JP2000357481A - 走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法 - Google Patents
走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法Info
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- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 試料の視野探しを簡単に行うことができる走
査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法を実現
する。 【解決手段】 視野探しモードの場合、あらかじめ試料
２の複数の領域で低倍像の取得を行う。各領域ごとに取
得された画像信号は、画像メモリー２３のいずれかのメ
モリーに送られて記憶される。この画像メモリー２３へ
の画像の記憶の際には、取得した低倍像に対応した試料
のＸ−Ｙ座標、および、像を回転させた場合にはその回
転角度と方向が併せて記憶される。各画像メモリーに記
憶された各映像信号は陰極線管９に供給され、複数の試
料像が陰極線管９に表示される。この試料像から特定の
試料像を選択すると、制御装置１５は、読み出した座標
値に基づき、ステージコントロールユニット２１を制御
し、Ｘ−Ｙステージ１７を駆動し、選択した像に対応し
た試料位置が電子ビームの光軸上に位置するようにステ
ージを移動させる。
査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法を実現
する。 【解決手段】 視野探しモードの場合、あらかじめ試料
２の複数の領域で低倍像の取得を行う。各領域ごとに取
得された画像信号は、画像メモリー２３のいずれかのメ
モリーに送られて記憶される。この画像メモリー２３へ
の画像の記憶の際には、取得した低倍像に対応した試料
のＸ−Ｙ座標、および、像を回転させた場合にはその回
転角度と方向が併せて記憶される。各画像メモリーに記
憶された各映像信号は陰極線管９に供給され、複数の試
料像が陰極線管９に表示される。この試料像から特定の
試料像を選択すると、制御装置１５は、読み出した座標
値に基づき、ステージコントロールユニット２１を制御
し、Ｘ−Ｙステージ１７を駆動し、選択した像に対応し
た試料位置が電子ビームの光軸上に位置するようにステ
ージを移動させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、走査電子顕微鏡等
の走査型荷電粒子ビーム装置に関し、特に、試料の視野
探しを行う際に用いて最適な走査型荷電粒子ビーム装置
における試料像観察方法に関する。
の走査型荷電粒子ビーム装置に関し、特に、試料の視野
探しを行う際に用いて最適な走査型荷電粒子ビーム装置
における試料像観察方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】走査電子顕微鏡では、電子銃からの電子
ビームをコンデンサレンズと対物レンズによって試料上
に集束し、更に電子ビームを２次元的に走査している。
そして、試料への電子ビームの照射によって発生した２
次電子等を検出し、検出信号を電子ビームの走査に同期
した陰極線管に供給し、試料の走査像を得るようにして
いる。
ビームをコンデンサレンズと対物レンズによって試料上
に集束し、更に電子ビームを２次元的に走査している。
そして、試料への電子ビームの照射によって発生した２
次電子等を検出し、検出信号を電子ビームの走査に同期
した陰極線管に供給し、試料の走査像を得るようにして
いる。
【０００３】このような走査電子顕微鏡を用いて試料の
像観察を行う際、試料ステージを機械的にＸ−Ｙ方向に
移動させたり回転させたりして試料の所望領域の像の観
察を行っている。また、この試料の観察範囲の移動や回
転は、機械的なものだけでなく、電子ビームの偏向範囲
を制御するイメージシフト機能や、電子ビームの２次元
走査の方向を電気的に回転させるスキャンローテーショ
ン機能によっても行っている。
像観察を行う際、試料ステージを機械的にＸ−Ｙ方向に
移動させたり回転させたりして試料の所望領域の像の観
察を行っている。また、この試料の観察範囲の移動や回
転は、機械的なものだけでなく、電子ビームの偏向範囲
を制御するイメージシフト機能や、電子ビームの２次元
走査の方向を電気的に回転させるスキャンローテーショ
ン機能によっても行っている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】さて、このような走査
電子顕微鏡において、試料上の観察目的位置を電子ビー
ムの光軸上に位置させて詳細な観察を行う場合、電子ビ
ームの２次元走査領域を広くして観察倍率を低くし、こ
の低倍率像を観察して目的の試料位置を探す。その後試
料が載置されたステージを機械的に移動させ、目的の試
料位置を電子ビームの光軸上に位置させる。このような
ステップの後、電子ビームの２次元走査領域を狭くして
観察倍率を高くし、目的位置の試料像の詳細な観察を行
う。
電子顕微鏡において、試料上の観察目的位置を電子ビー
ムの光軸上に位置させて詳細な観察を行う場合、電子ビ
ームの２次元走査領域を広くして観察倍率を低くし、こ
の低倍率像を観察して目的の試料位置を探す。その後試
料が載置されたステージを機械的に移動させ、目的の試
料位置を電子ビームの光軸上に位置させる。このような
ステップの後、電子ビームの２次元走査領域を狭くして
観察倍率を高くし、目的位置の試料像の詳細な観察を行
う。
【０００５】上記したステップによる像観察は、あらか
じめ観察位置が決まっているものにおいては必要ない
が、新規に画像観察する試料に関しては必須のステップ
となる。また、大型試料の場合等では、複数の離れた位
置での像観察を行う際には、ステージを機械的に移動さ
せるごとに最低倍率の条件で視野探しを行わなければな
らない。特にステージを移動させて最低倍率の条件で視
野探しを行っても、目的の試料位置がその視野に入らな
い場合には、再度ステージを移動させての視野探しを行
わねばならない。
じめ観察位置が決まっているものにおいては必要ない
が、新規に画像観察する試料に関しては必須のステップ
となる。また、大型試料の場合等では、複数の離れた位
置での像観察を行う際には、ステージを機械的に移動さ
せるごとに最低倍率の条件で視野探しを行わなければな
らない。特にステージを移動させて最低倍率の条件で視
野探しを行っても、目的の試料位置がその視野に入らな
い場合には、再度ステージを移動させての視野探しを行
わねばならない。
【０００６】本発明は、このような点に鑑みてなされた
もので、その目的は、試料の視野探しを簡単に行うこと
ができる走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察
方法を実現するにある。
もので、その目的は、試料の視野探しを簡単に行うこと
ができる走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察
方法を実現するにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】第１の発明に基づく走査
型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法は、機械
的なＸ−Ｙ移動、回転ができるステージ上の試料に荷電
粒子ビームを照射すると共に、試料上で荷電粒子ビーム
を２次元的に走査し、試料への荷電粒子ビームの照射に
よって得られた信号に基づき試料の走査像を表示するよ
うにした走査型荷電粒子ビーム装置において、試料上の
異なった視野の複数の映像信号をそれぞれ試料の位置情
報と共に記憶し、記憶した複数の視野の映像信号に基づ
いて複数の試料像を同時に表示させ、表示された複数の
試料像の内の任意の試料像を選択し、選択された試料像
に対応した試料位置に試料を自動的に移動させるように
したことを特徴としている。
型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法は、機械
的なＸ−Ｙ移動、回転ができるステージ上の試料に荷電
粒子ビームを照射すると共に、試料上で荷電粒子ビーム
を２次元的に走査し、試料への荷電粒子ビームの照射に
よって得られた信号に基づき試料の走査像を表示するよ
うにした走査型荷電粒子ビーム装置において、試料上の
異なった視野の複数の映像信号をそれぞれ試料の位置情
報と共に記憶し、記憶した複数の視野の映像信号に基づ
いて複数の試料像を同時に表示させ、表示された複数の
試料像の内の任意の試料像を選択し、選択された試料像
に対応した試料位置に試料を自動的に移動させるように
したことを特徴としている。
【０００８】第１の発明では、試料上の異なった視野の
複数の映像信号をそれぞれ試料の位置情報と共に記憶
し、記憶した複数の視野の映像信号に基づいて複数の試
料像を同時に表示させ、表示された複数の試料像の内の
任意の試料像を選択し、選択された試料像に対応した試
料位置に試料を自動的に移動させるようにしたので、視
野探しを簡単に行うことができる。
複数の映像信号をそれぞれ試料の位置情報と共に記憶
し、記憶した複数の視野の映像信号に基づいて複数の試
料像を同時に表示させ、表示された複数の試料像の内の
任意の試料像を選択し、選択された試料像に対応した試
料位置に試料を自動的に移動させるようにしたので、視
野探しを簡単に行うことができる。
【０００９】第２の発明に基づく走査型荷電粒子ビーム
装置における試料像観察方法は、第１の発明において、
選択された試料像中の任意の位置を指定することによ
り、任意の位置の拡大像を表示するようにした。
装置における試料像観察方法は、第１の発明において、
選択された試料像中の任意の位置を指定することによ
り、任意の位置の拡大像を表示するようにした。
【００１０】第３の発明に基づく走査型荷電粒子ビーム
装置における試料像観察方法は、第２の発明において、
映像信号と共に記憶されている試料の位置情報に回転情
報も含めるようにしたことを特徴としている。
装置における試料像観察方法は、第２の発明において、
映像信号と共に記憶されている試料の位置情報に回転情
報も含めるようにしたことを特徴としている。
【００１１】第４の発明に基づく走査型荷電粒子ビーム
装置における試料像観察方法は、第２の発明において、
表示された複数の試料像の内の任意の試料像を選択する
ことにより、選択された試料像が表示画面の別領域に表
示されるようにしたことを特徴としている。
装置における試料像観察方法は、第２の発明において、
表示された複数の試料像の内の任意の試料像を選択する
ことにより、選択された試料像が表示画面の別領域に表
示されるようにしたことを特徴としている。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。図１は本発明の方法を実施
するための走査電子顕微鏡の一例を示す図であり、図示
していない電子銃から発生し加速された電子ビームＥＢ
は、図示していないコンデンサレンズと対物レンズ１に
よって試料２上に細く集束される。電子ビームは更にＸ
方向の偏向コイル３とＹ方向の偏向コイル４とによって
試料２の所望領域で２次元的に走査される。
施の形態を詳細に説明する。図１は本発明の方法を実施
するための走査電子顕微鏡の一例を示す図であり、図示
していない電子銃から発生し加速された電子ビームＥＢ
は、図示していないコンデンサレンズと対物レンズ１に
よって試料２上に細く集束される。電子ビームは更にＸ
方向の偏向コイル３とＹ方向の偏向コイル４とによって
試料２の所望領域で２次元的に走査される。
【００１３】電子ビームＥＢの試料２への照射によって
発生した２次電子は、２次電子検出器５によって検出さ
れ、検出信号はＡＤ変換器６によってディジタル信号に
変換された後、画像メモリー７に供給されて記憶され
る。画像メモリー７に記憶された信号は読み出され、グ
ラフィック・ユーザー・インターフェイス（ＧＵＩ）８
を介して陰極線管９に供給される。この結果、陰極線管
９には試料の走査像が表示される。
発生した２次電子は、２次電子検出器５によって検出さ
れ、検出信号はＡＤ変換器６によってディジタル信号に
変換された後、画像メモリー７に供給されて記憶され
る。画像メモリー７に記憶された信号は読み出され、グ
ラフィック・ユーザー・インターフェイス（ＧＵＩ）８
を介して陰極線管９に供給される。この結果、陰極線管
９には試料の走査像が表示される。
【００１４】Ｘ方向偏向コイル３にはＸ方向偏向駆動回
路１０から、Ｙ方向偏向コイル４にはＹ方向偏向駆動回
路１１から、電子ビームの走査のための偏向信号が供給
される。Ｘ方向偏向駆動回路１０には、Ｘ方向走査信号
発生回路１２からのＸ方向の走査信号がスキャンローテ
ーション回路１３を介して供給され、Ｙ方向偏向駆動回
路１１には、Ｙ方向走査信号発生回路１４とから発生し
た走査信号が、スキャンローテーション回路１３を介し
て供給される。
路１０から、Ｙ方向偏向コイル４にはＹ方向偏向駆動回
路１１から、電子ビームの走査のための偏向信号が供給
される。Ｘ方向偏向駆動回路１０には、Ｘ方向走査信号
発生回路１２からのＸ方向の走査信号がスキャンローテ
ーション回路１３を介して供給され、Ｙ方向偏向駆動回
路１１には、Ｙ方向走査信号発生回路１４とから発生し
た走査信号が、スキャンローテーション回路１３を介し
て供給される。
【００１５】Ｘ方向走査信号発生回路１２とＹ方向走査
信号発生回路１４とはＣＰＵのごとき制御装置１５によ
って倍率に応じて制御される。すなわち、倍率が高い場
合には走査信号の振幅が小さくされ、倍率が低い場合に
は走査信号の振幅が大きくなるように制御される。ま
た、スキャンローテーション回路１３も制御装置１５に
よって制御される。
信号発生回路１４とはＣＰＵのごとき制御装置１５によ
って倍率に応じて制御される。すなわち、倍率が高い場
合には走査信号の振幅が小さくされ、倍率が低い場合に
は走査信号の振幅が大きくなるように制御される。ま
た、スキャンローテーション回路１３も制御装置１５に
よって制御される。
【００１６】試料２は、回転ステージ１６上に載置され
ており、回転ステージ１６はＸ−Ｙ移動ステージ１７上
に取り付けられている。回転ステージ１６はＲ動駆動回
路１８によってＸ−Ｙステージ１７上で回転させられ
る。また、Ｘ−Ｙ移動ステージ１７は、Ｘ動駆動回路１
９とＹ動駆動回路２０によってＸ−Ｙ方向に移動可能に
構成されている。Ｒ動駆動回路１８、Ｘ動駆動回路１
９、Ｙ動駆動回路２０は、それぞれ制御装置１５によっ
て制御されるステージコントロールユニット２１によっ
て制御される。
ており、回転ステージ１６はＸ−Ｙ移動ステージ１７上
に取り付けられている。回転ステージ１６はＲ動駆動回
路１８によってＸ−Ｙステージ１７上で回転させられ
る。また、Ｘ−Ｙ移動ステージ１７は、Ｘ動駆動回路１
９とＹ動駆動回路２０によってＸ−Ｙ方向に移動可能に
構成されている。Ｒ動駆動回路１８、Ｘ動駆動回路１
９、Ｙ動駆動回路２０は、それぞれ制御装置１５によっ
て制御されるステージコントロールユニット２１によっ
て制御される。
【００１７】制御装置１５には、キーボードやポインテ
ィングデバイス等の操作手段２２が接続されている。ま
た、制御装置１５には、複数枚の画像メモリー２３ａ〜
２３ｎが接続されており、各画像メモリー２３ａ〜２３
ｎには、制御装置１５の制御の下に、画像メモリー７に
記憶された画像が適宜記憶される。
ィングデバイス等の操作手段２２が接続されている。ま
た、制御装置１５には、複数枚の画像メモリー２３ａ〜
２３ｎが接続されており、各画像メモリー２３ａ〜２３
ｎには、制御装置１５の制御の下に、画像メモリー７に
記憶された画像が適宜記憶される。
【００１８】この各画像メモリー２３ａ〜２３ｎには、
画像信号のみでなく画像を取得した際の回転ステージ１
６の回転角度、Ｘ−Ｙステージ１７のＸ−Ｙ座標、スキ
ャンローテーション回路１３による像の回転角度の情報
も、制御装置１５から送られて試料の位置情報として記
憶されている。このような構成の動作を次に説明する。
画像信号のみでなく画像を取得した際の回転ステージ１
６の回転角度、Ｘ−Ｙステージ１７のＸ−Ｙ座標、スキ
ャンローテーション回路１３による像の回転角度の情報
も、制御装置１５から送られて試料の位置情報として記
憶されている。このような構成の動作を次に説明する。
【００１９】２次電子像の観察を行う場合、操作手段２
２によって任意の倍率を設定する。この設定された倍率
に基づき、制御装置１５はＸ方向走査信号発生回路１
２、Ｙ方向走査信号発生回路１４とを制御し、各走査回
路から倍率に応じた走査信号Ｘ，Ｙを発生させる。
２によって任意の倍率を設定する。この設定された倍率
に基づき、制御装置１５はＸ方向走査信号発生回路１
２、Ｙ方向走査信号発生回路１４とを制御し、各走査回
路から倍率に応じた走査信号Ｘ，Ｙを発生させる。
【００２０】Ｘ方向走査信号発生回路１２，Ｙ方向走査
信号発生回路１４からそれぞれ発生した走査信号Ｘ，Ｙ
は、スキャンローテーション回路１３へ送られる。スキ
ャンローテーション回路１３は、制御装置１５から送ら
れる回転角θの情報及び前記走査信号Ｘ，Ｙに基づいて
偏向コイル３，４へ供給する偏向信号Ｈ（＝Ｘcosθ＋
Ｙsinθ）、Ｖ（＝Ｘcosθ−Ｙsinθ）を作成し、駆動
回路１０，１１を介して各偏向向コイル３，４へ供給す
る。
信号発生回路１４からそれぞれ発生した走査信号Ｘ，Ｙ
は、スキャンローテーション回路１３へ送られる。スキ
ャンローテーション回路１３は、制御装置１５から送ら
れる回転角θの情報及び前記走査信号Ｘ，Ｙに基づいて
偏向コイル３，４へ供給する偏向信号Ｈ（＝Ｘcosθ＋
Ｙsinθ）、Ｖ（＝Ｘcosθ−Ｙsinθ）を作成し、駆動
回路１０，１１を介して各偏向向コイル３，４へ供給す
る。
【００２１】上記した走査信号の偏向コイルへの供給に
より、電子ビームＥＢは試料２上の任意の範囲で２次元
的に走査される。試料２への電子ビームＥＢの照射によ
って発生した２次電子は、２次電子検出器５によって検
出される。検出器５の検出信号は、ＡＤ変換器６によっ
てディジタル信号に変換された後、電子ビームの走査に
同期されて画像メモリー７に記憶される。画像メモリー
７に記憶された信号は読み出されて、ディスプレイ表示
の制御を行うＧＵＩ８を介して陰極線管９に供給され
る。この結果、試料の２次電子像が陰極線管９上に表示
されることになる。
より、電子ビームＥＢは試料２上の任意の範囲で２次元
的に走査される。試料２への電子ビームＥＢの照射によ
って発生した２次電子は、２次電子検出器５によって検
出される。検出器５の検出信号は、ＡＤ変換器６によっ
てディジタル信号に変換された後、電子ビームの走査に
同期されて画像メモリー７に記憶される。画像メモリー
７に記憶された信号は読み出されて、ディスプレイ表示
の制御を行うＧＵＩ８を介して陰極線管９に供給され
る。この結果、試料の２次電子像が陰極線管９上に表示
されることになる。
【００２２】ここで、試料２を機械的に回転させて像の
観察を行う場合、操作手段２２を制御して回転量等の指
示を行う。この指示に基づき制御装置１５はステージコ
ントロールユニット２１を介してＲ動駆動回路１８を制
御し、回転ステージ１６を所定量、所定方向に回転させ
る。このような操作により、試料を機械的に回転させて
の像観察が実行される。
観察を行う場合、操作手段２２を制御して回転量等の指
示を行う。この指示に基づき制御装置１５はステージコ
ントロールユニット２１を介してＲ動駆動回路１８を制
御し、回転ステージ１６を所定量、所定方向に回転させ
る。このような操作により、試料を機械的に回転させて
の像観察が実行される。
【００２３】次に試料をＸ−Ｙ方向に機械的に移動させ
る場合、操作手段２２を制御してＸ−Ｙ方向の各移動量
を指示する。この指示に基づき制御装置１５はステージ
コントロールユニット２１を介してＸ動駆動回路１９と
Ｙ動駆動回路２０を制御し、Ｘ−Ｙ移動ステージ１７を
所定量、所定方向に移動させる。このような操作によ
り、試料２を機械的に移動させての像観察が実行され
る。
る場合、操作手段２２を制御してＸ−Ｙ方向の各移動量
を指示する。この指示に基づき制御装置１５はステージ
コントロールユニット２１を介してＸ動駆動回路１９と
Ｙ動駆動回路２０を制御し、Ｘ−Ｙ移動ステージ１７を
所定量、所定方向に移動させる。このような操作によ
り、試料２を機械的に移動させての像観察が実行され
る。
【００２４】次に、試料２の像を電気的に回転させて観
察を行う場合について説明する。操作手段２２を操作し
て、電気的な像回転量θの指示を行う。この指示に基づ
き制御装置１５はスキャンローテーション回路１３へ回
転量θの情報を送る。スキャンローテーション回路１３
は、回転量θに応じたＸ偏向信号ＨとＹ偏向信号Ｖを発
生させる。
察を行う場合について説明する。操作手段２２を操作し
て、電気的な像回転量θの指示を行う。この指示に基づ
き制御装置１５はスキャンローテーション回路１３へ回
転量θの情報を送る。スキャンローテーション回路１３
は、回転量θに応じたＸ偏向信号ＨとＹ偏向信号Ｖを発
生させる。
【００２５】このＸ偏向信号ＨとＹ偏向信号Ｖは、偏向
駆動回路１０，１１を介してＸ偏向コイル３とＹ偏向コ
イル４に供給されることから、試料２上の電子ビームＥ
Ｂの２次元走査方向はθ回転することになり、陰極線管
９上ではθ回転した状態で像の観察を行うことができ
る。
駆動回路１０，１１を介してＸ偏向コイル３とＹ偏向コ
イル４に供給されることから、試料２上の電子ビームＥ
Ｂの２次元走査方向はθ回転することになり、陰極線管
９上ではθ回転した状態で像の観察を行うことができ
る。
【００２６】次に視野探しの動作について説明する。視
野探しモードの場合、あらかじめ試料２の複数の領域で
低倍像の取得を行う。この場合、試料２をＸ−Ｙ方向に
移動させ、更に必要に応じて試料２を機械的あるいはス
キャンローテーションにより回転させる。
野探しモードの場合、あらかじめ試料２の複数の領域で
低倍像の取得を行う。この場合、試料２をＸ−Ｙ方向に
移動させ、更に必要に応じて試料２を機械的あるいはス
キャンローテーションにより回転させる。
【００２７】各領域ごとに取得された画像信号は、その
都度制御装置１５の制御に基づき画像メモリー７から画
像メモリー２３のいずれかのメモリーに送られて記憶さ
れる。この画像メモリー２３ａ〜２３ｎへの画像の記憶
の際には、取得した低倍像に対応した試料のＸ−Ｙ座
標、および、像を回転させた場合にはその回転角度と方
向が併せて記憶される。
都度制御装置１５の制御に基づき画像メモリー７から画
像メモリー２３のいずれかのメモリーに送られて記憶さ
れる。この画像メモリー２３ａ〜２３ｎへの画像の記憶
の際には、取得した低倍像に対応した試料のＸ−Ｙ座
標、および、像を回転させた場合にはその回転角度と方
向が併せて記憶される。
【００２８】例えば、図２に示す試料２の内、点線の四
角で囲った４つの領域Ｒ１〜Ｒ４の領域で電子ビームの
走査が行われ、この４つの領域Ｒ１〜Ｒ４の走査に基づ
いて検出器５で検出された信号が、画像メモリー２３ａ
〜２３ｄにそれぞれ供給されて記憶される。このとき、
各領域のＸ−Ｙ座標の値、例えば、それぞれの領域の中
心位置Ｃ１〜Ｃ４の座標値が画像メモリー２３ａ〜２３
ｄに記憶される。
角で囲った４つの領域Ｒ１〜Ｒ４の領域で電子ビームの
走査が行われ、この４つの領域Ｒ１〜Ｒ４の走査に基づ
いて検出器５で検出された信号が、画像メモリー２３ａ
〜２３ｄにそれぞれ供給されて記憶される。このとき、
各領域のＸ−Ｙ座標の値、例えば、それぞれの領域の中
心位置Ｃ１〜Ｃ４の座標値が画像メモリー２３ａ〜２３
ｄに記憶される。
【００２９】視野探しモードの場合、制御装置１５の制
御に基づき、各画像メモリー２３ａ〜２３ｄに記憶され
た各映像信号はＧＵＩ８によって読み出され、陰極線管
９に供給される。このとき、４つの映像信号に基づく試
料像は陰極線管９の別の領域に表示される。図３は表示
の一例を示しており、陰極線管９の画面の右下に４つの
映像信号に基づく低倍率の試料像Ｄ１〜Ｄ４が表示され
る。
御に基づき、各画像メモリー２３ａ〜２３ｄに記憶され
た各映像信号はＧＵＩ８によって読み出され、陰極線管
９に供給される。このとき、４つの映像信号に基づく試
料像は陰極線管９の別の領域に表示される。図３は表示
の一例を示しており、陰極線管９の画面の右下に４つの
映像信号に基づく低倍率の試料像Ｄ１〜Ｄ４が表示され
る。
【００３０】陰極線管９の画面の右上には、選択像表示
領域Ｄ０が設けられている。この選択像表示領域Ｄ０に
表示される低倍率像は、４つの試料像Ｄ１〜Ｄ４の内か
ら選択して表示される。この選択を行う場合、例えば、
操作手段に含まれるマウスによって、選択したい試料像
（Ｄ１〜Ｄ４までの試料像のいずれか）の表示領域にカ
ーソルを移動させ、ドラッグ機能を用いて選択した試料
像を選択像表示領域Ｄ０に表示させれば良い。また、選
択したい試料像の表示領域にカーソルを移動させ、マウ
スをダブルクリックすることにより、選択した試料像を
選択像表示領域Ｄ０に表示させるように構成しても良
い。
領域Ｄ０が設けられている。この選択像表示領域Ｄ０に
表示される低倍率像は、４つの試料像Ｄ１〜Ｄ４の内か
ら選択して表示される。この選択を行う場合、例えば、
操作手段に含まれるマウスによって、選択したい試料像
（Ｄ１〜Ｄ４までの試料像のいずれか）の表示領域にカ
ーソルを移動させ、ドラッグ機能を用いて選択した試料
像を選択像表示領域Ｄ０に表示させれば良い。また、選
択したい試料像の表示領域にカーソルを移動させ、マウ
スをダブルクリックすることにより、選択した試料像を
選択像表示領域Ｄ０に表示させるように構成しても良
い。
【００３１】上記ステップにより、選択した試料像を選
択像表示領域Ｄ０に表示させると同時に、制御装置１５
は選択した試料像が記憶されている画像メモリー２３か
ら、選択した試料像の位置情報を読み出す。例えば、選
択した試料像がＤ２の場合、画像メモリー２３ｂから試
料領域Ｒ２の中心位置Ｃ２の座標値を読み出す。
択像表示領域Ｄ０に表示させると同時に、制御装置１５
は選択した試料像が記憶されている画像メモリー２３か
ら、選択した試料像の位置情報を読み出す。例えば、選
択した試料像がＤ２の場合、画像メモリー２３ｂから試
料領域Ｒ２の中心位置Ｃ２の座標値を読み出す。
【００３２】制御装置１５は、読み出した座標値に基づ
き、ステージコントロールユニット２１を制御し、Ｘ動
駆動回路１９、Ｙ動駆動回路２０によってＸ−Ｙステー
ジ１７を駆動し、試料２の位置Ｃ２が電子ビームの光軸
上に位置するようにステージを移動させる。
き、ステージコントロールユニット２１を制御し、Ｘ動
駆動回路１９、Ｙ動駆動回路２０によってＸ−Ｙステー
ジ１７を駆動し、試料２の位置Ｃ２が電子ビームの光軸
上に位置するようにステージを移動させる。
【００３３】ここで、４つの試料像Ｄ１〜Ｄ４が試料の
Ｘ−Ｙ方向の移動のみではなく、回転ステージ１６の回
転によって回転させられている場合、あるいはスキャン
ローテーション回路１３によって回転させられている場
合、各画像メモリー２３には試料のＸ−Ｙ座標と共に回
転の角度が試料の位置情報として記憶される。そして、
試料像を選択した際には、Ｘ−Ｙ座標値と共に回転の情
報も読み出される。この回転の情報に基づき、Ｒ動駆動
回路１８によって回転ステージ１６が駆動され、選択さ
れた試料像の映像信号が取得されたときと同じ状態に試
料２がセットされる。
Ｘ−Ｙ方向の移動のみではなく、回転ステージ１６の回
転によって回転させられている場合、あるいはスキャン
ローテーション回路１３によって回転させられている場
合、各画像メモリー２３には試料のＸ−Ｙ座標と共に回
転の角度が試料の位置情報として記憶される。そして、
試料像を選択した際には、Ｘ−Ｙ座標値と共に回転の情
報も読み出される。この回転の情報に基づき、Ｒ動駆動
回路１８によって回転ステージ１６が駆動され、選択さ
れた試料像の映像信号が取得されたときと同じ状態に試
料２がセットされる。
【００３４】選択像表示領域Ｄ０に拡大像を観察したい
領域を表示した後、この領域に表示された像に基づき拡
大像の観察位置の選択が行われる。拡大像の選択は、例
えば、領域Ｄ０の表示像中の任意の位置にカーソルを移
動させ、その位置でマウスをクリックすることにより行
う。このような操作により、制御装置１５は選択された
試料上の位置が電子ビームの光軸上にくるように、ステ
ージコントロールユニット２１を制御する。
領域を表示した後、この領域に表示された像に基づき拡
大像の観察位置の選択が行われる。拡大像の選択は、例
えば、領域Ｄ０の表示像中の任意の位置にカーソルを移
動させ、その位置でマウスをクリックすることにより行
う。このような操作により、制御装置１５は選択された
試料上の位置が電子ビームの光軸上にくるように、ステ
ージコントロールユニット２１を制御する。
【００３５】この試料位置の制御と同時に、制御装置１
５は、操作手段２２によって設定された拡大像の倍率に
基づきＸ方向走査信号発生回路１２とＹ方向走査信号発
生回路１４を制御する。この結果、陰極線管９のメイン
の画面上には、選択した試料部分の拡大像が表示される
ことになる。
５は、操作手段２２によって設定された拡大像の倍率に
基づきＸ方向走査信号発生回路１２とＹ方向走査信号発
生回路１４を制御する。この結果、陰極線管９のメイン
の画面上には、選択した試料部分の拡大像が表示される
ことになる。
【００３６】図４は拡大像が表示された例を示した図で
あり、陰極線管９の表示画面の右上には選択像表示領域
Ｄ０が表示されている。この領域Ｄ０に表示された試料
像中の任意の点を指示すると、その点を中心とした指定
倍率の拡大像が画面９に表示される。このとき、領域Ｄ
０の低倍像中の拡大像に対応する領域には枠３０が表示
され、観察している拡大像の位置がオペレータに認識さ
れるように構成されている。なお、陰極線管画面の左下
には、拡大像の倍率が表示される。
あり、陰極線管９の表示画面の右上には選択像表示領域
Ｄ０が表示されている。この領域Ｄ０に表示された試料
像中の任意の点を指示すると、その点を中心とした指定
倍率の拡大像が画面９に表示される。このとき、領域Ｄ
０の低倍像中の拡大像に対応する領域には枠３０が表示
され、観察している拡大像の位置がオペレータに認識さ
れるように構成されている。なお、陰極線管画面の左下
には、拡大像の倍率が表示される。
【００３７】以上本発明の実施の形態を詳述したが、本
発明はこの形態に限定されない。例えば、走査電子顕微
鏡を例にして説明したが、イオンビームを走査して試料
の走査像を得る装置にも本発明を適用することができ
る。また、２次電子を検出するようにしたが、反射電子
を検出しても良い。
発明はこの形態に限定されない。例えば、走査電子顕微
鏡を例にして説明したが、イオンビームを走査して試料
の走査像を得る装置にも本発明を適用することができ
る。また、２次電子を検出するようにしたが、反射電子
を検出しても良い。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明では、試料
上の異なった視野の複数の映像信号をそれぞれ試料の位
置情報と共に記憶し、記憶した複数の視野の映像信号に
基づいて複数の試料像を同時に表示させ、表示された複
数の試料像の内の任意の試料像を選択し、選択された試
料像に対応した試料位置に試料を自動的に移動させるよ
うにしたので、視野探しを簡単に行うことができる。
上の異なった視野の複数の映像信号をそれぞれ試料の位
置情報と共に記憶し、記憶した複数の視野の映像信号に
基づいて複数の試料像を同時に表示させ、表示された複
数の試料像の内の任意の試料像を選択し、選択された試
料像に対応した試料位置に試料を自動的に移動させるよ
うにしたので、視野探しを簡単に行うことができる。
【図１】本発明に基づく方法を実施するための走査電子
顕微鏡の一例を示す図である。
顕微鏡の一例を示す図である。
【図２】試料中の記憶された低倍像の領域を示す図であ
る。
る。
【図３】陰極線管の表示画面の一例を示す図である。
【図４】陰極線管の表示画面の一例を示す図である。
１ 対物レンズ ２ 試料 ３，４ 偏向コイル ５ ２次電子検出器 ６ ＡＤ変換器 ７ 画像メモリー ８ グラフィック・ユーザー・インターフェイス ９ 陰極線管 １０，１１ 偏向駆動回路 １２，１４ 走査信号発生回路 １３ スキャンローテーション回路 １５ 制御装置 １６ 回転ステージ １７ Ｘ−Ｙ移動ステージ １８，１９，２０ ステージ駆動回路 ２１ ステージコントロールユニット ２２ 操作手段 ２３ 画像メモリー
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小林 利治 東京都昭島市武蔵野三丁目１番２号 日本 電子株式会社内 (72)発明者 渡部 紀夫 東京都昭島市武蔵野三丁目１番２号 日本 電子株式会社内 Ｆターム(参考） 2F067 AA45 AA46 AA53 EE05 EE10 HH06 JJ05 KK04 NN02 PP12 QQ02 RR12 RR30 SS02 SS13 TT01 UU32 2G001 AA03 AA05 BA07 CA03 FA06 GA04 GA06 HA13 JA02 JA03 JA11 JA13 JA20 PA11 PA13 SA12 5C001 AA03 AA04 AA05 CC04
Claims (4)
- 【請求項１】 機械的なＸ−Ｙ移動、回転ができるステ
ージ上の試料に荷電粒子ビームを照射すると共に、試料
上で荷電粒子ビームを２次元的に走査し、試料への荷電
粒子ビームの照射によって得られた信号に基づき試料の
走査像を表示するようにした走査型荷電粒子ビーム装置
において、試料上の異なった視野の複数の映像信号をそ
れぞれ試料の位置情報と共に記憶し、記憶した複数の視
野の映像信号に基づいて複数の試料像を同時に表示さ
せ、表示された複数の試料像の内の任意の試料像を選択
し、選択された試料像に対応した試料位置に試料を自動
的に移動させるようにした走査型荷電粒子ビーム装置に
おける試料像観察方法。 - 【請求項２】 選択された試料像中の任意の位置を指定
することにより、任意の位置の拡大像が表示される請求
項１記載の走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観
察方法。 - 【請求項３】 映像信号と共に記憶されている試料の位
置情報に回転情報も含めた請求項１記載の走査型荷電粒
子ビーム装置における試料像観察方法。 - 【請求項４】 表示された複数の試料像の内の任意の試
料像を選択することにより、選択された試料像が表示画
面の別領域に表示される請求項１記載の走査型荷電粒子
ビーム装置における試料像観察方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11166731A JP2000357481A (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | 走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法 |
| DE60015859T DE60015859T2 (de) | 1999-06-14 | 2000-06-13 | Raster-Ladungsträgerstrahlgerät und Verfahren zur Beobachtung von Probenbildern mittels einem solchen Gerät |
| EP00305000A EP1061551B1 (en) | 1999-06-14 | 2000-06-13 | Scanning charged-particle beam instrument and method of observing specimen image therewith |
| US09/593,867 US6888137B1 (en) | 1999-06-14 | 2000-06-14 | Instrument and method for observing selected stored images acquired from a scanning charged-particle beam |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11166731A JP2000357481A (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | 走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000357481A true JP2000357481A (ja) | 2000-12-26 |
Family
ID=15836712
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11166731A Pending JP2000357481A (ja) | 1999-06-14 | 1999-06-14 | 走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6888137B1 (ja) |
| EP (1) | EP1061551B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000357481A (ja) |
| DE (1) | DE60015859T2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002365247A (ja) * | 2001-06-07 | 2002-12-18 | Shimadzu Corp | 観察像制御装置 |
| JP2003303567A (ja) * | 2002-04-11 | 2003-10-24 | Keyence Corp | 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体 |
| JP2004158364A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-03 | Keyence Corp | 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡の操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体 |
| JP2004158365A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-03 | Keyence Corp | 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡の操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体 |
| JP2004158358A (ja) * | 2002-11-07 | 2004-06-03 | Keyence Corp | 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡の操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体 |
| JP2007127601A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Shimadzu Corp | Ｘ線検査装置 |
| WO2014192465A1 (ja) * | 2013-05-27 | 2014-12-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡および電子顕微鏡制御方法 |
| JP2017084483A (ja) * | 2015-10-23 | 2017-05-18 | 日本電子株式会社 | キャリブレーション方法および荷電粒子線装置 |
| KR20190056966A (ko) * | 2017-11-17 | 2019-05-27 | 가부시키가이샤 히타치 하이테크 사이언스 | 하전 입자 빔 장치 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10041165B4 (de) | 2000-08-21 | 2005-07-07 | Leica Microsystems Heidelberg Gmbh | Verfahren und Anordnung zur Steuerung von Analyse- und Einstellvorgängen eines Mikroskops |
| US8089485B2 (en) * | 2007-07-17 | 2012-01-03 | Prometech Software, Inc. | Method for constructing data structure used for proximate particle search, program for the same, and storage medium for storing program |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2760786B2 (ja) * | 1987-03-18 | 1998-06-04 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡およびその試料台移動方法 |
| JP2869827B2 (ja) * | 1991-09-17 | 1999-03-10 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡 |
| JP3230911B2 (ja) * | 1993-11-04 | 2001-11-19 | 株式会社日立製作所 | 走査電子顕微鏡及びその画像形成方法 |
| JPH07130321A (ja) | 1993-11-05 | 1995-05-19 | Hitachi Ltd | 走査形電子顕微鏡 |
| US5834774A (en) | 1996-07-24 | 1998-11-10 | Jeol Ltd. | Scanning electron microscope |
| JPH10172490A (ja) * | 1996-12-10 | 1998-06-26 | Hitachi Ltd | 走査電子顕微鏡 |
| JPH11110532A (ja) * | 1997-09-29 | 1999-04-23 | Nikon Corp | 画像表示方法及び装置、並びにこれを用いた走査型プローブ顕微鏡 |
| JP4014916B2 (ja) * | 2002-04-11 | 2007-11-28 | 株式会社キーエンス | 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体 |
-
1999
- 1999-06-14 JP JP11166731A patent/JP2000357481A/ja active Pending
-
2000
- 2000-06-13 DE DE60015859T patent/DE60015859T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-13 EP EP00305000A patent/EP1061551B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-06-14 US US09/593,867 patent/US6888137B1/en not_active Expired - Lifetime
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| JP2003303567A (ja) * | 2002-04-11 | 2003-10-24 | Keyence Corp | 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体 |
| JP2004158358A (ja) * | 2002-11-07 | 2004-06-03 | Keyence Corp | 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡の操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体 |
| JP2004158364A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-03 | Keyence Corp | 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡の操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体 |
| JP2004158365A (ja) * | 2002-11-08 | 2004-06-03 | Keyence Corp | 電子顕微鏡、電子顕微鏡の操作方法、電子顕微鏡の操作プログラムおよびコンピュータで読み取り可能な記録媒体 |
| JP4622814B2 (ja) * | 2005-11-07 | 2011-02-02 | 株式会社島津製作所 | Ｘ線検査装置 |
| JP2007127601A (ja) * | 2005-11-07 | 2007-05-24 | Shimadzu Corp | Ｘ線検査装置 |
| WO2014192465A1 (ja) * | 2013-05-27 | 2014-12-04 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡および電子顕微鏡制御方法 |
| JP2014229587A (ja) * | 2013-05-27 | 2014-12-08 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 電子顕微鏡および電子顕微鏡制御方法 |
| JP2017084483A (ja) * | 2015-10-23 | 2017-05-18 | 日本電子株式会社 | キャリブレーション方法および荷電粒子線装置 |
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| CN109817502A (zh) * | 2017-11-17 | 2019-05-28 | 日本株式会社日立高新技术科学 | 带电粒子束装置 |
| JP2019096395A (ja) * | 2017-11-17 | 2019-06-20 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
| CN109817502B (zh) * | 2017-11-17 | 2023-07-25 | 日本株式会社日立高新技术科学 | 带电粒子束装置 |
| KR102646112B1 (ko) | 2017-11-17 | 2024-03-12 | 가부시키가이샤 히타치 하이테크 사이언스 | 하전 입자 빔 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP1061551A3 (en) | 2001-04-18 |
| DE60015859D1 (de) | 2004-12-23 |
| EP1061551B1 (en) | 2004-11-17 |
| EP1061551A2 (en) | 2000-12-20 |
| DE60015859T2 (de) | 2005-12-01 |
| US6888137B1 (en) | 2005-05-03 |
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