミン,N−エチルベン
ジルアミン,N−エチル−４−クロルベンジルアミン,N−
エチル−４−メチルベンジルアミン,N−エチル−４−メ
トキシベンジルアミンなどを挙げることができる。
ンジルアミン,2−メチルベンジルアミン,2−メトキシベ
ンジルアミン,3−クロルベンジルアミン,3−メチルベン
ジルアミン,3−メトキシベンジルアミン,4−クロルベン
ジルアミン,4−メチルベンジルアミン,4−メトキシベン
ジルアミン,N−メチルベンジルアミン,N−メチル−２−
クロルベンジルアミン,N−メチル−２−メチルベンジル
アミン,N−メチル−２−メトキシベンジルアミン,N−エ
チルベンジルアミン,N−エチル−２−クロルベンジルア
ミン,N−エチル−２−メチルベンジルアミン,N−エチル
−２−メトキシベンジルアミン,N−メチル−３−クロル
ベンジルアミン,N−メチル−３−メチルベンジルアミ
ン,N−メチル−３−メトキシベンジルアミン,N−エチル
ベンジルアミン,N−エチル−３−クロルベンジルアミ
ン,N−エチル−３−メチルベンジルアミン,N−エチル−
３−メトキシベンジルアミン,N−メチル−４−クロルベ
ンジルアミン,N−メチル−４−メチルベンジルアミン,N
−メチル−４−メトキシベンジルアミン,N−エチルベン
ジルアミン,N−エチル−４−クロルベンジルアミン,N−
エチル−４−メチルベンジルアミン,N−エチル−４−メ
トキシベンジルアミンなどを挙げることができる。
原料化合物の使用量は、原料化合物（Ｉ）の１モルに
対して原料化合物（II）を１〜３モルで使用することが
できるが、好ましくは1.0〜1.5モルがよい。
対して原料化合物（II）を１〜３モルで使用することが
できるが、好ましくは1.0〜1.5モルがよい。
溶媒としては、本反応に直接関与しないで水と共沸す
る100℃以上の沸点を有し、かつ酸・アルカリに安定な
ものであれば特に限定されず、例えば、芳香族炭化水素
（トルエン，キシレン，メチルナフタリン，クロルベン
ゼン，ジクロルベンゼンなど）などを挙げることができ
る。
る100℃以上の沸点を有し、かつ酸・アルカリに安定な
ものであれば特に限定されず、例えば、芳香族炭化水素
（トルエン，キシレン，メチルナフタリン，クロルベン
ゼン，ジクロルベンゼンなど）などを挙げることができ
る。
溶媒の使用量は、原料化合物（II）の濃度が５〜50重
量％の濃度範囲になるようにして使用することができる
が、好ましくは10〜30重量％になるようにして使用する
のがよい。
量％の濃度範囲になるようにして使用することができる
が、好ましくは10〜30重量％になるようにして使用する
のがよい。
脱水の方法としては、共沸成分として前記の溶媒と共
に反応系から水を留出させる方法、ディーン・スターク
装置を使用して水を分離する方法などを挙げることがで
きる。
に反応系から水を留出させる方法、ディーン・スターク
装置を使用して水を分離する方法などを挙げることがで
きる。
反応温度は、80〜200℃の温度範囲内であるが、好ま
しくは100〜150℃がよい。
しくは100〜150℃がよい。
反応時間は、前記の原料化合物の濃度、反応温度によ
って変化するが、通常１〜20時間である。
って変化するが、通常１〜20時間である。
以上のようにして製造された目的化合物（III）とし
ては、例えば、Ｓ−Ｎ−ベンジル−２−（４−フルオロ
−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ド,S−Ｎ−（２−クロルベンジル）−２−（４−フルオ
ロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ド,S−Ｎ−（２−メチルベンジル）−２−（４−フルオ
ロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ド,S−Ｎ−（２−メトキシベンジル）−２−（４−フル
オロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルア
ミド,S−Ｎ−ベンジル−２−（３−トリフルオロメチル
フェノキシ）ブチリルアミド,S−Ｎ−ベンジル−２−
（４−クロロ−3,5ジメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ドなど及びこれらの対掌体などを挙げることができる。
ては、例えば、Ｓ−Ｎ−ベンジル−２−（４−フルオロ
−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ド,S−Ｎ−（２−クロルベンジル）−２−（４−フルオ
ロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ド,S−Ｎ−（２−メチルベンジル）−２−（４−フルオ
ロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ド,S−Ｎ−（２−メトキシベンジル）−２−（４−フル
オロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルア
ミド,S−Ｎ−ベンジル−２−（３−トリフルオロメチル
フェノキシ）ブチリルアミド,S−Ｎ−ベンジル−２−
（４−クロロ−3,5ジメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ドなど及びこれらの対掌体などを挙げることができる。
目的化合物（III）は、希酸，希塩基，水で順次洗浄
後、溶媒を濃縮することによって高純度のものとして得
られるが、再結晶などの通常の手段でさらに純度を高め
ることができる。
後、溶媒を濃縮することによって高純度のものとして得
られるが、再結晶などの通常の手段でさらに純度を高め
ることができる。
以下、本発明を実施例によって示す。なお、これらの
実施例は、本発明の範囲を限定するものではない。
実施例は、本発明の範囲を限定するものではない。
実施例における光学純度は、Chiralcell（ダイセル社
製の光学活性体分離カラム）などを使用して、高速液体
クロマトグラフで両対掌体が十分に分離される条件（各
化合物に応じて、塩化メチレン,n−ヘキサン，エタノー
ルの混合溶離液を使用した）で測定した。
製の光学活性体分離カラム）などを使用して、高速液体
クロマトグラフで両対掌体が十分に分離される条件（各
化合物に応じて、塩化メチレン,n−ヘキサン，エタノー
ルの混合溶離液を使用した）で測定した。
実施例１ ［Ｓ−Ｎ−ベンジル−２−（４−フルオロ−３−トリフ
ルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミドの合成］ ベンジルアミン12.8gとＲ−２−（４−フルオロ−３
−トルフルオロメチルフェノキシ）ブタン酸26.6g（光
学純度93％ee）をキシレン100mlに溶解し、加熱還流撹
拌下に共沸脱水操作を10時間行った。
ルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミドの合成］ ベンジルアミン12.8gとＲ−２−（４−フルオロ−３
−トルフルオロメチルフェノキシ）ブタン酸26.6g（光
学純度93％ee）をキシレン100mlに溶解し、加熱還流撹
拌下に共沸脱水操作を10時間行った。
冷却後、反応混合物を0.5N塩酸，飽和炭酸水素ナトリ
ウム，水で順次洗浄した。
ウム，水で順次洗浄した。
そして、溶媒を減圧下に除去することによって、目的
化合物を34.1gを得ることができた（光学純度は91％e
e、収率は96％、融点は68〜72℃）。
化合物を34.1gを得ることができた（光学純度は91％e
e、収率は96％、融点は68〜72℃）。
さらに、前記の目的化合物をｎ−ヘキサンを用いて再
結晶することによって、さらに高純度の目的化合物を3
3.0g得ることができた（光学純度は96％ee、収率93％、
融点は73〜76℃）。
結晶することによって、さらに高純度の目的化合物を3
3.0g得ることができた（光学純度は96％ee、収率93％、
融点は73〜76℃）。
実施例２ ［Ｓ−Ｎ−（２−クロロベンジル−２−（４−フルオロ
−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミド
の合成］ ２−クロロベンジルアミン4.25gとＲ−２−（４−フ
ルオロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブタン酸
5.32g（光学純度93％ee）をキシレン30mlに溶解し、加
熱還流撹拌下に共沸脱水操作を４時間行った。
−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミド
の合成］ ２−クロロベンジルアミン4.25gとＲ−２−（４−フ
ルオロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブタン酸
5.32g（光学純度93％ee）をキシレン30mlに溶解し、加
熱還流撹拌下に共沸脱水操作を４時間行った。
冷却後、反応混合物を0.5N塩酸，飽和炭酸水素ナトリ
ウム，水で順次洗浄した。
ウム，水で順次洗浄した。
そして、溶媒を減圧下に除去し、得られた残渣をｎ−
ヘキサンを用いて再結晶することによって、目的化合物
を7.56g得ることができた（光学純度は96％ee、収率は9
7％、融点は68〜72℃）。
ヘキサンを用いて再結晶することによって、目的化合物
を7.56g得ることができた（光学純度は96％ee、収率は9
7％、融点は68〜72℃）。
実施例３ ［Ｓ−Ｎ−（２−メチルベンジル）−２−（４−フルオ
ロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ドの合成］ ２−メチルベンジルアミン3.46gとＲ−２−（４−フ
ルオロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブタン酸
8.65g（光学純度93％ee）をキシレン35mlに溶解し、加
熱還流撹拌下に共沸脱水操作を10時間行った。
ロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ドの合成］ ２−メチルベンジルアミン3.46gとＲ−２−（４−フ
ルオロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブタン酸
8.65g（光学純度93％ee）をキシレン35mlに溶解し、加
熱還流撹拌下に共沸脱水操作を10時間行った。
冷却後、反応混合物を0.5N塩酸，飽和炭酸水素ナトリ
ウム，水で順次洗浄した。
ウム，水で順次洗浄した。
そして、溶媒を減圧下に除去し、得られた残渣をトル
エンを用いて再結晶することによって、目的化合物を1
1.3g得ることができた（光学純度は94％ee、収率は94
％、融点は107〜108℃）。
エンを用いて再結晶することによって、目的化合物を1
1.3g得ることができた（光学純度は94％ee、収率は94
％、融点は107〜108℃）。
実施例４ ［Ｓ−Ｎ−（２−メトキシベンジル−２−（４−フルオ
ロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ドの合成］ ２−メトキシベンジルアミン6.58gとＲ−２−（４−
フルオロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブタン
酸10.6g（光学純度93％ee）をキシレン40mlに溶解し、
加熱還流撹拌下に共沸脱水操作を10時間行った。
ロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブチリルアミ
ドの合成］ ２−メトキシベンジルアミン6.58gとＲ−２−（４−
フルオロ−３−トリフルオロメチルフェノキシ）ブタン
酸10.6g（光学純度93％ee）をキシレン40mlに溶解し、
加熱還流撹拌下に共沸脱水操作を10時間行った。
冷却後、反応混合物を0.5N塩酸，飽和炭酸水素ナトリ
ウム，水で順次洗浄した。
ウム，水で順次洗浄した。
そして、溶媒を減圧下に除去し、得られた残渣をトル
エン/n−ヘキサン（1:10）を用いて再結晶することによ
って、目的化合物を13.1g得ることができた（光学純度
は95％ee、収率は85％、融点は67〜69℃）。
エン/n−ヘキサン（1:10）を用いて再結晶することによ
って、目的化合物を13.1g得ることができた（光学純度
は95％ee、収率は85％、融点は67〜69℃）。
実施例５ ［Ｓ−Ｎ−ベンジル−２−（３−トリフルオロメチルフ
ェノキシ）ブチリルアミドの合成］ ベンジルアミン5.15gとＲ−２−（３−トリフルオロ
メチルフェノキシ）ブタン酸9.96g（光学純度93％ee）
をキシレン40mlに溶解し、加熱還流撹拌下に共沸脱水操
作を10時間行った。
ェノキシ）ブチリルアミドの合成］ ベンジルアミン5.15gとＲ−２−（３−トリフルオロ
メチルフェノキシ）ブタン酸9.96g（光学純度93％ee）
をキシレン40mlに溶解し、加熱還流撹拌下に共沸脱水操
作を10時間行った。
冷却後、反応混合物を0.5N塩酸，飽和炭酸水素ナトリ
ウム，水で順次洗浄した。
ウム，水で順次洗浄した。
そして、溶媒を減圧下に除去し、得られた残渣をトル
エン/n−ヘキサン（1:5）を用いて再結晶することによ
って、目的化合物を12.2g得ることができた（光学純度
は94％ee、収率は91％、融点は61〜63℃）。
エン/n−ヘキサン（1:5）を用いて再結晶することによ
って、目的化合物を12.2g得ることができた（光学純度
は94％ee、収率は91％、融点は61〜63℃）。
実施例６ ［Ｓ−Ｎ−ベンジル−２−（４−クロロ−3,5−ジメチ
ルフェノキシ）ブチリルアミドの合成］ ベンジルアミン4.26gとＲ−２−（４−クロロ−3,5−
ジメチルフェノキシ）ブタン酸8.05g（光学純度93％e
e）をキシレン35mlに溶解し、加熱還流撹拌下に共沸脱
水操作を4.5時間行った。
ルフェノキシ）ブチリルアミドの合成］ ベンジルアミン4.26gとＲ−２−（４−クロロ−3,5−
ジメチルフェノキシ）ブタン酸8.05g（光学純度93％e
e）をキシレン35mlに溶解し、加熱還流撹拌下に共沸脱
水操作を4.5時間行った。
冷却後、反応混合物を0.5N塩酸，飽和炭酸水素ナトリ
ウム，水で順次洗浄した。
ウム，水で順次洗浄した。
そして、溶媒を減圧下に除去し、得られた残渣をトル
エンを用いて再結晶することによって、目的化合物を1
0.4g得ることができた（光学純度は95％ee、収率は94.5
％、融点は114〜116℃）。
エンを用いて再結晶することによって、目的化合物を1
0.4g得ることができた（光学純度は95％ee、収率は94.5
％、融点は114〜116℃）。
本発明の新規な製造方法によれば、高価な活性試薬を
用いる必要がなく、活性中間体を経由しないで、かつ出
発原料の光学純度よりもアミド類の光学純度を殆ど低下
させることなく、従来よりも簡単な反応工程で光学活性
な置換フェノキシアルカン酸アミド類を得ることができ
る。
用いる必要がなく、活性中間体を経由しないで、かつ出
発原料の光学純度よりもアミド類の光学純度を殆ど低下
させることなく、従来よりも簡単な反応工程で光学活性
な置換フェノキシアルカン酸アミド類を得ることができ
る。
Claims (1)
- 【請求項１】次式： （式中、R1はＣ１〜５アルキル基を表し;XはＣ１〜５ア
ルキル基,C１〜５ハロアルキル基又はハロゲン原子を表
し;mは０〜３の整数を表し；＊を付したＣは不斉炭素原
子を表す） で示される光学活性なフェノキシアルカン酸類と 次式： （式中、R2は水素原子又はＣ１〜５アルキル基を表し;Y
はＣ１〜５アルキル基,C１〜５アルコキシ基又はハロゲ
ン原子を表し;nは０〜３の整数を表す） で示されるベンジルアミン類とを反応させることを特徴
とする 次式： （式中、R1,R2,X,Y,m,n及び＊は前記と同義である） で示される光学活性な置換フェノキシアルカン酸アミド
類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2330107A JP2524544B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 光学活性な置換フェノキシアルカン酸アミド類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2330107A JP2524544B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 光学活性な置換フェノキシアルカン酸アミド類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04202168A JPH04202168A (ja) | 1992-07-22 |
| JP2524544B2 true JP2524544B2 (ja) | 1996-08-14 |
Family
ID=18228875
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2330107A Expired - Fee Related JP2524544B2 (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 光学活性な置換フェノキシアルカン酸アミド類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2524544B2 (ja) |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2330107A patent/JP2524544B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04202168A (ja) | 1992-07-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |