JP2000336086A - 5−アルキルベンゾジオキソールの合成法 - Google Patents
5−アルキルベンゾジオキソールの合成法Info
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Abstract
法を提供する。 【解決手段】 本発明は、5−アルキル化ベンゾ[1,
3]ジオキソールの合成に対する新規な方法に関する。
この方法は、順に以下の工程からなる。つまり4−アシ
ルフェノールの接触水素化、アシル化、ルイス酸を触媒
とする置換、無機塩基性化合物および過酸化水素を用い
た処理、アルキルジハロゲン化物またはジアルコキシア
ルカンとの反応である。
Description
ル誘導体合成の技術分野に属し、香料や殺虫剤の製造に
おいて特に有用である。
(ベンゾ[1,3]ジオキソールとも言う)を有する、
フラボンやアルカロイド等の種々の天然物質は生物学的
活性を有する。例えば、ベンソ[1,3]ジオキソール
誘導体は肝臓疾患の治療に使用される(「Chem.A
bstracts」1990、113:52534)。
殺虫剤の製造において広い用途があることがわかった。
殺虫活性を示す、ベンゾ[1,3]ジオキソール基を有
する化合物は幾つかの刊行物に記載されている(参照:
例「Bull.Soc.Chim.France」19
64,1892〜1895)。
よびサッサフラス油の主要成分のうちの1つ(約75
%)である例えば、5−(2−プロペニル)−ベンゾ
[1,3]ジオキソール(サフロール)等の5−置換ベ
ンゾ[1,3]ジオキソール誘導体である(Oswal
d氏等「Biochim.Biophys.Acta」
1971,230,237)。更に重要な5−置換誘導
体は、5−(1−プロペニル)−ベンゾ[1,3]ジオ
キソール(イソサフロール)であり、これら香料に使用
されるエッセンスであり、石鹸の脱臭剤として使用され
る。イソサフロールはピペロナール(ヘリオトロピンあ
るいはベンゾ[1,3]ジオキソール−5−カルボキシ
アルデヒドともいう)の合成にも使用され、これは香料
やフレーバー業界で使用されるもう1つのエッセンスで
ある。更に5−ヒドロキシメチル−ベンゾ[1,3]ジ
オキソール(ピペロニルアルコール)およびその誘導体
は上記業界で最も関心がもたれている。
換されたベンゾ[1,3]ジオキソールである。その理
由は、これらは、業界の重要な前記生成物、および殺虫
作用を示す活性成分であるピペロニルブトキシド等の他
の生成物の合成における基本的な試薬として使用できる
からである。更に、5−アルキルベンゾ[1,3]ジオ
キソールはこれ自体で肝臓酵素の阻害剤として生物学的
活性を示す。
オキソールの合成に対する効果的な方法が非常に必要で
あると思われる。典型的には、ベンゾ[1,3]ジオキ
ソール環を形成するには、カテコール(1,2−ジヒド
ロキシベンゼン)をメチレンハロゲン化物(例えばCH
2Cl2)と双極子非プロトン性溶媒中および塩基性環境
下で反応させることによる(「Tetrahedron
Lett.」1991,32(22),p.246
4)。しかし、5−アルキル化ベンゾ[1,3]ジオキ
ソールを得る上記反応は産業規模の工場ではほとんど利
用できない。実際、前記誘導体合成に必要な4−アルキ
ルカテコールは高価であるため、前記合成は経済的に不
利となる。この問題は4−アルキルカテコールを直接合
成することによって解決できない。この理由は、この合
成では、望ましくない異性体混合物が生じ(J.Mar
ch,「Advanced Organic Chem
istry」McGraw−HillInc.,196
8,406〜409)、あるいは例えば液状態でフッ化
水素酸を使用する等、特定のきびしい条件で試薬を使用
する必要があり、これらの要因が製造コストを高くする
からである。
ル化ベンゾ[1,3]ジオキソールの効果的な合成法を
早急に確率する必要がある。特に、開発されるべき合成
法は、低コストであり、産業規模で再現しやすいことが
必要である。
化ベンゾ[1,3]ジオキソールの合成法を驚くべきこ
とに見い出した。この合成法は、順に以下の工程からな
る。つまり、4−アシルフェノールの接触水素化、アシ
ル化、ルイス酸を触媒とする置換反応、無機塩基性化合
物と過酸化水素を用いた処理、アルキルジハロゲン化物
またはジアルコキシアルカンを用いた反応である。本発
明にかかる5−アルキルベンゾ[1,3]ジオキソール
合成法は経済的であり、産業規模に容易に大規模化でき
る。
ゾ[1,3]ジオキソール合成法の提供であり、この方
法は図1に示され、以下の工程を特徴とする。 (a)一般式(I)で示す4−アシルフェノール(式
中、R1はC1〜C17のアルキル基を示す。)の接触水素化
により、一般式(II)で示す4−アルキルフェノールを
得る工程 (b)炭素数3以下のアシル基を用いて、一般式(II)
で示す化合物をアシル化して、一般式(III)で示す化
合物(式中、R3はメチル基またはエチル基を示す。)
を得る工程 (c)ルイス酸を用いて一般式(III)で示す化合物を
処理して、一般式(IV)で示す4−アルキル−2−アシ
ルフェノールを得る工程 (d)一般式(IV)で示す化合物を0〜25℃にて過酸
化水素および無機塩基性化合物含有のヒドロアルコール
溶液で処理し(無機塩基性化合物対一般式(IV)で示す
化合物のモル比=0.8:1〜2:1好ましくは1:1
〜1.5:1)、一般式(V)で示す4−アルキルカテ
コールを得る工程 (e)一般式(V)で示す化合物を一般式X−CH(R
2)−Yで示す化合物〔式中、XおよびYは同じでも異
なっていてもよく、それぞれ、(i)群(塩素、臭素、
ヨウ素)または(ii)群(CH3 O−、C2H5O−)から選択
され、R2はHまたはC1〜C3のアルキル基を示す〕で環
化し、一般式(VI)で示す5−アルキルベンゾ[1,
3]ジオキソールを得る工程
(I)で示す4−アシルフェノールを接触水素化し、一
般式(II)で示す4−アルキルフェノールを得る。R1
基は炭素数1〜17、好ましくは1〜5を有するアルキ
ル基である。4−アシルフェノール(I)は市販されて
いる。水素化は圧力0.5〜60bar、温度10〜1
00℃で行われ、接触水素に通常使用される触媒を用
い、触媒はそのまま、あるいは不活性なマトリックスに
担持されていてもよい。これらの触媒の典型的な例とし
ては、PtO2、PtO、Niラネー、Pd/炭素、Pd
硫酸バリウム、Pt/炭素、Pt/アルミナ、Pd/ア
ルミナである。この反応は適切な溶媒存在下で、または
溶媒不存在下で行なわれる。メタノール、エタノール、
イソプロパノール、およびブタノール等のアルコール性
溶媒を使用することが好ましい。工程(a)は周囲条件
下(1bar、20℃)でさえも高収率をもたらすの
で、大規模な工場に使用でき、これによりかなり省エネ
化が図れる。
I)で示す4−アルキルフェノールのヒドロキシル基を
アシル化する。アシル化はこの業界で知られた方法を使
用でき、化合物(II)を、酢酸やプロピオン酸、これら
の塩化物や無水物からなる群から選択される脂肪酸と反
応させることにより行う。
活性溶媒の存在下であるいは不存在下で、酸触媒を用い
て行われるであろう。反応溶媒はベンゼン、トルエン、
キシレン、メシチレン、ジクロロエタン、テトラクロロ
エタンが好ましく、トルエンが最も好ましい。酸触媒は
硫酸、メタンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸、ト
リフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸が好ましく、p−トル
エンスルホン酸が最も好ましい。反応温度は、反応中に
形成された水が共沸蒸留により除去される温度が好まし
い。反応を酸塩化物で行う場合には、適当な不活性溶媒
および有機塩基から選択される適切な塩酸アクセプター
の存在下で行われるであろう。反応溶媒はベンゼン、ト
ルエン、キシレン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキ
サンが好ましく、トルエンが最も好ましい。有機塩基は
トリエチルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、メチ
ルピリジン、ルチジンが好ましく、トリエチルアミンが
最も好ましい。反応は0〜80℃で行われ、0〜25℃
が便利である。塩基は酸塩化物1モルあたり1:1〜
1:3好ましくは1:1〜1.5:1の範囲で使用され
る。
性溶媒を用いてあるいは用いずに行われるであろう。反
応溶媒はベンゼン、トルエン、メシチレン、シクロヘキ
サン、メチルシクロヘキサン、ジクロロエタン、テトラ
クロロエタンが好ましく、トルエンが最も好ましい。使
用される無水物の量は、化合物(II)1モルあたり1:
1〜2:1である。反応温度は溶媒の還流温度あるいは
バルク状態で行う場合は試薬として使用される無水物の
還流温度で行う。工程(b)によりアシル化生成物(II
I)が得られ、式中、R3はメチル基またはエチル基であ
り、R1は上記の通りである。
酸で処理して4−アルキル−2−アシルフェノール(I
V)を得る。式中、R1とR3は上記の通りである。典型
的なルイス酸は、アルミナ等の不活性マトリックスに任
意に担持されたAlCl3、AlBr3、BCl3、BB
r3、BF3、ZnCl2、FeCl2である。Si/A
l比が8〜100、好ましくは10〜60の範囲でゼオ
ライトを酸触媒として使用したとき優れた結果が得られ
た。工程(c)の反応は、適切な不活性溶媒を用いてあ
るいは用いずに行われる。この溶媒としては、シクロヘ
キサン、メチルシクロヘキサン、デカリン、ニトロベン
ゼン、クロロベンゼン、ジクロロエタン、テトラクロロ
エタンが例示される。反応は溶媒還流温度で行われる。
反応をバルク状態で行う場合には、反応温度は80〜1
40℃の範囲であり、90〜120℃が便宜上より好ま
しいであろう。工程(c)の反応により置換生成物(I
V)を得る。式中,R1とR3は上記のとおりである。
を、無機塩基性化合物を含むヒドロアルコール溶液(無
機塩基性化合物/化合物(IV)のモル比は0.8:1〜
2:1好ましくは1:1〜1.5:1)、および過酸化
水素を用いて処理する。ヒドロアルコール溶液は好まし
は1:1(V/V)の水−メタノールまたは水−エタノ
ール混合物である。無機塩基性化合物としては、重炭酸
ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸カリウム、炭酸カ
リウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウムを例示
できる。過酸化水素は2〜70重量%、好ましくは5〜
40重量%、より好ましくは5〜25重量%の濃度の溶
液として使用される。好ましくは、化合物(IV)、無機
塩基性化合物および過酸化水素は等モル量で使用され
る。反応の好ましい態様では、無機塩基性化合物を含む
ヒドロアルコール溶液を調製しておき、これに先ず化合
物(IV)を添加し、次に過酸化水素を添加する。工程
(d)の反応は「Houben−Weil E−3」1
983,p.293に記載の酸化反応の変形であり、特
に、サリチルアルデヒドに対する変形例である。すなわ
ち、工程(d)では、この条件下ではほとんど生成させ
ることができない、相当するアルデヒド誘導体にではな
く、アシル化合物(IV)に直接反応させる。この反応に
より、化合物(V)を非常に高収率で得ることができ
る。更に工程(d)の反応は周囲条件下で行うことがで
きるので、産業規模の工場に容易に適用できる。
一般式X−CH(R2)−Yで示される化合物との反応
により閉環される。式中、XとYは同じでも異なってい
てもよく、それぞれ、(i)群(塩素、臭素、ヨウ素)
または(ii)群(CH3O−、C2H5O−)、から選択
され、R2はHまたはC1〜C3のアルキル基を示す。こ
の反応は例えば「J.Chem.Soc.(c)」19
69,1202〜1204に記載された当業者既知の方
法に従って行われる。XとYがハロゲンを表すとき(例
えばジクロロメタン等)、反応は双極子非プロトン性溶
媒(例えばN,N−ジメチルホルムアミド(DMF)、
N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド
等)中で、無機塩基(例えば水酸化ナトリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等)の存在下で、ヨウ素塩(例
えばNaI、KI、CaI2等)の任意存在下で、70
〜150℃の温度範囲で行われる。好ましくは、化合物
(V)をDMF−ジクロロメタン混合物に溶解し、得ら
れた溶液をDMFとジクロロメタン中の無機塩基懸濁液
に添加し、添加中を通して温度を110〜130℃に維
持する。
O−を表す場合、反応は不活性溶媒(例えば、トルエ
ン、キシレン、メシチレン等)中で、適当なエステル交
換反応触媒(例えば、ナトリウムメトキシド、リチウム
アミド、水素化ナトリウム、チタンテトラブトキシド、
酸化ジメチルスズ等)の存在下で行われる。操作温度は
好ましくは溶媒の沸点である。得られたベンゾジオキソ
ールは殺虫剤として重要な生物活性を示す。さらに、こ
れは、ピペロニルアルコール、サフロール、イソサフロ
ール、これらの誘導体の合成における基本的な試薬とし
て使用でき、香料および殺虫剤の製造において有利であ
る。これらの生成物は5位のアルキル基を酸化、脱水す
ることにより容易に得られ、この反応は業界周知であ
る。
説明する。 実施例1A:4−プロピルフェノールの合成 500mlのオートクレーブ中に、メタノール(100
ml)中の4−ヒドロキシプロピオフェノン(30g、
0.2mol)および5%Pd/C(1g、50%we
t(ウェット))を入れた。この混合物を窒素で洗浄し
た後、室温および大気圧下で水素化した。触媒をろ過
し、生成物を真空(40℃/24mbar)中で濃縮し
た。4−プロピルフェノールを定量的に得た。
テートの合成 4−プロピルフェノール(13.6g、0.1mol)
をジクロロエタン(100ml)に溶解した。得られた
混合物にトリエチルアミン(15.2g、21ml、
0.15mol)を室温にて添加した。この溶液を0〜
3℃に冷却し、ゆっくりと、これに、ジクロロエタン
(20ml)中に溶解した塩化アセチル(9.4g、
8.6ml、0.12mol)を5〜10℃に維持しつ
つ添加した。添加完了後、この溶液を室温で1時間攪拌
し、ろ過した。この有機溶液を2MのHCl(50m
l)、2MのNaOH(50ml)そして水(50m
l)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過し、
濃縮し、無色の油状物を得た。
フェノールの合成 4−プロピルフェノールアセタート(17.8g、0.
1mol)に、塩化アルミニウム(13.3g、0.1
mol)を添加した。この反応は強い発熱反応であっ
た。この混合物を110℃で4時間攪拌し、その後0℃
に冷却し、ジクロロエタン(100ml)および6Nの
HCl(100ml)に溶解した。攪拌を継続し、有機
層を分離した。水層を3回、ジクロロエタン(50m
l)で洗浄し、前記有機層と一緒にした。得られた有機
層を5%(W/V)の重炭酸ナトリウム水溶液(150
ml)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、ろ過
し、真空(40℃/24mbar)で濃縮し、薄黄色の
油状物を得た。
成 水(25ml)中の重炭酸ナトリウム溶液(4.2g、
50mmol)に、メタノール(25ml)中に溶解し
た2−アセチル−4−プロピルフェノール(8.6g、
50mmol)を添加した。室温に保持しつつ、得られ
た混合物に、15%(w/w)の過酸化水素(11.9
g、52.5mmol)をゆっくりと添加した。添加完
了後、この混合物を4時間攪拌し、真空(45℃/24
mbar)中で濃縮した。水性残留物を水(30ml)
に溶解し、3回、イソプロピルエーテル(50ml)で
抽出した。この有機層を真空(30℃/24mbar)
中で濃縮し、非常に濃い黄色の油状物を得た。
ールの合成 4−プロピルカテコールの合成(10.7g、70mm
ol)を90:10(V/V)のDMF/ジクロロメタ
ン混合物(17ml)に溶解した。得られた溶液を、9
0:10(V/V)のDMF/ジクロロメタン混合物
(85ml)中の無水K2CO3(14.1g、87mm
ol)の懸濁液に、115〜120℃に保持しつつ、非
常にゆっくりと添加した。添加完了後、この溶液をさら
に3時間120〜125℃に維持し、冷却し、ろ過し
た。この混合物を60℃/12mbarでろ過し、この
残留物を水(30ml)に溶解し、n−ヘキサン(50
ml)で抽出した。この有機層を無水硫酸ナトリウムで
乾燥し、ろ過し、真空(30℃/24mbar)で乾燥
した。11.2gの5−プロピルベンゾ−[1,3]−
ジオキソールを得た。
の合成の順序を示すフローチャートである。
Claims (11)
- 【請求項1】 下記の(a)〜(e)の工程を含んで構
成される5−アルキルベンゾ[1,3]ジオキソールの
合成法。 (a)一般式(I)で示す4−アシルフェノール(式
中、R1はC1〜C17のアルキル基を示す。)の接触水素化
により、一般式(II)で示す4−アルキルフェノールを
得る工程 【化1】 (b)炭素数3以下のアシル基を用いて、一般式(II)
で示す化合物をアシル化して、一般式(III)で示す化
合物(式中、R3はメチル基またはエチル基を示す。)
を得る工程 【化2】 (c)ルイス酸を用いて一般式(III)で示す化合物を
処理して、一般式(IV)で示す4−アルキル−2−アシ
ルフェノールを得る工程 【化3】 (d)一般式(IV)で示す化合物を0〜25℃にて過酸
化水素および無機塩基性化合物含有のヒドロアルコール
溶液で処理し(無機塩基性化合物対一般式(IV)で示す
化合物のモル比=0.8:1〜2:1)、一般式(V)
で示す4−アルキルカテコールを得る工程 【化4】 (e)一般式(V)で示す化合物を一般式X−CH(R
2)−Yで示す化合物〔式中、XおよびYは同じでも異
なっていてもよく、それぞれ、(i)群(塩素、臭素、
ヨウ素)または(ii)群(CH3 O−、C2H5O−)から選択
され、R2はHまたはC1〜C3のアルキル基を示す〕で環
化し、一般式(VI)で示す5−アルキルベンゾ[1,
3]ジオキソールを得る工程 【化5】 - 【請求項2】 R1がC1〜C5のアルキル基である請求項1
記載の合成法。 - 【請求項3】 水素化工程(a)が1bar、20℃下
で行われ、PtO2、PtO、Niラネー、Pd/炭
素、Pd/硫酸バリウム、Pt/炭素、Pt/アルミ
ナ、Pd/アルミナよりなる群から選択される化合物に
より触媒される請求項1または2記載の合成法。 - 【請求項4】 工程(c)で使用されるルイス酸がAl
Cl3、AlBr3、BCl3、BBr3、BF3、ZnC
l2、FeCl2、およびゼオライトよりなる群から選
択されてなる請求項1〜3のうちいずれか1項に記載の
合成法。 - 【請求項5】 工程(d)で使用される無機塩基性化合
物が重炭酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸カリウ
ム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリ
ウムよりなる群から選択されてなる請求項1〜4のうち
いずれか1項に記載の合成法。 - 【請求項6】 工程(d)で使用される、化合物(I
V)、無機塩基性化合物および過酸化水素は等モル量で
ある請求項1〜5のうちいずれか1項に記載の合成法。 - 【請求項7】 工程(d)は、先ず、無機塩基性化合物
含有ヒドロアルコール溶液を調製し、次いで、化合物
(IV)を添加し、さらに、過酸化水素を添加することか
らなる請求項1〜6うちいずれか1項に記載の合成法。 - 【請求項8】 工程(e)で使用される一般式X−CH
(R2)−Yで表される化合物の、XおよびYが(i)
群から選択され、この反応が、塩基性双極性溶媒中で行
われる請求項1〜7のうちいずれか1項に記載の合成
法。 - 【請求項9】 工程(e)で使用される一般式X−CH
(R2)−Yで表される化合物の、XおよびYが(ii)
群から選択され、その反応が不活性溶媒中で、エステル
交換反応触媒の存在下で行われる請求項1〜7のうちい
ずれか1項に記載の合成法。 - 【請求項10】 エステル交換反応触媒が、ナトリウム
メトキシド、リチウムアミド、水素化ナトリウム、チタ
ンテトラブトキシド、ジメチルスズオキシドよりなる群
から選択される請求項9記載の合成法。 - 【請求項11】 化合物(VI)が、既知の反応により、
さらに転化されて、ピペロニルアルコール、サフロー
ル、イソサフロール、ピペロニルブトキシド、これらの
誘導体よりなる群から選択される化合物になる請求項1
〜10のうちいずれか1項に記載の合成法。
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