JP2000512460A - 可変負荷インピーダンスをrf発電装置インピーダンスに整合させる方法および装置 - Google Patents
可変負荷インピーダンスをrf発電装置インピーダンスに整合させる方法および装置Info
- Publication number
- JP2000512460A JP2000512460A JP10501857A JP50185798A JP2000512460A JP 2000512460 A JP2000512460 A JP 2000512460A JP 10501857 A JP10501857 A JP 10501857A JP 50185798 A JP50185798 A JP 50185798A JP 2000512460 A JP2000512460 A JP 2000512460A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- impedance
- capacitors
- load
- matching network
- coupled
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
- H03H—IMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
- H03H7/00—Multiple-port networks comprising only passive electrical elements as network components
- H03H7/38—Impedance-matching networks
- H03H7/40—Automatic matching of load impedance to source impedance
Landscapes
- Plasma Technology (AREA)
- Amplifiers (AREA)
- Networks Using Active Elements (AREA)
- Electrotherapy Devices (AREA)
Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.無線周波数発電装置(RFPG)を負荷に結合するインピーダンス整合回路 網であって、 前記RFPGから与えられる電圧と電流の移相を検出するために前記RFPG に結合された位相検出器と、 前記負荷のインピーダンスの大きさを検出するために前記RFPGに結合され た大きさ検出器と、 前記負荷と並列に結合された第1のキャパシタンスと、 前記負荷と直列に結合されたインダクタンスと、 前記負荷と直列に結合された第2のキャパシタンスと、 前記大きさ検出器によって検出された前記負荷のインピーダンスの大きさに応 じて前記第1のキャパシタンスをグラウンドに結合し、かつ前記第1のキャパシ タンスとグラウンドとの結合を解除するために前記大きさ検出器に結合されたス イッチング回路と を備えることを特徴とするインピーダンス整合回路網。 2.前記第1のキャパシタンスがさらに、負荷に並列に結合された複数のコンデ ンサを備えることを特徴とする請求項1に記載のインピーダンス整合回路網。 3.前記複数のコンデンサが少なくとも8つのコンデンサに等しいことを特徴と する請求項2に記載のインピーダンス整合回路網。 4.前記複数のコンデンサが少なくとも16個のコンデンサに等しいことを特徴 とする請求項2に記載のインピーダンス整合回路網。 5.前記複数のコンデンサのそれぞれが固定キャパシタンス値を有することを特 徴とする請求項2に記載のインピーダンス整合回路網。 6.前記複数のコンデンサのそれぞれが、前記複数のコンデンサ内の前のコンデ ンサのキャパシタンス値のほぼ半分のキャパシタンス値を有することを特徴とす る請求項5に記載のインピーダンス整合回路網。 7.それぞれ、前記複数のコンデンサのうちの1つをグラウンドに結合し、かつ 前記コンデンサとグラウンドとの結合を解除するために前記複数のコンデンサの うちの前記1つに結合された複数のダイオードを前記スイッチング回路が備える ことを特徴とする請求項2に記載のインピーダンス整合回路網。 8.前記複数のダイオードのそれぞれが、pドープ半導体領域とnドープ半導体 領域との間に大きな真性領域を有することを特徴とする請求項7に記載のインピ ーダンス整合回路網。 9.それぞれ、前記複数のコンデンサのうちの1つをグラウンドに結合し、かつ 前記コンデンサとグラウンドとの結合を解除するために前記複数のコンデンサの うちの1つに結合された複数の無線周波数リレーを前記スイッチング回路が備え ることを特徴とする請求項2に記載のインピーダンス整合回路網。 10.無線周波数発電装置を負荷に結合する伝送線に結合されたインピーダンス 整合回路網であって、 前記伝送線に結合され、前記伝送線上の電圧と電流の移相を検出する位相検出 器と、 前記位相検出器に結合され、前記位相検出器によって検出された前記伝送線上 の前記電圧と電流の移相に応じて電圧の周波数を変化させる周波数シンセサイザ 回路と、 前記伝送線に結合され、前記伝送線上のインピーダンスを検出する大きさ検出 器と、 前記負荷に並列に前記伝送線に結合された複数のコンデンサと、 前記負荷に直列に前記伝送線に結合されたインダクタンスと、 前記負荷に直列に前記伝送線に結合されたキャパシタンスとを備え、前記キャ パシタンス、前記複数のコンデンサと、前記インダクタンスがL型インピーダン ス整合回路網を形成し、 前記インピーダンス整合回路網がさらに、 それぞれ、前記複数のキャパシタのうちの1つに結合され、前記大きさ検出器 によって検出された前記伝送線のインピーダンスに応じて複数のコンデンサをグ ラウンドに結合し、かつコンデンサとグラウンドとの結合を解除する複数のスイ ッチと、 前記伝送線上の前記インピーダンスの大きさに応じて前記複数のスイッチを制 御するために前記大きさ検出器および前記複数のスイッチに結合されたコントロ ーラと を備えることを特徴とするインピーダンス整合回路網。 11.さらに、前記負荷に並列に伝送線に結合され、その伝送線上のインピーダ ンスの大きさに応じて複数のコンデンサを放電状態に維持する抵抗を備えること を特徴とする請求項10に記載のインピーダンス整合回路網。 12.前記複数のコンデンサが少なくとも8つのコンデンサに等しいことを特徴 とする請求項10に記載のインピーダンス整合回路網。 13.前記複数のコンデンサが少なくとも16個のコンデンサに等しいことを特 徴とする請求項10に記載のインピーダンス整合回路網。 14.前記複数のコンデンサのそれぞれが固定キャパシタンス値を有することを 特徴とする請求項10に記載のインピーダンス整合回路網。 15.それぞれ、前記コンデンサをグラウンドに結合し、かつ前記コンデンサと グラウンドとの結合を解除するために複数のコンデンサのうちの1つに結合され た、複数のダイオードを前記スイッチング回路が備えることを特徴とする請求項 10に記載のインピーダンス整合回路網。 16.前記複数のダイオードのそれぞれがPINダイオードであることを特徴と する請求項15に記載のインピーダンス整合回路網。 17.それぞれ、前記複数のコンデンサのうちの1つをグラウンドに結合し、か つ前記コンデンサとグラウンドとの結合を解除するために前記コンデンサのうち の前記1つに結合された、複数の無線周波数リレーを前記スイッチング回路が備 えることを特徴とする請求項10に記載のインピーダンス整合回路網。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US08/662,886 US5654679A (en) | 1996-06-13 | 1996-06-13 | Apparatus for matching a variable load impedance with an RF power generator impedance |
US08/662,886 | 1996-06-13 | ||
PCT/US1997/010291 WO1997048183A1 (en) | 1996-06-13 | 1997-06-11 | Method and apparatus for matching a variable load impedance with an rf power generator impedance |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000512460A true JP2000512460A (ja) | 2000-09-19 |
Family
ID=24659639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10501857A Pending JP2000512460A (ja) | 1996-06-13 | 1997-06-11 | 可変負荷インピーダンスをrf発電装置インピーダンスに整合させる方法および装置 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5654679A (ja) |
EP (1) | EP0904634B1 (ja) |
JP (1) | JP2000512460A (ja) |
KR (1) | KR100429930B1 (ja) |
CN (1) | CN1122361C (ja) |
AT (1) | ATE206568T1 (ja) |
AU (1) | AU3487297A (ja) |
DE (1) | DE69707129T2 (ja) |
WO (1) | WO1997048183A1 (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002164762A (ja) * | 2000-08-17 | 2002-06-07 | Eni Technology Inc | プラズマ・チューナのホット・スイッチングの方法 |
JP2013153432A (ja) * | 2011-12-29 | 2013-08-08 | Mks Instruments Inc | Rf電源の周波数チューニングに関する電力歪みに基づくサーボ制御システム |
JP2014505983A (ja) * | 2011-01-20 | 2014-03-06 | アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッド | 可変リアクタンス回路におけるbjtスイッチを使用するインピーダンス整合ネットワーク |
US8963611B2 (en) | 2009-06-19 | 2015-02-24 | Qualcomm Incorporated | Power and impedance measurement circuits for a wireless communication device |
WO2015033632A1 (ja) * | 2013-09-05 | 2015-03-12 | 株式会社村田製作所 | インピーダンス変換回路、アンテナ装置および無線通信装置 |
US9000847B2 (en) | 2009-08-19 | 2015-04-07 | Qualcomm Incorporated | Digital tunable inter-stage matching circuit |
US9143172B2 (en) | 2009-06-03 | 2015-09-22 | Qualcomm Incorporated | Tunable matching circuits for power amplifiers |
US9490353B2 (en) | 2012-08-28 | 2016-11-08 | Advanced Energy Industries, Inc. | Three terminal PIN diode |
US9559639B2 (en) | 2009-08-19 | 2017-01-31 | Qualcomm Incorporated | Protection circuit for power amplifier |
JP2017069823A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 株式会社ダイヘン | インピーダンス整合装置 |
Families Citing this family (147)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7569790B2 (en) | 1997-06-26 | 2009-08-04 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US6815633B1 (en) | 1997-06-26 | 2004-11-09 | Applied Science & Technology, Inc. | Inductively-coupled toroidal plasma source |
US8779322B2 (en) | 1997-06-26 | 2014-07-15 | Mks Instruments Inc. | Method and apparatus for processing metal bearing gases |
US6924455B1 (en) | 1997-06-26 | 2005-08-02 | Applied Science & Technology, Inc. | Integrated plasma chamber and inductively-coupled toroidal plasma source |
JP2929284B2 (ja) * | 1997-09-10 | 1999-08-03 | 株式会社アドテック | 高周波プラズマ処理装置のためのインピーダンス整合及び電力制御システム |
US5842154A (en) * | 1997-09-15 | 1998-11-24 | Eni Technologies, Inc. | Fuzzy logic tuning of RF matching network |
CN1129229C (zh) * | 1997-09-17 | 2003-11-26 | 东京电子株式会社 | 电抗匹配系统及方法 |
DE19757142A1 (de) * | 1997-12-20 | 1999-07-08 | Philips Patentverwaltung | Mobilfunkgerät |
US6045378A (en) * | 1998-03-27 | 2000-04-04 | Adc Telecommunications, Inc. | Switching coaxial jack with impedance matching |
US6313584B1 (en) | 1998-09-17 | 2001-11-06 | Tokyo Electron Limited | Electrical impedance matching system and method |
JP2000101390A (ja) * | 1998-09-18 | 2000-04-07 | Toshiba Corp | トリミング回路 |
US6424232B1 (en) | 1999-11-30 | 2002-07-23 | Advanced Energy's Voorhees Operations | Method and apparatus for matching a variable load impedance with an RF power generator impedance |
US6392210B1 (en) | 1999-12-31 | 2002-05-21 | Russell F. Jewett | Methods and apparatus for RF power process operations with automatic input power control |
US6326584B1 (en) | 1999-12-31 | 2001-12-04 | Litmas, Inc. | Methods and apparatus for RF power delivery |
TW492040B (en) | 2000-02-14 | 2002-06-21 | Tokyo Electron Ltd | Device and method for coupling two circuit components which have different impedances |
US6879062B2 (en) * | 2000-03-18 | 2005-04-12 | Alstom | Electrical substation |
US6472822B1 (en) | 2000-04-28 | 2002-10-29 | Applied Materials, Inc. | Pulsed RF power delivery for plasma processing |
KR100636052B1 (ko) * | 2000-08-28 | 2006-10-18 | 삼성전자주식회사 | 플라즈마 챔버의 부하 측정 장치 |
US6887339B1 (en) * | 2000-09-20 | 2005-05-03 | Applied Science And Technology, Inc. | RF power supply with integrated matching network |
US6657394B2 (en) * | 2001-04-06 | 2003-12-02 | Eni Technology, Inc. | Reflection coefficient phase detector |
US9708707B2 (en) * | 2001-09-10 | 2017-07-18 | Asm International N.V. | Nanolayer deposition using bias power treatment |
US7132996B2 (en) * | 2001-10-09 | 2006-11-07 | Plasma Control Systems Llc | Plasma production device and method and RF driver circuit |
US7100532B2 (en) * | 2001-10-09 | 2006-09-05 | Plasma Control Systems, Llc | Plasma production device and method and RF driver circuit with adjustable duty cycle |
US7084832B2 (en) * | 2001-10-09 | 2006-08-01 | Plasma Control Systems, Llc | Plasma production device and method and RF driver circuit with adjustable duty cycle |
JP3969081B2 (ja) * | 2001-12-14 | 2007-08-29 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
KR100805602B1 (ko) * | 2001-12-31 | 2008-02-20 | 주식회사 케이티 | 교환 시스템의 가입자 정합회로 평형회로망의 임피던스자동 설정 장치 |
US6819052B2 (en) * | 2002-05-31 | 2004-11-16 | Nagano Japan Radio Co., Ltd. | Coaxial type impedance matching device and impedance detecting method for plasma generation |
US6707255B2 (en) * | 2002-07-10 | 2004-03-16 | Eni Technology, Inc. | Multirate processing for metrology of plasma RF source |
US6794951B2 (en) * | 2002-08-05 | 2004-09-21 | Veeco Instruments, Inc. | Solid state RF power switching network |
US7113759B2 (en) * | 2002-08-28 | 2006-09-26 | Texas Instruments Incorporated | Controller area network transceiver having capacitive balancing circuit for improved receiver common-mode rejection |
DE10253927A1 (de) * | 2002-11-19 | 2004-06-17 | Universität Karlsruhe (Th) | Impedanztransformator, Phasenschieber und Verfahren zum Betreiben eines Phasenschiebers |
JP3574651B2 (ja) * | 2002-12-05 | 2004-10-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法および成膜装置 |
CN1507151B (zh) * | 2002-12-12 | 2010-05-12 | 华邦电子股份有限公司 | 应用于集成电路的可变阻抗网络 |
US7713592B2 (en) | 2003-02-04 | 2010-05-11 | Tegal Corporation | Nanolayer deposition process |
US9121098B2 (en) | 2003-02-04 | 2015-09-01 | Asm International N.V. | NanoLayer Deposition process for composite films |
US7795153B2 (en) * | 2003-05-16 | 2010-09-14 | Applied Materials, Inc. | Method of controlling a chamber based upon predetermined concurrent behavior of selected plasma parameters as a function of selected chamber parameters |
US7901952B2 (en) | 2003-05-16 | 2011-03-08 | Applied Materials, Inc. | Plasma reactor control by translating desired values of M plasma parameters to values of N chamber parameters |
US7910013B2 (en) * | 2003-05-16 | 2011-03-22 | Applied Materials, Inc. | Method of controlling a chamber based upon predetermined concurrent behavior of selected plasma parameters as a function of source power, bias power and chamber pressure |
US7247218B2 (en) * | 2003-05-16 | 2007-07-24 | Applied Materials, Inc. | Plasma density, energy and etch rate measurements at bias power input and real time feedback control of plasma source and bias power |
US7470626B2 (en) * | 2003-05-16 | 2008-12-30 | Applied Materials, Inc. | Method of characterizing a chamber based upon concurrent behavior of selected plasma parameters as a function of source power, bias power and chamber pressure |
US7452824B2 (en) * | 2003-05-16 | 2008-11-18 | Applied Materials, Inc. | Method of characterizing a chamber based upon concurrent behavior of selected plasma parameters as a function of plural chamber parameters |
CA2529794A1 (en) * | 2003-06-19 | 2004-12-29 | Plasma Control Systems Llc | Plasma production device and method and rf driver circuit with adjustable duty cycle |
US6791274B1 (en) * | 2003-07-15 | 2004-09-14 | Advanced Energy Industries, Inc. | RF power control device for RF plasma applications |
US7115185B1 (en) | 2003-09-16 | 2006-10-03 | Advanced Energy Industries, Inc. | Pulsed excitation of inductively coupled plasma sources |
US6848948B1 (en) * | 2003-11-03 | 2005-02-01 | Adc Telecommunications, Inc. | Jack with modular mounting sleeve |
US7326872B2 (en) * | 2004-04-28 | 2008-02-05 | Applied Materials, Inc. | Multi-frequency dynamic dummy load and method for testing plasma reactor multi-frequency impedance match networks |
US20060027327A1 (en) * | 2004-07-12 | 2006-02-09 | Applied Materials, Inc. | Apparatus and methods for a low inductance plasma chamber |
US7292045B2 (en) * | 2004-09-04 | 2007-11-06 | Applied Materials, Inc. | Detection and suppression of electrical arcing |
US7251121B2 (en) * | 2005-03-05 | 2007-07-31 | Innovation Engineering Llc | Electronically variable capacitor array |
US7074080B1 (en) | 2005-04-21 | 2006-07-11 | Adc Telecommunications, Inc. | Modular mounting sleeve for jack |
WO2006115813A1 (en) * | 2005-04-21 | 2006-11-02 | Adc Telecommunications, Inc. | Modular mounting sleeve for jack |
CN100411496C (zh) * | 2005-09-21 | 2008-08-13 | 大连理工大学 | 一种实现脉冲电源与等离子体负载间匹配的方法 |
US20080179948A1 (en) * | 2005-10-31 | 2008-07-31 | Mks Instruments, Inc. | Radio frequency power delivery system |
US7764140B2 (en) * | 2005-10-31 | 2010-07-27 | Mks Instruments, Inc. | Radio frequency power delivery system |
US7353771B2 (en) | 2005-11-07 | 2008-04-08 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus of providing power to ignite and sustain a plasma in a reactive gas generator |
CN100377624C (zh) * | 2005-12-07 | 2008-03-26 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种刻蚀设备的射频起辉控制方法 |
US7591677B2 (en) * | 2006-04-21 | 2009-09-22 | Adc Telecommunications, Inc. | High density coaxial jack and panel |
EP1885058A1 (en) * | 2006-08-03 | 2008-02-06 | Alcatel Lucent | Method of controlling amplifier gain and amplifier stage |
US20080061901A1 (en) * | 2006-09-13 | 2008-03-13 | Jack Arthur Gilmore | Apparatus and Method for Switching Between Matching Impedances |
US7902991B2 (en) * | 2006-09-21 | 2011-03-08 | Applied Materials, Inc. | Frequency monitoring to detect plasma process abnormality |
US7554334B2 (en) * | 2006-09-28 | 2009-06-30 | Applied Marterials, Inc. | Matching network characterization using variable impedance analysis |
WO2008062607A1 (fr) | 2006-11-21 | 2008-05-29 | Nec Corporation | Circuit rf, procédé d'évaluation de circuit, algorithme et support d'enregistrement |
US7969096B2 (en) | 2006-12-15 | 2011-06-28 | Mks Instruments, Inc. | Inductively-coupled plasma source |
US8120259B2 (en) | 2007-04-19 | 2012-02-21 | Plasmart Co., Ltd. | Impedance matching methods and systems performing the same |
KR100870121B1 (ko) | 2007-04-19 | 2008-11-25 | 주식회사 플라즈마트 | 임피던스 매칭 방법 및 이 방법을 위한 매칭 시스템 |
KR100895689B1 (ko) * | 2007-11-14 | 2009-04-30 | 주식회사 플라즈마트 | 임피던스 매칭 방법 및 이 방법을 위한 전기 장치 |
US7649363B2 (en) * | 2007-06-28 | 2010-01-19 | Lam Research Corporation | Method and apparatus for a voltage/current probe test arrangements |
CN101437353B (zh) * | 2007-11-15 | 2012-01-11 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种匹配器及其匹配方法 |
US8405467B2 (en) * | 2007-11-27 | 2013-03-26 | Qualcomm Incorporated | Methods and apparatuses for inductor tuning in radio frequency integrated circuits |
CN101459476B (zh) * | 2007-12-13 | 2012-09-05 | 启碁科技股份有限公司 | 以阻抗负载特性调整无线射频电路的方法及其相关装置 |
CN101494947B (zh) * | 2008-01-23 | 2011-07-06 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种射频阻抗自动匹配的方法 |
US20090267588A1 (en) * | 2008-04-23 | 2009-10-29 | Schmitz Michael J | Method and apparatus to dynamically control impedance to maximize power supply |
CN101626656B (zh) * | 2008-07-11 | 2012-10-31 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 射频匹配方法及等离子体处理设备 |
US8344704B2 (en) * | 2008-12-31 | 2013-01-01 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method and apparatus for adjusting the reference impedance of a power generator |
US8040068B2 (en) | 2009-02-05 | 2011-10-18 | Mks Instruments, Inc. | Radio frequency power control system |
US8692466B2 (en) * | 2009-02-27 | 2014-04-08 | Mks Instruments Inc. | Method and apparatus of providing power to ignite and sustain a plasma in a reactive gas generator |
DE102009001355B4 (de) * | 2009-03-05 | 2015-01-22 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Impedanzanpassungsschaltung und Verfahren zur Impedanzanpassung |
US8674844B2 (en) * | 2009-03-19 | 2014-03-18 | Applied Materials, Inc. | Detecting plasma chamber malfunction |
CN101860375B (zh) * | 2009-04-13 | 2013-03-20 | 和硕联合科技股份有限公司 | 无线通信装置 |
DE102009054449A1 (de) | 2009-11-25 | 2011-05-26 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Selbstabgleichende RF-Plasmastromversorgung |
US8294632B2 (en) * | 2010-05-18 | 2012-10-23 | Sony Ericsson Mobile Communications Ab | Antenna interface circuits including tunable impedance matching networks, electronic devices incorporating the same, and methods of tuning antenna interface circuits |
CN102479657A (zh) * | 2010-11-26 | 2012-05-30 | 沈阳拓荆科技有限公司 | 一种多段式匹配器 |
DK2461026T4 (en) * | 2010-12-03 | 2017-03-13 | Siemens Ag | Device and method for testing a system for producing electricity |
TWI455172B (zh) * | 2010-12-30 | 2014-10-01 | Semes Co Ltd | 基板處理設備、電漿阻抗匹配裝置及可變電容器 |
DE102011076404B4 (de) * | 2011-05-24 | 2014-06-26 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Verfahren zur Impedanzanpassung der Ausgangsimpedanz einer Hochfrequenzleistungsversorgungsanordnung an die Impedanz einer Plasmalast und Hochfrequenzleistungsversorgungsanordnung |
JP2013098177A (ja) * | 2011-10-31 | 2013-05-20 | Semes Co Ltd | 基板処理装置及びインピーダンスマッチング方法 |
CN102711327A (zh) * | 2012-05-25 | 2012-10-03 | 天津工业大学 | 基于无线电能传输技术的led室内台灯 |
JP6084417B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2017-02-22 | 株式会社ダイヘン | インピーダンス調整装置 |
JP6099995B2 (ja) * | 2013-01-24 | 2017-03-22 | 東京エレクトロン株式会社 | 試験装置 |
CN103178802A (zh) * | 2013-01-30 | 2013-06-26 | 王少夫 | 一种可调无耗匹配网络实现方法 |
CN103246216B (zh) * | 2013-04-02 | 2015-11-25 | 华为技术有限公司 | 一种射频模块和射频模块的负载模式切换方法 |
CN104349567A (zh) * | 2013-07-29 | 2015-02-11 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 射频电源系统和利用射频电源系统进行阻抗匹配的方法 |
KR101544975B1 (ko) | 2013-09-30 | 2015-08-18 | 주식회사 플라즈마트 | 임피던스 매칭 방법 및 임피던스 매칭 시스템 |
CN103619117B (zh) * | 2013-11-29 | 2016-04-06 | 中国科学院微电子研究所 | 可实现快速阻抗匹配的射频电源系统 |
US9496122B1 (en) | 2014-01-10 | 2016-11-15 | Reno Technologies, Inc. | Electronically variable capacitor and RF matching network incorporating same |
US9865432B1 (en) | 2014-01-10 | 2018-01-09 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US9697991B2 (en) | 2014-01-10 | 2017-07-04 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US10431428B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-10-01 | Reno Technologies, Inc. | System for providing variable capacitance |
US10455729B2 (en) | 2014-01-10 | 2019-10-22 | Reno Technologies, Inc. | Enclosure cooling system |
US9196459B2 (en) | 2014-01-10 | 2015-11-24 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US9755641B1 (en) | 2014-01-10 | 2017-09-05 | Reno Technologies, Inc. | High speed high voltage switching circuit |
US9844127B2 (en) | 2014-01-10 | 2017-12-12 | Reno Technologies, Inc. | High voltage switching circuit |
CN105097396A (zh) * | 2014-05-19 | 2015-11-25 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 一种阻抗匹配装置及半导体加工设备 |
JP6685305B2 (ja) * | 2014-12-19 | 2020-04-22 | マサチューセッツ インスティテュート オブ テクノロジー | 位相スイッチト素子を使用したチューニング可能整合ネットワーク |
US9525412B2 (en) | 2015-02-18 | 2016-12-20 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US10340879B2 (en) | 2015-02-18 | 2019-07-02 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US10679823B2 (en) * | 2015-02-18 | 2020-06-09 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US9306533B1 (en) | 2015-02-20 | 2016-04-05 | Reno Technologies, Inc. | RF impedance matching network |
US9729122B2 (en) | 2015-02-18 | 2017-08-08 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit |
US11017983B2 (en) * | 2015-02-18 | 2021-05-25 | Reno Technologies, Inc. | RF power amplifier |
US11150283B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-10-19 | Reno Technologies, Inc. | Amplitude and phase detection circuit |
US10984986B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-04-20 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11342161B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-24 | Reno Technologies, Inc. | Switching circuit with voltage bias |
US10692699B2 (en) | 2015-06-29 | 2020-06-23 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching with restricted capacitor switching |
US11335540B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-17 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11081316B2 (en) | 2015-06-29 | 2021-08-03 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11342160B2 (en) | 2015-06-29 | 2022-05-24 | Reno Technologies, Inc. | Filter for impedance matching |
KR102070791B1 (ko) * | 2015-11-20 | 2020-01-30 | 주식회사 원익아이피에스 | 박막 증착 장치 및 증착 방법 |
KR102070768B1 (ko) * | 2015-11-20 | 2020-01-30 | 주식회사 원익아이피에스 | 박막 증착 장치 |
JP5946580B1 (ja) | 2015-12-25 | 2016-07-06 | 株式会社京三製作所 | インピーダンス整合装置 |
US10229816B2 (en) | 2016-05-24 | 2019-03-12 | Mks Instruments, Inc. | Solid-state impedance matching systems including a hybrid tuning network with a switchable coarse tuning network and a varactor fine tuning network |
US11824454B2 (en) * | 2016-06-21 | 2023-11-21 | Eagle Harbor Technologies, Inc. | Wafer biasing in a plasma chamber |
ES2814004T3 (es) | 2016-08-09 | 2021-03-25 | John Bean Technologies Corp | Aparato y procedimiento de procesamiento de radiofrecuencia |
US20180234086A1 (en) * | 2017-02-13 | 2018-08-16 | Macom Technology Solutions Holdings, Inc. | High speed pin diode driver circuit |
US11289307B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-03-29 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11393659B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-07-19 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US10483090B2 (en) | 2017-07-10 | 2019-11-19 | Reno Technologies, Inc. | Restricted capacitor switching |
US11476091B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-10-18 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network for diagnosing plasma chamber |
US10727029B2 (en) | 2017-07-10 | 2020-07-28 | Reno Technologies, Inc | Impedance matching using independent capacitance and frequency control |
US10714314B1 (en) | 2017-07-10 | 2020-07-14 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
US11114280B2 (en) | 2017-07-10 | 2021-09-07 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching with multi-level power setpoint |
US11521833B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-12-06 | Reno Technologies, Inc. | Combined RF generator and RF solid-state matching network |
US11398370B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-07-26 | Reno Technologies, Inc. | Semiconductor manufacturing using artificial intelligence |
US11315758B2 (en) | 2017-07-10 | 2022-04-26 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching using electronically variable capacitance and frequency considerations |
US11101110B2 (en) | 2017-07-10 | 2021-08-24 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method |
CN108152696A (zh) * | 2017-12-27 | 2018-06-12 | 扬州市神州科技有限公司 | 匹配器动态测试方法 |
US10269540B1 (en) * | 2018-01-25 | 2019-04-23 | Advanced Energy Industries, Inc. | Impedance matching system and method of operating the same |
CN108880251B (zh) * | 2018-06-29 | 2021-07-13 | 上海联影医疗科技股份有限公司 | 具有输出特性调节电路的电源系统 |
DE102018116597A1 (de) | 2018-07-10 | 2020-01-16 | Rosenberger Hochfrequenztechnik Gmbh & Co. Kg | Schaltung zum schalten einer wechselspannung |
KR101938574B1 (ko) | 2018-08-24 | 2019-04-10 | 주식회사 알에프피티 | 플라즈마 챔버에 고정밀 및 고속의 전력을 공급하기 위한 디지탈 전력전달장치 |
CN108712813B (zh) * | 2018-09-13 | 2019-01-04 | 中微半导体设备(上海)有限公司 | 一种可切换匹配网络及电感耦合等离子处理器 |
JP7105183B2 (ja) * | 2018-12-27 | 2022-07-22 | 株式会社ダイヘン | インピーダンス整合装置及びインピーダンス整合方法 |
US11521831B2 (en) | 2019-05-21 | 2022-12-06 | Reno Technologies, Inc. | Impedance matching network and method with reduced memory requirements |
DE202020102084U1 (de) * | 2020-04-15 | 2020-05-13 | TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG | Impedanzanpassungsschaltung und Plasmaversorgungssystem |
US11784028B2 (en) * | 2020-12-24 | 2023-10-10 | Applied Materials, Inc. | Performing radio frequency matching control using a model-based digital twin |
US11626853B2 (en) * | 2021-02-05 | 2023-04-11 | Applied Materials, Inc. | RF power delivery architecture with switchable match and frequency tuning |
CN117459011B (zh) * | 2023-12-22 | 2024-04-09 | 深圳市瀚强科技股份有限公司 | 射频电路、射频电源设备及电抗补偿方法 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61206322A (ja) * | 1985-03-11 | 1986-09-12 | Fujitsu Ltd | アンテナインピ−ダンス整合回路 |
JPH0397219U (ja) * | 1990-01-24 | 1991-10-07 | ||
JPH03128336U (ja) * | 1990-04-04 | 1991-12-24 | ||
JPH0653770A (ja) * | 1992-07-30 | 1994-02-25 | Kokusai Electric Co Ltd | アンテナ整合器 |
JPH0693437A (ja) * | 1992-09-14 | 1994-04-05 | Jeol Ltd | 高周波装置 |
JPH06243992A (ja) * | 1993-02-16 | 1994-09-02 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR1207566A (fr) * | 1958-06-26 | 1960-02-17 | Trt Telecom Radio Electr | Perfectionnements aux dispositifs d'accord automatique sur une charge largement variable |
US3794941A (en) * | 1972-05-08 | 1974-02-26 | Hughes Aircraft Co | Automatic antenna impedance tuner including digital control circuits |
US3906405A (en) * | 1974-07-01 | 1975-09-16 | Motorola Inc | Tunable antenna coupling circuit |
US5424691A (en) * | 1994-02-03 | 1995-06-13 | Sadinsky; Samuel | Apparatus and method for electronically controlled admittance matching network |
FR2722339B1 (fr) * | 1994-07-06 | 1996-10-04 | Tech D Applic & De Rech Electr | Antenne demi-boucle a accord automatique rapide |
-
1996
- 1996-06-13 US US08/662,886 patent/US5654679A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-06-11 AU AU34872/97A patent/AU3487297A/en not_active Abandoned
- 1997-06-11 AT AT97931168T patent/ATE206568T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-06-11 EP EP97931168A patent/EP0904634B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-06-11 CN CN97197019A patent/CN1122361C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1997-06-11 KR KR10-1998-0710195A patent/KR100429930B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-06-11 WO PCT/US1997/010291 patent/WO1997048183A1/en active IP Right Grant
- 1997-06-11 JP JP10501857A patent/JP2000512460A/ja active Pending
- 1997-06-11 DE DE69707129T patent/DE69707129T2/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61206322A (ja) * | 1985-03-11 | 1986-09-12 | Fujitsu Ltd | アンテナインピ−ダンス整合回路 |
JPH0397219U (ja) * | 1990-01-24 | 1991-10-07 | ||
JPH03128336U (ja) * | 1990-04-04 | 1991-12-24 | ||
JPH0653770A (ja) * | 1992-07-30 | 1994-02-25 | Kokusai Electric Co Ltd | アンテナ整合器 |
JPH0693437A (ja) * | 1992-09-14 | 1994-04-05 | Jeol Ltd | 高周波装置 |
JPH06243992A (ja) * | 1993-02-16 | 1994-09-02 | Tokyo Electron Ltd | プラズマ処理装置 |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002164762A (ja) * | 2000-08-17 | 2002-06-07 | Eni Technology Inc | プラズマ・チューナのホット・スイッチングの方法 |
US9143172B2 (en) | 2009-06-03 | 2015-09-22 | Qualcomm Incorporated | Tunable matching circuits for power amplifiers |
US8963611B2 (en) | 2009-06-19 | 2015-02-24 | Qualcomm Incorporated | Power and impedance measurement circuits for a wireless communication device |
US9000847B2 (en) | 2009-08-19 | 2015-04-07 | Qualcomm Incorporated | Digital tunable inter-stage matching circuit |
US9559639B2 (en) | 2009-08-19 | 2017-01-31 | Qualcomm Incorporated | Protection circuit for power amplifier |
US9124248B2 (en) | 2011-01-20 | 2015-09-01 | Advanced Energy Industries, Inc. | Impedance-matching network using BJT switches in variable-reactance circuits |
JP2014505983A (ja) * | 2011-01-20 | 2014-03-06 | アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッド | 可変リアクタンス回路におけるbjtスイッチを使用するインピーダンス整合ネットワーク |
KR101619871B1 (ko) | 2011-01-20 | 2016-05-11 | 어드밴스드 에너지 인더스트리즈 인코포레이티드 | 가변 리액턴스 회로에 bjt 스위치들을 사용한 임피던스 매칭 네트워크 |
US9660613B2 (en) | 2011-01-20 | 2017-05-23 | Advanced Energy Industries, Inc. | Impedance-matching network using BJT switches in variable-reactance circuits |
JP2013153432A (ja) * | 2011-12-29 | 2013-08-08 | Mks Instruments Inc | Rf電源の周波数チューニングに関する電力歪みに基づくサーボ制御システム |
US9490353B2 (en) | 2012-08-28 | 2016-11-08 | Advanced Energy Industries, Inc. | Three terminal PIN diode |
WO2015033632A1 (ja) * | 2013-09-05 | 2015-03-12 | 株式会社村田製作所 | インピーダンス変換回路、アンテナ装置および無線通信装置 |
US10348266B2 (en) | 2013-09-05 | 2019-07-09 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Impedance conversion circuit, antenna apparatus, and wireless communication apparatus |
JP2017069823A (ja) * | 2015-09-30 | 2017-04-06 | 株式会社ダイヘン | インピーダンス整合装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20000016599A (ko) | 2000-03-25 |
EP0904634A1 (en) | 1999-03-31 |
WO1997048183A1 (en) | 1997-12-18 |
US5654679A (en) | 1997-08-05 |
EP0904634B1 (en) | 2001-10-04 |
CN1122361C (zh) | 2003-09-24 |
CN1227678A (zh) | 1999-09-01 |
ATE206568T1 (de) | 2001-10-15 |
DE69707129D1 (de) | 2001-11-08 |
DE69707129T2 (de) | 2002-07-11 |
KR100429930B1 (ko) | 2004-06-16 |
AU3487297A (en) | 1998-01-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2000512460A (ja) | 可変負荷インピーダンスをrf発電装置インピーダンスに整合させる方法および装置 | |
US6424232B1 (en) | Method and apparatus for matching a variable load impedance with an RF power generator impedance | |
US7042311B1 (en) | RF delivery configuration in a plasma processing system | |
US6677711B2 (en) | Plasma processor method and apparatus | |
EP0840941B1 (en) | Method of and apparatus for controlling reactive impedances of a matching network connected between an rf source and an rf plasma processor | |
US9715996B2 (en) | Adjustable capacitor, plasma impedance matching device, plasma impedance matching method, and substrate treating apparatus | |
US20080284537A1 (en) | Impedance Matching Network, and Plasma Processing Apparatus Using Such Impedance Matching Network | |
US8847561B2 (en) | Apparatus, system, and method for controlling a matching network based on information characterizing a cable | |
US5473291A (en) | Solid state plasma chamber tuner | |
WO2008033762A2 (en) | Apparatus and method for switching between matching impedances | |
WO2016048449A1 (en) | Detecting plasma arcs by monitoring rf reflected power in a plasma processing chamber | |
JPH10241894A (ja) | 周波数サーボ及び電力、電圧、電流又はdI/dtのコントロールを用いた高周波プラズマリアクタのための高周波同調方法 | |
EP0870317A1 (en) | Apparatus for controlling matching network of a vacuum plasma processor and memory for same | |
CN115882806B (zh) | 一种射频电源自动阻抗匹配装置、系统以及方法 | |
CN109412574B (zh) | 一种射频电源的功率传输方法 | |
KR101938574B1 (ko) | 플라즈마 챔버에 고정밀 및 고속의 전력을 공급하기 위한 디지탈 전력전달장치 | |
JPH0653770A (ja) | アンテナ整合器 | |
US11626853B2 (en) | RF power delivery architecture with switchable match and frequency tuning | |
CN109714021B (zh) | 阻抗匹配装置及半导体加工设备 | |
KR20230120165A (ko) | 플라즈마 발생 장치 및 그 제어 방법 | |
KR20230064902A (ko) | 플라즈마 전력 공급 시스템 및 이의 전력 공급 방법 | |
JP2008147928A (ja) | アンテナ整合方式 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050823 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20051121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060110 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20060410 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060411 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20060529 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20070116 |