JP2000286326A - 基板処理装置 - Google Patents
基板処理装置Info
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- JP2000286326A JP2000286326A JP8808799A JP8808799A JP2000286326A JP 2000286326 A JP2000286326 A JP 2000286326A JP 8808799 A JP8808799 A JP 8808799A JP 8808799 A JP8808799 A JP 8808799A JP 2000286326 A JP2000286326 A JP 2000286326A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】縦型拡散ＣＶＤ装置等の基板処理装置に於い
て、ボート及びボート内に装填された被処理基板が外部
からの振動等の影響により、転倒又は落下して損傷する
のを防止する。 【解決手段】所要数の被処理基板をボート１，２に装填
し、基板処理を行う基板処理装置に於いて、ボートが収
納される空間の上部にボートの上端から所定の間隙を設
けて転倒防止部材２３を設け、ボートの傾斜時に転倒防
止部材をボート上端に当接する様にし、ボートの転倒を
防止した。
て、ボート及びボート内に装填された被処理基板が外部
からの振動等の影響により、転倒又は落下して損傷する
のを防止する。 【解決手段】所要数の被処理基板をボート１，２に装填
し、基板処理を行う基板処理装置に於いて、ボートが収
納される空間の上部にボートの上端から所定の間隙を設
けて転倒防止部材２３を設け、ボートの傾斜時に転倒防
止部材をボート上端に当接する様にし、ボートの転倒を
防止した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はシリコンウェーハ等
の被処理基板に成膜処理等を行う基板処理装置に関し、
特に被処理基板をボートにより水平姿勢で多段に保持
し、基板処理を行う縦型炉を有する縦型ＣＶＤ装置に関
し、ボートに装填された被処理基板が外部からの振動等
の影響により落下するのを防止した基板処理装置に関す
るものである。
の被処理基板に成膜処理等を行う基板処理装置に関し、
特に被処理基板をボートにより水平姿勢で多段に保持
し、基板処理を行う縦型炉を有する縦型ＣＶＤ装置に関
し、ボートに装填された被処理基板が外部からの振動等
の影響により落下するのを防止した基板処理装置に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の縦型ＣＶＤ装置は、成膜処理室の
使用効率を高めて生産効率を向上する為に、シリコンウ
ェーハが装填されるボートを２個備えた２ボート方式が
採用されており、第一のボートに装填されたウェーハを
成膜処理室内で熱処理中に、他の第二のボートへウェー
ハを移載し、前記第一のボートの熱処理完了後、直ちに
ボートを交換して成膜処理室に送り、熱処理する様にな
っている。
使用効率を高めて生産効率を向上する為に、シリコンウ
ェーハが装填されるボートを２個備えた２ボート方式が
採用されており、第一のボートに装填されたウェーハを
成膜処理室内で熱処理中に、他の第二のボートへウェー
ハを移載し、前記第一のボートの熱処理完了後、直ちに
ボートを交換して成膜処理室に送り、熱処理する様にな
っている。
【０００３】該ボートの交換装置の一例を図７に示す。
【０００４】ボート回転機構４１の回転軸４２に回転ア
ーム４３が固定され、該回転アーム４３の両端部はステ
ージ４４，４５となっており、該ステージ４４，４５に
はボートが係合離脱可能となっている。該ステージ４４
には熱処理された第一のボート１の下部が係合され、前
記ステージ４５には未熱処理の第二のボート２の下部が
係合される。前記ボート回転機構４１により前記回転軸
４２が回転され、熱処理された第一のボート１が成膜処
理室４６直下の炉口部（図示せず）からウェーハ移載ポ
ート４８へ、又前記未熱処理の第二のボート２が前記ウ
ェーハ移載ポート４８から前記成膜処理室４６の直下へ
移動される様になっている。而して、処理済のウェーハ
が装填された第一のボートと未処理ウェーハ４７が装填
された第二のボートとが第一のボートの熱処理完了後、
直ちに第二のボートに交換される。
ーム４３が固定され、該回転アーム４３の両端部はステ
ージ４４，４５となっており、該ステージ４４，４５に
はボートが係合離脱可能となっている。該ステージ４４
には熱処理された第一のボート１の下部が係合され、前
記ステージ４５には未熱処理の第二のボート２の下部が
係合される。前記ボート回転機構４１により前記回転軸
４２が回転され、熱処理された第一のボート１が成膜処
理室４６直下の炉口部（図示せず）からウェーハ移載ポ
ート４８へ、又前記未熱処理の第二のボート２が前記ウ
ェーハ移載ポート４８から前記成膜処理室４６の直下へ
移動される様になっている。而して、処理済のウェーハ
が装填された第一のボートと未処理ウェーハ４７が装填
された第二のボートとが第一のボートの熱処理完了後、
直ちに第二のボートに交換される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】然し、前記ウェーハを
装填した第一ボート１及び第二のボート２を交換する
際、例えばウェーハ移載機４９の予期せぬ誤動作又は地
震等の振動が前記第一のボート１、第二のボート２に加
わった場合、前記ウェーハ移載ポート４８にあるボート
が傾斜し、該ボート内に装填されたウェーハ４７が落下
することがある。極端な場合、ボートが転倒しボート及
びウェーハ４７が全損することも起こり得る。
装填した第一ボート１及び第二のボート２を交換する
際、例えばウェーハ移載機４９の予期せぬ誤動作又は地
震等の振動が前記第一のボート１、第二のボート２に加
わった場合、前記ウェーハ移載ポート４８にあるボート
が傾斜し、該ボート内に装填されたウェーハ４７が落下
することがある。極端な場合、ボートが転倒しボート及
びウェーハ４７が全損することも起こり得る。
【０００６】本発明は斯かる実情に鑑み、ボートの交換
装置上で外部からの振動の影響によりボートが転倒し、
或はボートが傾斜し装填されたウェーハがボートから滑
り落ちるのを防止することを目的として為したものであ
る。
装置上で外部からの振動の影響によりボートが転倒し、
或はボートが傾斜し装填されたウェーハがボートから滑
り落ちるのを防止することを目的として為したものであ
る。
【０００７】
【課題を解決する為の手段】本発明は、所要数の被処理
基板をボートに装填し、基板処理を行う基板処理装置に
於いて、ボートが収納される空間の上部にボートの上端
から所定の間隙を設けて転倒防止部材を設けた基板処理
装置に係り、又被処理基板が装填される複数のボート
と、該ボートを交互に成膜処理室に装入するボート交換
装置とを具備する基板処理装置に於いて、前記ボート交
換装置に保持されるボートの上方に該ボートが所要の傾
斜で当接する様、所要の間隙を明け転倒防止部材を設け
た基板処理装置に係り、更に又前記ボートの上端が前記
転倒防止部材に当接し傾斜したボートの傾斜角が、該ボ
ート内に装填された被処理基板の摩擦角より小さくなる
様前記間隙を設定した基板処理装置に係るものである。
基板をボートに装填し、基板処理を行う基板処理装置に
於いて、ボートが収納される空間の上部にボートの上端
から所定の間隙を設けて転倒防止部材を設けた基板処理
装置に係り、又被処理基板が装填される複数のボート
と、該ボートを交互に成膜処理室に装入するボート交換
装置とを具備する基板処理装置に於いて、前記ボート交
換装置に保持されるボートの上方に該ボートが所要の傾
斜で当接する様、所要の間隙を明け転倒防止部材を設け
た基板処理装置に係り、更に又前記ボートの上端が前記
転倒防止部材に当接し傾斜したボートの傾斜角が、該ボ
ート内に装填された被処理基板の摩擦角より小さくなる
様前記間隙を設定した基板処理装置に係るものである。
【０００８】外部からの震動により、収納されたボート
或はボート交換装置上のボートが傾いても、該ボート上
方に設置された転倒防止部材に該ボートの上端が接触
し、該ボートのそれ以上の傾きが抑止され、ボートの転
倒が防止される。
或はボート交換装置上のボートが傾いても、該ボート上
方に設置された転倒防止部材に該ボートの上端が接触
し、該ボートのそれ以上の傾きが抑止され、ボートの転
倒が防止される。
【０００９】更に、前記ボート上端と前記転倒防止部材
との間隙は、該ボートの傾斜時に前記転倒防止部材によ
り停止される時の該ボートの傾き角が、該ボート内に装
填された被処理基板の摩擦角よりも小さくなる様な間隙
であるので、該ボート内の被処理基板の静止摩擦力によ
り保持され、該ボートから滑り落ちることはない。
との間隙は、該ボートの傾斜時に前記転倒防止部材によ
り停止される時の該ボートの傾き角が、該ボート内に装
填された被処理基板の摩擦角よりも小さくなる様な間隙
であるので、該ボート内の被処理基板の静止摩擦力によ
り保持され、該ボートから滑り落ちることはない。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
実施の形態を説明する。
【００１１】図１〜図６に於いて本発明の実施の形態を
説明する。
説明する。
【００１２】尚、図１〜図６中、図７中と同等のものに
は同符号を付し、説明は省略する。
は同符号を付し、説明は省略する。
【００１３】１は第一のボート、２は第二のボートで夫
々スライドテーブル３，４上に載置されている。５は気
密なロードロックチャンバで、６は該ロードロックチャ
ンバ５に設けられ、ボートの搬入搬出の為の開口部、７
は該開口部６を開閉するドアバルブであってエアシリン
ダ８の作動により前記開口部６の開閉が行われる。前記
ロードロックチャンバ５の上方には反応室を画成する反
応管（図示せず）、該反応管を加熱するヒータ（図示せ
ず）から成る縦型炉２０が気密に連設されている。
々スライドテーブル３，４上に載置されている。５は気
密なロードロックチャンバで、６は該ロードロックチャ
ンバ５に設けられ、ボートの搬入搬出の為の開口部、７
は該開口部６を開閉するドアバルブであってエアシリン
ダ８の作動により前記開口部６の開閉が行われる。前記
ロードロックチャンバ５の上方には反応室を画成する反
応管（図示せず）、該反応管を加熱するヒータ（図示せ
ず）から成る縦型炉２０が気密に連設されている。
【００１４】９，１０は駆動用モータであり、前記スラ
イドテーブル３，４を夫々矢印１１の方向へ、即ち前記
ロードロックチャンバ５の内部へ前記開口部６を通過し
て水平移動する。１２は前記スライドテーブル３，４を
矢印１３の方向へ、即ち前記開口部６と平行な水平方向
に移動するテーブルで、１４は該テーブル１２を駆動す
る為のモータである。
イドテーブル３，４を夫々矢印１１の方向へ、即ち前記
ロードロックチャンバ５の内部へ前記開口部６を通過し
て水平移動する。１２は前記スライドテーブル３，４を
矢印１３の方向へ、即ち前記開口部６と平行な水平方向
に移動するテーブルで、１４は該テーブル１２を駆動す
る為のモータである。
【００１５】１５はエレベータであり、ウェーハ移載機
１６を昇降させると共に垂直方向の位置決めを行う。該
ウェーハ移載機１６は回転、進退機構を具備し、図示し
ないウェーハカセットと前記ボート１，２との間でウェ
ーハの移載を行う。１７は前記ウェーハ移載機１６を昇
降するエレベータ用のモータである。
１６を昇降させると共に垂直方向の位置決めを行う。該
ウェーハ移載機１６は回転、進退機構を具備し、図示し
ないウェーハカセットと前記ボート１，２との間でウェ
ーハの移載を行う。１７は前記ウェーハ移載機１６を昇
降するエレベータ用のモータである。
【００１６】前記ボート１，２は、図５及び図６に示す
様に装填されるウェーハ４７の周囲半周部分に配置され
た柱２５，２６，２７，２８と、該柱２５，２６，２
７，２８の上端に固着された天板２４を具備し、該各柱
２５，２６，２７，２８の夫々対向する内側に溝２９，
３０，３１，３２が同一平面内に設けられ、該溝２９，
３０，３１，３２が所要の間隔で前記各柱２５，２６，
２７，２８に多段に刻設されたものであり、前記各段の
溝に多数のウェーハ４７が装填される様になっている。
様に装填されるウェーハ４７の周囲半周部分に配置され
た柱２５，２６，２７，２８と、該柱２５，２６，２
７，２８の上端に固着された天板２４を具備し、該各柱
２５，２６，２７，２８の夫々対向する内側に溝２９，
３０，３１，３２が同一平面内に設けられ、該溝２９，
３０，３１，３２が所要の間隔で前記各柱２５，２６，
２７，２８に多段に刻設されたものであり、前記各段の
溝に多数のウェーハ４７が装填される様になっている。
【００１７】図２及び図３は第一のボート１がロードロ
ックチャンバ５内に入っており、第二のボート２は該ロ
ードロックチャンバ５の外に待機している状態を示すも
ので、前記第一のボート１は前記スライドテーブル３に
よりシールキャップ（炉口蓋）１８上に移載され、ボー
トエレベータ１９によって前記縦型炉２０を備えたロー
ドロックチャンバ５の中に装入される様になっている。
ックチャンバ５内に入っており、第二のボート２は該ロ
ードロックチャンバ５の外に待機している状態を示すも
ので、前記第一のボート１は前記スライドテーブル３に
よりシールキャップ（炉口蓋）１８上に移載され、ボー
トエレベータ１９によって前記縦型炉２０を備えたロー
ドロックチャンバ５の中に装入される様になっている。
【００１８】以上の構成は筐体２１内に収容されてお
り、該筐体２１の上部プレート２２は前記スライドテー
ブル３，４上の各ボート１，２の上方部分に於いて、該
各ボート１，２の上端から所要の間隙ｈを明けてボート
傾斜防止プレート２３が水平に設けられている。
り、該筐体２１の上部プレート２２は前記スライドテー
ブル３，４上の各ボート１，２の上方部分に於いて、該
各ボート１，２の上端から所要の間隙ｈを明けてボート
傾斜防止プレート２３が水平に設けられている。
【００１９】図４に示す様に、該ボート傾斜防止プレー
ト２３は前記ボート１，２が傾斜した場合に該ボート
１，２の天板２４と接触する様になっている。前記ボー
ト１，２の天板２４と前記ボート傾斜防止プレート２３
との間隙ｈは、ボートが傾斜した状態でボートの傾斜角
がウェーハが滑り落ちない角度となる様に設定される。
即ち前記ボート１，２の天板２４が前記ボート傾斜防止
プレート２３と接触し、前記ボート１，２がそれ以上傾
くのを抑止された状態で、ボートの傾き角θがボート
１，２のウェーハ支持面とウェーハとの摩擦角より十分
小さくなる様間隙ｈが定められている。
ト２３は前記ボート１，２が傾斜した場合に該ボート
１，２の天板２４と接触する様になっている。前記ボー
ト１，２の天板２４と前記ボート傾斜防止プレート２３
との間隙ｈは、ボートが傾斜した状態でボートの傾斜角
がウェーハが滑り落ちない角度となる様に設定される。
即ち前記ボート１，２の天板２４が前記ボート傾斜防止
プレート２３と接触し、前記ボート１，２がそれ以上傾
くのを抑止された状態で、ボートの傾き角θがボート
１，２のウェーハ支持面とウェーハとの摩擦角より十分
小さくなる様間隙ｈが定められている。
【００２０】即ち、前記ボート１，２が傾斜した場合、
前記各溝２９，３０，３１，３２のウェーハ４７の支持
面３３，３４，３５，３６とウェーハ４７の下面との摩
擦力によって該ウェーハ４７が保持される様になってい
る。
前記各溝２９，３０，３１，３２のウェーハ４７の支持
面３３，３４，３５，３６とウェーハ４７の下面との摩
擦力によって該ウェーハ４７が保持される様になってい
る。
【００２１】前記第一のボート１がスライドテーブル３
により開口部６を通過されて前記ロードロックチャンバ
５内に搬送され成膜処理されている間、前記第二のボー
ト２では前記ウェーハ移載機１６によりウェーハ４７の
出入れが行われる。
により開口部６を通過されて前記ロードロックチャンバ
５内に搬送され成膜処理されている間、前記第二のボー
ト２では前記ウェーハ移載機１６によりウェーハ４７の
出入れが行われる。
【００２２】未処理ウェーハ４７の装填を終了した第二
のボート２は待機状態にあり、前記ウェーハ４７は夫々
前記柱２５，２６，２７，２８の溝２９，３０，３１，
３２に装填され、該ウェーハ４７が前記各溝２９，３
０，３１，３２の各支持面３３，３４，３５，３６によ
り支持され、この時の前記ウェーハ４７下面と前記支持
面３３，３４，３５，３６との摩擦角は１０度〜１５度
になる。尚、該ウェーハ４７の支持状態は前記第一のボ
ート１内に於いても同様であり、摩擦角は１０度〜１５
度である。
のボート２は待機状態にあり、前記ウェーハ４７は夫々
前記柱２５，２６，２７，２８の溝２９，３０，３１，
３２に装填され、該ウェーハ４７が前記各溝２９，３
０，３１，３２の各支持面３３，３４，３５，３６によ
り支持され、この時の前記ウェーハ４７下面と前記支持
面３３，３４，３５，３６との摩擦角は１０度〜１５度
になる。尚、該ウェーハ４７の支持状態は前記第一のボ
ート１内に於いても同様であり、摩擦角は１０度〜１５
度である。
【００２３】前記第一のボート１の成膜処理が終了する
と、前記エアシリンダ８により開口部６のドアバルブ７
が開かれ、スライドテーブル３により前記第一のボート
１がロードロックチャンバ５から搬出され、次いで前記
テーブル１２上の前記第一のボート１及び前記第二のボ
ート２が、該テーブル駆動用のモータ１４により、前記
第二のボート２が前記開口部６の正面に至る迄移動され
る。
と、前記エアシリンダ８により開口部６のドアバルブ７
が開かれ、スライドテーブル３により前記第一のボート
１がロードロックチャンバ５から搬出され、次いで前記
テーブル１２上の前記第一のボート１及び前記第二のボ
ート２が、該テーブル駆動用のモータ１４により、前記
第二のボート２が前記開口部６の正面に至る迄移動され
る。
【００２４】該第二のボート２がスライドテーブル４に
より開口部６を通過されて前記ロードロックチャンバ５
内に搬送され成膜処理工程が行われている間、成膜処理
工程が行われた前記第一のボート１は前記テーブル１２
の移動により前記ウェーハ移載ポート４８迄戻り、前記
ウェーハ移載機１６によりウェーハ４７の出入れが行わ
れる。
より開口部６を通過されて前記ロードロックチャンバ５
内に搬送され成膜処理工程が行われている間、成膜処理
工程が行われた前記第一のボート１は前記テーブル１２
の移動により前記ウェーハ移載ポート４８迄戻り、前記
ウェーハ移載機１６によりウェーハ４７の出入れが行わ
れる。
【００２５】前記した第一のボート１と第二のボート２
の交互の搬送、成膜処理、移載の各工程が繰返される間
に、スライドテーブル３，４、テーブル１２、ウェーハ
移載機１６等の誤動作或いは地震等の影響により、振動
が前記スライドテーブル３，４上の各ボート１，２のい
ずれか又は両方に加えられると、スライドテーブル３，
４上のボートが傾き、更に振動、衝撃が過大になると前
記ボート１，２の傾きも大きくなる。
の交互の搬送、成膜処理、移載の各工程が繰返される間
に、スライドテーブル３，４、テーブル１２、ウェーハ
移載機１６等の誤動作或いは地震等の影響により、振動
が前記スライドテーブル３，４上の各ボート１，２のい
ずれか又は両方に加えられると、スライドテーブル３，
４上のボートが傾き、更に振動、衝撃が過大になると前
記ボート１，２の傾きも大きくなる。
【００２６】該ボート１，２の上方にはボート傾斜防止
プレート２３が間隙ｈを以て設けられているので、傾斜
したボート１，２の天板２４が前記ボート傾斜防止プレ
ート２３と接触し、該ボート１，２のそれ以上の傾きが
抑止され、過大な衝撃を受けてもボート１，２は転倒す
ることはなく、ボート１，２の破損が防止される。
プレート２３が間隙ｈを以て設けられているので、傾斜
したボート１，２の天板２４が前記ボート傾斜防止プレ
ート２３と接触し、該ボート１，２のそれ以上の傾きが
抑止され、過大な衝撃を受けてもボート１，２は転倒す
ることはなく、ボート１，２の破損が防止される。
【００２７】更に、前記ボート１，２内のウェーハ４７
は前記柱２５，２６，２７，２８の溝２９，３０，３
１，３２の支持面３３，３４，３５，３６により摩擦力
（摩擦角１０度〜１５度）によって保持される為、落下
が防止される。例えば、前記天板２４の直径Ｄを３００
mm、ボート１，２長Ｈを１２４０mmとし、前記天板２４
とボート傾斜防止プレート２３との間隙ｈを１０mmとし
た場合、許容傾き角度θは２．１度となり、ウェーハ４
７と支持面３３，３４，３５，３６との摩擦角１０度〜
１５度に比べ十分小さいので、ウェーハ４７はボート
１，２の外へ落下することはなく、プロセス途中のウェ
ーハ４７を損壊することがない。
は前記柱２５，２６，２７，２８の溝２９，３０，３
１，３２の支持面３３，３４，３５，３６により摩擦力
（摩擦角１０度〜１５度）によって保持される為、落下
が防止される。例えば、前記天板２４の直径Ｄを３００
mm、ボート１，２長Ｈを１２４０mmとし、前記天板２４
とボート傾斜防止プレート２３との間隙ｈを１０mmとし
た場合、許容傾き角度θは２．１度となり、ウェーハ４
７と支持面３３，３４，３５，３６との摩擦角１０度〜
１５度に比べ十分小さいので、ウェーハ４７はボート
１，２の外へ落下することはなく、プロセス途中のウェ
ーハ４７を損壊することがない。
【００２８】尚、本発明の基板処理装置に於けるボート
傾斜防止プレートは、上述のロードロックチャンバを使
用する縦型拡散ＣＶＤ装置に限らず、ロードロックチャ
ンバを使用しないオープンタイプの２ボート式縦型拡散
ＣＶＤ装置に於いても有効であり、更に１個のボートの
みの基板処理装置にも実施可能であることは言う迄もな
い。更に、ボート傾斜防止プレートの代りにバーを掛渡
して設けてもよく、或は隣設する他の機構部の一部であ
ってもよく、要はボートの転倒を抑止する部材であれば
よい。
傾斜防止プレートは、上述のロードロックチャンバを使
用する縦型拡散ＣＶＤ装置に限らず、ロードロックチャ
ンバを使用しないオープンタイプの２ボート式縦型拡散
ＣＶＤ装置に於いても有効であり、更に１個のボートの
みの基板処理装置にも実施可能であることは言う迄もな
い。更に、ボート傾斜防止プレートの代りにバーを掛渡
して設けてもよく、或は隣設する他の機構部の一部であ
ってもよく、要はボートの転倒を抑止する部材であれば
よい。
【００２９】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、複数の
ボートを交互に成膜処理室に搬入し成膜処理する基板処
理装置に於いて、ボート交換装置の上方に所要の間隙で
転倒防止部材が設置されているので、ボート交換装置の
誤動作、地震等の外部からの予期せぬ振動が加わった場
合でも、ボート交換装置上で傾きかけたボートは転倒防
止部材に接触して停止し、転倒するのが防止され、ボー
トの破損、又は装填されたウェーハの破損が免れる。
ボートを交互に成膜処理室に搬入し成膜処理する基板処
理装置に於いて、ボート交換装置の上方に所要の間隙で
転倒防止部材が設置されているので、ボート交換装置の
誤動作、地震等の外部からの予期せぬ振動が加わった場
合でも、ボート交換装置上で傾きかけたボートは転倒防
止部材に接触して停止し、転倒するのが防止され、ボー
トの破損、又は装填されたウェーハの破損が免れる。
【００３０】又前記転倒防止部材とボートとの間隙を、
前記ボートの傾斜時に前記転倒防止部材により停止され
る時の該ボートの傾き角よりも、該ボート内に装填され
た被処理基板の摩擦角が大きくなる様な間隙とすること
により、ボートの外部からの振動による許容傾き角がボ
ート内に装填されているウェーハの摩擦角よりも小さく
なり、ウェーハがボートの外へ落下することがなく、プ
ロセス途中のウェーハを損壊することがない等種々の優
れた効果を発揮する。
前記ボートの傾斜時に前記転倒防止部材により停止され
る時の該ボートの傾き角よりも、該ボート内に装填され
た被処理基板の摩擦角が大きくなる様な間隙とすること
により、ボートの外部からの振動による許容傾き角がボ
ート内に装填されているウェーハの摩擦角よりも小さく
なり、ウェーハがボートの外へ落下することがなく、プ
ロセス途中のウェーハを損壊することがない等種々の優
れた効果を発揮する。
【図１】本発明の実施の形態を示す外観図である。
【図２】該実施の形態を示す側面図である。
【図３】図２のＡ方向矢視図である。
【図４】本発明の実施の形態に於けるボートの傾斜時の
説明図である。
説明図である。
【図５】本発明の実施の形態に於けるボートのウェーハ
装填状態の説明図である。
装填状態の説明図である。
【図６】図５のＢ−Ｂ矢視図である。
【図７】従来の基板処理装置の説明図である。
１ 第一のボート ２ 第二のボート ３ スライドテーブル ４ スライドテーブル ５ ロードロックチャンバ １２ テーブル １６ ウェーハ移載機 ２１ 筐体 ２２ 上部プレート ２３ ボート傾斜防止プレート ４７ ウェーハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 5F031 CA02 FA03 FA09 FA12 FA18 GA03 GA47 GA49 HA67 MA28 NA09 PA30 5F045 BB20 DP19 DQ05 EB02 EB08 EM01 EN04 EN05
Claims (3)
- 【請求項１】 所要数の被処理基板をボートに装填し、
基板処理を行う基板処理装置に於いて、ボートが収納さ
れる空間の上部にボートの上端から所定の間隙を設けて
転倒防止部材を設けたことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項２】 被処理基板が装填される複数のボート
と、該ボートを交互に成膜処理室に装入するボート交換
装置とを具備する基板処理装置に於いて、前記ボート交
換装置に保持されるボートの上方に該ボートが所要の傾
斜で当接する様、所要の間隙を明け転倒防止部材を設け
たことを特徴とする基板処理装置。 - 【請求項３】 前記ボートの上端が前記転倒防止部材に
当接し傾斜したボートの傾斜角が、該ボート内に装填さ
れた被処理基板の摩擦角より小さくなる様前記間隙を設
定した請求項１又は請求項２の基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8808799A JP2000286326A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8808799A JP2000286326A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 基板処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000286326A true JP2000286326A (ja) | 2000-10-13 |
Family
ID=13933093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8808799A Withdrawn JP2000286326A (ja) | 1999-03-30 | 1999-03-30 | 基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000286326A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003100730A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置 |
| JP2008098610A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-04-24 | Tokyo Electron Ltd | 半導体製造装置における地震被害拡散低減方法及び地震被害拡散低減システム |
| CN116469802A (zh) * | 2023-04-12 | 2023-07-21 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 立式处理设备及立式处理设备的控制方法 |
-
1999
- 1999-03-30 JP JP8808799A patent/JP2000286326A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| CN116469802A (zh) * | 2023-04-12 | 2023-07-21 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 立式处理设备及立式处理设备的控制方法 |
| CN116469802B (zh) * | 2023-04-12 | 2024-03-29 | 江苏微导纳米科技股份有限公司 | 立式处理设备及立式处理设备的控制方法 |
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