JP3579985B2 - 保護膜形成用組成物および保護膜 - Google Patents

保護膜形成用組成物および保護膜 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、保護膜形成用組成物および保護膜に関し、特に、光デバイスに用いられる保護膜を形成するために好適な保護膜形成用組成物および保護膜に関する。
【0002】
【従来の技術】
液晶表示素子等の表示素子においては、その製造工程中に、溶剤、酸またはアルカリ溶液等による浸漬処理が行なわれ、また、スパッタリングにより配線電極層を形成する際には、素子の表面が局部的に高温に曝される。従って、このような処理によって素子が劣化あるいは損傷することを防止するために、これらの処理に対して耐性を有する薄膜の保護膜を素子の表面に設けることが行なわれている。
【0003】
このような保護膜においては、当該保護膜を形成すべき基体または下層、さらに保護膜上に形成される層に対して接着性が高いものであること、膜自体が平滑で強靱であること、透明性を有するものであること、耐熱性および耐光性が高く、長期間にわたって着色、黄変、白化等の変質を起こさないものであること、耐水性、耐溶剤性、耐酸性および耐アルカリ性に優れたものであること等の性能が要求される。
これらの諸特性を満たす保護膜を形成するための材料としては、例えば特開昭60−217230号公報等に開示されている熱硬化性組成物が知られている。このような熱硬化性組成物においては、当該熱硬化性組成物を、保護膜を形成すべき基体の表面に塗布した後、この塗膜を加熱処理して硬化させることにより、保護膜を形成することができる。
【0004】
一方、スーパーツイステッドネマチック(STN)方式のカラー液晶表示素子においては、ツイステッドネマチック(TN)方式の液晶表示素子と比較して、セルギャップの均一性が極めて重要である。従って、STN方式のカラー液晶表示素子に用いられる基板としては、その表面の平坦性が高いものであることが要求される。表面の平坦性の低い基板を用いると、得られる液晶表示素子に表示むらが発生するからである。
【0005】
然るに、例えばカラーフィルターが形成された基板においては、その表面にカラーフィルターによる凹凸が形成されている。そして、このカラーフィルターが形成された基板に、従来の熱硬化性組成物を用いて保護膜を形成すると、表面の平坦性の高い保護膜を得ることが困難であった。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、以上のような事情に基づいてなされたものであって、その目的は、表面が平坦でない基体であっても、当該基体上に、表面の平坦性の高い保護膜を形成することができる保護膜形成用組成物を提供することにある。
本発明の他の目的は、表面硬度が高く、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性等の各種の耐性に優れた保護膜を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明の保護膜形成用組成物は、上記一般式(1)で表される構成単位を少なくとも70重量%含有してなり、かつ、ポリスチレン換算重量平均分子量が2000〜4900である重合体または共重合体よりなる成分(A)と、
多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から選択された少なくとも1種の化合物よりなる成分(B)と、
有機溶剤よりなる成分(C)と
を含有してなることを特徴とする。
【0008】
本発明の保護膜形成用組成物においては、成分(B)が、成分(A)100重量部に対して、1〜100重量部の割合で含有されていることが好ましい。
また、本発明の保護膜形成用組成物においては、アルコキシシラノ基とエポキシ基とを含有する化合物よりなる成分(D)が、成分(A)100重量部に対して、0.1〜200重量部の割合で含有されていてもよい。
【0009】
本発明の保護膜は、上記の保護膜形成用組成物を用いることによって得られることを特徴とする。
この保護膜は、光デバイス用の保護膜として用いられることが好ましい。
【0010】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の保護膜形成用組成物について具体的に説明する。
本発明の保護膜形成用組成物は、特定の構造単位を特定の割合で含有する重合体または共重合体(以下、「特定の重合体」という。)よりなる成分(A)と、多価カルボン酸無水物または多価カルボン酸から選択された少なくとも1種の化合物よりなる成分(B)と、有機溶剤よりなる成分(C)とを含有してなるものである。
【0011】
<成分(A)>
成分(A)として用いられる特定の重合体は、上記一般式(1)で表される構造単位を含有してなるものである。
上記一般式(1)において、mは1〜8、好ましくは1〜4の整数である。また、Rは、水素原子または炭素原子数が1〜5の低級アルキル基である。この低級アルキル基は、直鎖状のものおよび分岐鎖状のものの何れであってもよく、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、n−ペンチル基等を挙げることができる。
【0012】
一般式(1)で表される構造単位を導入するために使用される単量体(以下、「特定の単量体」ともいう。)としては、例えば(メタ)アクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、(メタ)アクリル酸−3,4−エポキシブチル、(メタ)アクリル酸−4,5−エポキシペンチル、(メタ)アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチル等を挙げることができる。これらの中で、特に(メタ)アクリル酸グリシジルが好ましい。これらの単量体は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
【0013】
成分(A)として用いられる特定の重合体においては、上記一般式(1)で表される構造単位が、当該重合体中に少なくとも70重量%含まれていることが必要とされ、好ましくは70〜90重量%、より好ましくは70〜85重量%である。
【0014】
成分(A)として用いられる特定の重合体は、上記一般式(1)で表される構造単位のみからなるものであっても、これらの以外の構造単位が30重量%以下、好ましくは30〜10重量%、より好ましくは30〜15重量%の割合で含有されてなるものであってもよい。
【0015】
一般式(1)で表される構造単位以外の構造単位を導入するための単量体(以下、「その他の単量体」ともいう。)としては、例えば(メタ)アクリル酸メチル、(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メタ)アクリル酸−2−エチルヘキシル、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル酸シクロヘキシル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニル、(メタ)アクリル酸ジシクロペンタニルオキシエチル、(メタ)アクリル酸イソボニル等の(メタ)アクリル酸のエテスル;スチレン、α−メチルスチレン、p−メチルスチレン、ビニルナフタレン等のビニル芳香族系化合物を挙げることができる。これらの単量体は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
【0016】
成分(A)として用いられる特定の重合体は、ポリスチレン換算重量平均分子量(以下、単に「重量平均分子量」または「Mw」という。)が2000〜4900の範囲のものとされ、これにより、表面の平坦性が極めて高い保護膜を得ることができる。重量平均分子量が2000未満である重合体を用いる場合には、当該組成物による塗膜を形成することが困難となる。一方、重量平均分子量が大きい重合体を用いる場合には、表面の平坦性が高い保護膜を得ることが困難となる。
【0017】
成分(A)として用いられる特定の重合体は、例えば、特定の単量体、または特定の単量体とその他の単量体とを、重合溶媒中で重合することにより製造される。
【0018】
特定の重合体を製造するために用いられる重合溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン等のエーテル類;ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等のグリコールエーテル類、メチルセロソルブアセテート等のセロソルブエステル類が挙げられ、芳香族炭化水素類、ケトン類、エステル類等も用いることができる。
【0019】
特定の単量体または特定の単量体とその他の単量体との重合のための重合開始剤としては、一般的にラジカル重合開始剤として知られているものを使用することができ、その具体例としては、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス−(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス−(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)等のアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、tert−ブチルペルオキシピバレート、1,1’−ビス−(tert−ブチルペルオキシ)シクロヘキサン等の有機過酸化物;および過酸化水素が挙げられる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を使用する場合には、これと還元剤とを組み合わせてレドックス型重合開始剤として使用してもよい。
【0020】
特定の重合体の製造においては、重量平均分子量を調節するために、分子量調節剤を使用することができ、その具体例としては、クロロホルム、四臭化炭素等のハロゲン化炭化水素類;n−ヘキシルメルカプタン、n−オクチルメルカプタン、n−ドデシルメルカプタン、tert−ドデシルメルカプタン、チオグリコール酸等のメルカプタン類;ジメチルキサントゲンジスルフィド、ジイソプロピルキサントゲンジスルフィド等のキサントゲン類;ターピノーレン、α−メチルスチレンダイマー等が挙げられる。
【0021】
また、(A)成分として、一般式(1)で表される構造単位とこれら以外の構造単位とを含有する特定の重合体を用いる場合には、当該重合体は、特定の単量体とその他の単量体とのランダム共重合体およびブロック共重合体のいずれであってよい。
【0022】
<成分(B)>
成分(B)として用いられる多価カルボン酸無水物または多価カルボン酸は、成分(A)として用いられる特定の重合体の硬化剤として作用するものである。
【0023】
多価カルボン酸無水物の具体例としては、無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、無水ドデセニルコハク酸、無水トリカルバニル酸、無水マレイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸等の脂肪族ジカルボン酸無水物;1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物等の脂環族多価カルボン酸二無水物;無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸無水物;エチレングリコールビス無水トリメリテート、グリセリントリス無水トリメリテート等のエステル基含有酸無水物を挙げることができる。これらの中では、形成される保護膜の耐熱性の観点から、特に芳香族多価カルボン酸無水物が好適である。
【0024】
また、多価カルボン酸の具体例としては、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ブタンテトラカルボン酸、マレイン酸、イタコン酸等の脂肪族多価カルボン酸;ヘキサヒドロフタル酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸、シクロペンタンテトラカルボン酸等の脂環族多価カルボン酸;フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、1,2,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸等の芳香族多価カルボン酸を例示することができる。これらの中では、組成物の反応性、形成される保護膜の耐熱性等の観点から、芳香族多価カルボン酸が好適である。
これらの多価カルボン酸無水物または多価カルボン酸は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
【0025】
成分(B)の使用割合は、通常、成分(A)100重量部に対して1〜100重量部、好ましくは3〜50重量部である。成分(B)の使用割合が1重量部未満である場合には、形成される保護膜は十分な架橋密度を有するものとならず、当該保護膜の各種耐性が低下することがある。一方,成分(B)の使用割合が100重量部を超える場合には、形成される保護膜中に未反応の成分(B)が多量に残存し、その結果、当該保護膜の性質が不安定なものとなったり、基板に対する保護膜の密着性が低下したりすることがある。
【0026】
<成分(C)>
成分(C)である有機溶剤としては、上記の成分(A)、成分(B)および後述するその他の成分を均一に溶解させることができ、これらの各成分と反応しないものが用いられる。
このような有機溶剤の具体例としては、メタノール、エタノール等のアルコール類;テトラヒドロフラン等のエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類;メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート等のエチレングリコールアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル等のジエチレングリコール類;プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールプロピルエーテル、プロピレングリコールブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールアルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコールメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールプロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールブチルエーテルプロピオネート等のプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネート類;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノン等のケトン類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、2−ヒドロキシプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸プロピル、乳酸ブチル、3−ヒドロキシプロピオン酸メチル、3−ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−ヒドロキシプロピオン酸プロピル、3−ヒドロキシプロピオン酸ブチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸プロピル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸プロピル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸プロピル、エトキシ酢酸ブチル、プロポキシ酢酸メチル、プロポキシ酢酸エチル、プロポキシ酢酸プロピル、プロポキシ酢酸ブチル、ブトキシ酢酸メチル、ブトキシ酢酸エチル、ブトキシ酢酸プロピル、ブトキシ酢酸ブチル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸ブチル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−エトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸ブチル、2−ブトキシプロピオン酸メチル、2−ブトキシプロピオン酸エチル、2−ブトキシプロピオン酸プロピル、2−ブトキシプロピオン酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸プロピル、3−メトキシプロピオン酸ブチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸プロピル、3−エトキシプロピオン酸ブチル、3−プロポキシプロピオン酸メチル、3−プロポキシプロピオン酸エチル、3−プロポキシプロピオン酸プロピル、3−プロポキシプロピオン酸ブチル、3−ブトキシプロピオン酸メチル、3−ブトキシプロピオン酸エチル、3−ブトキシプロピオン酸プロピル、3−ブトキシプロピオン酸ブチル等のエステル類が挙げられる。
【0027】
これらの中では、各成分の溶解性、各成分との反応性および塗膜の形成のしやすさの観点から、グリコールエーテル類、エチレングリコールアルキルエーテルアセテート類、エステル類およびジエチレングリコール類が好ましく用いられる。
これらの有機溶剤は、単独でまたは2類種以上を組み合わせて使用することができる。
【0028】
また、上記の有機溶剤とともに高沸点溶剤を併用することもできる。このような高沸点溶剤の具体例としては、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアニリド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、フェニルセロソルブアセテート等が挙げられる。これらの高沸点溶剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて上記の有機溶剤と併用することができる。
【0029】
成分(C)の使用割合は、特に限定されず、使用目的に応じて適宜選定することができるが、通常、組成物中の固形分濃度が5〜50重量%となる割合で使用される。
【0030】
<その他の成分>
本発明の保護膜形成用組成物においては、上述した成分(A)〜成分(C)以外に、形成される保護膜の基板に対する密着性を付与するため、成分(D)としてアルコキシシラノ基とエポキシ基とを有する化合物を用いることができ、また、必要に応じて、例えば硬化促進剤、界面活性剤、エポキシ樹脂、紫外線吸収剤等が含有されていてもよい。
【0031】
〔成分(D)〕
成分(D)として用いることができるアルコキシシラノ基とエポキシ基とを有する化合物の具体例としては、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルジエトキシシラン等を挙げることができ、これらの化合物は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
【0032】
成分(D)の使用割合は、通常、成分(A)100重量部に対して0.1〜200重量部、好ましくは5〜150重量部である。成分(D)の割合が0.1重量部未満である場合には、形成される保護膜の基板に対する密着性を付与する効果が十分に得られない。一方、成分(D)の割合が200重量部を超える場合には、形成される保護膜の耐アルカリ性、耐溶剤性等が低下することがある。
【0033】
〔硬化促進剤〕
硬化促進剤は、成分(A)と成分(B)との反応を促進させるために使用されるものであり、一般に2級窒素原子または3級窒素原子を含むヘテロ環構造を有する化合物が用いられる。
このような化合物の具体例としては、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、インドール、インダゾール、ベンズイミダゾール若しくはイソシアヌル酸またはこれらの誘導体等を挙げることができる。これらの中でも、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、4−メチル−2−フェニルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチル−1−(2’−シアノエチル)イミダゾール、2−エチル−4−メチル−1−[2’−(3”,5”−ジアミノトリアジニル)エチル]イミダゾール、ベンズイミダゾール等のイミダゾール誘導体が好適であり、最も好適には、2−エチル−4−メチルイミダゾール、4−メチル−2−フェニルイミダゾールおよび1−ベンジル−2−メチルイミダゾールが使用される。
これらの化合物は、単独でまたは2種以上を組み合わせて硬化促進剤として使用することができる。
硬化促進剤は、成分(A)100重量部に対して0〜30重量部、特に0.1〜10重量部の割合で使用されることが好ましい。
【0034】
〔界面活性剤〕
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤およびシリコーン系界面活性剤を好適に用いることができる。
フッ素系界面活性剤としては、末端、主鎖および側鎖の少なくとも何れかの部位にフルオロアルキルまたはフルオロアルキレン基を有する化合物が好適に用いることができ、その具体例としては、1,1,2,2−テトラフロロオクチル(1,1,2,2−テトラフロロプロピル)エーテル、1,1,2,2−テトラフロロオクチルヘキシルエーテル、オクタエチレングリコールジ(1,1,2,2−テトラフロロブチル)エーテル、ヘキサエチレングリコール(1,1,2,2,3,3−ヘキサフロロペンチル)エーテル、オクタプロピレングリコールジ(1,1,2,2−テトラフロロブチル)エーテル、ヘキサプロピレングリコールジ(1,1,2,2,3,3−ヘキサフロロペンチル)エーテル、パーフロロドデシルスルホン酸ナトリウム、1,1,2,2,8,8,9,9,10,10−デカフロロドデカン、1,1,2,2,3,3−ヘキサフロロデカン等を挙げることができる。また、これらの市販品としては、BM−1000、BM−1100(以上、BM Chemie社製)、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183(以上、大日本インキ化学工業(株)製)等を挙げることができる。
【0035】
また、シリコーン系界面活性剤としては、例えばトーレシリコーンDC3PA、同SH7PA、同DC11PA、同SH21PA、同SH28PA、同SH29PA、同SH30PA(以上、トーレシリコーン(株)製)、TSF−4440、TSF−4300、TSF−4445、TSF−4446、TSF−4460、TSF−4452(以上、東芝シリコーン(株)製)等の商品名で市販品されているものを挙げることができる。
【0036】
これらの界面活性剤は、単独でまたは2種以上を組み合わせて使用することができる。
界面活性剤の使用割合は、その種類や組成物を構成する各成分の種類や割合等によっても異なるが、一般に、成分(A)100重量部に対して0〜5重量部、特に0.001〜2重量部の範囲が好適である。
【0037】
〔エポキシ樹脂〕
エポキシ樹脂としては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、複素環式エポキシ樹脂等を用いることができる。
【0038】
〈保護膜形成用組成物〉
本発明の保護膜形成用組成物は、前記特定の重合体よりなる成分(A)と、多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から選択された少なくとも一種の化合物よりなる成分(B)と、有機溶剤よりなる成分(C)と、更に必要に応じて用いられる、アルコキシシラノ基とエポキシ基とを有する化合物よりなる成分(D)、硬化促進剤、界面活性剤およびエポキシ樹脂等とを含有してなる溶液状組成物として用いられる。
この溶液状組成物の30℃における溶液粘度は、3〜25cPs、特に5〜14cPsであることが好ましい。本発明の組成物において、30℃における溶液粘度が3〜25cPsのものを用いることにより、後述する方法により測定される平坦化度が20%以下の塗膜を形成することができる。更に本発明の組成物において、30℃における溶液粘度が5〜14cPsのものを用いることにより、平坦化度が15%以下の塗膜を形成することができる。
【0039】
<保護膜の形成>
本発明の保護膜形成用組成物を用いることにより、例えば次のようにして保護膜を形成することができる。
すなわち、保護膜形成用組成物を、保護膜を形成すべき基体の表面に塗布し、その後、この塗膜を加熱処理して硬化させることにより、保護膜を形成する。
【0040】
以上において、保護膜形成用組成物の塗布方法としては、特に限定されず、例えばスプレー法、ロールコート法、回転塗布法(スピンコート法)等の各種の方法を採用することができる。
加熱処理の条件は、組成物中の各成分の種類および割合等によっても異なるが、通常、150〜250℃で0.2〜1.5時間程度である。
【0041】
本発明の保護膜形成用組成物により形成される保護膜は、以下の実施例から明らかなように、表面の平坦性が高く、しかも、各種の物性に優れたものであり、例えばカラーフィルター等の光デバイス用の保護膜として極めて好適である。
【0042】
【実施例】
以下、実施例によって本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、下記の実施例において、特定の重合体の重量平均分子量(Mw)の測定および保護膜形成用組成物の溶液の粘度の測定は、以下の方法により行った。
重量平均分子量:
東ソー社製GPCカラム(TSK gel G2000H 2本,G3000H 1本,G4000H 1本)を用い、流量1.0ミリリットル/分、溶出溶媒テトラヒドロフラン、カラム温度40℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフ法により測定した。
粘度:
E型粘度計(東京計器社製)を用い、30℃における粘度を測定した。
【0043】
〈特定の重合体の合成〉
〔合成例1〕
特定の単量体としてグリシジルメタクリレート80重量部、その他の単量体としてメチルメタクリレート20重量部を用い、これらの単量体をエチルセロソルブアセテート300重量部中に添加混合し、この混合単量体溶液中に、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル(以下、「AIBN」という。)2重量部、分子量調節剤としてドデシルメルカプタン5重量部を添加した後、95℃で3時間の条件で混合単量体を重合させることにより、特定の重合体(A1)を含有する重合体溶液を得た。
その後、得られた重合体溶液を多量のメタノール中に滴下することにより、特定の重合体(A1)を凝固させた。この特定の重合体(A1)の凝固物を水洗した後、テトラヒドロフラン中に溶解させ、この溶液を多量のメタノール中に滴下することにより、再度、特定の重合体(A1)を凝固させた。この特定の重合体(A1)の溶解および凝固の操作を合計3回行った後、得られた凝固物を60℃で48時間真空乾燥することにより、特定の重合体(A1)の精製を行った。
この特定の重合体(A1)を濃度が25重量%となるように成分(C)であるエチルセロソルブアセテート中に溶解することにより、重合体溶液(S1)を調製した。
なお、得られた特定の重合体(A1)の重量平均分子量は2100であった。
【0044】
〔合成例2
特定の単量体としてグリシジルメタクリレート60重量部、その他の単量体としてジシクロペンタニルメタクリレート4重量部を用いたこと以外は合成例1と同様にして、特定の重合体(A2)を得、これを精製し、重合体溶液(S2)を調製した。
なお、得られた特定の重合体(A2)の重量平均分子量は3200であった。
【0045】
〔合成例3〕
分子量調節剤としてドデシルメルカプタン3重量部を用いたこと以外は合成例1と同様にして、比較用の重合体(A3)を得、これを精製し、重合体溶液(S3)を調製した。 なお、得られた比較用の重合体(A3)の重量平均分子量は7900であった。
【0046】
〔合成例4〕
特定の単量体としてグリシジルメタクリレート70重量部、その他の単量体としてメチルメタクリレート20重量部およびスチレン10重量部を用いたこと以外は合成例1と同様にして、特定の重合体(A4)を得、これを精製し、重合体溶液(S4)を調製した。
なお、得られた特定の重合体(A4)の重量平均分子量は4100であった。
【0047】
〔合成例5〕
分子量調節剤を使用せず、重合開始剤としてAIBN5重量部を用いたこと以外は合成例1と同様にして、特定の重合体(A5)を得、これを精製し、重合体溶液(S5)を調製した。
なお、得られた特定の重合体(A5)の重量平均分子量は4900であった。
【0048】
〔合成例6〕
特定の単量体としてグリシジルメタクリレート70重量部、その他の単量体としてスチレン30重量部を用いたこと以外は合成例1と同様にして、特定の重合体(A6)を得、これを精製し、重合体溶液(S6)を調製した。
なお、得られた特定の重合体(A6)の重量平均分子量は3000であった。
【0049】
〔合成例7〕
分子量調節剤としてα−メチルスチレンダイマー5重量部を用いたこと以外は合成例1と同様にして、特定の重合体(A7)を得、これを精製し、重合体溶液(S7)を調製した。
なお、得られた特定の重合体(A7)の重量平均分子量は4000であった。
【0050】
〔比較合成例1〕
分子量調節剤を使用せず、重合開始剤としてAIBN1重量部を用い、80℃で3時間の条件で混合単量体を重合したこと以外は合成例1と同様にして、比較用重合体(A8)を得、これを精製し、比較用の重合体溶液(S8)を調製した。
なお、得られた比較用重合体(A8)の重量平均分子量は32000であった。
【0051】
〔比較合成例2〕
分子量調節剤を用いなかったこと以外は合成例1と同様にして、比較用重合体(A9)を得、比較用の重合体溶液(S9)を調製した。
得られた比較用重合体(A9)の重量平均分子量は16000であった。
【0052】
〈実施例1〉
重合体溶液(S1)100重量部を成分(C)であるエチルセロソルブアセテート25重量部で希釈した後、この溶液(特定の重合体(A1)25重量部およびエチルセロソルブアセテート100重量部)中に、成分(B)としてトリメリット酸無水物7.5重量部、成分(D)としてγ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン5重量部、硬化促進剤として1−ベンジル−2−メチルイミダゾール0.075重量部、および界面活性剤としてフッ素系界面活性剤「BM−1000(BM Chemie社製)0.025重量部を添加し、十分に攪拌することにより、本発明の保護膜形成用組成物を得た。この保護膜形成用組成物の溶液粘度は7.6cPsであった。
【0053】
〔保護膜の形成〕
形成例(1)
ガラス基板上に、スピンコーターを用いて、上記の保護膜形成用組成物を膜厚が2μmとなるように塗布し、クリーンオーブン中で、200℃で1時間の条件で加熱処理することにより、ガラス基板上に保護膜を形成した。
形成例(2)
ガラス基板「コーニング7059(ダクラス ダウコーニング社製)」上に、ゼラチンと重クロム酸カリウム溶液を用いて、染色法によりストライプ状の赤、青、緑の3色のカラーフィルターを形成した(ストライプ幅150μm)。このカラーフィルターが形成された基板の表面の凹凸を、「α−ステップ」(テンコール社製)を用いて調べたところ、1.0μmであった。この基板に形成されたカラーフィルター上に、上記形成例(1)と同様にして、保護膜形成用組成物の塗布、加熱処理を行うことにより、保護膜を形成した。
【0054】
〔保護膜の評価〕
密着性;
JIS K−5400(1900)8.5の付着性試験のうち、8.5・2碁盤目テープ法に従って、上記形成例(1)および形成例(2)により形成された保護膜に100個の碁盤目をカッターナイフで形成して付着性試験を行い、剥離した碁盤目の数を測定し、次の基準により保護膜の密着性の評価を行った。
○:5個以下
△:6〜49個
×:50個以上
【0055】
表面硬度;
JIS K−5400(1990)8.4の鉛筆引っかき試験のうち、8.4・1試験法に準拠し、上記形成例(1)により形成された保護膜について鉛筆引っかき試験を行い、保護膜の表面硬度の評価を行った。
【0056】
耐酸性;
上記形成例(1)により保護膜が形成されたガラス基板を、20重量%塩化水素水溶液中に40℃で10分間浸漬した後、保護膜の外観の変化を調べることにより、保護膜の耐酸性の評価を行った。
【0057】
耐アルカリ性;
上記形成例(1)により保護膜が形成されたガラス基板を、10重量%水酸化ナトリウム水溶液中に40℃で60分間浸漬した後、保護膜の外観の変化を調べることにより、保護膜の耐アルカリ性の評価を行った。
【0058】
耐熱性;
上記形成例(1)により保護膜が形成されたガラス基板について、波長400〜700nmにおける透過スペクトルを測定し、その後、この基板をクリーンオーブン中にて250℃で60分間加熱した後、波長400〜700nmにおける透過スペクトルを測定し、加熱前後における透過スペクトルの変化を調べ、下記の基準により、保護膜の耐熱性の評価を行った。
○:透過スペクトルの変化が1%未満
×:透過スペクトルの変化が1%以上
【0059】
表面の平坦性;
上記形成例(2)により形成された保護膜の表面の凹凸を、「α−ステップ」を用いて調べ、下記の式により、カラーフィルターによる基板の表面の凹凸に対する平坦化度を算出した。
以上の結果を表1に示す。
【0060】
【数1】
Figure 0003579985
【0061】
〈実施例2〜6
重合体溶液(S1)の代わりに、それぞれ重合体溶液(S2)および重合体溶液(S4)〜重合体溶液(S7)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、本発明の保護膜形成用組成物を調製し、これらを用いて保護膜を形成し、その評価を行った。結果を表1に示す。
【0062】
実施例7
ビスフェノールA型エポキシ樹脂10重量部を添加したこと以外は実施例1と同様にして、本発明の保護膜形成用組成物を調製し、これを用いて保護膜を形成し、その評価を行った。結果を表1に示す。
【0063】
〈比較例1〉
重合体溶液(S1)の代わりに、比較用の重合体溶液(S8)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、比較用の組成物を調製し、これを用いて保護膜を形成し、その評価を行った。結果を表1に示す。
【0064】
〈比較例2および3
重合体溶液(S1)の代わりに、それぞれ比較用の重合体溶液(S9)および重合体溶液(S3)を用いたこと以外は実施例1と同様にして、比較用の組成物を調製し、これを用いて保護膜を形成し、その評価を行った。結果を表1に示す。
【0065】
【表1】
Figure 0003579985
【0066】
表1から明らかなように、実施例1〜実施例7に係る保護膜形成用組成物により形成された保護膜は、表面の平坦性が高く、しかも、各種の物性に優れたものであった。
これに対し、比較例1〜比較例3に係る組成物においては、重量平均分子量が大きい重合体を使用しているため、表面の平坦性の高い保護膜を形成することができなかった。
【0067】
【発明の効果】
本発明の保護膜形成用組成物によれば、表面が平坦でない基体であっても、当該基体上に、表面の平坦性の高い保護膜を形成することができる。
また、本発明の保護膜は、表面硬度が高く、耐熱性、耐酸性、耐アルカリ性等の各種の耐性に優れたものである。

Claims (5)

  1. 下記一般式(1)で表される構成単位を少なくとも70重量%含有してなり、かつ、ポリスチレン換算重量平均分子量が2000〜4900である重合体または共重合体よりなる成分(A)と、
    多価カルボン酸無水物および多価カルボン酸から選択された少なくとも1種の化合物よりなる成分(B)と、
    有機溶剤よりなる成分(C)と
    を含有してなることを特徴とする保護膜形成用組成物。
    Figure 0003579985
    〔式中、Rは、水素原子または炭素原子数1〜5のアルキル基を示し、mは、1〜8の整数を示す。〕
  2. 成分(B)が、成分(A)100重量部に対して、1〜100重量部の割合で含有されていることを特徴とする請求項1に記載の保護膜形成用組成物。
  3. アルコキシシラノ基とエポキシ基とを含有する化合物よりなる成分(D)が、成分(A)100重量部に対して、0.1〜200重量部の割合で含有されていることを特徴とする請求項1および請求項2に記載の保護膜形成用組成物。
  4. 請求項1〜請求項3のいずれかに記載の保護膜形成用組成物を用いることによって形成されることを特徴とする保護膜。
  5. 光デバイス用の保護膜として用いられることを特徴とする請求項4に記載の保護膜。
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