JP2000344866A - 平坦化膜用硬化性組成物および平坦化膜 - Google Patents
平坦化膜用硬化性組成物および平坦化膜Info
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/24—Acids; Salts thereof
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L2205/00—Polymer mixtures characterised by other features
- C08L2205/02—Polymer mixtures characterised by other features containing two or more polymers of the same C08L -group
Abstract
(57)【要約】
【課題】 表面の平坦性が低い基体であっても、その基
体上に、平坦性の高い硬化膜を形成することができ、し
かも、表面硬度が高く、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性
などの各種の耐性に優れた硬化膜を形成することができ
る平坦化膜用硬化性組成物を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）下記式（１） 【化１】〔式中、Ｒ1は、水素原子または炭素原子数１
〜５のアルキル基を示し、Ｒ2は、水素原子または炭素
原子数１〜２のアルキル基を示し、ｍは１〜８の整数を
示す。〕で表される構造単位を２０モル％以上含有して
なる重合体または共重合体と、（Ｂ）エポキシ樹脂と、
（Ｃ）熱あるいは放射線により酸を発生する化合物とを
含有してなる平坦化膜用硬化性組成物。
体上に、平坦性の高い硬化膜を形成することができ、し
かも、表面硬度が高く、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性
などの各種の耐性に優れた硬化膜を形成することができ
る平坦化膜用硬化性組成物を提供すること。 【解決手段】 （Ａ）下記式（１） 【化１】〔式中、Ｒ1は、水素原子または炭素原子数１
〜５のアルキル基を示し、Ｒ2は、水素原子または炭素
原子数１〜２のアルキル基を示し、ｍは１〜８の整数を
示す。〕で表される構造単位を２０モル％以上含有して
なる重合体または共重合体と、（Ｂ）エポキシ樹脂と、
（Ｃ）熱あるいは放射線により酸を発生する化合物とを
含有してなる平坦化膜用硬化性組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、平坦化膜用硬化性
組成物およ平坦化膜に関する。さらに詳しくは、液晶表
示素子（ＬＣＤ）用カラーフィルターおよび電荷結合素
子（ＣＣＤ）用カラーフィルターに用いられる保護膜を
形成するための材料として好適な平坦化膜用硬化性組成
物および平坦化膜に関する。
組成物およ平坦化膜に関する。さらに詳しくは、液晶表
示素子（ＬＣＤ）用カラーフィルターおよび電荷結合素
子（ＣＣＤ）用カラーフィルターに用いられる保護膜を
形成するための材料として好適な平坦化膜用硬化性組成
物および平坦化膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＣＤやＣＣＤ等の放射線デバイスは、
その製造工程中に、溶剤、酸またはアルカリ溶液等によ
る表示素子の浸漬処理が行なわれ、また、スパッタリン
グにより配線電極層を形成する際には、素子表面が局部
的に高温に曝される。従って、このような処理によって
素子が劣化あるいは損傷することを防止するために、こ
れらの処理に対して耐性を有する薄膜からなる保護膜を
素子の表面に設けることが行なわれている。
その製造工程中に、溶剤、酸またはアルカリ溶液等によ
る表示素子の浸漬処理が行なわれ、また、スパッタリン
グにより配線電極層を形成する際には、素子表面が局部
的に高温に曝される。従って、このような処理によって
素子が劣化あるいは損傷することを防止するために、こ
れらの処理に対して耐性を有する薄膜からなる保護膜を
素子の表面に設けることが行なわれている。
【０００３】このような保護膜は、当該保護膜を形成す
べき基体または下層、さらに保護膜上に形成される層に
対して接着性が高いものであること、膜自体が平滑で強
靱であること、透明性を有するものであること、耐熱性
および耐光性が高く、長期間にわたって着色、黄変、白
化等の変質を起こさないものであること、耐水性、耐溶
剤性、耐酸性および耐アルカリ性に優れたものであるこ
と等の性能が要求される。これらの諸特性を満たす保護
膜を形成するための材料としては、特開平５−７８４５
３号公報に開示されているグリシジル基を有する重合体
を含む熱硬化性組成物が知られている。
べき基体または下層、さらに保護膜上に形成される層に
対して接着性が高いものであること、膜自体が平滑で強
靱であること、透明性を有するものであること、耐熱性
および耐光性が高く、長期間にわたって着色、黄変、白
化等の変質を起こさないものであること、耐水性、耐溶
剤性、耐酸性および耐アルカリ性に優れたものであるこ
と等の性能が要求される。これらの諸特性を満たす保護
膜を形成するための材料としては、特開平５−７８４５
３号公報に開示されているグリシジル基を有する重合体
を含む熱硬化性組成物が知られている。
【０００４】このような熱硬化性組成物においては、例
えば次のようにして保護膜が形成される。先ず、保護膜
を形成すべき基体の表面に熱硬化性組成物を塗布する。
次いで、塗布された熱硬化性組成物の予備焼成（プレベ
ーク）を行い、その後、本焼成（ポストベーク）を行う
ことにより、保護膜が形成される。
えば次のようにして保護膜が形成される。先ず、保護膜
を形成すべき基体の表面に熱硬化性組成物を塗布する。
次いで、塗布された熱硬化性組成物の予備焼成（プレベ
ーク）を行い、その後、本焼成（ポストベーク）を行う
ことにより、保護膜が形成される。
【０００５】一方、スーパーツイステッドネマチック
（ＳＴＮ）方式のカラー液晶表示素子においては、ツイ
ステッドネマチック（ＴＮ）方式の液晶表示素子と比較
して、セルギャップの均一性が極めて重要である。従っ
て、ＳＴＮ方式のカラー液晶表示素子に用いられる基板
としては、その表面の平坦性が高いものであることが要
求される。その理由は、表面の平坦性が低い基板を用い
ると、得られる液晶表示素子には、表示むらが発生する
からである。また、アクティブアドレッシング方式等の
新型駆動方式を採用すると、従来のＳＴＮ方式のものよ
りも高い表示速度が得られ、それに伴って、更に薄くて
均一性の高いセルギャップが必要となることから、この
ような液晶表示素子に用いられる基板には、表面の平坦
性が極めて高いものであることが要求される。
（ＳＴＮ）方式のカラー液晶表示素子においては、ツイ
ステッドネマチック（ＴＮ）方式の液晶表示素子と比較
して、セルギャップの均一性が極めて重要である。従っ
て、ＳＴＮ方式のカラー液晶表示素子に用いられる基板
としては、その表面の平坦性が高いものであることが要
求される。その理由は、表面の平坦性が低い基板を用い
ると、得られる液晶表示素子には、表示むらが発生する
からである。また、アクティブアドレッシング方式等の
新型駆動方式を採用すると、従来のＳＴＮ方式のものよ
りも高い表示速度が得られ、それに伴って、更に薄くて
均一性の高いセルギャップが必要となることから、この
ような液晶表示素子に用いられる基板には、表面の平坦
性が極めて高いものであることが要求される。
【０００６】然るに、例えばカラーフィルターが形成さ
れた基板においては、その表面にカラーフィルターによ
る凹凸が形成される。そして、従来の熱硬化性組成物を
用いて、カラーフィルターが形成された表面上に保護膜
を形成する場合には、当該熱硬化性組成物の塗布工程お
よび予備焼成工程においては、表面の平坦性の高い塗膜
を形成することができるが、本焼成工程においては、比
較的高い温度で処理されるので、熱硬化性組成物の塗膜
が流動化し、これにより、当該塗膜の表面はカラーフィ
ルターによる凹凸に応じて変形し、表面の平坦性の高い
硬化膜を得ることは困難である。
れた基板においては、その表面にカラーフィルターによ
る凹凸が形成される。そして、従来の熱硬化性組成物を
用いて、カラーフィルターが形成された表面上に保護膜
を形成する場合には、当該熱硬化性組成物の塗布工程お
よび予備焼成工程においては、表面の平坦性の高い塗膜
を形成することができるが、本焼成工程においては、比
較的高い温度で処理されるので、熱硬化性組成物の塗膜
が流動化し、これにより、当該塗膜の表面はカラーフィ
ルターによる凹凸に応じて変形し、表面の平坦性の高い
硬化膜を得ることは困難である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、以上のよう
な事情に基づいてなされたものであって、その目的は、
表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に、平
坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、表面
硬度が高く、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性などの各種
の耐性に優れた硬化膜を形成することができる平坦化膜
用硬化性組成物および平坦化膜を提供することにある。
本発明の他の目的および利点は、以下の説明から明らか
になろう。
な事情に基づいてなされたものであって、その目的は、
表面の平坦性が低い基体であっても、当該基体上に、平
坦性の高い硬化膜を形成することができ、しかも、表面
硬度が高く、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性などの各種
の耐性に優れた硬化膜を形成することができる平坦化膜
用硬化性組成物および平坦化膜を提供することにある。
本発明の他の目的および利点は、以下の説明から明らか
になろう。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、本発明
の上記目的および利点は、第１に、（Ａ）下記式（１）
の上記目的および利点は、第１に、（Ａ）下記式（１）
【化２】 〔式中、Ｒ1は、水素原子または炭素原子数１〜５のア
ルキル基を示し、Ｒ2は、水素原子または炭素原子数１
〜２のアルキル基を示し、ｍは１〜８の整数を示す。〕
で表される構造単位を２０モル％以上含有してなる重合
体または共重合体と、（Ｂ）（Ａ）成分以外のエポキシ
樹脂と、（Ｃ）熱あるいは放射線により酸を発生する化
合物とを含有してなることを特徴とする平坦化膜用硬化
性組成物によって達成される。
ルキル基を示し、Ｒ2は、水素原子または炭素原子数１
〜２のアルキル基を示し、ｍは１〜８の整数を示す。〕
で表される構造単位を２０モル％以上含有してなる重合
体または共重合体と、（Ｂ）（Ａ）成分以外のエポキシ
樹脂と、（Ｃ）熱あるいは放射線により酸を発生する化
合物とを含有してなることを特徴とする平坦化膜用硬化
性組成物によって達成される。
【０００９】作用 本発明の硬化性組成物は、エポキシ化合物および熱ある
いは放射線により酸を発生する化合物を含有しているの
で、加熱あるいは放射線を照射することにより硬化させ
ることができる。従って、本焼成を行う前に、硬化性組
成物の塗膜の低温加熱あるいは放射線の照射により、当
該塗膜の表面を硬化させることにより、本焼成において
塗膜が流動化することを防止でき、その結果、表面の平
坦性が高い硬化膜を形成することができる。
いは放射線により酸を発生する化合物を含有しているの
で、加熱あるいは放射線を照射することにより硬化させ
ることができる。従って、本焼成を行う前に、硬化性組
成物の塗膜の低温加熱あるいは放射線の照射により、当
該塗膜の表面を硬化させることにより、本焼成において
塗膜が流動化することを防止でき、その結果、表面の平
坦性が高い硬化膜を形成することができる。
【００１０】以下、本発明の硬化性組成物について詳細
に説明する。本発明の硬化性組成物は、特定の構造単位
を特定の割合で含有する重合体または共重合体（以下、
「特定重合体」という。）よりなる成分（Ａ）と、エポ
キシ樹脂よりなる成分（Ｂ）と、熱あるいは放射線によ
り酸を発生する化合物（Ｃ）とを含有してなるものであ
る。
に説明する。本発明の硬化性組成物は、特定の構造単位
を特定の割合で含有する重合体または共重合体（以下、
「特定重合体」という。）よりなる成分（Ａ）と、エポ
キシ樹脂よりなる成分（Ｂ）と、熱あるいは放射線によ
り酸を発生する化合物（Ｃ）とを含有してなるものであ
る。
【００１１】＜成分（Ａ）＞成分（Ａ）として用いられ
る特定重合体は、上記式（１）で表される構造単位を含
有してなるものである。上記式（１）において、ｍは１
〜８、好ましくは１〜４の整数である。また、Ｒ1 は、
水素原子または炭素原子数が１〜５のアルキル基であ
る。このアルキル基は、直鎖状のものおよび分岐鎖状の
ものの何れであってもよく、その具体例としては、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基およびｎ−ペンチル基を挙げることができ
る。さらにＲ2は水素原子、メチル基またはエチル基で
ある。
る特定重合体は、上記式（１）で表される構造単位を含
有してなるものである。上記式（１）において、ｍは１
〜８、好ましくは１〜４の整数である。また、Ｒ1 は、
水素原子または炭素原子数が１〜５のアルキル基であ
る。このアルキル基は、直鎖状のものおよび分岐鎖状の
ものの何れであってもよく、その具体例としては、メチ
ル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ
−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒ
ｔ−ブチル基およびｎ−ペンチル基を挙げることができ
る。さらにＲ2は水素原子、メチル基またはエチル基で
ある。
【００１２】式（１）で表される構造単位を導入するた
めに使用される単量体（以下、「特定単量体」ともい
う。）は、下記式（２）
めに使用される単量体（以下、「特定単量体」ともい
う。）は、下記式（２）
【００１３】
【化３】 式中、Ｒ1、Ｒ2およびｍの定義は上記式（１）に同じで
ある、
ある、
【００１４】で表される。上記式（２）で表される単量
体としては、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、α
−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアク
リル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジ
ル、（メタ）アクリル酸−３,４−エポキシブチル、
（メタ）アクリル酸−４,５−エポキシペンチル、（メ
タ）アクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、α−エチ
ルアクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、（メタ）ア
クリル酸メチルグリシジル等を挙げることができる。こ
れらの中で、特に（メタ）アクリル酸グリシジルが好ま
しい。これらの単量体は、単独でまたは２種以上を組み
合わせて使用することができる。
体としては、例えば（メタ）アクリル酸グリシジル、α
−エチルアクリル酸グリシジル、α−ｎ−プロピルアク
リル酸グリシジル、α−ｎ−ブチルアクリル酸グリシジ
ル、（メタ）アクリル酸−３,４−エポキシブチル、
（メタ）アクリル酸−４,５−エポキシペンチル、（メ
タ）アクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、α−エチ
ルアクリル酸−６,７−エポキシヘプチル、（メタ）ア
クリル酸メチルグリシジル等を挙げることができる。こ
れらの中で、特に（メタ）アクリル酸グリシジルが好ま
しい。これらの単量体は、単独でまたは２種以上を組み
合わせて使用することができる。
【００１５】成分（Ａ）として用いられる特定重合体
は、上記式（１）で表される構造単位のみからなる重合
体であってもよい。式（１）で表される構造単位以外の
構造単位を、８０モル％以下、好ましくは５〜６０モル
％、より好ましくは２０〜５０モル％の割合で含有する
ことができる。
は、上記式（１）で表される構造単位のみからなる重合
体であってもよい。式（１）で表される構造単位以外の
構造単位を、８０モル％以下、好ましくは５〜６０モル
％、より好ましくは２０〜５０モル％の割合で含有する
ことができる。
【００１６】成分（Ａ）として用いられる特定重合体
は、上記式（１）で表される構造単位のみからなる重合
体であってもよい。式（１）で表される構造単位以外の
構造単位を、好ましくは７０モル％以下、より好ましく
は５〜６０モル％、特に好ましくは２０〜５０モル％の
割合で含有することができる。
は、上記式（１）で表される構造単位のみからなる重合
体であってもよい。式（１）で表される構造単位以外の
構造単位を、好ましくは７０モル％以下、より好ましく
は５〜６０モル％、特に好ましくは２０〜５０モル％の
割合で含有することができる。
【００１７】式（１）で表される構造単位以外の構造単
位を導入するための単量体（以下、「その他の単量体」
ともいう。）としては、例えば（メタ）アクリル酸メチ
ル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブ
チル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メ
タ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸シクロヘ
キシル、（メタ）アクリル酸トリシクロ［５.２.１.０
2,6］デカン−８−イル（当該技術分野で慣用名として
（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルといわれてい
る）、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエ
チル、（メタ）アクリル酸イソボニル等の（メタ）アク
リル酸エテスル；スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−
メチルスチレン、ビニルナフタレン等のビニル芳香族系
化合物、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミ
ド、ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−
マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−
マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マ
レイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マ
レイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マ
レイミド等のマレイミド化合物を挙げることができる。
これらの単量体は、単独でまたは２種以上を組み合わせ
て使用することができる。
位を導入するための単量体（以下、「その他の単量体」
ともいう。）としては、例えば（メタ）アクリル酸メチ
ル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブ
チル、（メタ）アクリル酸−２−エチルヘキシル、（メ
タ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸シクロヘ
キシル、（メタ）アクリル酸トリシクロ［５.２.１.０
2,6］デカン−８−イル（当該技術分野で慣用名として
（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルといわれてい
る）、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエ
チル、（メタ）アクリル酸イソボニル等の（メタ）アク
リル酸エテスル；スチレン、α−メチルスチレン、ｐ−
メチルスチレン、ビニルナフタレン等のビニル芳香族系
化合物、フェニルマレイミド、シクロヘキシルマレイミ
ド、ベンジルマレイミド、Ｎ−スクシンイミジル−３−
マレイミドベンゾエート、Ｎ−スクシンイミジル−４−
マレイミドブチレート、Ｎ−スクシンイミジル−６−マ
レイミドカプロエート、Ｎ−スクシンイミジル−３−マ
レイミドプロピオネート、Ｎ−（９−アクリジニル）マ
レイミド等のマレイミド化合物を挙げることができる。
これらの単量体は、単独でまたは２種以上を組み合わせ
て使用することができる。
【００１８】成分（Ａ）として用いられる特定重合体の
分子量は、得られる硬化性組成物の溶液を塗布すること
により、表面が平坦な塗膜を形成することが可能である
限り特に限定されず、形成する塗膜の厚さ、硬化性組成
物の溶液の塗布条件、目的等に応じて適宜選択される
が、通常、ポリスチレン換算重量平均分子量が３,００
０〜３００,０００の範囲にあるものが好ましく、３,０
００〜１００,０００の範囲にあるのがより好ましい。
また、成分（Ａ）として、式（１）で表される構造単位
とこれら以外の構造単位とを有する特定重合体を用いる
場合には、当該重合体は、特定単量体とその他の単量体
とのランダム共重合体およびブロック共重合体のいずれ
であってもよい。ランダム共重合体がより好ましい。
分子量は、得られる硬化性組成物の溶液を塗布すること
により、表面が平坦な塗膜を形成することが可能である
限り特に限定されず、形成する塗膜の厚さ、硬化性組成
物の溶液の塗布条件、目的等に応じて適宜選択される
が、通常、ポリスチレン換算重量平均分子量が３,００
０〜３００,０００の範囲にあるものが好ましく、３,０
００〜１００,０００の範囲にあるのがより好ましい。
また、成分（Ａ）として、式（１）で表される構造単位
とこれら以外の構造単位とを有する特定重合体を用いる
場合には、当該重合体は、特定単量体とその他の単量体
とのランダム共重合体およびブロック共重合体のいずれ
であってもよい。ランダム共重合体がより好ましい。
【００１９】＜成分（Ｂ）＞成分（Ａ）以外のエポキシ
樹脂としては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂等が使用できる。これらは市販品として入手でき
る。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として
は、エピコート１００１、同１００２、同１００３、同
１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８
２８（以上、油化シェルエポキシ（株）製）等を、ビス
フェノールＦ型エポキシ樹脂としては、エピコート８０
７、同８３４（以上、油化シェルエポキシ（株）製）等
を、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エ
ピコート１５２、同１５４、同１５７Ｈ６５（以上、油
化シェルエポキシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０
２（以上、日本化薬（株）製）等を、クレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂としては、ＥＯＣＮ−１０２、ＥＯ
ＣＮ−１０３Ｓ、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣＮ−１０
２０、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２７（以
上、日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油
化シェルエポキシ（株）製）等を、その他、環式脂肪族
エポキシ樹脂として、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１
７９（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ製）、ＥＲ
Ｌ−４２３４、ＥＲＬ−４２９９、ＥＲＬ−４２２１、
ＥＲＬ−４２０６（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダ
イン５０９（昭和電工（株）製）、アラルダイトＣＹ−
１８２、同ＣＹ−１９２、同ＣＹ−１８４（以上、ＣＩ
ＢＡ−ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、同
４００（以上、大日本インキ工業（株）製）、エピコー
ト８７１、同８７２、ＥＰ１０３２Ｈ６０（以上、油化
シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６１、ＥＤ−５
６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等
を、脂肪族ポリグリシジルエーテルとして、エピコート
１９０Ｐ、同１９１Ｐ（以上、油化シェルエポキシ
（株）製）エポライト１００ＭＦ（共栄社油脂化学工業
（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）等
を挙げることができる。
樹脂としては、例えばビスフェノールＡ型エポキシ樹
脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、フェノールノボ
ラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキ
シ樹脂等が使用できる。これらは市販品として入手でき
る。例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂として
は、エピコート１００１、同１００２、同１００３、同
１００４、同１００７、同１００９、同１０１０、同８
２８（以上、油化シェルエポキシ（株）製）等を、ビス
フェノールＦ型エポキシ樹脂としては、エピコート８０
７、同８３４（以上、油化シェルエポキシ（株）製）等
を、フェノールノボラック型エポキシ樹脂としては、エ
ピコート１５２、同１５４、同１５７Ｈ６５（以上、油
化シェルエポキシ（株）製）、ＥＰＰＮ２０１、同２０
２（以上、日本化薬（株）製）等を、クレゾールノボラ
ック型エポキシ樹脂としては、ＥＯＣＮ−１０２、ＥＯ
ＣＮ−１０３Ｓ、ＥＯＣＮ−１０４Ｓ、ＥＯＣＮ−１０
２０、ＥＯＣＮ−１０２５、ＥＯＣＮ−１０２７（以
上、日本化薬（株）製）、エピコート１８０Ｓ７５（油
化シェルエポキシ（株）製）等を、その他、環式脂肪族
エポキシ樹脂として、ＣＹ１７５、ＣＹ１７７、ＣＹ１
７９（以上、ＣＩＢＡ−ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ製）、ＥＲ
Ｌ−４２３４、ＥＲＬ−４２９９、ＥＲＬ−４２２１、
ＥＲＬ−４２０６（以上、Ｕ．Ｃ．Ｃ社製）、ショーダ
イン５０９（昭和電工（株）製）、アラルダイトＣＹ−
１８２、同ＣＹ−１９２、同ＣＹ−１８４（以上、ＣＩ
ＢＡ−ＧＥＩＧＹ Ａ．Ｇ製）、エピクロン２００、同
４００（以上、大日本インキ工業（株）製）、エピコー
ト８７１、同８７２、ＥＰ１０３２Ｈ６０（以上、油化
シェルエポキシ（株）製）、ＥＤ−５６６１、ＥＤ−５
６６２（以上、セラニーズコーティング（株）製）等
を、脂肪族ポリグリシジルエーテルとして、エピコート
１９０Ｐ、同１９１Ｐ（以上、油化シェルエポキシ
（株）製）エポライト１００ＭＦ（共栄社油脂化学工業
（株）製）、エピオールＴＭＰ（日本油脂（株）製）等
を挙げることができる。
【００２０】これらのうち好ましいものとしては、ビス
フェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型
エポキシ樹脂およびクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂が挙げられる。エポキシ樹脂（Ｂ）の使用割合は、
（Ａ）成分１００重量部当り、好ましくは１〜２００重
量部、より好ましくは３〜１００重量部である。なお、
前記（Ａ）成分もエポキシ樹脂といいうるが、上記
（Ｂ）成分のエポキシ樹脂は（Ａ）成分に比較して低分
子量体であり、平坦化性の向上に対して効果がある点で
異なる。
フェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型
エポキシ樹脂およびクレゾールノボラック型エポキシ樹
脂が挙げられる。エポキシ樹脂（Ｂ）の使用割合は、
（Ａ）成分１００重量部当り、好ましくは１〜２００重
量部、より好ましくは３〜１００重量部である。なお、
前記（Ａ）成分もエポキシ樹脂といいうるが、上記
（Ｂ）成分のエポキシ樹脂は（Ａ）成分に比較して低分
子量体であり、平坦化性の向上に対して効果がある点で
異なる。
【００２１】＜成分（Ｃ）＞熱により酸を発生する化合
物としては、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、
アンモニウム塩、ホスホニウム塩などのオニウム塩が用
いられる。中でも、スルホニウム塩およびベンゾチアゾ
ニウム塩が好ましい。
物としては、スルホニウム塩、ベンゾチアゾニウム塩、
アンモニウム塩、ホスホニウム塩などのオニウム塩が用
いられる。中でも、スルホニウム塩およびベンゾチアゾ
ニウム塩が好ましい。
【００２２】上記スルホニウム塩の具体例としては、４
−アセトフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルス
ルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−
４−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−
４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウム ヘキ
サフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイ
ルオキシ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアル
セネート、ジメチル−３−クロロ−４−アセトキシフェ
ニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネートなど
のアルキルスルホニウム塩；ベンジル−４−ヒドロキシ
フェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスル
ホニウム ヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキ
シフェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシフェニルメ
チルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベ
ンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル
−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシベン
ジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘ
キサフルオロホスフェートなどのベンジルスルホニウム
塩；
−アセトフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、４−アセトキシフェニルジメチルス
ルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ジメチル−
４−（ベンジルオキシカルボニルオキシ）フェニルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジメチル−
４−（ベンゾイルオキシ）フェニルスルホニウム ヘキ
サフルオロアンチモネート、ジメチル−４−（ベンゾイ
ルオキシ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアル
セネート、ジメチル−３−クロロ−４−アセトキシフェ
ニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネートなど
のアルキルスルホニウム塩；ベンジル−４−ヒドロキシ
フェニルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネート、ベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスル
ホニウム ヘキサフルオロホスフェート、４−アセトキ
シフェニルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシフェニルメ
チルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベ
ンジル−２−メチル−４−ヒドロキシフェニルメチルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ベンジル
−３−クロロ−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアルセネート、４−メトキシベン
ジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘ
キサフルオロホスフェートなどのベンジルスルホニウム
塩；
【００２３】ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスル
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル
−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジ
ル−４−メトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒド
ロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネ
ート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−
４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロ
ホスフェートなどのジベンジルスルホニウム塩；ｐ−ク
ロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベン
ジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−
４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネート、３,５−ジクロロベンジル−４
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサ
フルオロアンチモネートなどの置換ベンジルスルホニウ
ム塩；下記式（１）〜（７）で示されるスルホニウム塩
が挙げられる。
ホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジル
−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロホスフェート、４−アセトキシフェニルジベンジルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジベンジ
ル−４−メトキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ジベンジル−３−クロロ−４−ヒド
ロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネ
ート、ジベンジル−３−メチル−４−ヒドロキシ−５−
ｔｅｒｔ−ブチルフェニルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート、ベンジル−４−メトキシベンジル−
４−ヒドロキシフェニルスルホニウム ヘキサフルオロ
ホスフェートなどのジベンジルスルホニウム塩；ｐ−ク
ロロベンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−ニトロベン
ジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘ
キサフルオロアンチモネート、ｐ−クロロベンジル−４
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロホスフェート、ｐ−ニトロベンジル−３−メチル−
４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフ
ルオロアンチモネート、３,５−ジクロロベンジル−４
−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサフル
オロアンチモネート、ｏ−クロロベンジル−３−クロロ
−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム ヘキサ
フルオロアンチモネートなどの置換ベンジルスルホニウ
ム塩；下記式（１）〜（７）で示されるスルホニウム塩
が挙げられる。
【００２４】
【化４】
【００２５】上記ベンゾチアゾニウム塩の具体例として
は３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアン
チモネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサ
フルオロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウ
ム テトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベン
ジル）ベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウ
ム ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５
−クロロベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネートなどのベンジルベンゾチアゾニウム塩が挙げられ
る。
は３−ベンジルベンゾチアゾニウムヘキサフルオロアン
チモネート、３−ベンジルベンゾチアゾニウム ヘキサ
フルオロホスフェート、３−ベンジルベンゾチアゾニウ
ム テトラフルオロボレート、３−（ｐ−メトキシベン
ジル）ベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネ
ート、３−ベンジル−２−メチルチオベンゾチアゾニウ
ム ヘキサフルオロアンチモネート、３−ベンジル−５
−クロロベンゾチアゾニウム ヘキサフルオロアンチモ
ネートなどのベンジルベンゾチアゾニウム塩が挙げられ
る。
【００２６】これらのうち、４−アセトキシフェニルジ
メチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ベ
ンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニ
ルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチ
モネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキ
シフェニルベンジルスルホニウム ヘキサフルオロアン
チモネート、３−ベンジルベンゾチアゾリウムヘキサフ
ルオロアンチモネートなどが好ましく用いられる。これ
らの市販品としては、サンエイド ＳＩ−Ｌ８５、同Ｓ
Ｉ−Ｌ１１０、同ＳＩ−Ｌ１４５、同ＳＩ−Ｌ１５０、
同ＳＩ−Ｌ１６０（三新化学工業（株）製）などが挙げ
られる。これらの熱により酸を発生する化合物は、放射
線により酸を発生する化合物としても機能しうる。これ
らの化合物は、単独であるいは２種以上組み合わせて用
いることができる。また、放射線により酸を発生する化
合物としては、例えばトリクロロメチル−ｓ−トリアジ
ン類、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスル
ホニウム塩類等を用いることができる。
メチルスルホニウム ヘキサフルオロアルセネート、ベ
ンジル−４−ヒドロキシフェニルメチルスルホニウム
ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキシフェニ
ルベンジルメチルスルホニウム ヘキサフルオロアンチ
モネート、ジベンジル−４−ヒドロキシフェニルスルホ
ニウム ヘキサフルオロアンチモネート、４−アセトキ
シフェニルベンジルスルホニウム ヘキサフルオロアン
チモネート、３−ベンジルベンゾチアゾリウムヘキサフ
ルオロアンチモネートなどが好ましく用いられる。これ
らの市販品としては、サンエイド ＳＩ−Ｌ８５、同Ｓ
Ｉ−Ｌ１１０、同ＳＩ−Ｌ１４５、同ＳＩ−Ｌ１５０、
同ＳＩ−Ｌ１６０（三新化学工業（株）製）などが挙げ
られる。これらの熱により酸を発生する化合物は、放射
線により酸を発生する化合物としても機能しうる。これ
らの化合物は、単独であるいは２種以上組み合わせて用
いることができる。また、放射線により酸を発生する化
合物としては、例えばトリクロロメチル−ｓ−トリアジ
ン類、ジアリールヨードニウム塩類、トリアリールスル
ホニウム塩類等を用いることができる。
【００２７】上記トリクロロメチル−ｓ−トリアジン類
としては、例えばトリス（２,４,６−トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−ビス（４,６−
トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロ
ロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（３−クロロフェニル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（２−クロロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（３−メトキシフェニル）−ビス（４,６−
トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メト
キシフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−ビ
ス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２
−（３−メチルチオフェニル）−ビス（４,６−トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メチルチオ
フェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３−メトキシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシナフチ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシ
−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（３,４,５−トリメトキシ−β
−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（４−メチルチオ−β−スチリル）
−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（３−メチルチオ−β−スチリル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３−メチルチオ−β−スチリル）−ビス（４,６−ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−
ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−ビ
ス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２
−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）
エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、等が挙げられる。
としては、例えばトリス（２,４,６−トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−フェニル−ビス（４,６−
トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−クロ
ロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（３−クロロフェニル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（２−クロロフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメ
チル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシフェニ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（３−メトキシフェニル）−ビス（４,６−
トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メト
キシフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−（４−メチルチオフェニル）−ビ
ス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２
−（３−メチルチオフェニル）−ビス（４,６−トリク
ロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メチルチオ
フェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、２−（４−メトキシナフチル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３−メトキシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロ
メチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシナフチ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−メトキシ−β−スチリル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３−メトキシ−β−スチリル）−ビス（４,６−トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（２−メトキシ
−β−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（３,４,５−トリメトキシ−β
−スチリル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ
−トリアジン、２−（４−メチルチオ−β−スチリル）
−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジ
ン、２−（３−メチルチオ−β−スチリル）−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
（３−メチルチオ−β−スチリル）−ビス（４,６−ト
リクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−ピペロニル−
ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、
２−［２−（フラン−２−イル）エテニル］−ビス
（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−
［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−ビ
ス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２
−［２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）
エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−
トリアジン、等が挙げられる。
【００２８】上記ジアリールヨードニウム塩類として
は、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテ
ート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテト
ラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨ
ードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシ
フェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリ
フルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフ
ェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスル
ホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロア
セテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウム−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。
は、例えばジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスホネ
ート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスル
ホナート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロアセテ
ート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホナ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムテト
ラフルオロボレート、４−メトキシフェニルフェニルヨ
ードニウムヘキサフルオロホスホネート、４−メトキシ
フェニルフェニルヨードニウムヘキサフルオロアルセネ
ート、４−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリ
フルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルフ
ェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、４−メト
キシフェニルフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスル
ホナート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムテトラフルオロボレート、ビス（４−ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアルセ
ネート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨード
ニウムトリフルオロメタンスルホナート、ビス（４−ｔ
ｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロア
セテート、ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウム−ｐ−トルエンスルホナート等が挙げられる。
【００２９】上記トリアリールスルホニウム塩類として
は、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホス
ホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トル
エンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルス
ルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェ
ニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェ
ニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオ
ロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホ
ニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネー
ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオ
ロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニル
トリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフ
ェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェニ
ルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナート
等が挙げられる。
は、例えばトリフェニルスルホニウムテトラフルオロボ
レート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホス
ホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロア
ルセネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメ
タンスルホナート、トリフェニルスルホニウムトリフル
オロアセテート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トル
エンスルホナート、４−メトキシフェニルジフェニルス
ルホニウムテトラフルオロボレート、４−メトキシフェ
ニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスホネー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムヘキ
サフルオロアルセネート、４−メトキシフェニルジフェ
ニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリフルオ
ロアセテート、４−メトキシフェニルジフェニルスルホ
ニウム−ｐ−トルエンスルホナート、４−フェニルチオ
フェニルジフェニルテトラフルオロボレート、４−フェ
ニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオロホスホネー
ト、４−フェニルチオフェニルジフェニルヘキサフルオ
ロアルセネート、４−フェニルチオフェニルジフェニル
トリフルオロメタンスルホナート、４−フェニルチオフ
ェニルジフェニルトリフルオロアセテート、４−フェニ
ルチオフェニルジフェニル−ｐ−トルエンスルホナート
等が挙げられる。
【００３０】これらの化合物のうち、トリクロロメチル
−ｓ−トリアジン類としては、２−（３−クロロフェニ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−メトキシフェニル）−ビス（４,６−
トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチ
ルチオフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−ピペロニル−ビス（４,６−トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イ
ル）エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−
イル）エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−
２−メチルフェニル）エテニル］−ビス（４,６−トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジンまたは２−（４−メト
キシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン；
−ｓ−トリアジン類としては、２−（３−クロロフェニ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−（４−メトキシフェニル）−ビス（４,６−
トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−（４−メチ
ルチオフェニル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−（４−メトキシ−β−スチリ
ル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−ｓ−トリア
ジン、２−ピペロニル−ビス（４,６−トリクロロメチ
ル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（フラン−２−イ
ル）エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−
イル）エテニル］−ビス（４,６−トリクロロメチル）
−ｓ−トリアジン、２−［２−（４−ジエチルアミノ−
２−メチルフェニル）エテニル］−ビス（４,６−トリ
クロロメチル）−ｓ−トリアジンまたは２−（４−メト
キシナフチル）−ビス（４,６−トリクロロメチル）−
ｓ−トリアジン；
【００３１】ジアリールヨードニウム塩類としては、ジ
フェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェ
ニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロ
メタンスルホナートまたは４−メトキシフェニルフェニ
ルヨードニウムトリフルオロアセテート；
フェニルヨードニウムトリフルオロアセテート、ジフェ
ニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホナート、４
−メトキシフェニルフェニルヨードニウムトリフルオロ
メタンスルホナートまたは４−メトキシフェニルフェニ
ルヨードニウムトリフルオロアセテート；
【００３２】トリアリールスルホニウム塩類としては、
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナ
ート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリ
フルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジ
フェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−フ
ェニルチオフェニルジフェニルトリフルオロメタンスル
ホナートまたは４−フェニルチオフェニルジフェニルト
リフルオロアセテートをそれぞれ好ましいものとして挙
げることができる。
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホナ
ート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロアセテー
ト、４−メトキシフェニルジフェニルスルホニウムトリ
フルオロメタンスルホナート、４−メトキシフェニルジ
フェニルスルホニウムトリフルオロアセテート、４−フ
ェニルチオフェニルジフェニルトリフルオロメタンスル
ホナートまたは４−フェニルチオフェニルジフェニルト
リフルオロアセテートをそれぞれ好ましいものとして挙
げることができる。
【００３３】熱あるいは放射線により酸を発生する化合
物（Ｃ）の使用割合は、（Ａ）成分１００重量部に対し
て、好ましくは０.０１〜２０重量部、より好ましく
は、０.２〜１０重量部である。（Ｃ）成分の使用割合
が（Ａ）成分１００重量部に対して０.０１重量部未満
の場合には、加熱あるいは放射線を受けることにより発
生する酸の量が少ないため、（Ａ）成分および（Ｂ）成
分の架橋が十分に進行し難く、得られる硬化膜の耐熱
性、平坦化性、耐薬品性、基板との密着性等が低下する
場合がある。一方、（Ｃ）成分の使用割合が（Ａ）成分
１００重量部に対して２０重量部を超える場合には、塗
膜に膜荒れが生じやすくなる。
物（Ｃ）の使用割合は、（Ａ）成分１００重量部に対し
て、好ましくは０.０１〜２０重量部、より好ましく
は、０.２〜１０重量部である。（Ｃ）成分の使用割合
が（Ａ）成分１００重量部に対して０.０１重量部未満
の場合には、加熱あるいは放射線を受けることにより発
生する酸の量が少ないため、（Ａ）成分および（Ｂ）成
分の架橋が十分に進行し難く、得られる硬化膜の耐熱
性、平坦化性、耐薬品性、基板との密着性等が低下する
場合がある。一方、（Ｃ）成分の使用割合が（Ａ）成分
１００重量部に対して２０重量部を超える場合には、塗
膜に膜荒れが生じやすくなる。
【００３４】＜その他の成分＞本発明の硬化性組成物に
は、上述した成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）以外
に、必要に応じて、その他の成分として、例えばシラン
カップリング剤、硬化補助剤、硬化促進剤、界面活性
剤、紫外線吸収剤等が含有されていてもよい。
は、上述した成分（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）以外
に、必要に応じて、その他の成分として、例えばシラン
カップリング剤、硬化補助剤、硬化促進剤、界面活性
剤、紫外線吸収剤等が含有されていてもよい。
【００３５】〔シランカップリング剤〕シランカップリ
ング剤は、硬化膜とこれを形成すべき基体との密着性を
向上させるために使用されるものであり、カルボキシル
基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基
等の反応性置換基（官能性基）を有する官能性基含有ア
ルコキシシラン化合物が用いられる。
ング剤は、硬化膜とこれを形成すべき基体との密着性を
向上させるために使用されるものであり、カルボキシル
基、メタクリロイル基、イソシアネート基、エポキシ基
等の反応性置換基（官能性基）を有する官能性基含有ア
ルコキシシラン化合物が用いられる。
【００３６】このような官能性基含有アルコキシシラン
化合物としては、例えばトリメトキシシリル安息香酸、
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、
γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３,４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルジエトキシシラン等を挙
げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組
み合わせて使用することができる。
化合物としては、例えばトリメトキシシリル安息香酸、
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニ
ルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、
γ−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−（３,４
−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルジエトキシシラン等を挙
げることができる。これらは単独でまたは２種以上を組
み合わせて使用することができる。
【００３７】シランカップリング剤の使用割合は、好ま
しくは、成分（Ａ）１００重量部に対して１００重量部
以下、より好ましくは０.１〜１００重量部、特に好ま
しくは１〜４０重量部である。シランカップリング剤の
使用割合が０.１未満である場合には、硬化膜とこれを
形成すべき基体との間に十分な密着性を与える効果が得
られない場合がある。一方、シランカップリング剤の使
用割合が１００重量部を超える場合には、得られる硬化
膜の耐アルカリ性、耐溶剤性等が低下することがある。
しくは、成分（Ａ）１００重量部に対して１００重量部
以下、より好ましくは０.１〜１００重量部、特に好ま
しくは１〜４０重量部である。シランカップリング剤の
使用割合が０.１未満である場合には、硬化膜とこれを
形成すべき基体との間に十分な密着性を与える効果が得
られない場合がある。一方、シランカップリング剤の使
用割合が１００重量部を超える場合には、得られる硬化
膜の耐アルカリ性、耐溶剤性等が低下することがある。
【００３８】〔硬化補助剤〕硬化補助剤は、成分（Ａ）
として用いられる特定重合体およびエポキシ樹脂（Ｂ）
の硬化剤として作用する。これら硬化剤は、成分（Ｃ）
の熱あるいは放射線により酸を発生する化合物による硬
化のみでは架橋が不十分なときに補助的に用いられる。
かかる硬化補助剤としては多価カルボン酸無水物または
多価カルボン酸を好適に使用することができる。
として用いられる特定重合体およびエポキシ樹脂（Ｂ）
の硬化剤として作用する。これら硬化剤は、成分（Ｃ）
の熱あるいは放射線により酸を発生する化合物による硬
化のみでは架橋が不十分なときに補助的に用いられる。
かかる硬化補助剤としては多価カルボン酸無水物または
多価カルボン酸を好適に使用することができる。
【００３９】多価カルボン酸無水物の具体例としては、
無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、無
水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバニル酸、無水マ
レイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテト
ラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸等の脂肪族ジカル
ボン酸無水物；１,２,３,４−ブタンテトラカルボン酸
二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等
の脂環族多価カルボン酸二無水物；無水フタル酸、無水
ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸無水
物；エチレングリコールビス無水トリメリテート、グリ
セリントリス無水トリメリテート等のエステル基含有酸
無水物を挙げることができる。これらのうち、芳香族多
価カルボン酸無水物、特に無水トリメリット酸は耐熱性
の高い硬化膜が得られる点で好ましい。
無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、無
水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバニル酸、無水マ
レイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテト
ラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸等の脂肪族ジカル
ボン酸無水物；１,２,３,４−ブタンテトラカルボン酸
二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等
の脂環族多価カルボン酸二無水物；無水フタル酸、無水
ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェ
ノンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸無水
物；エチレングリコールビス無水トリメリテート、グリ
セリントリス無水トリメリテート等のエステル基含有酸
無水物を挙げることができる。これらのうち、芳香族多
価カルボン酸無水物、特に無水トリメリット酸は耐熱性
の高い硬化膜が得られる点で好ましい。
【００４０】また、多価カルボン酸の具体例としては、
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ブタンテトラカル
ボン酸、マレイン酸、イタコン酸等の脂肪族多価カルボ
ン酸；ヘキサヒドロフタル酸、１,２−シクロヘキサン
ジカルボン酸、１,２,４−シクロヘキサントリカルボン
酸、シクロペンタンテトラカルボン酸等の脂環族多価カ
ルボン酸；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ト
リメリット酸、ピロメリット酸、１,２,５,８−ナフタ
レンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸を挙げ
ることができる。これらの中では、硬化性組成物の反応
性、形成される硬化膜の耐熱性等の観点から、芳香族多
価カルボン酸が好適である。これらの多価カルボン酸無
水物または多価カルボン酸は、単独でまたは２種以上を
組み合わせて用いることができる。
コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ブタンテトラカル
ボン酸、マレイン酸、イタコン酸等の脂肪族多価カルボ
ン酸；ヘキサヒドロフタル酸、１,２−シクロヘキサン
ジカルボン酸、１,２,４−シクロヘキサントリカルボン
酸、シクロペンタンテトラカルボン酸等の脂環族多価カ
ルボン酸；フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、ト
リメリット酸、ピロメリット酸、１,２,５,８−ナフタ
レンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸を挙げ
ることができる。これらの中では、硬化性組成物の反応
性、形成される硬化膜の耐熱性等の観点から、芳香族多
価カルボン酸が好適である。これらの多価カルボン酸無
水物または多価カルボン酸は、単独でまたは２種以上を
組み合わせて用いることができる。
【００４１】硬化補助剤の使用割合は、好ましくは、成
分（Ａ）１００重量部に対して１〜４０重量部、より好
ましくは５〜２０重量部である。
分（Ａ）１００重量部に対して１〜４０重量部、より好
ましくは５〜２０重量部である。
【００４２】〔硬化促進剤〕硬化促進剤は、（Ａ）成分
および（Ｂ）成分と硬化補助剤すなわち硬化剤との反応
を促進させるために使用されるものであり、一般に２級
窒素原子または３級窒素原子を含むヘテロ環構造を有す
る化合物が用いられる。このような化合物の具体例とし
ては、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジ
ン、ピラジン、ピリミジン、インドール、インダゾー
ル、ベンズイミダゾール若しくはイソシアヌル酸または
これらの誘導体等を挙げることができる。これらの中で
も、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチル
イミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、４−メ
チル−２−フェニルイミダゾール、１−ベンジル−２−
メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−１−
（２’−シアノエチル）イミダゾール、２−エチル−４
−メチル−１−［２’−（３'',５''−ジアミノトリア
ジニル）エチル］イミダゾール、ベンズイミダゾール等
のイミダゾール誘導体が好適であり、最も好適には、２
−エチル−４−メチルイミダゾール、４−メチル−２−
フェニルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミ
ダゾール等が使用される。これらの化合物は、単独でま
たは２種以上を組み合わせて硬化促進剤として用いるこ
とができる。硬化促進剤は、成分（Ａ）１００重量部に
対して、好ましくは０.０１〜１０重量部、より好まし
くは０.０５〜５重量部の割合で使用される。
および（Ｂ）成分と硬化補助剤すなわち硬化剤との反応
を促進させるために使用されるものであり、一般に２級
窒素原子または３級窒素原子を含むヘテロ環構造を有す
る化合物が用いられる。このような化合物の具体例とし
ては、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジ
ン、ピラジン、ピリミジン、インドール、インダゾー
ル、ベンズイミダゾール若しくはイソシアヌル酸または
これらの誘導体等を挙げることができる。これらの中で
も、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチル
イミダゾール、２−ヘプタデシルイミダゾール、４−メ
チル−２−フェニルイミダゾール、１−ベンジル−２−
メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−１−
（２’−シアノエチル）イミダゾール、２−エチル−４
−メチル−１−［２’−（３'',５''−ジアミノトリア
ジニル）エチル］イミダゾール、ベンズイミダゾール等
のイミダゾール誘導体が好適であり、最も好適には、２
−エチル−４−メチルイミダゾール、４−メチル−２−
フェニルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミ
ダゾール等が使用される。これらの化合物は、単独でま
たは２種以上を組み合わせて硬化促進剤として用いるこ
とができる。硬化促進剤は、成分（Ａ）１００重量部に
対して、好ましくは０.０１〜１０重量部、より好まし
くは０.０５〜５重量部の割合で使用される。
【００４３】〔界面活性剤〕界面活性剤としては、フッ
素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤を好適に
用いることができる。フッ素系界面活性剤としては、末
端、主鎖および側鎖の少なくとも何れかの部位にフルオ
ロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物
を好適に用いることができ、その具体例としては、１,
１,２,２−テトラフロロオクチル（１,１,２,２−テト
ラフロロプロピル）エーテル、１,１,２,２−テトラフ
ロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコ
ールジ（１,１,２,２−テトラフロロブチル）エーテ
ル、ヘキサエチレングリコール（１,１,２,２,３,３−
ヘキサフロロペンチル）エーテル、オクタプロピレング
リコールジ（１,１,２,２−テトラフロロブチル）エー
テル、ヘキサプロピレングリコールジ（１,１,２,２,
３,３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、パーフロロ
ドデシルスルホン酸ナトリウム、１,１,２,２,８,８,
９,９,１０,１０−デカフロロドデカン、１,１,２,２,
３,３−ヘキサフロロデカン、フルオロアルキルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルオキシエチ
レンエーテル、ジグリセリンテトラキス、フルオロアル
キルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルポリオキ
シエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシ
エタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、
フッ素系アルキルエステル等を挙げることができる。ま
た、これらの市販品としては、ＢＭ−１０００、ＢＭ−
１１００（以上、ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）、メガファ
ックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８
３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１（以上、大日
本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１７０
Ｃ、ＦＣ−１７１、ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（以
上、住友スリーエム（株）製）等を挙げることができ
る。
素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤を好適に
用いることができる。フッ素系界面活性剤としては、末
端、主鎖および側鎖の少なくとも何れかの部位にフルオ
ロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物
を好適に用いることができ、その具体例としては、１,
１,２,２−テトラフロロオクチル（１,１,２,２−テト
ラフロロプロピル）エーテル、１,１,２,２−テトラフ
ロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコ
ールジ（１,１,２,２−テトラフロロブチル）エーテ
ル、ヘキサエチレングリコール（１,１,２,２,３,３−
ヘキサフロロペンチル）エーテル、オクタプロピレング
リコールジ（１,１,２,２−テトラフロロブチル）エー
テル、ヘキサプロピレングリコールジ（１,１,２,２,
３,３−ヘキサフロロペンチル）エーテル、パーフロロ
ドデシルスルホン酸ナトリウム、１,１,２,２,８,８,
９,９,１０,１０−デカフロロドデカン、１,１,２,２,
３,３−ヘキサフロロデカン、フルオロアルキルベンゼ
ンスルホン酸ナトリウム、フルオロアルキルオキシエチ
レンエーテル、ジグリセリンテトラキス、フルオロアル
キルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルポリオキ
シエチレンエーテル、パーフルオロアルキルポリオキシ
エタノール、パーフルオロアルキルアルコキシレート、
フッ素系アルキルエステル等を挙げることができる。ま
た、これらの市販品としては、ＢＭ−１０００、ＢＭ−
１１００（以上、ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）、メガファ
ックＦ１４２Ｄ、同Ｆ１７２、同Ｆ１７３、同Ｆ１８
３、同Ｆ１７８、同Ｆ１９１、同Ｆ４７１（以上、大日
本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ−１７０
Ｃ、ＦＣ−１７１、ＦＣ−４３０、ＦＣ−４３１（以
上、住友スリーエム（株）製）等を挙げることができ
る。
【００４４】またシリコーン系界面活性剤としては、例
えばトーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同Ｓ
Ｈ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ
２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＦＳ−１２６５−３００
（以上、トーレシリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４
０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４
４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、
東芝シリコーン（株）製）等の商品名で市販されている
ものを挙げることができる。
えばトーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、同ＤＣ７ＰＡ、同Ｓ
Ｈ１１ＰＡ、同ＳＨ２１ＰＡ、同ＳＨ２８ＰＡ、同ＳＨ
２９ＰＡ、同ＳＨ３０ＰＡ、同ＦＳ−１２６５−３００
（以上、トーレシリコーン（株）製）、ＴＳＦ−４４４
０、ＴＳＦ−４３００、ＴＳＦ−４４４５、ＴＳＦ−４
４４６、ＴＳＦ−４４６０、ＴＳＦ−４４５２（以上、
東芝シリコーン（株）製）等の商品名で市販されている
ものを挙げることができる。
【００４５】これらの界面活性剤は単独でまたは２種以
上を組み合わせて使用することができる。界面活性剤の
使用割合は、その種類や硬化性組成物を構成する各成分
の種類や割合等によっても異なるが、好ましくは、成分
（Ａ）１００重量部に対して０〜１０重量部、より好ま
しくは０.０００１〜５重量部の範囲で使用される。
上を組み合わせて使用することができる。界面活性剤の
使用割合は、その種類や硬化性組成物を構成する各成分
の種類や割合等によっても異なるが、好ましくは、成分
（Ａ）１００重量部に対して０〜１０重量部、より好ま
しくは０.０００１〜５重量部の範囲で使用される。
【００４６】本発明の硬化性組成物は、上記の成分
（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）および必要に応じて含
有されるその他の成分を均一に混合することによって調
製されるが、通常、各成分を有機溶剤に溶解して組成物
溶液として調製される。この組成物溶液を調製するため
に用いられる有機溶剤としては、各成分を均一に溶解さ
せることができ、かつ、各成分と反応しないものであれ
ば特に制限されないが、一般的には、塗膜を形成し易い
点で、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテ
ル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルア
セテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセ
テート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレ
ングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールプロピルエーテルアセテート等のプロピレングリコ
ールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタ
ノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、
エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒド
ロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロ
ピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３
−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオ
ン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳
酸エチル等のエステル類を用いることができる。これら
の溶剤は、単独でまたは２種類以上を組み合わせて使用
することができる。
（Ａ）、成分（Ｂ）、成分（Ｃ）および必要に応じて含
有されるその他の成分を均一に混合することによって調
製されるが、通常、各成分を有機溶剤に溶解して組成物
溶液として調製される。この組成物溶液を調製するため
に用いられる有機溶剤としては、各成分を均一に溶解さ
せることができ、かつ、各成分と反応しないものであれ
ば特に制限されないが、一般的には、塗膜を形成し易い
点で、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテ
ル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ
アセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルア
セテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセ
テート類；ジエチレングリコールモノメチルエーテル、
ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレン
グリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジ
エチルエーテル等のジエチレングリコール類；プロピレ
ングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレング
リコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールプロピルエーテルアセテート等のプロピレングリコ
ールアルキルエーテルアセテート類；トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類；メチルエチルケトン、シクロ
ヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタ
ノン等のケトン類；２−ヒドロキシプロピオン酸エチ
ル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、
エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒド
ロキシ−３−メチルブタン酸メチル、３−メトキシプロ
ピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３
−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオ
ン酸エチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳
酸エチル等のエステル類を用いることができる。これら
の溶剤は、単独でまたは２種類以上を組み合わせて使用
することができる。
【００４７】組成物溶液における硬化性組成物の濃度
は、特に制限されず、使用目的に応じて適宜選定するこ
とができる。固形分の濃度は好ましくは１〜６０重量
％、より好ましくは５〜４０重量％である。
は、特に制限されず、使用目的に応じて適宜選定するこ
とができる。固形分の濃度は好ましくは１〜６０重量
％、より好ましくは５〜４０重量％である。
【００４８】本発明の硬化性組成物を用いることによ
り、例えば次のようにして硬化膜を形成することができ
る。すなわち、調製された組成物溶液を、硬化膜を形成
すべき基体の表面に塗布し、予備焼成を行うことにより
溶剤を除去して硬化性組成物の塗膜を形成するか、ある
いは、予備焼成後の塗膜にさらに放射線を照射すること
により塗膜の表面を硬化させ、その後、本焼成を行うこ
とにより、硬化膜とする。
り、例えば次のようにして硬化膜を形成することができ
る。すなわち、調製された組成物溶液を、硬化膜を形成
すべき基体の表面に塗布し、予備焼成を行うことにより
溶剤を除去して硬化性組成物の塗膜を形成するか、ある
いは、予備焼成後の塗膜にさらに放射線を照射すること
により塗膜の表面を硬化させ、その後、本焼成を行うこ
とにより、硬化膜とする。
【００４９】以上において、組成物溶液の塗布方法とし
ては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコー
ト法、回転塗布法等の各種の方法を採用することができ
る。予備焼成の条件は、組成物溶液の各成分の種類、使
用割合等によっても異なるが、好ましくは、６０〜１２
０℃で、０.５〜２０分間程度である。また、本焼成の
条件は、好ましくは１５０〜２５０℃で０.２〜２.０時
間程度である。また、予備焼成および本焼成のそれぞれ
は、１段階でまたは２段階以上の工程の組み合わせで行
うことができる。
ては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコー
ト法、回転塗布法等の各種の方法を採用することができ
る。予備焼成の条件は、組成物溶液の各成分の種類、使
用割合等によっても異なるが、好ましくは、６０〜１２
０℃で、０.５〜２０分間程度である。また、本焼成の
条件は、好ましくは１５０〜２５０℃で０.２〜２.０時
間程度である。また、予備焼成および本焼成のそれぞれ
は、１段階でまたは２段階以上の工程の組み合わせで行
うことができる。
【００５０】本発明の硬化性組成物には、成分（Ａ）、
（Ｂ）としてエポキシ化合物および成分（Ｃ）として熱
あるいは放射線により酸を発生する化合物が含有されて
いるので、塗膜の加熱あるいは放射線の照射により表面
を硬化させることができる。従って、硬化性組成物を塗
布して予備焼成を行うか、あるいは、硬化性組成物の塗
膜を形成した後、この塗膜に放射線を照射して当該塗膜
の表面を硬化させることにより、本焼成において塗膜の
表面が流動することが防止され、その結果、表面の平坦
性が高い硬化膜を形成することができる。また、本発明
の硬化性組成物により形成される硬化膜は、以下の実施
例から明らかなように、各種の物性に優れたものであ
り、例えばＬＣＤ用カラーフィルターおよびＣＣＤ用カ
ラーフィルターに用いられる保護膜として極めて好適で
ある。
（Ｂ）としてエポキシ化合物および成分（Ｃ）として熱
あるいは放射線により酸を発生する化合物が含有されて
いるので、塗膜の加熱あるいは放射線の照射により表面
を硬化させることができる。従って、硬化性組成物を塗
布して予備焼成を行うか、あるいは、硬化性組成物の塗
膜を形成した後、この塗膜に放射線を照射して当該塗膜
の表面を硬化させることにより、本焼成において塗膜の
表面が流動することが防止され、その結果、表面の平坦
性が高い硬化膜を形成することができる。また、本発明
の硬化性組成物により形成される硬化膜は、以下の実施
例から明らかなように、各種の物性に優れたものであ
り、例えばＬＣＤ用カラーフィルターおよびＣＣＤ用カ
ラーフィルターに用いられる保護膜として極めて好適で
ある。
【００５１】
【実施例】以下、実施例によって本発明を更に詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるもので
はない。
【００５２】合成例１（重合体［Ａ１］の合成） グリシジルメタクリレート８０重量部およびスチレン２
０重量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート２００重量部中に添加混合し、アゾビスイソブ
チロニトリル（ＡＩＢＮ）４.０重量部を添加した後、
９５℃で３時間重合し、重合体［Ａ１］濃度が３２％で
ある重合体溶液を得た。共重合体［Ａ１］のポリスチレ
ン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は４,０００であった。
０重量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルア
セテート２００重量部中に添加混合し、アゾビスイソブ
チロニトリル（ＡＩＢＮ）４.０重量部を添加した後、
９５℃で３時間重合し、重合体［Ａ１］濃度が３２％で
ある重合体溶液を得た。共重合体［Ａ１］のポリスチレ
ン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は４,０００であった。
【００５３】合成例２（重合体［Ａ２］の合成） グリシジルメタクリレート５０重量部およびジシクロペ
ンタニルメタクリレート５０重量部をプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート２００重量部中に添
加混合し、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）
４.０重量部を添加した後、９５℃で３時間重合し、重
合体［Ａ２］濃度が３２％である重合体溶液を得た。共
重合体［Ａ２］のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍ
ｗ）は５,０００であった。
ンタニルメタクリレート５０重量部をプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート２００重量部中に添
加混合し、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）
４.０重量部を添加した後、９５℃で３時間重合し、重
合体［Ａ２］濃度が３２％である重合体溶液を得た。共
重合体［Ａ２］のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍ
ｗ）は５,０００であった。
【００５４】合成例３（重合体［Ａ３］の合成） グリシジルメタクリレート６０重量部、スチレン３０重
量部、およびメチルメタクリレート１０重量部をプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重
量部中に添加混合し、アゾビスイソブチロニトリル（Ａ
ＩＢＮ）４.０重量部を添加した後、９５℃で３時間重
合し、重合体［Ａ３］濃度が３２％である重合体溶液を
得た。共重合体［Ａ３］のポリスチレン換算重量平均分
子量（Ｍｗ）は４,０００であった。
量部、およびメチルメタクリレート１０重量部をプロピ
レングリコールモノメチルエーテルアセテート２００重
量部中に添加混合し、アゾビスイソブチロニトリル（Ａ
ＩＢＮ）４.０重量部を添加した後、９５℃で３時間重
合し、重合体［Ａ３］濃度が３２％である重合体溶液を
得た。共重合体［Ａ３］のポリスチレン換算重量平均分
子量（Ｍｗ）は４,０００であった。
【００５５】実施例１硬化性組成物の調製 上記合成例１で合成した重合体［Ａ１］を含む重合体溶
液（重合体［Ａ１］１００重量部（固形分）に相当）を
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１
００重量部で希釈した後、成分（Ｂ）としてエピコート
８２８（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、油化シェル
エポキシ（株）製）２０重量部、成分（Ｃ）として、４
−アセトフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート２重量部、シランカップリング剤とし
て、γ−グリシドキシプロピルジエトキシシラン６重量
部、硬化促進剤として２−エチル−４−メチルイミダゾ
ール０.１重量部、および界面活性剤としてメガファッ
クＦ１７２（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工
業（株）製）０.０１重量部を添加し、十分に攪拌する
ことにより、硬化性組成物［Ｓ１］を得た。
液（重合体［Ａ１］１００重量部（固形分）に相当）を
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１
００重量部で希釈した後、成分（Ｂ）としてエピコート
８２８（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、油化シェル
エポキシ（株）製）２０重量部、成分（Ｃ）として、４
−アセトフェニルジメチルスルホニウム ヘキサフルオ
ロアンチモネート２重量部、シランカップリング剤とし
て、γ−グリシドキシプロピルジエトキシシラン６重量
部、硬化促進剤として２−エチル−４−メチルイミダゾ
ール０.１重量部、および界面活性剤としてメガファッ
クＦ１７２（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工
業（株）製）０.０１重量部を添加し、十分に攪拌する
ことにより、硬化性組成物［Ｓ１］を得た。
【００５６】平坦化膜（Ｉ）の形成 ガラス基板上に、上記の硬化性組成物［Ｓ１］を、膜厚
が２μｍとなるようスピンコータを用いて塗布し、ホッ
トプレートにより８０℃３分間の条件で予備焼成を行っ
て塗膜を形成した。次いで、形成された塗膜をクリーン
オーブン中で、２５０℃１時間の本焼成を実施して平坦
化膜を形成した。
が２μｍとなるようスピンコータを用いて塗布し、ホッ
トプレートにより８０℃３分間の条件で予備焼成を行っ
て塗膜を形成した。次いで、形成された塗膜をクリーン
オーブン中で、２５０℃１時間の本焼成を実施して平坦
化膜を形成した。
【００５７】平坦化膜（ＩＩ）の形成 ガラス基板上に、ＪＳＲ顔料系カラーレジスト（Ｒ・Ｇ
・Ｂ）によりストライプ状の赤、青、緑の３色のカラー
フィルタ（ストライプ幅１００μｍ）を有する基板を形
成した。このカラーフィルタを有するガラス基板の表面
の凹凸を表面凹凸計α−ステップ（テンコール社製）を
用いて調べたところ、１.０μｍであった。この、カラ
ーフィルタが形成されたガラス基板上に、上記平坦化膜
（Ｉ）の形成と同様にして、硬化性組成物の塗布、予備
焼成、および本焼成を行うことにより、平坦化膜（Ｉ
Ｉ）を形成した。
・Ｂ）によりストライプ状の赤、青、緑の３色のカラー
フィルタ（ストライプ幅１００μｍ）を有する基板を形
成した。このカラーフィルタを有するガラス基板の表面
の凹凸を表面凹凸計α−ステップ（テンコール社製）を
用いて調べたところ、１.０μｍであった。この、カラ
ーフィルタが形成されたガラス基板上に、上記平坦化膜
（Ｉ）の形成と同様にして、硬化性組成物の塗布、予備
焼成、および本焼成を行うことにより、平坦化膜（Ｉ
Ｉ）を形成した。
【００５８】平坦化膜の評価 密着性 ＪＩＳ Ｋ−５４００（１９００）８.５の付着性試験
のうち、８.５・２の碁盤目テープ法にしたがって、上
記平坦化膜（Ｉ）および平坦化膜（ＩＩ）に１００個の
碁盤目をカッターナイフで形成して付着性試験を行っ
た。その際、剥離した碁盤目の数を表１に示す。平坦化
膜（Ｉ）の密着性は密着性（Ｉ）、平坦化膜（ＩＩ）の
密着性は密着性（ＩＩ）として示した。
のうち、８.５・２の碁盤目テープ法にしたがって、上
記平坦化膜（Ｉ）および平坦化膜（ＩＩ）に１００個の
碁盤目をカッターナイフで形成して付着性試験を行っ
た。その際、剥離した碁盤目の数を表１に示す。平坦化
膜（Ｉ）の密着性は密着性（Ｉ）、平坦化膜（ＩＩ）の
密着性は密着性（ＩＩ）として示した。
【００５９】ＪＩＳ Ｋ−５４００（１９００）８.４
の鉛筆引っ掻き試験のうち、８.５・１の試験法に準拠
し、上記で形成した平坦化膜（Ｉ）について鉛筆引っ掻
き試験を行い、平坦化膜の表面硬度の評価を実施した。
結果を表１に示す。
の鉛筆引っ掻き試験のうち、８.５・１の試験法に準拠
し、上記で形成した平坦化膜（Ｉ）について鉛筆引っ掻
き試験を行い、平坦化膜の表面硬度の評価を実施した。
結果を表１に示す。
【００６０】耐酸性 上記で形成した平坦化膜（Ｉ）が形成されたガラス基板
を、ＨＣｌ／ＦｅＣｌ 2・Ｈ2Ｏ／水＝２／１／１重量比
水溶液中に４５℃１５分間浸漬した後、平坦化膜の外観
の変化を観察することにより保護膜の耐酸性の評価を行
った。このとき、外観に変化のないものを耐酸性良好
（○）、外観が剥がれたり、白化したものを耐酸性不良
（×）とした。
を、ＨＣｌ／ＦｅＣｌ 2・Ｈ2Ｏ／水＝２／１／１重量比
水溶液中に４５℃１５分間浸漬した後、平坦化膜の外観
の変化を観察することにより保護膜の耐酸性の評価を行
った。このとき、外観に変化のないものを耐酸性良好
（○）、外観が剥がれたり、白化したものを耐酸性不良
（×）とした。
【００６１】耐アルカリ性 上記平坦化膜（Ｉ）が形成されたガラス基板を、５重量
％水酸化ナトリウム水溶液中に３０℃３０分間浸漬した
後、平坦化膜の外観の変化を観察することにより保護膜
の耐酸性の評価を行った。このとき、外観に変化のない
ものを耐アルカリ性良好（○）、外観が剥がれたり、白
化したものを耐アルカリ性不良（×）とした。
％水酸化ナトリウム水溶液中に３０℃３０分間浸漬した
後、平坦化膜の外観の変化を観察することにより保護膜
の耐酸性の評価を行った。このとき、外観に変化のない
ものを耐アルカリ性良好（○）、外観が剥がれたり、白
化したものを耐アルカリ性不良（×）とした。
【００６２】耐熱変色性 上記平坦化膜（Ｉ）が形成されたガラス基板について、
波長４００〜７００ｎｍにおける透過スペクトルを測定
した。次いでこのガラス基板ををクリーンオーブン中に
て２５０℃で６０分間加熱した後、再び波長４００〜７
００ｎｍにおける透過スペクトルを測定した。加熱前後
の４００ｎｍ透過スペクトルの変化を調べ、耐熱変色性
を評価した。加熱前後４００ｎｍの透過スペクトルの変
化率を表１に示す。
波長４００〜７００ｎｍにおける透過スペクトルを測定
した。次いでこのガラス基板ををクリーンオーブン中に
て２５０℃で６０分間加熱した後、再び波長４００〜７
００ｎｍにおける透過スペクトルを測定した。加熱前後
の４００ｎｍ透過スペクトルの変化を調べ、耐熱変色性
を評価した。加熱前後４００ｎｍの透過スペクトルの変
化率を表１に示す。
【００６３】平坦化性 上記平坦化膜（ＩＩ）の表面の凹凸を、表面凹凸計α−
ステップで測定した。下式にしたがって計算した平坦化
率を表１に示す。平坦化率＝平坦化膜（ＩＩ）の表面凹
凸／保護膜塗布前のカラーフィルタの表面凹凸×１００
ステップで測定した。下式にしたがって計算した平坦化
率を表１に示す。平坦化率＝平坦化膜（ＩＩ）の表面凹
凸／保護膜塗布前のカラーフィルタの表面凹凸×１００
【００６４】実施例２ 実施例１において、成分（Ｂ）としてのエピコート８２
８の添加量を４０重量部とした他は実施例１と同様に実
施し、硬化性組成物［Ｓ２］を得た。また、実施例１に
おいて、硬化性組成物［Ｓ１］の代わりに上記硬化性組
成物［Ｓ２］を使用した他は実施例１と同様にして平坦
化膜（Ｉ）および平坦化膜（ＩＩ）を形成し、評価を行
った。結果を表１に示す。
８の添加量を４０重量部とした他は実施例１と同様に実
施し、硬化性組成物［Ｓ２］を得た。また、実施例１に
おいて、硬化性組成物［Ｓ１］の代わりに上記硬化性組
成物［Ｓ２］を使用した他は実施例１と同様にして平坦
化膜（Ｉ）および平坦化膜（ＩＩ）を形成し、評価を行
った。結果を表１に示す。
【００６５】実施例３ 実施例１において、成分（Ｂ）としてのエピコート８２
８の代わりに、エピコート１５２を使用した他は実施例
１と同様に実施し、硬化性組成物［Ｓ３］を得た。ま
た、実施例１において、硬化性組成物［Ｓ１］の代わり
に上記硬化性組成物［Ｓ３］を使用した他は実施例１と
同様にして平坦化膜（Ｉ）および平坦化膜（ＩＩ）を形
成し、評価を行った。結果を表１に示す。
８の代わりに、エピコート１５２を使用した他は実施例
１と同様に実施し、硬化性組成物［Ｓ３］を得た。ま
た、実施例１において、硬化性組成物［Ｓ１］の代わり
に上記硬化性組成物［Ｓ３］を使用した他は実施例１と
同様にして平坦化膜（Ｉ）および平坦化膜（ＩＩ）を形
成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【００６６】実施例４硬化性組成物の調製 実施例１において、重合体［Ａ１］を含む溶液の代わり
に前記合成例２で合成した重合体［Ａ２］を含む溶液を
使用し、成分（Ｃ）として４−アセトキシフェニルジメ
チルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート２重
量部を使用した他は、実施例１と同様に実施し、硬化性
組成物［Ｓ４］を得た。平坦化膜（Ｉ）の形成 ガラス基板上に、上記硬化性組成物［Ｓ４］を、膜厚が
２μｍとなるようスピンコータを用いて塗布し、ホット
プレートにより８０℃３分間の条件で予備焼成を行って
塗膜を形成した。次いで、形成された塗膜に露光機Ｃａ
ｎｏｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン（株）製）を用いて
ｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍの
強度比＝２.７：２.５：４.８）をｉ線換算で２００ｍ
Ｊ／ｃｍ2の露光量で照射した、。その後、塗膜が形成
された基板にクリーンオーブン中で、２５０℃１時間の
本焼成を施して平坦化膜を形成した。
に前記合成例２で合成した重合体［Ａ２］を含む溶液を
使用し、成分（Ｃ）として４−アセトキシフェニルジメ
チルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート２重
量部を使用した他は、実施例１と同様に実施し、硬化性
組成物［Ｓ４］を得た。平坦化膜（Ｉ）の形成 ガラス基板上に、上記硬化性組成物［Ｓ４］を、膜厚が
２μｍとなるようスピンコータを用いて塗布し、ホット
プレートにより８０℃３分間の条件で予備焼成を行って
塗膜を形成した。次いで、形成された塗膜に露光機Ｃａ
ｎｏｎ ＰＬＡ５０１Ｆ（キャノン（株）製）を用いて
ｇｈｉ線（波長４３６ｎｍ、４０５ｎｍ、３６５ｎｍの
強度比＝２.７：２.５：４.８）をｉ線換算で２００ｍ
Ｊ／ｃｍ2の露光量で照射した、。その後、塗膜が形成
された基板にクリーンオーブン中で、２５０℃１時間の
本焼成を施して平坦化膜を形成した。
【００６７】平坦化膜（ＩＩ）の形成 ガラス基板上に、 ＪＳＲ顔料系カラーレジスト（Ｒ・
Ｇ・Ｂ）によりストライプ状の赤、青、緑の３色の着色
層（ストライプ幅１００μｍ）を有するカラーフィルタ
を形成した。この着色層を有するガラス基板の表面の凹
凸を表面凹凸計α−ステップ（テンコール社製）を用い
て調べたところ、１.０μｍであった。この、着色層が
形成されたガラス基板上に、上記平坦化膜（Ｉ）の形成
と同様にして、硬化性組成物の塗布、予備焼成、光照射
および本焼成を行うことにより、平坦化膜（ＩＩ）を形
成した。
Ｇ・Ｂ）によりストライプ状の赤、青、緑の３色の着色
層（ストライプ幅１００μｍ）を有するカラーフィルタ
を形成した。この着色層を有するガラス基板の表面の凹
凸を表面凹凸計α−ステップ（テンコール社製）を用い
て調べたところ、１.０μｍであった。この、着色層が
形成されたガラス基板上に、上記平坦化膜（Ｉ）の形成
と同様にして、硬化性組成物の塗布、予備焼成、光照射
および本焼成を行うことにより、平坦化膜（ＩＩ）を形
成した。
【００６８】平坦化膜の評価 上記で形成された平坦化膜（Ｉ）および平坦化膜（Ｉ
Ｉ）を用いて、実施例１と同様にして、平坦化膜の評価
を行った。評価結果を表１に示す。
Ｉ）を用いて、実施例１と同様にして、平坦化膜の評価
を行った。評価結果を表１に示す。
【００６９】実施例５ 実施例１において、重合体［Ａ１］を含む溶液の代わり
に前記合成例３で合成した重合体［Ａ３］を含む溶液を
使用し、成分（Ｃ）として３−ベンジルベンゾチアゾニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネート２重量部を使用し
た他は、実施例１と同様に実施し、硬化性組成物［Ｓ
５］を得た。また、実施例１において、硬化性組成物
［Ｓ１］の代わりに上記硬化性組成物［Ｓ５］を使用し
た他は実施例１と同様にして平坦化膜（Ｉ）および平坦
化膜（ＩＩ）を形成し、評価を行った。結果を表１に示
す。
に前記合成例３で合成した重合体［Ａ３］を含む溶液を
使用し、成分（Ｃ）として３−ベンジルベンゾチアゾニ
ウム ヘキサフルオロアンチモネート２重量部を使用し
た他は、実施例１と同様に実施し、硬化性組成物［Ｓ
５］を得た。また、実施例１において、硬化性組成物
［Ｓ１］の代わりに上記硬化性組成物［Ｓ５］を使用し
た他は実施例１と同様にして平坦化膜（Ｉ）および平坦
化膜（ＩＩ）を形成し、評価を行った。結果を表１に示
す。
【００７０】実施例６ 無水トリメリット酸２０重量部をジグリムに溶解し、濃
度３０重量％の無水トリメリット酸のジグリム溶液から
なる硬化剤溶液を調製した。前記実施例２で調製した硬
化性組成物［Ｓ２］に上記硬化剤溶液を添加混合し、硬
化性組成物［Ｓ６］を調製した。また、実施例１におい
て、硬化性組成物［Ｓ１］の代わりに上記硬化性組成物
［Ｓ６］を使用した他は実施例１と同様にして平坦化膜
（Ｉ）および平坦化膜（ＩＩ）を形成し、評価を行っ
た。結果を表１に示す。
度３０重量％の無水トリメリット酸のジグリム溶液から
なる硬化剤溶液を調製した。前記実施例２で調製した硬
化性組成物［Ｓ２］に上記硬化剤溶液を添加混合し、硬
化性組成物［Ｓ６］を調製した。また、実施例１におい
て、硬化性組成物［Ｓ１］の代わりに上記硬化性組成物
［Ｓ６］を使用した他は実施例１と同様にして平坦化膜
（Ｉ）および平坦化膜（ＩＩ）を形成し、評価を行っ
た。結果を表１に示す。
【００７１】比較例 実施例１において、（Ｃ）成分を添加しなかった以外は
実施例１と同様にして硬化性組成物［Ｒ１］を調製し
た。また、実施例１において、硬化性組成物［Ｓ１］の
代わりに上記硬化性組成物［Ｒ１］を使用した他は実施
例１と同様にして平坦化膜（Ｉ）および平坦化膜（Ｉ
Ｉ）を形成し、評価を行った。結果を表１に示す。
実施例１と同様にして硬化性組成物［Ｒ１］を調製し
た。また、実施例１において、硬化性組成物［Ｓ１］の
代わりに上記硬化性組成物［Ｒ１］を使用した他は実施
例１と同様にして平坦化膜（Ｉ）および平坦化膜（Ｉ
Ｉ）を形成し、評価を行った。結果を表１に示す。
【００７２】
【表１】
【００７３】
【発明の効果】本発明の硬化性組成物によれば、表面の
平坦性が低い基体であっても、当該基体上に、平坦性が
高い硬化膜を形成することができ、しかも、表面硬度が
高く、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性などの各種の耐性
に優れた硬化膜を形成することができる。
平坦性が低い基体であっても、当該基体上に、平坦性が
高い硬化膜を形成することができ、しかも、表面硬度が
高く、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性などの各種の耐性
に優れた硬化膜を形成することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ Ｇ０２Ｂ 5/20 １０１ ４Ｊ１００ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５０５ Ｇ０２Ｆ 1/1333 ５０５ 1/1335 ５０５ 1/1335 ５０５ Ｆターム(参考） 2H048 BA45 BB28 BB37 2H090 HA04 HB13X HC05 HC08 HC15 HD02 HD03 LA15 2H091 FA02Y FB03 FC22 FD06 GA07 GA16 LA02 LA04 4J036 AD01 AF01 AK08 AK11 GA01 GA02 GA03 GA04 GA06 HA01 JA01 KA01 4J038 CG141 CH171 CJ021 CJ131 CJ141 DB062 DB072 JB11 JB36 JC14 JC17 JC18 JC26 KA02 NA01 PA17 PA19 PB08 PC03 4J100 AB00Q AB02Q AB03Q AB04Q AL03Q AL04Q AL08P AL08Q AL10P AM47Q AM48Q AM55Q AR28Q BC04Q BC43Q BC54P CA01 CA04 DA01
Claims (2)
- 【請求項１】 （Ａ）下記式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1は、水素原子または炭素原子数１〜５のア
ルキル基を示し、Ｒ2は、水素原子または炭素原子数１
〜２のアルキル基を示し、ｍは１〜８の整数を示す。〕
で表される構造単位を２０モル％以上含有してなる重合
体または共重合体と、 （Ｂ）（Ａ）成分以外のエポキシ樹脂と、 （Ｃ）熱あるいは放射線により酸を発生する化合物とを
含有してなることを特徴とする平坦化膜用硬化性組成
物。 - 【請求項２】 請求項１の平坦化膜用硬化性組成物から
得られた平坦化膜。
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