JP2000256459A - 多分岐高分子およびその製造方法 - Google Patents
多分岐高分子およびその製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 屈曲性の高いメチレン基を有し、比較的分子
サイズが大きいＡＢ2 型モノマーを用いることで、立体
障害による反応性の低下を回避し、高分子量体が合成可
能で、かつ保護基を持たないＡＢ2 型モノマーを用いる
ことで、一段階ごとの単離精製の工程を必要としないた
め、少ない工程で容易に大量に製造可能で、かつ分岐構
造の規則性が高く、比較的分子量分布のそろった多分岐
高分子を得る。 【解決手段】 下記一般式（１）で表わされる基本繰り
返し単位からなり、かつ数平均分子量が５００以上の多
分岐高分子。 【化１】
サイズが大きいＡＢ2 型モノマーを用いることで、立体
障害による反応性の低下を回避し、高分子量体が合成可
能で、かつ保護基を持たないＡＢ2 型モノマーを用いる
ことで、一段階ごとの単離精製の工程を必要としないた
め、少ない工程で容易に大量に製造可能で、かつ分岐構
造の規則性が高く、比較的分子量分布のそろった多分岐
高分子を得る。 【解決手段】 下記一般式（１）で表わされる基本繰り
返し単位からなり、かつ数平均分子量が５００以上の多
分岐高分子。 【化１】
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、新規なポリアミド
系の多分岐高分子に関し、詳しくは従来のポリアミド系
多分岐高分子と比較して、より分岐構造の規則性の高い
高分子量体を合成することができ、化学分野、医薬分
野、電子材料分野などに関連する、種々の高機能材料の
創製に有用なポリアミド系の多分岐高分子、およびその
モノマー、ならびにこの多分岐高分子の製造方法に関す
る。
系の多分岐高分子に関し、詳しくは従来のポリアミド系
多分岐高分子と比較して、より分岐構造の規則性の高い
高分子量体を合成することができ、化学分野、医薬分
野、電子材料分野などに関連する、種々の高機能材料の
創製に有用なポリアミド系の多分岐高分子、およびその
モノマー、ならびにこの多分岐高分子の製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】多分岐高分子のなかで、規則的な分岐構
造をもち、分子量分布の揃ったデンドリマーは、従来の
高分子にない構造をもち、広範な分野への応用が期待さ
れている。ここで、デンドリマーとは、樹木の枝が規則
的に分岐していくような形で成長した樹状分岐ポリマー
であり、その合成法には、2 官能性もしくはそれ以上の
開始核（ｃｏｒｅ）から順次枝を伸ばしていく「ｄｉｖ
ｅｒｇｅｎｔ法」と、分岐ユニットを外側から順次つな
ぎあわせて最後に中心核に結合させる「ｃｏｎｖｅｒｇ
ｅｎｔ法」がある。一方、ＡＢｘ型の多官能性モノマー
（ここで、ＡとＢはお互いに反応する官能基、Ｂの数ｘ
は２以上）を重合させると、不規則な分岐構造を有する
多重分岐ポリマーが得られ、これは、多分岐高分子（Ｈ
ｙｐｅｒｂｒａｎｃｈｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ）と呼ばれ
ている。
造をもち、分子量分布の揃ったデンドリマーは、従来の
高分子にない構造をもち、広範な分野への応用が期待さ
れている。ここで、デンドリマーとは、樹木の枝が規則
的に分岐していくような形で成長した樹状分岐ポリマー
であり、その合成法には、2 官能性もしくはそれ以上の
開始核（ｃｏｒｅ）から順次枝を伸ばしていく「ｄｉｖ
ｅｒｇｅｎｔ法」と、分岐ユニットを外側から順次つな
ぎあわせて最後に中心核に結合させる「ｃｏｎｖｅｒｇ
ｅｎｔ法」がある。一方、ＡＢｘ型の多官能性モノマー
（ここで、ＡとＢはお互いに反応する官能基、Ｂの数ｘ
は２以上）を重合させると、不規則な分岐構造を有する
多重分岐ポリマーが得られ、これは、多分岐高分子（Ｈ
ｙｐｅｒｂｒａｎｃｈｅｄ Ｐｏｌｙｍｅｒ）と呼ばれ
ている。
【０００３】ポリアミド系のデンドリマーの合成は、例
えば、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．，７７，１（１９
９４）や、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔ
ｒａｎｓ．１，１６２３（１９９２）に報告されてい
る。これらは、それぞれ異なる繰り返し単位をもつデン
ドリマーの合成に関するものである。しかし、いずれの
場合にも、立体障害が原因で、高分子量のデンドリマー
が合成できないという問題がある。また、これらの合成
には、官能基を保護したＡＢ2 型モノマーを用い、一段
階ごとに単離精製を繰り返す製造工程が必要で、これが
大量合成の際には障害となる。
えば、Ｍａｃｒｏｍｏｌ．Ｓｙｍｐ．，７７，１（１９
９４）や、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐｅｒｋｉｎ Ｔ
ｒａｎｓ．１，１６２３（１９９２）に報告されてい
る。これらは、それぞれ異なる繰り返し単位をもつデン
ドリマーの合成に関するものである。しかし、いずれの
場合にも、立体障害が原因で、高分子量のデンドリマー
が合成できないという問題がある。また、これらの合成
には、官能基を保護したＡＢ2 型モノマーを用い、一段
階ごとに単離精製を繰り返す製造工程が必要で、これが
大量合成の際には障害となる。
【０００４】一方、不規則な分岐構造を有する多分岐高
分子は、ＡＢ2 型モノマーの重合により製造される。ポ
リアミド系多分岐高分子の合成は、例えば、Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１４，４９２７（１９９２）に
報告されている。しかし、この場合にも、立体障害が原
因で高分子量の多分岐高分子が合成できないという問題
がある。また、この方法で得られる多分岐高分子の構造
は不明確であり、分子量分布が広く、構造の制御された
重合体を製造することができず、用途が限定されるとい
う問題がある。
分子は、ＡＢ2 型モノマーの重合により製造される。ポ
リアミド系多分岐高分子の合成は、例えば、Ｊ．Ａｍ．
Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１４，４９２７（１９９２）に
報告されている。しかし、この場合にも、立体障害が原
因で高分子量の多分岐高分子が合成できないという問題
がある。また、この方法で得られる多分岐高分子の構造
は不明確であり、分子量分布が広く、構造の制御された
重合体を製造することができず、用途が限定されるとい
う問題がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術の
課題を解決し、屈曲性の高いメチレン基を有し、比較的
分子サイズの大きいＡＢ2 型モノマーを用いることで、
立体障害による反応性の低下を回避し、高分子量体が合
成可能な多分岐高分子を提供することを目的とする。ま
た、本発明は、保護基を持たないＡＢ2 型モノマーを用
いることで、一段階ごとの単離精製の工程を必要としな
いため、少ない工程で容易に大量に製造可能で、かつ分
岐構造の規則性が高く、比較的分子量分布の揃った多分
岐高分子の製造方法を提供することを目的とする。さら
に、本発明は、化学分野、医薬分野、電子材料分野など
に関連する、種々の高機能材料の創製に有用な化合物を
提供することが可能な多分岐高分子を提供することを目
的とする。
課題を解決し、屈曲性の高いメチレン基を有し、比較的
分子サイズの大きいＡＢ2 型モノマーを用いることで、
立体障害による反応性の低下を回避し、高分子量体が合
成可能な多分岐高分子を提供することを目的とする。ま
た、本発明は、保護基を持たないＡＢ2 型モノマーを用
いることで、一段階ごとの単離精製の工程を必要としな
いため、少ない工程で容易に大量に製造可能で、かつ分
岐構造の規則性が高く、比較的分子量分布の揃った多分
岐高分子の製造方法を提供することを目的とする。さら
に、本発明は、化学分野、医薬分野、電子材料分野など
に関連する、種々の高機能材料の創製に有用な化合物を
提供することが可能な多分岐高分子を提供することを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記一般式
（１）で表わされる基本繰り返し単位からなり、かつ数
平均分子量が５００以上の多分岐高分子を提供するもの
である。
（１）で表わされる基本繰り返し単位からなり、かつ数
平均分子量が５００以上の多分岐高分子を提供するもの
である。
【０００７】
【化４】
【０００８】（式中、ｎは１〜２０の整数を示す。） また、本発明は、下記一般式（２）で表わされるＡＢ2
型モノマーを提供するものである。
型モノマーを提供するものである。
【０００９】
【化５】
【００１０】（式中、ｎは１〜２０の整数、またＸとし
て酸性化合物が付加していてもよい。） さらに、本発明は、上記一般式（２）で表されるＡＢ2
型モノマーを段階的に縮合させることを特徴とする上記
一般式（１）で表される多分岐高分子の製造方法を提供
するものである。
て酸性化合物が付加していてもよい。） さらに、本発明は、上記一般式（２）で表されるＡＢ2
型モノマーを段階的に縮合させることを特徴とする上記
一般式（１）で表される多分岐高分子の製造方法を提供
するものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】本発明の多分岐高分子は、上記式
（１）で表される基本繰り返し単位からなり、かつ数平
均分子量が５００以上である。ここで、式（１）におい
て、ｎは１〜２０の整数、好ましくは２〜１８の整数で
ある。ｎが０では、立体障害による反応性の低下を回避
することができず、一方、２０を超えると、モノマーの
製造が困難となる。
（１）で表される基本繰り返し単位からなり、かつ数平
均分子量が５００以上である。ここで、式（１）におい
て、ｎは１〜２０の整数、好ましくは２〜１８の整数で
ある。ｎが０では、立体障害による反応性の低下を回避
することができず、一方、２０を超えると、モノマーの
製造が困難となる。
【００１２】本発明の多分岐高分子は、例えば次のよう
にして製造することができる。 製造方法１（重合法）；上記式（２）で表されるＡＢ2
型モノマーの重合により製造する。すなわち、モノマー
を有機溶媒に溶解し、縮合剤、および必要があれば、酸
受容剤を加え、常温または加温下に直接重縮合させる。
このとき、中心核として１個以上のカルボン酸を有する
化合物を加えることもできる。また、重合体の末端に
は、必要に応じて１個のアミノ基のみを有する化合物を
縮合させることもできる。生成した多分岐高分子は、例
えば反応溶液を、これの貧溶媒に注いで沈殿させ単離す
ることができる。他に、モノマーを減圧下に加熱して溶
融重縮合させる方法も用いることができる。
にして製造することができる。 製造方法１（重合法）；上記式（２）で表されるＡＢ2
型モノマーの重合により製造する。すなわち、モノマー
を有機溶媒に溶解し、縮合剤、および必要があれば、酸
受容剤を加え、常温または加温下に直接重縮合させる。
このとき、中心核として１個以上のカルボン酸を有する
化合物を加えることもできる。また、重合体の末端に
は、必要に応じて１個のアミノ基のみを有する化合物を
縮合させることもできる。生成した多分岐高分子は、例
えば反応溶液を、これの貧溶媒に注いで沈殿させ単離す
ることができる。他に、モノマーを減圧下に加熱して溶
融重縮合させる方法も用いることができる。
【００１３】製造方法２（Ｏｎｅ−ｐｏｔ合成法）；中
心核となる、カルボン酸を１個以上有する化合物を有機
溶媒に溶解させ、このカルボン酸と等量の縮合剤を加え
て活性化する。このとき、必要があれば、酸受容剤をと
もに加える。次に、活性化されたカルボン酸に対して等
量の一般式（２）のモノマーを加えて縮合させる。次
に、モノマーのカルボン酸の活性化、次のモノマーとの
縮合を繰り返す。このモノマーのカルボン酸の活性化と
次のモノマーとの結合の操作を必要な分子量が得られる
まで行う。末端には、必要に応じて１個のアミノ基のみ
を有する化合物を縮合させることもできる。生成した多
分岐高分子は、例えば反応溶液を、これの貧溶媒に注い
で沈殿させ単離することができる。
心核となる、カルボン酸を１個以上有する化合物を有機
溶媒に溶解させ、このカルボン酸と等量の縮合剤を加え
て活性化する。このとき、必要があれば、酸受容剤をと
もに加える。次に、活性化されたカルボン酸に対して等
量の一般式（２）のモノマーを加えて縮合させる。次
に、モノマーのカルボン酸の活性化、次のモノマーとの
縮合を繰り返す。このモノマーのカルボン酸の活性化と
次のモノマーとの結合の操作を必要な分子量が得られる
まで行う。末端には、必要に応じて１個のアミノ基のみ
を有する化合物を縮合させることもできる。生成した多
分岐高分子は、例えば反応溶液を、これの貧溶媒に注い
で沈殿させ単離することができる。
【００１４】本発明の多分岐高分子の製造において用い
られる反応溶媒（有機溶媒）は、特に制限はないが、用
いるモノマーと生成する多分岐高分子とがともに溶解
し、反応を阻害しないものが好ましい。一般的には、非
プロトン性極性溶媒が好ましい。さらに具体的な例とし
て、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル
などを挙げることができる。
られる反応溶媒（有機溶媒）は、特に制限はないが、用
いるモノマーと生成する多分岐高分子とがともに溶解
し、反応を阻害しないものが好ましい。一般的には、非
プロトン性極性溶媒が好ましい。さらに具体的な例とし
て、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル
などを挙げることができる。
【００１５】また、本発明の多分岐高分子の製造におい
て、用いられる縮合剤は、カルボン酸の活性化により、
アミノ基との縮合反応を促進することのできる化合物で
あれば、特に限定されない。具体的な縮合剤の例とし
て、例えばジシクロへキシルカルボジイミド、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド、カルボニルジイミダゾール、亜りん酸トリフェニ
ル、ジフェニルジクロロりん酸、ジフェニル（２，３−
ジヒドロ−２−チオキソ−３−ベンゾキサゾリル）ホス
ホナートなどを挙げることができる。
て、用いられる縮合剤は、カルボン酸の活性化により、
アミノ基との縮合反応を促進することのできる化合物で
あれば、特に限定されない。具体的な縮合剤の例とし
て、例えばジシクロへキシルカルボジイミド、Ｎ−エチ
ル−Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミ
ド、カルボニルジイミダゾール、亜りん酸トリフェニ
ル、ジフェニルジクロロりん酸、ジフェニル（２，３−
ジヒドロ−２−チオキソ−３−ベンゾキサゾリル）ホス
ホナートなどを挙げることができる。
【００１６】さらに、本発明の多分岐高分子の製造にお
いて用いられる酸受容剤の例としては、３級アミンが挙
げられる。具体的な例として、トリエチルアミン、トリ
ブチルアミン、トリオクチルアミン、ピリジン、キノリ
ンなどを挙げることができる。
いて用いられる酸受容剤の例としては、３級アミンが挙
げられる。具体的な例として、トリエチルアミン、トリ
ブチルアミン、トリオクチルアミン、ピリジン、キノリ
ンなどを挙げることができる。
【００１７】さらに、本発明の多分岐高分子の製造にお
いて、中心核となる化合物としては、１個以上のカルボ
ン酸を有する化合物であって、縮合反応を阻害しない、
いかなる化合物を用いてもよい。具体的な例として、安
息香酸、ｐ−メチル安息香酸、ｐ−メトキシ安息香酸、
イソフタル酸、テレフタル酸、トリメシン酸、酢酸、プ
ロパン酸、ブタン酸、ヘキサン酸、アジピン酸、トリメ
リット酸、ピロメリット酸、ジフェニルテトラカルボン
酸、シクロヘキサントリカルボン酸などを挙げることが
できる。
いて、中心核となる化合物としては、１個以上のカルボ
ン酸を有する化合物であって、縮合反応を阻害しない、
いかなる化合物を用いてもよい。具体的な例として、安
息香酸、ｐ−メチル安息香酸、ｐ−メトキシ安息香酸、
イソフタル酸、テレフタル酸、トリメシン酸、酢酸、プ
ロパン酸、ブタン酸、ヘキサン酸、アジピン酸、トリメ
リット酸、ピロメリット酸、ジフェニルテトラカルボン
酸、シクロヘキサントリカルボン酸などを挙げることが
できる。
【００１８】さらに、本発明の多分岐高分子の製造にお
いて、末端に結合させることのできる化合物としては、
１個の１級または２級のアミノ基を有する化合物であっ
て、縮合反応を阻害しない、いかなる化合物を用いても
よい。具体的な例として、アニリン、ｐ−アニシジン、
ｐ−メチルアニリン、ｐ−ヒドロキシアニリン、ｍ−ヒ
ドロキシアニリン、ｏ−ヒドロキシアニリン、ジフェニ
ルアミン、Ｎ−メチルアニリン、エチルアミン、ジエチ
ルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシ
ルアミン、ドデシルアミンなどを挙げることができる。
いて、末端に結合させることのできる化合物としては、
１個の１級または２級のアミノ基を有する化合物であっ
て、縮合反応を阻害しない、いかなる化合物を用いても
よい。具体的な例として、アニリン、ｐ−アニシジン、
ｐ−メチルアニリン、ｐ−ヒドロキシアニリン、ｍ−ヒ
ドロキシアニリン、ｏ−ヒドロキシアニリン、ジフェニ
ルアミン、Ｎ−メチルアニリン、エチルアミン、ジエチ
ルアミン、イソプロピルアミン、ブチルアミン、ヘキシ
ルアミン、ドデシルアミンなどを挙げることができる。
【００１９】なお、製造方法１〜２における反応温度
は、通常、−８０℃〜＋１２０℃、好ましくは０℃〜＋
６０℃である。また、製造方法１における反応時間は、
通常、０．１〜４８時間、好ましくは０．２〜２４時間
である。さらに、製造方法２における活性化の反応時間
は、通常、０．１〜２時間、好ましくは０．２〜０．５
時間、縮合の反応時間は、通常、０．１〜４８時間、好
ましくは０．２〜２４時間である。
は、通常、−８０℃〜＋１２０℃、好ましくは０℃〜＋
６０℃である。また、製造方法１における反応時間は、
通常、０．１〜４８時間、好ましくは０．２〜２４時間
である。さらに、製造方法２における活性化の反応時間
は、通常、０．１〜２時間、好ましくは０．２〜０．５
時間、縮合の反応時間は、通常、０．１〜４８時間、好
ましくは０．２〜２４時間である。
【００２０】このようにして製造される本発明の多分岐
高分子の数平均分子量は、５００以上、好ましくは１，
０００〜５０，０００である。数平均分子量が５００未
満であると、例えばフィルム形成能などの高分子として
の性質を持たないことが多い。ここで、本発明の多分岐
高分子の数平均分子量を５００以上に調整するには、製
造方法１においては、重合を進行させるのに、十分な反
応時間をかけることが必要であり、また製造方法２にお
いては、モノマーの縮合の操作を２回以上繰り返すこと
が好ましい。
高分子の数平均分子量は、５００以上、好ましくは１，
０００〜５０，０００である。数平均分子量が５００未
満であると、例えばフィルム形成能などの高分子として
の性質を持たないことが多い。ここで、本発明の多分岐
高分子の数平均分子量を５００以上に調整するには、製
造方法１においては、重合を進行させるのに、十分な反
応時間をかけることが必要であり、また製造方法２にお
いては、モノマーの縮合の操作を２回以上繰り返すこと
が好ましい。
【００２１】なお、本発明の多分岐高分子の分子量分布
は、好ましくは３以下、さらに好ましくは１．５以下で
ある。分子量分布が３を超えると、例えば球状の3 次元
構造などのデンドリマー的な特徴が発現されない。
は、好ましくは３以下、さらに好ましくは１．５以下で
ある。分子量分布が３を超えると、例えば球状の3 次元
構造などのデンドリマー的な特徴が発現されない。
【００２２】また、本発明の多分岐高分子の分岐度は、
好ましくは０．４以上、さらに好ましくは０．７であ
る。ここで、分岐度とは、次の式で算出される値をい
う。 分岐度＝（Ｄ＋Ｔ）／（Ｄ＋Ｔ＋Ｌ）
好ましくは０．４以上、さらに好ましくは０．７であ
る。ここで、分岐度とは、次の式で算出される値をい
う。 分岐度＝（Ｄ＋Ｔ）／（Ｄ＋Ｔ＋Ｌ）
【００２３】
【化６】
【００２４】Ｄ；デンドリテイックユニットの数 Ｔ；ターミナルユニットの数 Ｌ；リニアユニットの数 分岐度が０．４未満では、高い溶解性や低い溶液粘度な
どの多分岐高分子としての性質が発現しない。分子量分
布を好ましくは３以下、さらに好ましくは１．５以下、
分岐度を好ましくは０．４以上、さらに好ましくは０．
７以上の多分岐高分子を製造するためには、製造方法２
を適用することが好ましい。
どの多分岐高分子としての性質が発現しない。分子量分
布を好ましくは３以下、さらに好ましくは１．５以下、
分岐度を好ましくは０．４以上、さらに好ましくは０．
７以上の多分岐高分子を製造するためには、製造方法２
を適用することが好ましい。
【００２５】本発明の多分岐高分子の製造に用いられる
モノマーは、上記一般式（２）で表されるＡＢ2 型モノ
マーである。このＡＢ2 型モノマーは、アミノ基に酸性
化合物が付加していてもよく、またフリーであってもよ
い。酸性化合物としては、塩酸、硝酸などを挙げること
ができる。本発明のＡＢ2 型モノマーは、例えば次のよ
うにして製造することができる。すなわち、４−ニトロ
桂皮酸クロリドと５−アミノイソフタル酸を適当な有機
溶媒中、酸受容剤の存在下、低温で縮合させる。得られ
た縮合物を、適当な有機溶媒に溶解し、例えばカーボン
担持パラジウムなどの触媒を用い、水素添加する。
モノマーは、上記一般式（２）で表されるＡＢ2 型モノ
マーである。このＡＢ2 型モノマーは、アミノ基に酸性
化合物が付加していてもよく、またフリーであってもよ
い。酸性化合物としては、塩酸、硝酸などを挙げること
ができる。本発明のＡＢ2 型モノマーは、例えば次のよ
うにして製造することができる。すなわち、４−ニトロ
桂皮酸クロリドと５−アミノイソフタル酸を適当な有機
溶媒中、酸受容剤の存在下、低温で縮合させる。得られ
た縮合物を、適当な有機溶媒に溶解し、例えばカーボン
担持パラジウムなどの触媒を用い、水素添加する。
【００２６】
【化７】
【００２７】本発明のモノマーの製造に用いることので
きる有機溶媒は、原料と生成物がともに溶解し、反応の
進行を妨げないものであればよい。具体的な例として、
Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、
ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフランな
どを挙げることができる。
きる有機溶媒は、原料と生成物がともに溶解し、反応の
進行を妨げないものであればよい。具体的な例として、
Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、
ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒドロフランな
どを挙げることができる。
【００２８】また、本発明のモノマーの製造において用
いられる酸受容剤として、３級アミンを用いることがで
きる。具体的な例として、トリエチルアミン、トリブチ
ルアミン、トリオクチルアミン、ピリジン、キノリンな
どを挙げることができる。
いられる酸受容剤として、３級アミンを用いることがで
きる。具体的な例として、トリエチルアミン、トリブチ
ルアミン、トリオクチルアミン、ピリジン、キノリンな
どを挙げることができる。
【００２９】本発明のモノマーの製造における反応条件
は、縮合反応では、反応温度は、通常、−８０℃〜＋１
２０℃、好ましくは−２０℃〜＋６０℃、反応時間は、
通常、１〜４８時間、好ましくは２〜２４時間である。
また、還元反応では、反応温度は、通常、−８０℃〜＋
１２０℃、好ましくは−２０℃〜＋６０℃、反応時間
は、通常、１〜４８時間、好ましくは２〜２４時間であ
る。
は、縮合反応では、反応温度は、通常、−８０℃〜＋１
２０℃、好ましくは−２０℃〜＋６０℃、反応時間は、
通常、１〜４８時間、好ましくは２〜２４時間である。
また、還元反応では、反応温度は、通常、−８０℃〜＋
１２０℃、好ましくは−２０℃〜＋６０℃、反応時間
は、通常、１〜４８時間、好ましくは２〜２４時間であ
る。
【００３０】本発明の多分岐高分子の構造は、赤外線吸
収スペクトルによって、アミド基に由来する３，１００
〜３，５００ｃｍ-1、および１，６５０〜１，７５０ｃ
ｍ-1の吸収により確認することができる。さらに、核磁
気共鳴スペクトルにより、９〜１１ｐｐｍのアミドプロ
トンに由来するピークから、アミド構造を確認すること
ができる。
収スペクトルによって、アミド基に由来する３，１００
〜３，５００ｃｍ-1、および１，６５０〜１，７５０ｃ
ｍ-1の吸収により確認することができる。さらに、核磁
気共鳴スペクトルにより、９〜１１ｐｐｍのアミドプロ
トンに由来するピークから、アミド構造を確認すること
ができる。
【００３１】本発明の多分岐高分子は、上記のように一
般式（１）で表わされる基本繰り返し単位からなり、数
平均分子量が５００以上の樹状分岐ポリマーであり、一
般式（２）で表わされるＡＢ2 型モノマーを用いること
で製造することができる。このモノマーは、屈曲性の高
いメチレン基を有しており、これを用いることで、高分
子量の多分岐高分子を容易に製造することができる。さ
らに、製造方法２によって製造することにより、分岐構
造の規則性が高く、比較的分子量分布の揃った多分岐高
分子を製造することができる。本発明の多分岐高分子
は、化学分野、医薬分野、電子材料分野などに関連する
種々の高機能材料の創製に有用であり、具体的には包接
材料、リソグラフィー材料、液晶、選択透過膜、高分子
触媒、光学分割剤、導電性材料、診断薬、マイクロカプ
セル、ドラックデリバリーシステム担体などの用途に有
用である。
般式（１）で表わされる基本繰り返し単位からなり、数
平均分子量が５００以上の樹状分岐ポリマーであり、一
般式（２）で表わされるＡＢ2 型モノマーを用いること
で製造することができる。このモノマーは、屈曲性の高
いメチレン基を有しており、これを用いることで、高分
子量の多分岐高分子を容易に製造することができる。さ
らに、製造方法２によって製造することにより、分岐構
造の規則性が高く、比較的分子量分布の揃った多分岐高
分子を製造することができる。本発明の多分岐高分子
は、化学分野、医薬分野、電子材料分野などに関連する
種々の高機能材料の創製に有用であり、具体的には包接
材料、リソグラフィー材料、液晶、選択透過膜、高分子
触媒、光学分割剤、導電性材料、診断薬、マイクロカプ
セル、ドラックデリバリーシステム担体などの用途に有
用である。
【００３２】
【実施例】以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体
的に説明する。なお、実施例中の％は、重量基準であ
る。実施例中、分子量分布（ＭＷＤ）は、ゲル浸透クロ
マトグラフィー（ＧＰＣ）（溶媒；０．４％塩化リチウ
ム含有ジメチルホルムアミド、標準物質；ポリスチレ
ン）により測定した。また、数平均分子量（Ｍｎ）は、
1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、末端基の数と、全モ
ノマーユニットの数を求め、これらの比から算出した。
分岐度（ＤＢ）は、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、
Ｄ，Ｔ，Ｌ各ユニットの数を求め、上述の計算式から求
めた。
的に説明する。なお、実施例中の％は、重量基準であ
る。実施例中、分子量分布（ＭＷＤ）は、ゲル浸透クロ
マトグラフィー（ＧＰＣ）（溶媒；０．４％塩化リチウ
ム含有ジメチルホルムアミド、標準物質；ポリスチレ
ン）により測定した。また、数平均分子量（Ｍｎ）は、
1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、末端基の数と、全モ
ノマーユニットの数を求め、これらの比から算出した。
分岐度（ＤＢ）は、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルにおいて、
Ｄ，Ｔ，Ｌ各ユニットの数を求め、上述の計算式から求
めた。
【００３３】実施例１（ＡＢ2 型モノマーの合成） 滴下ロートを取り付けた三つ口フラスコに、５−アミノ
イソフタル酸９．１ｇ（５０ｍｍｏｌ）をとり、Ｎ−メ
チルピロリドン（以下「ＮＭＰ」と略記する）４５ｍｌ
に溶解させた。トリエチルアミン６．９ｍｌ（５０ｍｍ
ｏｌ）を加え、氷浴中で0 ℃に冷却した。４−ニトロ桂
皮酸クロリド１０．６ｇ（５０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ５０
ｍｌに溶解し、滴下ロートにとった。撹拌しながら、こ
れをゆっくり滴下した。滴下終了後、3 時間０℃で撹拌
し、徐々に室温にもどし、さらに一夜撹拌を続けた。反
応溶液を１リットルの水中に注ぎ、沈殿をろ過、乾燥し
た。これを大量のアセトンを用いて洗浄、乾燥し、目的
の縮合物を得た。収量は、１４．７ｇ（収率８３％）で
あった。次に、得られた縮合物１２．５ｇ（３５ｍｍｏ
ｌ）、5 ％パラジウム／カーボン７．４ｇ、濃塩酸１
２．５ｍｌ、ジメチルホルムアミド１２５ｍｌ、エタノ
ール２５０ｍｌを、三方コックを付けた三つ口フラスコ
にとった。フラスコ内を水素置換し、室温で１日撹拌し
た。触媒をろ過したのち、減圧下で溶媒を除去した。少
量の溶媒を残したところに、水を加えて析出した目的物
をろ過、乾燥した。収量は、８．８ｇ（収率６９％）で
あった。得られたモノマーのＩＲスペクトルを図１に、
1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図２に示す。
イソフタル酸９．１ｇ（５０ｍｍｏｌ）をとり、Ｎ−メ
チルピロリドン（以下「ＮＭＰ」と略記する）４５ｍｌ
に溶解させた。トリエチルアミン６．９ｍｌ（５０ｍｍ
ｏｌ）を加え、氷浴中で0 ℃に冷却した。４−ニトロ桂
皮酸クロリド１０．６ｇ（５０ｍｍｏｌ）をＮＭＰ５０
ｍｌに溶解し、滴下ロートにとった。撹拌しながら、こ
れをゆっくり滴下した。滴下終了後、3 時間０℃で撹拌
し、徐々に室温にもどし、さらに一夜撹拌を続けた。反
応溶液を１リットルの水中に注ぎ、沈殿をろ過、乾燥し
た。これを大量のアセトンを用いて洗浄、乾燥し、目的
の縮合物を得た。収量は、１４．７ｇ（収率８３％）で
あった。次に、得られた縮合物１２．５ｇ（３５ｍｍｏ
ｌ）、5 ％パラジウム／カーボン７．４ｇ、濃塩酸１
２．５ｍｌ、ジメチルホルムアミド１２５ｍｌ、エタノ
ール２５０ｍｌを、三方コックを付けた三つ口フラスコ
にとった。フラスコ内を水素置換し、室温で１日撹拌し
た。触媒をろ過したのち、減圧下で溶媒を除去した。少
量の溶媒を残したところに、水を加えて析出した目的物
をろ過、乾燥した。収量は、８．８ｇ（収率６９％）で
あった。得られたモノマーのＩＲスペクトルを図１に、
1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図２に示す。
【００３４】実施例２（製造方法１による多分岐高分子
の合成） 実施例１で得られたモノマー１４６ｍｇ（０．４ｍｍｏ
ｌ）をＮＭＰ６．４ｍｌに溶解した。トリエチルアミン
０．２２３μｌ（１．６ｍｍｏｌ）、ジフェニル（２，
３−ジヒドロ−２−チオキソ−３−ベンゾキサゾリル）
ホスホナート（以下「ＤＢＯＰ」と略記する）３３７ｍ
ｇ（０．８８ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間重合を行
った。次に、ジエチルアミン１６５μｌ（１．６ｍｍｏ
ｌ）を加えて、１時間、室温で反応させ、末端に結合さ
せた。反応溶液を多量の１％炭酸水素ナトリウム水溶液
に注いで、沈殿した生成物をろ過、メタノールで洗浄し
たのち、減圧下に乾燥した。収量は、１０５ｍｇ（収率
８０％）であった。生成した多分岐高分子は、数平均分
子量２０，６００、分子量分布２．２３、分岐度０．４
９であった。生成物のＩＲスペクトルを図３に、 1Ｈ−
ＮＭＲスペクトルを図４に示す。
の合成） 実施例１で得られたモノマー１４６ｍｇ（０．４ｍｍｏ
ｌ）をＮＭＰ６．４ｍｌに溶解した。トリエチルアミン
０．２２３μｌ（１．６ｍｍｏｌ）、ジフェニル（２，
３−ジヒドロ−２−チオキソ−３−ベンゾキサゾリル）
ホスホナート（以下「ＤＢＯＰ」と略記する）３３７ｍ
ｇ（０．８８ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間重合を行
った。次に、ジエチルアミン１６５μｌ（１．６ｍｍｏ
ｌ）を加えて、１時間、室温で反応させ、末端に結合さ
せた。反応溶液を多量の１％炭酸水素ナトリウム水溶液
に注いで、沈殿した生成物をろ過、メタノールで洗浄し
たのち、減圧下に乾燥した。収量は、１０５ｍｇ（収率
８０％）であった。生成した多分岐高分子は、数平均分
子量２０，６００、分子量分布２．２３、分岐度０．４
９であった。生成物のＩＲスペクトルを図３に、 1Ｈ−
ＮＭＲスペクトルを図４に示す。
【００３５】実施例３〜４（製造方法２による多分岐高
分子の合成） 実施例３〜４は、製造方法２に従い、下記のモデル反応
式により、合成を行ったものである。中心核としてトリ
メシン酸を用い、トリメシン酸のカルボン酸の縮合剤
（ＤＢＯＰ）による活性化、ＡＢ2 型モノマーとの縮合
を繰り返し、末端にジエチルアミンを結合させたもので
ある。なお、下記モデル反応式において、ＤＢＯＰはジ
フェニル（２，３−ジヒドロ−２−チオキソ−３−ベン
ゾキサゾリル）ホスホナート、ＴＥＡはトリエチルアミ
ン、ＮＭＰはＮ−メチルピロリドン、ｎは縮合回数を示
す。実施例３はｎ＝３、実施例４はｎ＝５の場合であ
る。
分子の合成） 実施例３〜４は、製造方法２に従い、下記のモデル反応
式により、合成を行ったものである。中心核としてトリ
メシン酸を用い、トリメシン酸のカルボン酸の縮合剤
（ＤＢＯＰ）による活性化、ＡＢ2 型モノマーとの縮合
を繰り返し、末端にジエチルアミンを結合させたもので
ある。なお、下記モデル反応式において、ＤＢＯＰはジ
フェニル（２，３−ジヒドロ−２−チオキソ−３−ベン
ゾキサゾリル）ホスホナート、ＴＥＡはトリエチルアミ
ン、ＮＭＰはＮ−メチルピロリドン、ｎは縮合回数を示
す。実施例３はｎ＝３、実施例４はｎ＝５の場合であ
る。
【００３６】
【化８】
【００３７】実施例３〔製造方法２による多分岐高分子
の合成（１）〕 トリメシン酸８．４ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）を３０ｍ
ｌの二口フラスコにとり、ＮＭＰ０．４８ｍｌに溶解し
た。トリエチルアミン３３．５μｌ（０．２４ｍｍｏ
ｌ）、ＤＢＯＰ４７．３ｍｇ（０．１２４ｍｍｏｌ）を
加え、室温で３０分反応させ、カルボン酸の活性化を行
った。ＡＢ2 型モノマー４３．７ｍｇ（０．１２ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で３０分反応させ、縮合させた。続い
て、ＮＭＰ０．４８ｍｌ、トリエチルアミン６６．９μ
ｌ（０．４８ｍｍｏｌ）、ＤＢＯＰ９４．７ｍｇ（０．
２４７ｍｍｏｌ）を加え活性化、モノマー８７．５ｍｇ
（０．２４ｍｍｏｌ）を加えて縮合、ＮＭＰ０．９６ｍ
ｌ、トリエチルアミン１３４μｌ（０．９６ｍｍｏ
ｌ）、ＤＢＯＰ１８９ｍｇ（０．４９４ｍｍｏｌ）を加
え活性化、モノマー１７５ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）を
加えて縮合を行い、最後にＮＭＰ１．９２ｍｌ、トリエ
チルアミン１３４μｌ（０．９６ｍｍｏｌ）、ＤＢＯＰ
４０４ｍｇ（１．０６ｍｍｏｌ）、ジエチルアミン１９
９μｌ（１．９２ｍｍｏｌ）を加えて、1 時間反応さ
せ、末端に結合させた。反応溶液を１％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液に注ぎ、沈殿した生成物をろ過し、メタノー
ルで洗浄した。収率は、１００％であった。数平均分子
量１１，９００、分子量分布１．３４、分岐度０．８４
であった。生成物のＩＲスペクトルを図５に、 1Ｈ−Ｎ
ＭＲスペクトルを図６に示す。
の合成（１）〕 トリメシン酸８．４ｍｇ（０．０４ｍｍｏｌ）を３０ｍ
ｌの二口フラスコにとり、ＮＭＰ０．４８ｍｌに溶解し
た。トリエチルアミン３３．５μｌ（０．２４ｍｍｏ
ｌ）、ＤＢＯＰ４７．３ｍｇ（０．１２４ｍｍｏｌ）を
加え、室温で３０分反応させ、カルボン酸の活性化を行
った。ＡＢ2 型モノマー４３．７ｍｇ（０．１２ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で３０分反応させ、縮合させた。続い
て、ＮＭＰ０．４８ｍｌ、トリエチルアミン６６．９μ
ｌ（０．４８ｍｍｏｌ）、ＤＢＯＰ９４．７ｍｇ（０．
２４７ｍｍｏｌ）を加え活性化、モノマー８７．５ｍｇ
（０．２４ｍｍｏｌ）を加えて縮合、ＮＭＰ０．９６ｍ
ｌ、トリエチルアミン１３４μｌ（０．９６ｍｍｏ
ｌ）、ＤＢＯＰ１８９ｍｇ（０．４９４ｍｍｏｌ）を加
え活性化、モノマー１７５ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）を
加えて縮合を行い、最後にＮＭＰ１．９２ｍｌ、トリエ
チルアミン１３４μｌ（０．９６ｍｍｏｌ）、ＤＢＯＰ
４０４ｍｇ（１．０６ｍｍｏｌ）、ジエチルアミン１９
９μｌ（１．９２ｍｍｏｌ）を加えて、1 時間反応さ
せ、末端に結合させた。反応溶液を１％炭酸水素ナトリ
ウム水溶液に注ぎ、沈殿した生成物をろ過し、メタノー
ルで洗浄した。収率は、１００％であった。数平均分子
量１１，９００、分子量分布１．３４、分岐度０．８４
であった。生成物のＩＲスペクトルを図５に、 1Ｈ−Ｎ
ＭＲスペクトルを図６に示す。
【００３８】実施例４〔製造方法２による多分岐高分子
の合成（２）〕 トリメシン酸４．２ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を３０ｍ
ｌ二口フラスコにとり、ＮＭＰ０．４８ｍｌに溶解し
た。トリエチルアミン１６．７μｌ（０．１２ｍｍｏ
ｌ）、ＤＢＯＰ２３．７ｍｇ（０．０６２ｍｍｏｌ）を
加え、室温で３０分反応させ、カルボン酸の活性化を行
った。ＡＢ2 型モノマー２１．９ｍｇ（０．０６ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で３０分反応させ、縮合させた。続い
て、ＮＭＰ０．４８ｍｌ、トリエチルアミン３３．５μ
ｌ（０．２４ｍｍｏｌ）、ＤＢＯＰ４７．３ｍｇ（０．
１２４ｍｍｏｌ）を加え活性化、モノマー４３．７ｍｇ
（０．１２ｍｍｏｌ）を加えて縮合、ＮＭＰ０．９６ｍ
ｌ、トリエチルアミン６６．９μｌ（０．４８ｍｍｏ
ｌ）、ＤＢＯＰ９４．７ｍｇ（０．２４７ｍｍｏｌ）を
加え活性化、モノマー８７．５ｍｇ（０．２４ｍｍｏ
ｌ）を加えて縮合、ＮＭＰ１．９２ｍｌ、トリエチルア
ミン１３４μｌ（０．９６ｍｍｏｌ）、ＤＢＯＰ１８９
ｍｇ（０．４９４ｍｍｏｌ）を加え活性化、モノマー１
７５ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）を加えて縮合、ＮＭＰ
３．８４ｍｌ、トリエチルアミン２６８μｌ（１．９２
ｍｍｏｌ）、ＤＢＯＰ３７９ｍｇ（０．９８９ｍｍｏ
ｌ）を加え活性化、モノマー３５０ｍｇ（０．９６ｍｍ
ｏｌ）を加えて縮合、を行い、最後にＮＭＰ７．６８ｍ
ｌ、トリエチルアミン５３５μｌ（３，８４ｍｍｏ
ｌ）、ＤＢＯＰ８０９ｍｇ（２．１１ｍｍｏｌ）、ジエ
チルアミン３９７μｌ（３．８４ｍｍｏｌ）を加えて、
１時間反応させ、末端に結合させた。反応溶液を１％炭
酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、沈殿した生成物をろ過
し、メタノールで洗浄した。収率は、９４％であった。
数平均分子量３０，４００、分子量分布１．４５、分岐
度０．８９であった。生成物のＩＲスペクトルを図７
に、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図８に示す。
の合成（２）〕 トリメシン酸４．２ｍｇ（０．０２ｍｍｏｌ）を３０ｍ
ｌ二口フラスコにとり、ＮＭＰ０．４８ｍｌに溶解し
た。トリエチルアミン１６．７μｌ（０．１２ｍｍｏ
ｌ）、ＤＢＯＰ２３．７ｍｇ（０．０６２ｍｍｏｌ）を
加え、室温で３０分反応させ、カルボン酸の活性化を行
った。ＡＢ2 型モノマー２１．９ｍｇ（０．０６ｍｍｏ
ｌ）を加え、室温で３０分反応させ、縮合させた。続い
て、ＮＭＰ０．４８ｍｌ、トリエチルアミン３３．５μ
ｌ（０．２４ｍｍｏｌ）、ＤＢＯＰ４７．３ｍｇ（０．
１２４ｍｍｏｌ）を加え活性化、モノマー４３．７ｍｇ
（０．１２ｍｍｏｌ）を加えて縮合、ＮＭＰ０．９６ｍ
ｌ、トリエチルアミン６６．９μｌ（０．４８ｍｍｏ
ｌ）、ＤＢＯＰ９４．７ｍｇ（０．２４７ｍｍｏｌ）を
加え活性化、モノマー８７．５ｍｇ（０．２４ｍｍｏ
ｌ）を加えて縮合、ＮＭＰ１．９２ｍｌ、トリエチルア
ミン１３４μｌ（０．９６ｍｍｏｌ）、ＤＢＯＰ１８９
ｍｇ（０．４９４ｍｍｏｌ）を加え活性化、モノマー１
７５ｍｇ（０．４８ｍｍｏｌ）を加えて縮合、ＮＭＰ
３．８４ｍｌ、トリエチルアミン２６８μｌ（１．９２
ｍｍｏｌ）、ＤＢＯＰ３７９ｍｇ（０．９８９ｍｍｏ
ｌ）を加え活性化、モノマー３５０ｍｇ（０．９６ｍｍ
ｏｌ）を加えて縮合、を行い、最後にＮＭＰ７．６８ｍ
ｌ、トリエチルアミン５３５μｌ（３，８４ｍｍｏ
ｌ）、ＤＢＯＰ８０９ｍｇ（２．１１ｍｍｏｌ）、ジエ
チルアミン３９７μｌ（３．８４ｍｍｏｌ）を加えて、
１時間反応させ、末端に結合させた。反応溶液を１％炭
酸水素ナトリウム水溶液に注ぎ、沈殿した生成物をろ過
し、メタノールで洗浄した。収率は、９４％であった。
数平均分子量３０，４００、分子量分布１．４５、分岐
度０．８９であった。生成物のＩＲスペクトルを図７
に、 1Ｈ−ＮＭＲスペクトルを図８に示す。
【００３９】
【発明の効果】本発明は、屈曲性の高いメチレン基を有
し、比較的分子サイズの大きいＡＢ2型モノマーを用い
ることで、立体障害による反応性の低下を回避し、高分
子量体が合成可能な多分岐高分子である。また、本発明
は、保護基を持たないＡＢ2 型モノマーを用いること
で、一段階ごとの単離精製の行程を必要としないため、
容易に大量に製造可能で、かつ分岐構造の規則性が高
く、比較的分子量分布の揃った多分岐高分子の製造方法
である。本発明によれば、化学分野、医薬分野、電子材
料分野などに関連する、種々の高機能材料の創製に有用
な化合物を提供することが可能となる。
し、比較的分子サイズの大きいＡＢ2型モノマーを用い
ることで、立体障害による反応性の低下を回避し、高分
子量体が合成可能な多分岐高分子である。また、本発明
は、保護基を持たないＡＢ2 型モノマーを用いること
で、一段階ごとの単離精製の行程を必要としないため、
容易に大量に製造可能で、かつ分岐構造の規則性が高
く、比較的分子量分布の揃った多分岐高分子の製造方法
である。本発明によれば、化学分野、医薬分野、電子材
料分野などに関連する、種々の高機能材料の創製に有用
な化合物を提供することが可能となる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１１年５月２０日（１９９９．５．２
０）
０）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】図面の簡単な説明
【補正方法】追加
【補正内容】
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１で得られたＡＢ2 型モノマーのＩＲス
ペクトルである。
ペクトルである。
【図２】実施例１で得られたＡＢ2 型モノマーの 1Ｈ−
ＮＭＲスペクトルである。
ＮＭＲスペクトルである。
【図３】実施例２で得られた多分岐高分子のＩＲスペク
トルである。
トルである。
【図４】実施例２で得られた多分岐高分子の 1Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトルである。
Ｒスペクトルである。
【図５】実施例３で得られた多分岐高分子のＩＲスペク
トルである。
トルである。
【図６】実施例３で得られた多分岐高分子の 1Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトルである。
Ｒスペクトルである。
【図７】実施例４で得られた多分岐高分子のＩＲスペク
トルである。
トルである。
【図８】実施例４で得られた多分岐高分子の 1Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトルである。
Ｒスペクトルである。
フロントページの続き (72)発明者 上田 充 山形県米沢市城南四丁目３番16号 山形大 学大学院工学研究科内 (72)発明者 浅井 道彦 茨城県つくば市東一丁目１番 工業技術院 物質工学工業技術研究所内 (72)発明者 竹内 和彦 茨城県つくば市東一丁目１番 工業技術院 物質工学工業技術研究所内 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA03 AB46 BS30 BU46 BV25 4J001 DA01 DB01 DB06 DC03 DC14 DC16 DD01 DD03 DD05 DD07 DD13 EA29 FA03 GA12 GA13 GB14 JA07 JA20 JB01 JB03 JB11
Claims (3)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で表わされる基本繰り
返し単位からなり、かつ数平均分子量が５００以上の多
分岐高分子。 【化１】 （式中、ｎは１〜２０の整数を示す。） - 【請求項２】 下記一般式（２）で表わされるＡＢ2 型
モノマー。 【化２】 （式中、ｎは１〜２０の整数、またＸとして酸性化合物
が付加していてもよい。） - 【請求項３】 下記一般式（２）で表わされるＡＢ2 型
モノマーを段階的に縮合させることを特徴とする請求項
１記載の多分岐高分子の製造方法。 【化３】 （式中、ｎは１〜２０の整数、またＸとして酸性化合物
が付加していてもよい。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11064815A JP2000256459A (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 多分岐高分子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11064815A JP2000256459A (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 多分岐高分子およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000256459A true JP2000256459A (ja) | 2000-09-19 |
Family
ID=13269134
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11064815A Pending JP2000256459A (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 多分岐高分子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000256459A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8147036B2 (en) | 2006-06-23 | 2012-04-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Polyfunctional epoxy compound, epoxy resin, cationic photopolymerizable epoxy resin composition, micro structured member, producing method therefor and liquid discharge head |
-
1999
- 1999-03-11 JP JP11064815A patent/JP2000256459A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US8147036B2 (en) | 2006-06-23 | 2012-04-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Polyfunctional epoxy compound, epoxy resin, cationic photopolymerizable epoxy resin composition, micro structured member, producing method therefor and liquid discharge head |
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