JP2000276034A - ホログラム形成用材料およびこれを用いたホログラムの製造方法 - Google Patents

ホログラム形成用材料およびこれを用いたホログラムの製造方法

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JP2000276034A
JP2000276034A JP11085248A JP8524899A JP2000276034A JP 2000276034 A JP2000276034 A JP 2000276034A JP 11085248 A JP11085248 A JP 11085248A JP 8524899 A JP8524899 A JP 8524899A JP 2000276034 A JP2000276034 A JP 2000276034A
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Keiko Sekine
啓子 関根
Takechika Watabe
壮周 渡部
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ホログラムが生成した後に、ホログラム層内
の物質が移行する事により、ホログラム層が膨潤又は収
縮して、ブラッグ角が変化する事を防止する手段を提供
するものである。 【解決手段】 基材2と体積ホログラム形成用樹脂組成
物層4との間および/又は体積ホログラム形成用樹脂組
成物層の上に、移行性物質の移行を制御する移行制御層
3を形成し、両層内の各成分の重量%をコントロール
し、上記の課題を解決する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、体積ホログラムの
ピーク波長を人為的に短波長、又は長波長側にシフトさ
せ、ひいてはブラッグ角を変更する方法、およびその方
法に適した、高分子を主成分とするホログラム形成用材
料に関する。
【0002】
【従来の技術】体積ホログラムは、立体像の表示用、計
測用、光学素子等に用いられているものである。現在、
工業的に体積ホログラムを製造する場合には、次のよう
にして行なっている。まず、ホログラムが必要な特性を
生じるよう、電子計算機を使用して計算を行ない、計算
結果を電子線描画機によりフォトマスクブランク板に描
画したフォトマスクとして、最初のホログラム原版をま
ず作製する。得られたホログラム原版は、そのまま複製
用原版として使用してもよいが、複製時の損傷を防止す
る意味で、ホログラム形成用の高分子感光材で複製し、
好ましくは、両面をガラス基板等で被覆して複製用原版
とし、以降の大量複製用に使用する。大量複製のため、
基板に光重合性の高分子材料を積層したホログラム形成
用材料を準備し、これを、先の複製用原版を用いてレー
ザー光で露光する。これによりホログラムの露光が行わ
れる。その後、現像して体積ホログラムを得る。
【0003】上記の方法で使われる、現状のホログラム
形成用材料の高分子感光材は、マトリックスポリマー、
光重合性化合物、および光重合開始剤等に、さらに、増
感色素、可塑剤、又は界面活性剤等の物質を必要に応じ
て含んでいる。マトリックスポリマー以外の物質は概ね
分子量が低く、なかでも、光重合性化合物、可塑剤、又
は界面活性剤等は、常温で液体であるのが普通である。
これらの物質は、露光後の感光材内で移動することがで
きるだけでなく、隣接する層との間でも、その物質の両
層内における濃度差があれば、層間で拡散し、隣接する
層に移行して行く。以降、光重合性化合物、可塑剤、又
は界面活性剤等の物質を移行性物質と称する事とする。
【0004】このため、ホログラム形成用の高分子感光
材にホログラムが生成した、ホログラム層は、ホログラ
ムが生じた以降、上記の移行性物質の移行が均衡しない
限りは、移行性物質が移行する事により、層自体が膨潤
するか、又は縮小する。ホログラム層が膨潤すると層の
厚みが暑くなるため、ホログラムを構成する回折格子の
間隔が大きくなり、色相的には赤色側にシフトし、ブラ
ッグ角が減少して行き、逆にホログラム層が収縮すると
層の厚みが薄くなるため、青色側にシフトし、ブラッグ
角が増加して行く。
【0005】しかしながら、このような厚みの変化がホ
ログラム形成後に生じると、複製時に、最初のホログラ
ム原版が正しく再現されず、意図通りの製造が行なえな
い事になる。特に、ブラッグ角が小さくなると、複製さ
れたホログラムへの入射光をブラッグ角より大きくしな
ければならず、ハレーションが起こりやすくなり、不要
な干渉縞の発生する原因となり、好ましくない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ホログラムが生成した
後に起きる上記の現象への現実的な対処としては、移行
性物質の移行が生じて、膨潤又は収縮が起きたときに、
所望のホログラムが得られるよう、ホログラム原版をブ
ラッグ角の変化を予想して作製することも可能ではある
が、移行性物質の移行は製造条件によりバラつきやすい
ため、本発明においては、膨潤又は収縮の原因となる移
行性物質の移行を制御してブラッグ角の変化を生じさせ
ないようにすることを課題とするものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明においては、基材
と体積ホログラム形成用樹脂組成物層との間および/又
は体積ホログラム形成用樹脂組成物層の上に、移行性物
質の移行を制御する移行制御層を形成し、上記の課題が
解決される。
【0008】請求項1の発明は、基材上に体積ホログラ
ム形成用樹脂組成物層が積層され、前記基材と体積ホロ
グラム形成用樹脂組成物層との間又は体積ホログラム形
成用樹脂組成物層上の少なくとも前者に移行制御層が積
層され、前記移行制御層と前記体積ホログラム形成用樹
脂組成物層の少なくともいずれかに、両層内での濃度差
により両層間で移行する移行性物質を含有する事を特徴
とするホログラム形成用材料に関するものである。
【0009】請求項2の発明は、請求項1において、移
行制御層を基材と体積ホログラム形成用樹脂組成物層と
の間にのみ有するホログラム形成用材料に関するもので
ある。
【0010】請求項3の発明は、請求項1において、移
行制御層を、基材と体積ホログラム形成用樹脂組成物層
との間および体積ホログラム形成用樹脂組成物層上の両
方に有するホログラム形成用材料に関するものである。
【0011】請求項4の発明は、基材上に体積ホログラ
ム形成用樹脂組成物層および移行制御層が順次積層さ
れ、前記移行制御層と前記体積ホログラム形成用樹脂組
成物層の少なくともいずれかに、両層内での濃度差によ
り両層間で移行する移行性物質を含有する事を特徴とす
るホログラム形成用材料に関するものである。
【0012】請求項5の発明は、基材上に体積ホログラ
ム形成用樹脂組成物層を形成する工程と基材と体積ホロ
グラム形成用樹脂組成物層の間又は体積ホログラム形成
用樹脂組成物層上の少なくとも前者に移行制御層を形成
する工程とを行ない、その後、ホログラムを露光し、露
光後、移行を起こさせる事からなり、前記移行制御層と
前記体積ホログラム形成用樹脂組成物層の少なくともい
ずれかに、両層内での濃度差により両層間で移行する移
行性物質を含有する事を特徴とするホログラムの処理方
法に関するものである。
【0013】請求項6の発明は、請求項5において、移
行制御層を基材と体積ホログラム形成用樹脂組成物層の
間にのみ形成するホログラムの処理方法に関するもので
ある。
【0014】請求項7の発明は、請求項5において、移
行制御層を基材と体積ホログラム形成用樹脂組成物層の
間および体積ホログラム形成用樹脂組成物層上の両方に
形成するホログラムの処理方法に関するものである。
【0015】請求項8の発明は、基材上に体積ホログラ
ム形成用樹脂組成物層を形成する工程と移行制御層を形
成する工程とを順次行ない、その後、ホログラムを露光
し、露光後、移行を起こさせる事からなり、前記体積ホ
ログラム形成用樹脂組成物層と移行制御層のいずれか
に、両層内での濃度差により両層間で移行する移行性物
質を含有する事を特徴とするホログラムの処理方法に関
するものである。
【0016】
【発明の実施の形態】図1〜図3は、いずれも本発明の
ホログラム形成用材料1の断面構造を示すものである。
いずれの図においても上側からホログラムを露光する。
図1に示すものは、基材2上に、移行制御層3と体積ホ
ログラム形成用樹脂組成物層4とが順に積層されたもの
である。下層の移行制御層3と上層の体積ホログラム形
成用樹脂組成物層4との間の移行性物質の移行を制御す
ることにより、体積ホログラム形成用樹脂組成物層4中
に残存する移行性物質の量を制御するものである。図2
に示すものは、図1に示すものに加え、体積ホログラム
形成用樹脂組成物層4上に、もう1層の移行制御層3を
積層したものである。この図2に示すものでは、体積ホ
ログラム形成用樹脂組成物層4と上層および下層の移行
制御層3、3との間での移行性物質の移行を制御し、体
積ホログラム形成用樹脂組成物層4中の移行性物質の量
を制御するものである。図3に示すものは、基材上に体
積ホログラム形成用樹脂組成物層4と移行制御層3とが
順に積層されたものである。この図3に示すものでは、
下層の体積ホログラム形成用樹脂組成物層4と上層の移
行制御層3との間での移行性物質の移行を制御し、体積
ホログラム形成用樹脂組成物層4中の移行性物質の量を
制御するものである。
【0017】基材2としては、ガラス、プラスチック類
の透明なものを使用する。基材2としてガラス板を使用
すると、硬度があって傷がつきにくいだけでなく、適度
な剛性も備えており、位置精度を要する場合にも、ホロ
グラムを設置しやすい利点がある。又、プラスチック類
を使用すると、厚みのある板を使用すれば剛性もあり、
薄いものを使用するときは、フレキシブルであり、種々
の用途に振り向けるのに便利である。プラスチック類と
しては、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ
メチレン樹脂、ポリメチルペンテン樹脂、ポリ塩化ビニ
ル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリビニルアルコー
ル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン
−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−ビニルアルコール
共重合樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブ
チレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート
−イソフタレート共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル
樹脂、ポリメタクリル酸エチル樹脂、ポリアクリル酸ブ
チル樹脂、ナイロン6又はナイロン66等で代表される
ポリアミド樹脂、三酢酸セルロース樹脂、セロファン、
ポリスチレン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレ
ート樹脂、又はポリイミド樹脂等のフィルム又はシー
ト、もしくは板が使用できる。
【0018】体積ホログラム形成用樹脂組成物層4は以
下に説明するような各成分からなるものである。一般
に、体積ホログラム形成用樹脂組成物としては、銀塩材
料、重クロム酸ゼラチン乳剤、光重合性樹脂、光架橋性
樹脂等の公知の体積ホログラム記録材料が挙げられる
が、本発明においては、生産効率の観点から、マトリッ
クスポリマー、光重合性化合物、光重合開始剤及び増感
色素とからなる乾式の体積位相型ホログラム記録用途の
感光性材料を体積ホログラム形成用樹脂組成物として使
用する事が好ましい。
【0019】バインダー樹脂であるマトリックスポリマ
ーとしては、ポリメタクリルエステル又はその部分加水
分解物、ポリ酢酸ビニル又はその加水分解物、ポリビニ
ルアルコールまたはその部分アセタール化物、トリアセ
チルセルロース、ポリイソプレン、ポリブタジエン、ポ
リクロロプレン、シリコーンゴム、ポリスチレン、ポリ
ビニルブチラール、ポリクロロプレン、ポリ塩化ビニ
ル、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリ
−N−ビニルカルバゾールまたはその誘導体、ポリ−N
−ビニルピロリドン又はその誘導体、スチレンと無水マ
レイン酸の共重合体またはその半エステル、アクリル
酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸、メタクリル酸
エステル、アクリルアミド、アクリルニトリル、エチレ
ン、プロピレン、塩化ビニル、酢酸ビニル等の共重合可
能なモノマー群の少なくとも1つを重合成分とする共重
合体等、またはそれらの混合物が用いられる。好ましく
はポリイソプレン、ポリブタジエン、ポリクロロプレ
ン、ポリビニルアルコール、又はポリビニルアルコール
の部分アセタール化物であるホリビニルアセタール、ポ
リビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体等、またはそれらの混合物が挙げられ
る。
【0020】記録されたホログラムの安定化工程として
加熱によるモノマー移動の工程があるが、そのためには
これらのマトリックスポリマーは、好ましくはガラス転
移温度が比較的低く、モノマー移動を容易にするもので
あることが必要である。
【0021】光重合性化合物としては、後述するような
1分子中に少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有
する光重合、光架橋可能なモノマー、オリゴマー、プレ
ポリマー、及び、それらの混合物が挙げられ、例えば、
不飽和カルボン酸、及びその塩、不飽和カルボン酸と脂
肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボ
ン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミド結合物が挙げ
られる。
【0022】不飽和カルボン酸のモノマーの具体例とし
てはアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン
酸、イソクロトン酸、マレイン酸、及びそれらのハロゲ
ン置換不飽和カルボン酸、例えば、塩素化不飽和カルボ
ン酸、臭素化不飽和カルボン酸、フッ素化不飽和カルボ
ン酸等が挙げられる。不飽和カルボン酸の塩としては前
述のナトリウム塩及びカリウム塩等がある。
【0023】また、脂肪族多価アルコール化合物と不飽
和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例として
は、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジ
アクリレート、トリエチレングリコールジアクリレー
ト、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメ
チレングリコールジアクリレート、プロピレングリコー
ルジアクリレート、、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ト
リメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピ
ル)エーテル、トリメチロールエタントリアクリレー
ト、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、
テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリ
スリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタ
エリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキ
サアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソル
ビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアク
リレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(ア
クリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエス
テルアクリレートオリゴマー、2−フェノキシエチルア
クリレート、2−フェノキシエチルメタクリレート、フ
ェノールエトキシレートモノアクリレート、2−(p−
クロロフェノキシ)エチルアクリレート、p−クロロフ
ェニルアクリレート、フェニルアクリレート、2−フェ
ニルエチルアクリレート、ビスフェノールAの(2−ア
クリルオキシエチル)エーテル、エトキシ化されたビス
フェノールAジアクリレート、2−(1−ナフチルオキ
シ)エチルアクリレート、o−ビフェニルアクリレート
などがある。
【0024】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例のうち、メタク
リル酸エステルとしては、テトラメチレングリコールジ
メタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレ
ート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリ
メチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロー
ルエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメ
タクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレー
ト、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリス
リトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレ
ート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、
ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラ
メタクリレート、ビス−〔p−(3−メタクリルオキシ
−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタ
ン、ビス−〔p−(アクリルオキシエトキシフェニル〕
ジメチルメタン、2,2−ビス(4−メタクリロイルオ
キシフェニル)プロパン、メタクリル酸−2−ナフチル
等がある。
【0025】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例のうち、イタコ
ン酸エステルとしては、エチレングリコールジイタコネ
ート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−
ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオー
ルジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコ
ネート、ペンタエタスリトールジイタコネート、ソルビ
トールテトライタコネート等がある。
【0026】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例のうち、クロト
ン酸エステルとしては、エチレングリコールジクロトネ
ート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペン
タエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラ
クロトネート等がある。
【0027】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例のうち、イソク
ロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジイソ
クロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネー
ト、ソルビトールテトライソクロトネート等がある。
【0028】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例のうち、マレイ
ン酸エステルとしては、エチレングリコールジマレエー
ト、トリエチレングリコールジマレエート、ペンタエリ
スリトールジマレエート、ソルビトールテトラマレエー
ト等がある。
【0029】ハロゲン化不飽和カルボン酸としては、
2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレー
ト、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシ
ルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロ
ピルメタクリレート、1H,1H,2H,2H−ヘプタ
デカフルオロデシルメタクリレート、メタクリル酸−
2,4,6−トリブロモフェニル、ジブロモネオペンチ
ルジメタクリレート、(商品名;NKエステルDBN、
新中村化学工業(株)製)、ジブロモプロピルアクリレ
ート(商品名;NKエステルA−DBP、新中村化学工
業(株)製)、ジブロモプロピルメタクリレート(商品
名;NKエステルDBP、新中村化学工業(株)製)、
メタクリル酸クロライド、メタクリル酸−2,4,6−
トリクロロフェニル、p−クロロスチレン、メチル−2
−クロロアクリレート、エチル−2−クロロアクリレー
ト、n−ブチル−2−クロロアクリレート、トリブロモ
フェールアクリレート、テトラブロモフェノールアクリ
レート等が挙げられる。
【0030】また、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミ
ン化合物とのアミドのモノマーの具体例としては、メチ
レンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミ
ト、1,6−ヘキサメチレンビスアクリルアミド、1,
6−ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレン
トリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアク
リルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド、N−フ
ェニルメタクリルアミド、ダイアセトンアクリルアミド
等が挙げられる。
【0031】その他の例としては、特公昭48−417
08号公報に記載された一分子に2個以上のイソシアネ
ート基を有するポリイソシアネート化合物、一般式CH
2 =C(R)COOCH2 (R’)OH(式中R、R’
は水素あるいはメチル基を表す。)で示される水酸基を
有するビニルモノマーを付加させた一分子中に2個以上
の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が
挙げられる。
【0032】また特開昭51−37193号公報に記載
されたウレタンアクリレート類、特開昭48−6418
3号公報、特公昭49−43191号公報、特公昭52
−30490号公報にそれぞれ記載されているようなポ
リエステルアクリレート類、エポキシ基と(メタ)アク
リル酸等の多官能性のアクリレートろメタクリレートを
挙げることができる。
【0033】さらに、日本接着協会誌Vol.20、N
o.7、300〜308頁に光硬化性モノマー及びオリ
ゴマーとして、紹介されているものも、使用することが
できる。
【0034】その他、リンを含むモノマーとしては、モ
ノ(アクリロイロキシエチル)アシッドフォスフェート
(商品名;ライトエステルPA、共栄社油脂化学工業
(株)製)、モノ(2−メタクリロイロキシエチル)ア
シッドフォスフェート(商品名;ライトエステルPM、
共栄社油脂化学工業(株)製)が挙げられ、またエポキ
シアクリレート系である商品名;リポキシVR−60
(昭和高分子(株)製、商品名(リポキシVR−90
(昭和高分子(株)製)等が挙げられる。
【0035】また、商品名;NKエステルM−230G
(新中村化学工業(株)製)、商品名;NKエステル2
3G(新中村化学工業(株)製)も挙げられる。
【0036】更に、下記の構造を有するトリアクリレー
ト類
【0037】
【化1】
【0038】(商品名;アロニックスM−315、東亜
合成化学工業(株)製)、下記の構造を有するトリアク
リレート類
【0039】
【化2】
【0040】(商品名;アロニックスM−325、東亜
合成化学工業(株)製)、また、2,2’−ビス(4−
アクリロキシ・ジエトキシフェニルプロパン(商品名;
NKエステルA−BPE−4)、テトラメチロールメタ
ンテトラアクリレート(新中村化学工業(株)製、商品
名;NKエステルA−TMMT)等が挙げられる。
【0041】次に、開始剤系における光重合開始剤とし
ては、1,3−ジ(t−ブチルジオキシカルボニル)ベ
ンゾフェノン、3,3’,4,4’−テトラキス(t−
ブチルジオキシカルボニル)ベンゾフェノン、N−フェ
ニルグリシン、2,4,6−トリス(トリクロロメチ
ル)s−トリアジン、3−フェニル−5−イソオキサゾ
ロン、2−メルカプトベンズイミダゾール、また、イミ
ダゾール二量体類等が例示される。光重合開始剤は、記
録されたホログラムの安定化の観点から、ホログラム記
録後に分解処理されるのが好ましい。例えば、有機過酸
化物系にあっては、紫外線照射することにより、容易に
分解されるので好ましい。
【0042】増感色素としては、350〜600nmに
吸収光を有するチオピリリウム塩系色素、メロシアニン
系色素、キノリン系色素、スチリルキノリン系色素、ケ
トクマリン系色素、チオキサンテン系色素、キサンテン
系色素、オキソノール系色素、シアニン染料、ローダミ
ン染料、チオピリリウム塩系色素、ピリリウムイオン系
色素、ジフェニルヨードニウムイオン系色素等が例示さ
れる。なお、350nm以下、または600nm以上の
波長領域に吸収光を有する増感色素があってもい。
【0043】上記した、マトリックスポリマー、光重合
性化合物、光重合開始剤及び増感色素とからなる、体積
ホログラム形成用樹脂組成物の配合比は、次のとおりで
ある。光重合性化合物はバインダー樹脂100重量部に
対して10重量部〜1000重量部、好ましくは10重
量部〜100重量部の割合で使用される。光重合開始剤
はバインダー樹脂100重量部に対して1重量部〜10
重量部、好ましくは5重量部〜10重量部の割合で使用
される。増感色素はバインダー樹脂100重量部に対し
て0.01重量部〜1重量部、好ましくは0.01重量
部〜0.5重量部の割合で使用される。
【0044】その他、体積ホログラム形成用樹脂組成物
の成分としては、例えば、可塑剤、及び各種の非イオン
系界面活性剤、陽イオン系界面活性剤、陰イオン系界面
活性剤が挙げられる。
【0045】可塑剤としては、エチレングリコール、ジ
エチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラ
エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロ
パン等の多価アルコール類、およびこれらの多価アルコ
ールの末端ヒドロキシ基がエーテル化、アセチル化名等
によりブロックされた誘導体、フタル酸ジメチル、フタ
ル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ヘプチルノ
ニル、フタル酸ジ−2−エチルヘキシル、フタル酸ジ−
n−オクチル、フタル酸(79アルキル)、フタル酸ジ
−i−デシル、フタル酸トリデシル、フタル酸ジシクロ
ヘキシル、フタル酸ジブチルベンジル、エチルフタリル
エチルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレー
ト等のフタル酸エステル系可塑剤、アジピン酸−ジ−2
−エチルヘキシル、アジピン酸−ジ−(メチルシクロヘ
キシル)、アジピン酸ジイソデシル、アゼライン酸ジ−
n−ヘキシル、アゼライン酸ジ−2−エチルヘキシル、
セバシン酸ジブチル、セバシン酸ジ−2−エチルヘキシ
ル等の脂肪族二塩基酸エステル系可塑剤、クエン酸トリ
エチル、クエン酸トリブチル、アセチルクエントリエチ
ル、アセチルクエン酸トリブチル等のクエン酸エステル
系可塑剤、エポキシ化大豆油等のエポキシ系可塑剤、リ
ン酸トリブチル、リン酸トリフェニル、リン酸トリクレ
ジル、リン酸トリプロピレングリコール等のリン酸エス
テル再可塑剤が挙げられる。
【0046】体積ホログラム形成用樹脂組成物は、アセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
シクロヘキサノン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ク
ロルベンゼン、テトラヒドロフラン、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテート、
エチルセロソルブアセテート、酢酸エチル、1,4−ジ
オキサン、1,2−ジクロロエタン、ジクロルメタン、
クロロホルム、メタノール、エタノール、イソプロパノ
ール等、またはそれらの混合溶剤を使用し、固形分15
%〜25%程度の塗布液とされる。なお、このような塗
布液として、例えば、デュポン社製のオムニデックス3
52、706として市販されているものを使用してもよ
い。これらの塗布液を使用して作製する体積ホログラム
形成用樹脂組成物層4の厚みとしては、0.1μm〜5
0μm、好ましくは5μm〜20μmである。
【0047】移行制御層3は、体積ホログラム形成用樹
脂組成物層4がホログラムの露光を受けた後、体積ホロ
グラム形成用樹脂組成物層4から移行制御層3に移行す
る、又はその逆の移行をするのを制御する役割を持つも
のである。移行制御層3は、原則的には、体積ホログラ
ム形成用樹脂組成物層4の構成成分におけるのと同様な
マトリックスポリマーと、隣接する体積ホログラム形成
用樹脂組成物層4中の移行性物質と同じ移行性物質を体
積ホログラム形成用樹脂組成物層4中での重量%を基礎
に決めた重量%で添加したものである。
【0048】移行制御層3を構成するマトリックスポリ
マーとしては、体積ホログラム形成用樹脂組成物層4中
のマトリックスポリマーと同じものが使用できるが、と
りわけ、ポリイソプレン、ポリブタジエン、ポリクロロ
プレン、ポリビニルアルコール、又はポリビニルアルコ
ールの部分アセタール化物であるホリビニルアセター
ル、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、塩化ビニ
ル−酢酸ビニル共重合体等、またはそれらの混合物が好
ましい例として挙げられる。体積ホログラム形成用樹脂
組成物層4中のマトリックスポリマーと樹脂の種類が近
似している事が好ましく、例えば、体積ホログラム形成
用樹脂組成物層4中で塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体
を使用している場合には、同じ塩化ビニル−酢酸ビニル
共重合体かポリ酢酸ビニルが好ましい。
【0049】移行制御層3を構成するその他の成分とそ
の添加量を、移行制御層3の役割と共に説明する。例え
ば、ホログラムの露光により、体積ホログラム形成用樹
脂組成物層4中の光重合性化合物は、互いに重合し、未
重合の光重合性化合物は、露光前にくらべて減少する
が、この露光後に残存する未重合の光重合物質の体積ホ
ログラム形成用樹脂組成物層4中での重量%と、移行制
御層3中に添加した光重合性化合物の重量%がほぼ等し
いときには、光重合性化合物の層間での移行は実質上起
こらない。しかし、両層中の光重合性化合物の重量%に
差があるときは、その重量%の多い方の層から、より重
量%の少ない方の層に向かって、光重合性化合物の移行
が起きる。
【0050】従って、光重合性化合物の移行を起こさせ
たいときは、両層の光重合性化合物の重量%の差を付け
るようにし、移行を起こさせたくないときは、差を付け
ないようにする。実際には、体積ホログラム形成用樹脂
組成物層4中の光重合性化合物の重量%は体積ホログラ
ム形成用樹脂組成物層4に要求される性質によって決ま
るので、ホログラムの露光を受けた後の光重合性化合物
の重量%と、移行の方向、あるいは移行させない事を決
定し、移行制御層3中への光重合性化合物の添加量を決
める。
【0051】体積ホログラム形成用樹脂組成物層4中に
は、マトリックスポリマー、および光重合性化合物の他
に、光重合開始剤、増感色素、可塑剤、又は界面活性剤
等の移行性物質を必要に応じて含んでいる。これらは、
ホログラムの露光によって、重合する割合はほとんど無
い。従って、単にどちらの方向に移行させるか、あるい
は移行させないかによって、移行制御層3中に添加する
際の重量%の数値を決める。移行性物質はマトリックス
ポリマーと共に、適宜な溶剤に溶解又は分散して塗料組
成物とし、塗布する。なお、溶剤の種類は任意である
が、体積ホログラム形成用樹脂組成物層4上に塗布する
場合には、下層を溶解しないことが望ましく、体積ホロ
グラム形成用樹脂組成物層4のマトリックスポリマーが
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体であるときは、メタノ
ール、エタノール、トルエン、メチニエチルケトン、テ
トラヒドロフラン等を使用することが好ましい。塗布
は、ロールコート、グラビアロールコート、カーテンフ
ローコート、スピンナー等の回転塗布機によるコート、
又は浸漬等によって行なう。
【0052】実際に移行性物質を移行させる方法につい
て述べると、まず、図1〜図3を引用して説明したホロ
グラム形成用材料1を準備する。これらのホログラム形
成用材料1には、従来技術において説明した、フォトマ
スク状の最初のホログラム原版を使用するか、あるい
は、これをホログラム形成用の高分子感光材で複製し、
好ましくは、両面をガラス基板等で被覆したものを複製
用原版として使用し、レーザー光を使用してホログラム
を露光を行なう。露光後、光重合開始剤や光重合性化合
物は未反応のまま残るものがあるので、その後、超高圧
水銀灯、高圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアー
ク、メタルハライドランプ等の光源から、0.1〜1
0,000mJ/cm2 、好ましくは10〜1,000
mJ/cm2 の紫外線照射により、光重合開始剤を分解
する工程、及び加熱処理、例えば、120℃で120分
の加熱により、光重合可能な化合物を拡散移動させる工
程を順次経て、安定な体積ホログラムとする。
【0053】この紫外線照射、および加熱処理、特に後
者の処理は、移行性物質の拡散を促すので、加熱処理を
行なう際には、移行性物質を移行させる別の工程を要し
ないが、露光後、そのまま製品となるときは、加熱処理
を施して移行性物質の移行を起こさせる。なお、移行性
物質の移行はホログラムの露光後に行われるので、移行
制御層3が体積ホログラム形成用樹脂組成物層4の上に
ある場合(図2、および図3で示した例)には、露光後
に体積ホログラム形成用樹脂組成物層4上に移行制御層
3を形成してもよい。また、移行を起こさせた後は、移
行制御層3が最上層の場合には、剥離してもよく、その
場合には、下層との密着強度を、後に剥離できる程度に
しておく。
【0054】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、ホログラム形
成後に移行性物質の移行を制御できるので、ホログラム
層の厚みを所望の状態にすることができる。
【0055】請求項2の発明によれば、請求項1の発明
の効果に加え、移行性物質の移行をホログラム層の下層
との間で制御することができる。
【0056】請求項3の発明によれば、請求項1の発明
の効果に加え、移行性物質の移行をホログラム層の下層
と上層の両方の層との間で行えるので、移行を起こせる
にも、移行を停止させるにも効率がよい。
【0057】請求項4の発明によれば、移行性物質の移
行をホログラム層の上層との間で制御することができ
る。このタイプのものは、露光後に移行制御層を形成す
る事もできるので、露光の際に光学的な支障が発生する
恐れがなく、また、下層との接着強度を調整することよ
り、使用後に移行制御層を剥離することが可能になる。
【0058】請求項5の発明によれば、ホログラム形成
後に移行性物質の移行を、移行の方向、移行の停止を含
めて制御できるので、ホログラム層の厚みを所望の状態
にすることができる。
【0059】請求項6の発明によれば、請求項5の発明
の効果に加え、移行性物質の移行をホログラム層の下層
との間で制御することができる。
【0060】請求項7の発明によれば、請求項5の発明
の効果に加え、移行性物質の移行をホログラム層の下層
と上層の両方の層との間で行えるので、移行を起こせる
にも、移行を停止させるにも効率がよい。
【0061】請求項8の発明によれば、移行性物質の移
行をホログラム層の上層との間で制御することができ
る。この方法によれば、露光後に移行制御層を形成する
事もできるので、露光の際に光学的な支障が発生する恐
れがなく、また、下層との接着強度を調整することよ
り、使用後に移行制御層を剥離することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のホログラム形成用材料の断面図であ
る。
【図2】本発明のホログラム形成用材料の断面図であ
る。
【図3】本発明のホログラム形成用材料の断面図であ
る。
【符号の説明】
1 ホログラム形成用材料 2 基材 3 移行制御層 4 体積ホログラム形成用樹脂組成物層

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基材上に体積ホログラム形成用樹脂組成
    物層が積層され、前記基材と体積ホログラム形成用樹脂
    組成物層との間又は体積ホログラム形成用樹脂組成物層
    上の少なくとも前者に移行制御層が積層され、前記移行
    制御層と前記体積ホログラム形成用樹脂組成物層の少な
    くともいずれかに、両層内での濃度差により両層間で移
    行する移行性物質を含有する事を特徴とするホログラム
    形成用材料。
  2. 【請求項2】 移行制御層を基材と体積ホログラム形成
    用樹脂組成物層との間にのみ有する請求項1のホログラ
    ム形成用材料。
  3. 【請求項3】 移行制御層を、基材と体積ホログラム形
    成用樹脂組成物層との間および体積ホログラム形成用樹
    脂組成物層上の両方に有する請求項1のホログラム形成
    用材料。
  4. 【請求項4】 基材上に体積ホログラム形成用樹脂組成
    物層および移行制御層が順次積層され、前記移行制御層
    と前記体積ホログラム形成用樹脂組成物層の少なくとも
    いずれかに、両層内での濃度差により両層間で移行する
    移行性物質を含有する事を特徴とするホログラム形成用
    材料。
  5. 【請求項5】 基材上に体積ホログラム形成用樹脂組成
    物層を形成する工程と基材と体積ホログラム形成用樹脂
    組成物層の間又は体積ホログラム形成用樹脂組成物層上
    の少なくとも前者に移行制御層を形成する工程とを行な
    い、その後、ホログラムを露光し、露光後、移行を起こ
    させる事からなり、前記移行制御層と前記体積ホログラ
    ム形成用樹脂組成物層の少なくともいずれかに、両層内
    での濃度差により両層間で移行する移行性物質を含有す
    る事を特徴とするホログラムの製造方法。
  6. 【請求項6】 移行制御層を基材と体積ホログラム形成
    用樹脂組成物層の間にのみ形成する請求項5のホログラ
    ムの製造方法。
  7. 【請求項7】 移行制御層を基材と体積ホログラム形成
    用樹脂組成物層の間および体積ホログラム形成用樹脂組
    成物層上の両方に形成する請求項5のホログラムの製造
    方法。
  8. 【請求項8】 基材上に体積ホログラム形成用樹脂組成
    物層を形成する工程と移行制御層を形成する工程とを順
    次行ない、その後、ホログラムを露光し、露光後、移行
    を起こさせる事からなり、前記体積ホログラム形成用樹
    脂組成物層と移行制御層のいずれかに、両層内での濃度
    差により両層間で移行する移行性物質を含有する事を特
    徴とするホログラムの製造方法。
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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008105510A1 (ja) * 2007-02-28 2008-09-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 体積ホログラム積層体の製造方法
JP2008242452A (ja) * 2007-02-28 2008-10-09 Dainippon Printing Co Ltd 体積ホログラム積層体の製造方法
JP2009104099A (ja) * 2007-10-01 2009-05-14 Dainippon Printing Co Ltd 体積ホログラム積層体、体積ホログラム転写用シート、体積ホログラム貼着体および体積ホログラム積層体の製造方法
GB2468223A (en) * 2007-02-28 2010-09-01 Dainippon Printing Co Ltd Volume hologram producing methods using photopolymerizable materials
WO2022154042A1 (ja) * 2021-01-18 2022-07-21 大日本印刷株式会社 体積ホログラム積層体、体積ホログラム転写箔、体積ホログラムラベル、カード、データページおよび冊子類

Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB2468223B (en) * 2007-02-28 2011-04-27 Dainippon Printing Co Ltd Volume hologram laminate manufacturing method
GB2475177B (en) * 2007-02-28 2011-07-20 Dainippon Printing Co Ltd Method of producing volume hologram laminate
US10474099B2 (en) 2007-02-28 2019-11-12 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method of producing volume hologram laminate
GB2459823A (en) * 2007-02-28 2009-11-11 Dainippon Printing Co Ltd Volume hologram laminate manufacturing method
GB2468223A (en) * 2007-02-28 2010-09-01 Dainippon Printing Co Ltd Volume hologram producing methods using photopolymerizable materials
GB2459823B (en) * 2007-02-28 2010-11-17 Dainippon Printing Co Ltd Method of producing volume hologram laminate
JP2008242452A (ja) * 2007-02-28 2008-10-09 Dainippon Printing Co Ltd 体積ホログラム積層体の製造方法
GB2475177A (en) * 2007-02-28 2011-05-11 Dainippon Printing Co Ltd Volume hologram laminate production method with recording layer comprising radically polymerizable and cationic polymerizable monomers
WO2008105510A1 (ja) * 2007-02-28 2008-09-04 Dai Nippon Printing Co., Ltd. 体積ホログラム積層体の製造方法
JP2013101399A (ja) * 2007-02-28 2013-05-23 Dainippon Printing Co Ltd 体積ホログラム積層体の製造方法
US8697314B2 (en) 2007-02-28 2014-04-15 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method of producing volume hologram laminate
US9529324B2 (en) 2007-02-28 2016-12-27 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Method of producing volume hologram laminate
JP2009104099A (ja) * 2007-10-01 2009-05-14 Dainippon Printing Co Ltd 体積ホログラム積層体、体積ホログラム転写用シート、体積ホログラム貼着体および体積ホログラム積層体の製造方法
WO2022154042A1 (ja) * 2021-01-18 2022-07-21 大日本印刷株式会社 体積ホログラム積層体、体積ホログラム転写箔、体積ホログラムラベル、カード、データページおよび冊子類
JPWO2022154042A1 (ja) * 2021-01-18 2022-07-21

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