JP2000508964A - ガス洗浄装置の運転制御システム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 ガス洗浄装置２０の運転システム及び方法は、振動発生器２２、２４、２６を使用して、さまざまな表面ゾーンＡ，Ｂ，Ｃの共振の最適状態を確定するため振動の振動数及び振幅を変更する目的で、センサー３０、３２、３４と、上記さまざまな表面ゾーンＡ，Ｂ，Ｃの共振状態をモニターし予測するプログラムと、を有し、これらによって上記ガス洗浄装置２０の洗浄及び運転を最適化する。

Description

【発明の詳細な説明】 ガス洗浄装置の運転制御システム 発明の背景 本発明は、例えば静電沈殿器[electrostatic precipitator(ＥＳＰ)]、バッグ フィルタ(ＢＦ)、スプレードライヤーアブソーバー(ＳＤＡ)、気化冷却器、集塵 器(サイクロン)、ベンチュリスクラバー[venturi scrubber]、ドライ系[dry sys tem]、湿式ドライ系、セミドライ系、湿式系、折衷系、機械的セパレータ等のよ うな、生じている振動の振動数[frequency]や振幅[amplitude]を変えることがで きる制御手段に組みつけられる振動手段を備えた、流体と微粒子とを分離するセ パレータならびにガス洗浄装置及び／又はガス洗浄システムを提供するものであ る。より具体的には流体／微粒子セパレータやガス洗浄装置の部品を洗浄及び／ 又は運転するのに使う手段を備えていて振動を制御するシステム及び方法に関す る。このシステムは外表面に間隔をあけた箇所とかゾーンに取り付けたセンサー あるいは内部に取り付けたセンサーから直接、及び次のような間接、つまり例え ばシステムの入口、出口間の圧力差、及び／又はシステムないしはシステムに使 われているフィルタ材への流入と流出間の特性、及び流体／微粒子セパレータに 使われているファン、ブロワー、ポンプその他の機器、流体／微粒子セパレータ のさまざまなゾーン及び／又は部品に生ずる共振周波数状態を引き出すために振 動数及び振幅を変える発生器[generating devices]への制御信号を作る目的で流 体／微粒子セパレータ及びフィルタ装置に接続されたモータの電力、電圧ならび に電流の各状態のような運転パラメータを測定するために取り付けたセンサーか ら間接的に得た諸特性や諸状態の両方から供給されるコントローラをその運転を 最適化するために使うものである。さらに、このコントローラはコントローラそ の他の装置やシステムの運転特性に関してこれまで蓄積したデータを使って信号 を制御するようにプログラムすることもできる。 先行技術の沿革 大半のガス洗浄装置は、例えば静電沈殿器の集塵板とかバッグフィルタのバッ グとかの表面を洗浄するため、あるいは例えばスプレードライヤアブソーバの壁 面などにたまる好ましくない集積を洗浄するため、あるいは例えば気化冷却器中 で気化するべき小滴とかスプレードライヤアブソーバ中の気体汚染物質を吸収す る微粒子や超微粒子を粗い粒子と一体化するような除去されるべきガス中に浮遊 の微粒子を振動するために、何らかの振動手段を備えている。こうした振動手段 はガス洗浄装置運転の基礎に基づき自動的に調節可能なシーケンスに従って定期 的に運転されるものではあるがなお固定的な振動数と振幅の運転である（例えば バッグ型のダストフィルタの圧力低下）。 ガス洗浄装置の内部の表面を洗浄する上記のような型のガス洗浄装置に使われ る制御システムについてはこれまで多くのものが開発されてきた。こうした従来 のシステムは、洗浄サイクルに有効なように装置の通常運転を終了させる効果を 備えた単に時間的なシステムにすぎない。ダスト、固体粒子、水その他の流体滴 などの集積した微粒子を解放し排除するシステム内にあるいくつもの面の振動を 確保するため、洗浄サイクル中に作動させるさまざまな機械的装置及び／又は空 気流装置及び／又は音響装置が使われている。しかしこうした振動発生器は固定 的な振動数、振幅で運転されている。 残念ながらこうした時間的に定期の洗浄システムは流体／微粒子セパレータと か洗浄装置に接続したさまざまな内部の表面や部品を洗浄するのに最適なように されていない。例えば従来のバッグ型ダストフィルタでは、バッグの表面特性や そこから除去されるべき微粒子の性質はフィルタのハウジングの隣接する壁面の 表面特性とかそこに集塵される微粒子の性質によってかなり異なっている。機械 的な装置又は空気流の装置又は音響装置で生ずる振動数はこれら表面のそれぞれ に異なる影響を及ぼしている。それは言わばフィルタシステム内のそれぞれの表 面が、それ自体の構造によって異なる振動数を有していて、その上に集積される 微粒子によっても影響を受けている。このように各々の表面は同じ一つの振動数 に対して異質に反応している。したがって洗浄サイクルの一定時間内に異なる表 面特性の表面であって異なる微粒子の集積となっている表面を洗浄するときの程 度は、同一システム内の１部品と他の部品とでは大いに異なる。こうした理由で 、ある特定のフィルタあるいはその他のセパレータの部品及び表面箇所各々が効 率的に洗浄されることを確保するため洗浄サイクルを法外に引き伸ばすことが要 求されている。 洗浄システムの効率性を向上させるため、従来技術の一部の装置は洗浄装置の 運転を制御するリアルタイムの現況モニターを使用している。従来の洗浄システ ムの多くのものが圧力差をフィルタの上流下流間で決定することができるように フィルタの反対側に圧力変換器を取り付けている。圧力低下が所定のレベルに達 したときは、システム各部の洗浄サイクルを開始するため機械的、空気流的、あ るいは音響的な制御システムが洗浄装置を作動する。ここでも又圧力状態をこう してリアルタイムにモニターするものではあるがシステムのさまざまな部品に集 積した微粒子の性質上の違いも表面特性の違いも何ら意に介するものではなく、 ひとたび洗浄サイクルが始まると通常平均的な一定時間継続されてシステム全体 の洗浄を行う。こうした平均的な洗浄サイクルはシステム中のある部分について は洗浄に適切でなく、こうしたシステムに使われる振動発生器は固定的な振動数 、振幅で運転されている。このような制御システムの１例はAplegrenに付与され た米国特許第4277255号に記載されている。 さらなる改良が微粒子セパレータならびにその関連機器につきコンピュータ制 御システムとして行われている。Jorgensonらに付与された米国特許第5427496号 は、集塵器及び洗浄システムの運転をモニターして制御するさまざまなセンサー やソフトウエアプログラムに接続したマイクロプロセッサを使う集塵器用の診断 制御システムについて記載している。この特許はフィルタ系のさまざまな運転パ ラメータを継続的にモニターして内蔵のソフトウエアと比較し、集塵器のフィル タその他の構成要素の状態についての現況を表示するものである。このような内 蔵センサーとしてはモータ電流センサー、フィルタ低下圧力センサー、内部温度 測定センサーなどがある。センサーから受け取る信号を処理して運転状態を決め 集塵器内の故障を判定する。洗浄サイクルを含む集塵器の運転は受け取ったデー タや内蔵のソフトウエアプログラムで制御する。しかし他の従来技術同様、集塵 器内に集積された物質を除去するのに使われる振動を作り出す振動発生器の振動 数や振幅を変えるように分散しているエレメントの正確な共振状態を判断する目 的で集塵器のさまざまな構成要素やゾーンをモニターするため装置は未だなかっ た。従来の制御システムは又洗浄サイクル中に生ずる振動にさらされるさまざま な表面に集積される物質を含む状態に基づき振動数を制御することもできなかっ た。したがって従来の制御システムは集塵器内のさまざまな表面を洗浄すること を目的に効率的に振動数や振幅を制御したり変更したりできなかった。 さらにガス吸収の技術分野では、Pfoutzに付与された米国特許第4535209号が セミドライ系において音響を介し気体／固体の微粒子反応を促進する技術につい て開示している。音波ラッパ[sonic horn]は噴霧されたスラリーの小滴を振動さ せる。しかしここでもこうした音波ラッパの振動数は全ての小滴を効率的に気化 させガス吸収を押し上げる機能を適切に果たすものではない。 発明の概要 本発明は、例えば静電沈殿器(ＥＳＰ)、バッグフィルタ(ＢＦ)、スプレードラ イヤーアブソーバー(ＳＤＡ)、気化冷却器、集塵器(サイクロン)、ベンチュリス クラバー、ドライ系、湿式ドライ系、セミドライ系、湿式系、折衷系、機械的セ パレータ等のような、生じている振動の振動数や振幅を変えることができる制御 手段に組みつけられる振動手段を備えた、流体と微粒子とを分離するセパレータ ならびにガス洗浄装置及び／又はガス洗浄システムを提供するものである。各コ ントローラを、例えば機械的なシェーカーとか音響拡声器、ラウドスピーカーダ イヤフラム、気流発生器ないしエア流発生器などという形式の、ガス洗浄装置及 び／又はシステム内に振動を作り出す機能を有する、１台又は２台以上の振動発 生器に接続している。好ましい実施例では、振動発生器の振動数及び振幅はセン サーから得た信号に従って変更するようにされ、作られる振動数を現に振動して いるさまざまな表面や構成要素内の共振状態を確定するため現時点の運転状態に 従って変えられるようにしている。この振動中のガス洗浄装置及び／又はシステ ム内のさまざまな箇所における共振周波数は、振動させられる微粒子の特性又は 表面上に堆積している物質によって変えられる。 ある実施例では、バッグフィルタ又はその１ゾーンの圧力低下を感知するため 、あるいはガス洗浄装置及び／又はシステムの構成要素を通るガス流中の変化を 反映するパラメータを測定するため、またあるいはガス洗浄装置及び／またシス テムの構成要素における圧力低下を検出するため、別種の間接的なセンサーを取 り付けていて、そこで得た情報はコントローラにも供給される。さらにこれら以 外にも、こうしたガス洗浄装置及び／またシステムに取り付けられているファン やブロワーなど種々の機器を駆動するため使われるＥＳＰやモータの高電圧シス テムなどを含む電気部品の稼働電力、電流及び電圧のようなコントローラにその 他の間接的なパラメータが供給される。 もう一つの実施例ではコントローラへ間接的にフィードバックされるものが同 様の運転システムについて一定時間にわたり修正されたものの所定データを有し ている。こうした所定データとしては、まだ新しくて堆積物質がないときのさま ざまな表面の共振周波数など、洗浄されるセパレータとかフィルタからあらかじ め得ておいたデータを含む。またこうしたデータには、特定のガスや物質で洗浄 運転をするときの所定時間に堆積される予期できる物質とか使用時間に変化する 可能性があるバッグもしくはバッグタイプのフィルタのような構成要素の壁面も しくは表面の共振周波数などの、同様のシステムにおけるさまざまな構成要素の 振動特性も含む。 本発明の制御システムは変わりやすい振動数の振動発生器をマニュアルコント ロールできるようにもされている。好ましい実施例でのコントローラは、上述の ようなものの可変パラメータを受け入れプログラムするコンピュータで、変わり やすい振動数の振動発生器の運転特性を作り出したり変更したりする制御信号を 供給するものとされる。 本発明の第１の目的は、ガス洗浄装置の個々の構成要素の感知された、及び／ 又は所定の又は予測された共振状態によって振動の振動数及び振幅が変化される ようにされているガス洗浄装置及び／又はシステムの個々の構成要素の洗浄や運 転を最適化するよう発生させる振動の振動数及び振幅を変化させるようにガス洗 浄装置及び／又はシステムの構成要素を洗浄及び／又は運転するように使われる 、変わりやすい振動数の振動発生器の運転をモニターしコントロールするシステ ムを提供することである。 また本発明のもう一つの目的は、洗浄中に構成要素の表面から物質を除去しや すくしたり、水滴の蒸発を規制することによって例えば吸収状態のような運転状 態を最適化したりするため、ガス洗浄装置及び／又はシステムの内側に生ずる振 動数を変化させる機能の音響発生器、フリーケンシーモジュレータ、振動減衰機 構、気流発生器などのコントロール法を提供することである。 図面の簡単な説明 図１はセパレータ内のさまざまな箇所に取り付けられたセンサーを備えた本発 明のコントロールシステムを示すガスと微粒子とを分離するセパレータの概念図 である。 図２は振動発生器によって作られた流体と微粒子とを分離するセパレータの１ 表面における共振周波数変化を示すグラフである。 図３は振動発生器により加えられた振動のさまざまな振動数における３つの異 なる地点、ゾーン、表面における共振周波数を示すグラフである。 図４本発明のコントロールシステムに使われるもう一つのガス洗浄装置の概念 図で、別種のセンサーを示している。 図５は本発明のコントロールシステムを組み込んだバッグフィルタ洗浄装置の 区画ないしゾーンの概念図で、この区画内にある選択したバッグに接続された２ 種類のタイプのセンサーを示す。 好ましい実施例の説明 本発明は、例えば静電沈殿器(ＥＳＰ)、バッグフィルタ(ＢＦ)、スプレードラ イヤーアブソーバー(ＳＤＡ)、気化冷却器、集塵器(サイクロン)、ベンチュリス クラバー、ドライ系、湿式ドライ系、セミドライ系、湿式系、折衷系、機械的セ パレータ等のような、生じている振動の振動数や振幅を変えることができる制御 手段に組みつけられる振動手段を備えた、流体と微粒子とを分離するセパレータ ならびにガス洗浄装置及び／又はガス洗浄システムを提供するものである。ここ に言うガス洗浄装置及び／又はガス洗浄システムとは、上記のようなセパレータ や装置ならびにシステムを指す。また上記のガス洗浄装置及び／又はシステムは 、一般に数個のゾーン（ＢＦ内の区画ないし小部屋とか、ＥＳＰ内のフィールド 、あるいはＢＦ、ＥＳＰ、ＳＤＡなど中の壁面とかダストホッパー）を有し（Ｅ ＳＰ中の集塵板とかＢＦ中のギャブのような）さまざまな構成要素からなるもの であることを前提にしている。 こうした変化の幅及び／又は因果関係は既に見込んでおくか、又はガス洗浄装 置及び／又はシステムのさまざまなゾーンにおける実際の状態を測定及び／又は 評価するフィードバック手段により取得した情報に基づき制御手段で選択的に更 新するかして対処する。水滴気化、汚染気体の吸収、超微粒子の大粒子との集塊 化などガス洗浄運転を促進するように、集めた微粒子物質や洗浄されるべきガス 中浮遊の微粒子などを除去するため至るところに発生する共振状態を確定して上 記のような変化の幅、因果関係が提供される。 図１において、ガス洗浄装置及び／又はシステム２０は、生じている振動の振 動数及び振幅を変えることができる制御手段２８に接続された１個又は２個以上 の振動発生器２２、２４、２６を有している。本発明によれば、振動効果が最適 化されるように、必要とされる振動数及び振幅はゾーンにより又時間の経過によ り異なることを考慮してガス洗浄装置及び／又はシステムの各ゾーンごとに振動 数を変化させている。変化の範囲及びシーケンスは、予定しておいてもよいし、 あるいはガス洗浄装置及び／又はシステムの３つの異なるゾーンＡ，Ｂ，Ｃにお ける実際の状態を測定し評価するセンサー３０、３２、３４の直接的なフィード バック値に基づき決定してもよい。ゾーンＡは壁５０、ゾーンＢは内部の集塵板 ５１、ゾーンＣは分離されたダストを引き出す前の収集が行われるホッパ５２で ある。これらのフィードバックセンサーは例えばＥＳＰ２０（図１）の各ゾーン 中の、又はＢＧ２０'（図５）の各ゾーン中の、選択された集塵板５１の共振状 態を直接測定することができるようにされている。 フィードバック手段は、例えばＳＤＡ噴霧ライムミルク中のＳＯ₂のような汚 染気体の吸収率、気化冷却器中の気化水分量、ガス中の浮遊微粒子の不透明度、 あるいはＥＳＰ（電圧、電流、その他のエネルギ）中の電気的状態などの共振状 態に影響を受けるパラメータを測定することによって共振状態を間接的６０（図 ４）または６０'（図５）に評価することができる。 本発明の１実施例を示す図４において、ガス洗浄装置及び／又はシステム４０ 内の１個又は２個以上の振動発生器４２によって音響振動が発生させられる。制 御手段４４は音響発生器４２の振幅の変化や振動数出力を誘導することができる 。音響発生器の振幅出力はその音響発生器に投入される電力の振幅を変化させた り、及び／又は音響発生器の振動数を変化させることによって制御することがで きる。音響発生器の振動数を共振状態のどちらかの側で変化させればその音響の 有効振幅を制御することになる。例えば振動発生器が圧縮空気の拡声器であると する。振動の振幅は拡声器の出力部７０にあるダンパー７２で制御することがで きる。このダンパー７２は電気的に操作されて振幅を調整する。電気的に制御さ れるアクチュエータ７４は上記のような空気流タイプの音発生器により作られた エネルギの振動数を変えることができる。アクチュエータ７４は例えば、電磁ス テップ、サーボ、リニア圧ソレノイドなどのような運転振動数に影響を与えるダ イヤフラム特性を変更するのに使われるもので足りる。エアフローの供給は運転 振動数を変更する可変の空気パドル（図示せず）を使用することで制御可能であ る。 電磁的な音声発生器の音声スピーカー型装置は、入力電力に基づいて調節する ことができる出力レベルは勿論、運転振動数の幅広い範囲を供給するのにも使う こともできる。 フィードバックモードでは直接的なフィードバックセンサーは、ゾーンＡ，Ｂ 各々のマイクロホン４６、４８とか、洗浄のために振動させられる領域ならびに ガス洗浄装置及び／又はシステムの１又は２以上のゾーンの代表とされる測定地 点に利用可能な音エネルギを負荷するのをモニターするための変換器５３、５４ とか、の装置となる。フィードバックセンサーは、例えばＥＳＰ２０の集塵板５ １又はＢＦ２０'のバッグ５５（図５）のような振動面に取り付けられる共振状 態を測定する歪み計タイプの変換器でもよい。表面を洗浄中は、図２に示すよう にそれら表面の共振周波数は変化する。図２において、実線は洗浄前の１つの表 面の共振周波数を、破線は通常の洗浄をした後の共振周波数を、そして１点鎖線 は完全に洗浄された後のその表面の共振周波数を、それぞれ示す。 表面の周波数反応におけるこのような変化は所期の変化ないし曲線に基づき振 動の持続期間、即ち時間に対する周波数の変化、を自動的に決定するのに利用す ることができる。これは又、音振動を使う実施例以外の実施例にも応用すること ができる。したがって制御手段はフィードバックセンサーから得た情報に基づき 、機械的、音声的、電子工学的、エア／ガス流、又はエアウエーブ振動発生器な どの振動動作の振動数、振幅及び持続期間を調節することができる。ＥＳＰ及び ／又はゾーンの電気信号（電圧、電流、電力等に相当するもの）のような間接的 なフィードバック手段６０、あるいはバッグ型のフィルタ２０'の選択されたバ ッグを通過するガスフローのための６１'（図５）のような適当な変換器などに よって測定されたＢＦ及び／又はＢＦのゾーンの圧力低下及び／又はフローを表 す信号６０'（図５）は、図３に示すようなガス洗浄装置及び／又はシステムの 各ゾーンＡ，Ｂ，Ｃにおける共振条件を最適化するのに使うことができる。共振 周波数の曲線は振動効果の持続期間の基礎として、又当該振動の振幅の基礎とし て利用することができる（振動中の時間に対する共振周波数変化を使って）。 所定モードでは制御手段は、振動中に起こる共振周波数の所期の変化を計算し て振動される各ゾーンにつき適用されるべき振動数、振幅、持続期間、の範囲を 与える所定の制御表もしくは制御プログラムを使う。ここで使う制御表やプログ ラムはコンピュータなどのコントローラ中に組み込んでおき、フィードバックモ ードの運転下でプラント設置中、又は同一設計プラントの洗浄及び／又は運転に 基づき、直接間接にモデル設計される。 表とかプログラムといった形式の所期モード用の情報は、制御されるガス洗浄 装置及び／又はシステムと同じ方法で長い時間をかけて使われる関連機器の運転 をセンサーで感知していくことで開発される。例えば、同様なガス洗浄装置及び ／又はシステムを何年もモニターすることも行われている。蓄積される物質によ って異なる表面応答に関する情報が収集され、同様な機器を制御するプログラム を作成するのに利用される。また具体的なガス洗浄装置及び／又はシステムの運 転特性について既に決定されている情報をコントローラに入力し、そうした具体 的なコントローラに関する情報がガス洗浄装置及び／又はシステムの構成要素を 運転するのに使われる振動発生器を制御する目的で所期のプログラム情報として 使うこともできる。 振動周波数の実際の振動範囲が広ければ、フィードバックモードは例えば完全 に洗浄された状態における各ゾーンの共振周波数Ｆ_r（つまり結果として生ずる 振動の振幅が最大となる周波数）を決定することができるという点を注意して戴 きたい。ダストが堆積した後は共振周波数は図２に示すように減衰される。次に 上記の周波数Ｆ_rを負荷してこの周波数を所定のステップに従い上下に変化させ ると、コントローラは実際の共振周波数Ｆ₂がその周波数を増減して達成される か否かを識別する。次に階段状[stepwise]の周波数Ｆ₂が識別され、その周波数 Ｆ₂で振動することが可能で、同様のプロセスでＦ₂から振動が止まるＦ₃への周 波数変化へとつらなる。 どんな一表面もいくつかの共振周波数を有するが、本発明を実施するには例え ば最大振幅というような１つの周波数だけを選択することができる。また、広範 囲の多数の周波数をもった一振動手段で図１のＥＳＰ中の集塵板５１やホッパ５ ２のゾーンなどそれ自身共振周波数を有している各部品、ガス洗浄装置のゾーン 全部又はいくつかを振動させることは可能である。 図５に示した本発明のもう一つの好ましい実施例はガス洗浄装置及び／又はシ ステム中の通常のガス流に付加される振動法に関する。例えば図５に示すように 逆方向に流れるエア中のＢＦ２０'の１区画は、ダンパー６６を閉じることによ り孤立化され、逆流するエア又は浄化ガスが第２ファン又はブロワー６２によっ てバッグ５５のフィルタを押し通ってゆく。この逆流エア／ガス流は次にバッグ 型フィルタの他の区画に導かれ、そこで通常のガス流に加えて濾過される。この 逆流はいくらかのダスト堆積を除去することができるが、まだバッグ５５を浄化 するには不十分である。多孔性ディスク６４が一定速度で回転していて、固定的 な振動数の振動がバッグ５５に与えられるように上記逆流に“振動”成分を付与 する。本発明によれば、可変速モータ６５又は可変カップリングその他の適当な 手段によって可変振動数を付加することができる。 制御手段は各区画につき所期範囲の振動数、振幅、持続期間で運転することも できるし、例えば選択されたバッグ５５に接続のフィードバックセンサー３２' 又は６１'のような上記のフィードバック手段に基づいて運転することもできる 。しかも上記のような振動法がメインフローに適用されるときは、区画を孤立化 させたり多数のフィードバックセンサーを装着したりせずに共振条件がガス洗浄 装置及び／又はシステムの全ゾーンに確立されるように十分に広範囲の多数の周 波数を負荷することが可能である。上記と同じ振動中に共振周波数の変化に対応 することも実施可能である。 ガス流中に浮遊する微粒子の振動を組み込む実施例においては、振動手段つま り振動発生器は、好ましくは同様の振動手段を備えた、あるいは他の振動手段と 組合せて、堆積する表面を振動する定期的な可変周波数の間接的フィードバック 手段に基づいて上記と同様のフォローアップで継続的に適用されるのがよい。 産業上の利用分野 本発明の方法及び洗浄システムは、静電沈殿器、バッグフィルタ、噴霧ドライ ヤアブソーバ、気化冷却器、サイクロン、ベンチュリスクラバー、乾式、湿乾式 、セミドライ式、湿式、折衷式、機械的セパレータ等、さまざまな液体／固体セ パレータやガス洗浄装置を洗浄するのに広範囲の応用性を有している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，Ｌ Ｕ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ， ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，Ｓ Ｄ，ＳＺ，ＵＧ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ， ＣＮ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，Ｇ Ｂ，ＧＥ，ＧＨ，ＨＵ，ＩＬ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ， ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，Ｎ Ｏ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ， ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．ａ）ガス洗浄装置及び／又はシステムの少なくとも１ゾーンの共振特性を決 定するステップと、 ｂ）振動発生器を制御し、上記少なくとも１ゾーンの共振特性に基づき振動 発生器が作る振動の振動数及び振幅を変更するステップと、 を有することを特徴とする、振動発生器使用のガス洗浄装置及び／又はシス テム内の構成要素の洗浄及び／又は運転の制御法。 ２．上記少なくとも１ゾーンの共振特性を決定するステップが、その少なくとも １ゾーンの振動状態をリアルタイムで感知し、これをコントローラにフィード バック情報として供給し、それによってコントローラが振動発生器から発生し ている振動の振動数及び振幅を変更するために上記情報を利用することを含む ことを特徴とする請求項１に記載の制御法。 ３．上記少なくとも１ゾーンの共振特性を決定するステップが、ガス洗浄装置及 び／又はシステムの運転パラメータに関する間接的情報をコントローラにリア ルタイムで供給することを含むことを特徴とする請求項１に記載の制御法。 ４．上記少なくとも１ゾーンの共振特性を決定するステップが、ガス洗浄装置及 び／又はシステムの運転パラメータに関する間接的情報をコントローラにリア ルタイムで供給することを含むことを特徴とする請求項２に記載の制御法。 ５．上記運転パラメータがガス洗浄装置及び／又はシステム、又はガス洗浄装置 及び／又はシステムの少なくとも１つのゾーン又は構成要素を通るガスフロー 速度、ガス洗浄装置及び／又はシステムの構成要素を通る圧力差、ガス洗浄装 置及び／又はシステムに使われる電気的構成要素の電圧、電流、電力から少な くともなるパラメータから選択されていることを特徴とする請求項３に記載の 制御法。 ６．上記少なくとも１ゾーンの共振特性を決定するステップが、同様のガス洗浄 装置及び／又はシステムに関して測定され既に決定された共振特性に関する情 報をコントローラにプログラムして入力するステップをさらに有することを特 徴とする請求項４に記載の制御法。 ７．上記振動発生器がガス洗浄装置及び／又はシステム中のガスフローに振動構 成要素を付加し、当該振動構成要素の振動数及び振幅を変更するように制御さ れることを特徴とする請求項１に記載の制御法。 ８．上記少なくとも１ゾーンの共振特性を決定するステップが、同様のガス洗浄 装置及び／又はシステムに関して測定され既に決定された共振特性に関する情 報をコントローラにプログラムして入力するステップをさらに有することを特 徴とする請求項１に記載の制御法。 ９．微粒子が堆積する複数の表面域を有するガス洗浄装置及び／又はシステム内 の構成要素を洗浄するシステムであって、 振動発生器と、該振動発生器に接続された制御手段と、上記ガス洗浄装置及 び／又はシステム内の１表面域に取り付けられた少なくとも１個の直接的セン サーと、該少なくとも１個のセンサーから得た情報によって振動発生器が発生 した振動の振動数及び振幅を変更するコントローラと、 を有することを特徴とする洗浄システム。 １０．上記直接的センサーが、変換器、マイクロホン、歪み計を含む群から選択 されるものであることを特徴とする請求項９に記載の洗浄システム。 １１．ガス洗浄装置及び／又はシステムの構成要素を通るガスフロー中の上記ガ ス洗浄の変化を反映するパラメータを測定する少なくとも１個の間接的センサ ーを含み、該少なくとも１個の間接的センサーが上記制御手段に接続されてい ることを特徴とする請求項９に記載の洗浄システム。 １２．上記振動発生器が、ガス洗浄装置及び／又はシステムのガスフローに振動 構成要素を付加するエア又はガス流発生器を有することを特徴とする請求項９ に記載の洗浄システム。 １３．上記振動発生器が、出口を備えた拡声器と、該拡声器に取り付けられたそ こから発生する振動の振動数を変更するためのダンパーと、を有することを特 徴とする請求項９に記載の洗浄システム。 １４．上記振動発生器が、流体の出口を備えたファンと、該出口近傍に取り付け られる多孔ディスクと、可変速度で該多孔ディスクを回転させる回転手段と、 を有し、ディスクの回転ごとにディスクの多孔を通過して上記出口からの流体 フローの変化の頻度が変化することを特徴とする請求項９に記載の洗浄システ ム。 １５．上記制御手段が、ガス洗浄装置及び／又はシステムの運転振動特性に関し て以前に収集したプログラムできる情報を受け取るプログラム作成手段を有す ることを特徴とする請求項９に記載の洗浄システム。 １６．上記制御手段が、ガス洗浄装置及び／又はシステムの運転振動特性に関し て以前に収集したプログラムできる情報を受け取るプログラム作成手段を有す ることを特徴とする請求項１１に記載の洗浄システム。 １７．上記制御手段が、ガス洗浄装置及び／又はシステムの運転振動特性に関し て以前に収集したプログラムできる情報を受け取るプログラム作成手段を有す ることを特徴とする請求項１２に記載の洗浄システム。 １８．少なくとも１個の振動発生器と、 該少なくとも１個の振動発生器に接続された制御手段であって、ガス洗浄装 置及び／又はシステムの複数のゾーンの運転振動特性に関する既に収集してあ るプログラムされ得る情報を受け取るプログラム作成手段を備え、該手段でプ ログラムした情報に基づき上記少なくとも１個の振動発生器が発生した振動の 振動数及び振幅を変更することができるようにされているものと、 を有することを特徴とする複数のゾーンを有するガス洗浄装置及び／又はシ ステムの運転システム。 １９．上記ゾーンの少なくとも１つ内の水滴の気化を直接又は間接にモニターす る少なくとも１個のセンサーであって、上記制御手段に接続され、これによっ て水滴の気化率を制御するように上記少なくとも１個の振動発生器が発生した 振動の振動数及び振幅を変更するようにされているものを含むことを特徴とす る請求項１８に記載のガス洗浄装置及び／又はシステムの運転システム。