JP2000238330A - 画像形成装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡易な処理でレーザビームの走査位置の変動
で生じる濃度むらを補正する。 【解決手段】 ポリゴンミラーの各反射面の面倒れによ
りライン像間隔が周期的に変化し副走査方向の色むらが
生じる。面倒れ量の変化は、実線のようにほぼｓｉｎカ
ーブに近似され、このときの面倒れによるライン像間隔
変化は、点線のようにｃｏｓカーブに近似される
（Ａ）。つまり、面倒れ量の変化が、最大のポイントで
ある、において、ライン間隔が、最小か、最大にな
り、面倒れ量の変化が、最小のポイントである、に
おいて、ライン間隔が、ほぼ正常になる（Ｂ）。そこ
で、ポリゴンミラーの複数の反射面の隣接する複数の反
射面で反射する各レーザビームの副走査方向の位置の変
化量を検出し、検出した変化量に基づいて、隣接する複
数の反射面で反射した各レーザビームの走査位置の変動
で生じる濃度むらを補正する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、画像形成装置に係
り、より詳しくは、周面に複数の反射面を有するポリゴ
ンミラーによりレーザビームを走査し画像を形成する画
像形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、レーザプリンタの光走査装置
は、図１２に示すように、レーザ光源１より出射したレ
ーザビームはコリメータレンズ２により平行光線にした
のち、ポリゴンミラー３で走査し、ｆθレンズ４を通し
て走査速度補正を行い、感光体５の表面に走査し画像信
号に応じた潜像を形成する。さらに感光体上での主走査
方向の画像信号書き込みタイミング信号（ＳＯＳ）を検
出するために感光体領域外のレーザビーム走査領域に位
置検出センサ６を設けている。

【０００３】この光走査装置により感光体５上に形成さ
れた潜像は、図示しない現像器により現像され、トナー
像として、転写ドラム上の紙に転写される。このトナー
像は、最終的には、図示しない定着器により、紙に定着
される。

【０００４】ところで、上記ポリゴンミラーは、ポリゴ
ンモータにより、即ち、マグネット及び巻線間に作用す
る磁力により、固定軸１９を介して回転するが、機械的
な精度のばらつきでポリゴンミラーの各反射面毎にレー
ザビームの副走査方向の走査位置が変動する。特に、副
走査方向の変動としてポリゴンミラーの面倒れの影響は
大きく、結果として、目視で目に付きやすい周期的な副
走査方向の濃度むらが生じる。従来、この濃度むらを補
正する方法として、いくつかの方法が考えられている。

【０００５】特開平４−２０００６５号公報には、図１
３、１４、１５に示すように特定のポリゴン面からの全
ポリゴン面の面倒れデータを記憶し、そのデータに基づ
いてレーザ光量を微少量可変し、濃度むらを補正する方
法が記載されている。特開昭６４一８８５１６号公報に
は、図１６、１７、１８に示すように三角形状の光透過
性スリットを前面に配置した受光素子を主走査線上に配
置し、光ビームが前記受光素子を通過する時間の変化を
検出することで、副走査方向のビームの振れ量を検出す
る方法が記載されている。特開平３−４２６１３号公報
には、図１９に示すように主走査線上に二分割センサを
配置し、光ビームが２分割センサを通過するときのセン
サの出力差により、副走査方向のビーム位置ずれを検出
し、副走査方向の積分光量が一定となるように光学手段
でレーザ強度を可変する方法が記載されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記発
明においては次の問題がある。特開平４−２０００６５
号公報に記載の発明では、特定のポリゴン面を検出する
手段や全面倒れデータを記憶し演算する手段が必要であ
り、コスト高でかつ処理が複雑になる。

【０００７】なお、特開昭６４−８８５１６号公報に記
載の発明では、受光面積の大きいセンサが必要なため高
価であると共に、時間差を演算するマルチバイブレータ
回路を含めた演算回路の精度に問題がある。また、特開
平３−４２６１３号公報に記載の発明では、温度変化な
どによるレジ変動の影響を受けやすく、２分割センサを
ほぼ均等に走査線上にあわせ込みかつ維持することが困
難で測定範囲に限界があると共に、光学手段でレーザ強
度を可変する方法は高価である。

【０００８】本発明は、上記事実に鑑み成されたもの
で、簡易な処理でレーザビームの走査位置の変動で生じ
る濃度むらを補正することの可能な画像形成装置を提案
することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上記目的達成のため請求
項１記載の発明は、周面に複数の反射面を有するポリゴ
ンミラーによりレーザビームを走査し画像を形成する画
像形成装置であって、前記ポリゴンミラーの複数の反射
面の隣接する複数の反射面で反射する各レーザビームの
副走査方向の位置の変化量を検出する検出手段と、前記
検出手段により検出された変化量に基づいて、前記隣接
する複数の反射面で反射した各レーザビームの走査位置
の変動で生じる濃度むらを補正する補正手段と、を備え
ている。

【００１０】即ち、本発明は、周面に複数の反射面を有
するポリゴンミラーによりレーザビームを走査し画像を
形成する画像形成装置である。

【００１１】検出手段は、ポリゴンミラーの複数の反射
面の隣接する複数の反射面で反射する各レーザビームの
副走査方向の位置の変化量を検出する。

【００１２】ここで、例えば、レーザビームの副走査方
向の位置の変化量が最大となる個所では、当該レーザビ
ームの主走査線間隔は、最大又は最小となる。なお、レ
ーザビームの副走査方向の位置の変化量が最大となる個
所で、当該レーザビームの主走査線間隔が、最大となる
か最小となるかは、上記変化量が正か負かにより定ま
る。一方、レーザビームの副走査方向の位置の変化量が
最小となる個所では、当該レーザビームの主走査線間隔
が正常となる。このように、レーザビームの副走査方向
の位置の変化量が分かると、レーザビームの主走査線間
隔がいかなる状態か分かるので、レーザビームの副走査
方向の位置の変化量に基づいて、レーザビームの走査位
置の変動で生じる濃度むらを補正することができる。

【００１３】そこで、本発明では、補正手段は、検出手
段により検出された変化量に基づいて、前記隣接する複
数の反射面で反射した各レーザビームの走査位置の変動
で生じる濃度むらを補正する。

【００１４】このように、ポリゴンミラーの複数の反射
面の隣接する複数の反射面で反射する各レーザビームの
副走査方向の位置の変化量に基づいて、ポリゴンミラー
の隣接する複数の反射面で反射した各レーザビームの走
査位置の変動で生じる濃度むらを補正するので、特定の
ポリゴン面を検出する手段や全面倒れデータを記憶し演
算する手段を不要とすることができ、簡易な処理でレー
ザビームの走査位置の変動で生じる濃度むらを補正する
ことができる。

【００１５】ここで、検出手段は、レーザビームの走査
線上に設けられかつレーザビームを検出するレーザビー
ム検出手段と、前記レーザビーム検出手段の検出信号の
変化により前記レーザビームの副走査方向の位置の変化
量を検出する変化量検出手段と、を備えるようにするこ
とができる。

【００１６】このように、レーザビームの走査位置の変
動で生じる濃度むらを補正するために、レーザビームを
検出するレーザビーム検出手段の検出信号の変化により
レーザビームの副走査方向の位置の変化量を検出するよ
うにしているので、レーザビームの検出には温度変化な
どの影響が極めて少なく、単一のレーザビーム検出手段
を備えればよいので、従来技術のような２分割センサを
ほぼ均等に走査線上にあわせ込みかつ維持することを不
要とできる。

【００１７】この場合、レーザビーム検出手段は、レー
ザビームの走査線上に設けられかつ少なくとも副走査方
向にビームが絞られていないレーザビームを副走査方向
にビームを絞る光学手段と、光学手段により絞られてレ
ーザビームが集光する位置に設けられかつ光出力を検出
する光検出手段と、光学手段のレーザビームの入射側に
設けられかつ副走査方向の略半分を覆う一定の透過率の
フィルタ手段または完全に遮蔽する遮蔽手段と、を備
え、変化量検出手段は、光検出手段の出力信号に基づい
てレーザビームの副走査方向の位置の変化量を検出して
もよい。

【００１８】即ち、レーザビームの副走査方向の位置が
変化すると、変化量に対応してフィルタ手段又は遮蔽手
段によりレーザビームが透過又は遮蔽される量が変化す
る。このように、レーザビームの副走査方向の位置の変
化量に対応して透過又は遮蔽される量が変化するレーザ
ビーム（副走査方向にビームが絞られていない）が光学
手段により副走査方向に絞られ、レーザビームが集光す
る位置に設けられた光検出手段により光出力が検出され
る。光出力の大きさは、透過又は遮蔽される量に対応
し、レーザビームの副走査方向の位置に対応する。そこ
で、変化量検出手段は、光検出手段の出力信号に基づい
てレーザビームの副走査方向の位置の変化量を検出す
る。

【００１９】また、レーザビーム検出手段は、レーザビ
ームの走査線上に設けられかつ光出力を検出する光検出
手段と、光検出手段のレーザビームの入射側に設けられ
かつ副走査方向に透過率が変化するフィルタ手段と、を
備え、変化量検出手段は、光検出手段の出力信号に基づ
いてレーザビームの副走査方向の位置の変化量を検出し
てもよい。

【００２０】即ち、光検出手段のレーザビームの入射側
に設けられかつ副走査方向に透過率が変化するフィルタ
手段を介してレーザビームの光出力は、光検出手段によ
り検出される。フィルタ手段は副走査方向に透過率が変
化する。光出力の大きさは、レーザビームの副走査方向
の位置に対応する。そこで、変化量検出手段は、光検出
手段の出力信号に基づいてレーザビームの副走査方向の
位置の変化量を検出する。

【００２１】このように、レーザビームが光学手段によ
り副走査方向に絞られ、レーザビームが集光する位置で
光検出手段により光出力を検出したり、副走査方向に透
過率が変化するフィルタ手段を介してレーザビームの光
出力を光検出手段により検出したり、するので、光検出
手段の受光面積を小さくすることができると共に、時間
差を演算するマルチバイブレータ回路を含めた精度のよ
い演算回路を不要とすることができる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を詳細に説明する。

【００２３】図１（及び図１１）に示すように、本実施
の形態に係る画像形成装置は、半導体レーザ１を備えて
いる。半導体レーザ１の光軸上には、順に、コリメータ
レンズ２、ポリゴンミラー３、ｆθレンズ４、反射ミラ
ー２０（図１のみ示している）、及び感光体５が配置さ
れている。また、本実施の形態に係る画像形成装置は、
感光体領域外のレーザビーム走査領域に、感光体５上で
の主走査方向の画像信号書き込みタイミング信号（ＳＯ
Ｓ）を検出する位置検出センサ６を設けている。更に、
本実施の形態に係る画像形成装置は、感光体領域外のレ
ーザビーム走査領域に、レーザビームの副走査位置の変
化量（ポリゴン面誤差）を検出するポリゴン面誤差検出
器１０の詳細は後述する光検出器１５を備えている。

【００２４】図２に示すように、感光体５のまわりに
は、感光体５上に形成された潜像を現像する図示しない
現像器、該現像によって得られたトナー像を紙に転写す
るために、紙を感光体５に搬送する転写ドラム８が配置
されている。なお、このトナー像を最終的に紙に定着す
る図示しない定着器が配置されている。

【００２５】ポリゴンミラー３を回転するポリゴンモー
タは、図３に示すように、マグネット１７及び巻線１８
間に作用する磁力により、固定軸１９を介してポリゴン
ミラー３を回転する。

【００２６】図４は、ポリゴン面誤差検出器１０をレー
ザビームの入射方向に対して水平方向の９０度の位置か
ら見た図である。図４に示すように、ポリゴン面誤差検
出器１０は、レーザ走査線上において少なくとも副走査
方向にビームが絞られていないレーザビームを副走査方
向に絞る光学手段１３と、レーザビームが絞られた位置
（レーザビームが集光する位置）に設けられかつ光出力
を検出する光検出手段１５と、光学手段１３のレーザビ
ーム入射側に設けられかつ副走査方向の略半分を覆う一
定の透過率のフィルタ手段（または、完全に遮蔽する遮
蔽手段）１４と、を備えている。レーザを走査させる
と、ポリゴンミラーの面倒れにより、ポリゴンの面毎に
レーザビームの副走査方向の走査位置が変化する。通過
する位置により、前記フィルタ手段１４で遮られる面積
が変化することで前記光出力手段１５の電圧出力が変化
し、ポリゴンミラーの面倒れを検出することができる。

【００２７】ポリゴン面誤差検出器１０は、図４に示す
例に限定されず、図５に示すように構成してもよい。図
５は、ポリゴン面誤差検出器１０をレーザビームの入射
方向から見た図である。図５に示すポリゴン面誤差検出
器１０は、レーザビームの光出力を検出する光検出手段
１５と、レーザビームの走査線上の光検出手段１５のレ
ーザビームの入射側に設けられかつ副走査方向に透過率
が変化するフィルタ手段１６と、を備えている。レーザ
ビームを走査させると、ポリゴンミラーの面倒れによ
り、ポリゴンの面毎にレーザビームの副走査方向の走査
位置が変化する。通過する位置により、フィルタ手段１
６で減衰する光量が変化することで前記光検出手段１５
の電圧出力が変化し、ポリゴンミラーの面倒れを検出す
ることができる。

【００２８】図６（Ａ）には、ポリゴン面誤差検出器１
０により検出されたレーザビームの副走査位置の変化量
（ポリゴン面誤差）に基づいて、後述するポリゴンの面
倒れによる副走査方向の色むらを補正する補正回路が示
されている。補正回路は、ポリゴン面誤差検出器１０に
接続された電圧ホールド回路１１ａ、この電圧ホールド
回路１１ａに接続された電圧ホールド回路１１ｂ、電圧
ホールド回路１１ａに抵抗を介してプラス側端子が接続
されかつ電圧ホールド回路１１ｂ抵抗を介してマイナス
側端子が接続された比較回路１２、及び、比較回路１２
の出力側端子に接続され、半導体レーザ１を駆動するレ
ーザ駆動回路２２を備えている。

【００２９】次に、本実施の形態の作用を説明する。

【００３０】最初に一般的な画像形成処理を説明する。
即ち、レーザ光源１より出射したレーザビームはコリメ
ータレンズ２により平行光線にしたのち、ポリゴンミラ
ー３で走査し、ｆθレンズ４を通して走査速度補正を行
い、感光体５の表面に走査し画像信号に応じた潜像を形
成する。このとき、位置検出センサ６のレーザビームの
検出タイミングに基づいて、感光体５上での主走査方向
の画像信号書き込みタイミングが制御される。

【００３１】上記のように感光体５上に形成された潜像
は、図示しない現像器により現像され、トナー像として
転写ドラム８上の紙に転写される。このトナー像は、最
終的には、図示しない定着器により、紙に定着される。

【００３２】ところで、上記ポリゴンミラーは、前述し
たように、ポリゴンモータにより、固定軸１９を介して
回転するが、機械的な精度のばらつきでポリゴンミラー
の各反射面毎にレーザビームの走査位置が変動し、副走
査方向の濃度むらを発生させている。

【００３３】次に、ポリゴンミラーの面倒れによる副走
査方向の濃度むらの補正方法を説明する。

【００３４】図７（Ａ）に、ボリゴンモータの副走査方
向の面誤差とライン像間隔の変化を示し、図７（Ｂ）
に、このときの画像の拡大図を示す。ポリゴンモータに
おける副走査方向の面誤差は、面倒れによる成分が大部
分を占めており、その面倒れによりライン像間隔が周期
的に変化し副走査方向の色むらが生じる。図７（Ａ）に
示す様に面倒れ量の変化は、実線のようにほぼｓｉｎカ
ーブに近似され、このときの面倒れによるライン像間隔
変化は、面倒れ量の変化に対応し、即ち、面倒れ量を微
分したカーブになるため、点線のようにｃｏｓカーブに
近似される。つまり、面倒れ量の変化が、最大のポイン
トである、において、ライン間隔が、図７（Ｂ）に
も示すように、最小か、最大になり、面倒れ量の変化
が、最小のポイントである、において、ライン間隔
が、図７（Ｂ）にも示すように、ほぼ正常になる。な
お、本例においては、面倒れ量が＋方向に変化している
時に、ライン像間隔が密になると仮定している。

【００３５】このように、レーザビームの副走査方向の
位置の変化量が分かると、レーザビームの主走査線間隔
がいかなる状態か分かるので、レーザビームの副走査方
向の位置の変化量に基づいて、レーザビームの走査位置
の変動で生じる濃度むらを補正することができる。

【００３６】図６（Ａ）において、ポリゴン面誤差検出
器１０は、ポリゴンの面誤差（レーザビームの副走査方
向の位置に対応）を電圧値の変化して検出する。動作と
しては、任意のポリゴン面（第１面とする）のポリゴン
面誤差検出器１０の出力信号が、電圧ホールド回路１１
ａに入力されホールドされる。次に、隣接する第２面目
のポリゴン面誤差検出器１０の出力信号が、電圧ホール
ド回路１１ａに入力されると同時に、電圧ホールド回路
にホールドされた第１面のデータが電圧ホールド回路１
１ｂに入力されホールドされる。電圧ホールド回路１１
ａにホールドされた電圧（第１面で反射したレーザビー
ムの副走査方向の位置に対応する（図６（Ｂ）のク゛ラフａ
参照））と、電圧ホールド回路１１ｂにホールドされた
電圧（第２面で反射したレーザビームの副走査方向の位
置に対応する（図６（Ｂ）のク゛ラフｂ参照））と、は比較
回路１２に入力され、この時、比較回路１２からは、第
１面の面誤差から第２面の面誤差への変化量（レーザビ
ームの副走査方向の位置の変化量図６（Ｂ）のク゛ラフｃ参
照）に対応）が出力される。

【００３７】この出力は、レーザ駆動回路２２に入力さ
れ、このポリゴン面における光量に加算される。

【００３８】ところで、上記変化量と、レーザビームの
走査線間隔と、レーザビームの走査線間隔のばらつきに
ともなう濃度むらの補正のためのレーザビームの光量
と、は予め定めることができる。即ち、上記変化量がど
のくらいのときにどのくらいのレーザビームの走査線間
隔なのかを特定することができ、よって、レーザビーム
をどのくらいの光量にすべきかを予め特定すことができ
る。

【００３９】よって、レーザ駆動回路２２は、比較回路
１２からの出力（上記変化量）に基づいて、濃度むらが
補正されるように、変化量が大きい場合にはレーザビー
ムの光量を相対的に大きくし、変化量が小さい場合には
レーザビームの光量が相対的に小さくなるように、半導
体レーザ１を制御する。

【００４０】以上をポリゴンミラーの全ての隣り合う面
毎に繰り返し、全反射面において光量を連続的に変化さ
せる事で、副走査方向の濃度むらを補正する事ができ
る。即ち、ポリゴンミラーの複数の反射面の隣接する複
数の反射面で反射する各レーザビームの副走査方向の位
置の変化量に基づいて、ポリゴンミラーの隣接する複数
の反射面で反射した各レーザビームの走査位置の変動で
生じる濃度むらを補正するので、特定のポリゴン面を検
出する手段や全面倒れデータを記憶し演算する手段を不
要とすることができ、簡易な処理でレーザビームの走査
位置の変動で生じる濃度むらを、簡単な回路構成で随時
補正することが出来る。

【００４１】ところで、本実施の形態では、図１に示す
ようにポリゴン面誤差検出器１０を画像書き出しまでの
間に設置し、レーザビームの走査毎に補正している。即
ち、各ポリゴンの面倒れデータを保持する必要がなく、
回路の簡素化が図れる。

【００４２】本実施の形態では、電気回路手段によるレ
ーザビームの光量変化によって濃度むらを補正する方法
を説明したが、本発明はこれに限定されるものではな
く、レーザビームの光量を変化させる手段として、印加
電圧の大きさによって透過率が変化するフィルタを用
い、レーザビームをこのフィルタを介して感光体上で走
査し、その際、上記変化量に基づいて、フィルタの印加
電圧を制御するようにしてもよい。また、画像書き込み
位置を変化させ補正する方法でも応用可能である。よっ
て、本発明は、濃度むらを補正する補正手段を特に限定
しない。なお、図８には、画像書き込み位置を変化する
場合のブロック回路図を示す。即ち、走査位置補正手段
２３は、比較回路１２の出力に基づいて、例えば反射ミ
ラー２０や別に設けられた光学系の向きを変化させて、
レーザビームの感光体への入射角度を変化させる。

【００４３】また、面誤差検知手段は、ポリゴン面誤差
による走査位置の変動を検出できる手段であれば、方法
を問わない。例えば、従来例である図１７の出力信号
（７）（ポリゴンミラーのある面で反射した光ビームと
他の面で反射した光ビームとの振れ量を示す信号）を電
圧ホールド回路１１ａに入力しても可能である。

【００４４】図９には、中間転写体９を用いた画像形成
装置が示されており、本装置にも本発明の導入は可能で
ある。

【００４５】なお、ポリゴン面誤差検出器１０として、
専用の検出手段を設ける例を説明したが、本発明はこれ
に限定されるものではなく、ＳＯＳセンサで兼用する方
法も可能であり、さらにコストダウンが図れる。

【００４６】また、図１０に示すように比較回路１２の
出力をコンパレータ手段２１に入力することでゼロクロ
スポイントを検出すれば、ライン像間隔、レーザビーム
の光量がほほ正常である特定のポリゴン面を決定するこ
とが可能であり、他用途への応用が可能である。

【００４７】

【発明の効果】以上説明したように本発明は、ポリゴン
ミラーの複数の反射面の隣接する複数の反射面で反射す
る各レーザビームの副走査方向の位置の変化量に基づい
て、ポリゴンミラーの隣接する複数の反射面で反射した
各レーザビームの走査位置の変動で生じる濃度むらを補
正するので、特定のポリゴン面を検出する手段や全面倒
れデータを記憶し演算する手段を不要とすることがで
き、簡易な処理でレーザビームの走査位置の変動で生じ
る濃度むらを補正することができる、という効果を有す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本実施の形態に係る光走査装置を示した図で
ある。

【図２】 本実施の形態に係る画像形成装置を示した図
である。

【図３】 ポリゴンモータを示した断面図である。

【図４】 ポリゴン面誤差検出器の構成図である。

【図５】 他のポリゴン面誤差検出器の構成図である。

【図６】 （Ａ）は、補正回路図であり、（Ｂ）は、比
較回路の入力電圧波形と出力電圧波形を示した図であ
る。

【図７】 （Ａ）は、ポリゴンモータの副走査方向の面
誤差とライン像間隔の変化を示したク゛ラフであり、（Ｂ）
は、この場合の実際の画像の拡大図である。

【図８】 他の補正回路図である。

【図９】 他の画像形成装置を示した図である。

【図１０】 他の補正回路図である。

【図１１】 本実施の形態に係る他の光走査装置を示し
た図である。

【図１２】 従来技術に係る光走査装置を示した図であ
る。

【図１３】 従来技術におけるポリゴン面倒れの特性図
である。

【図１４】 従来技術のレーザ出力補正手段を示すブロ
ック図である。

【図１５】 従来技術の画像ピッチの変動による濃度む
らを補正する様子を示す図である。

【図１６】 従来技術の受光素子の前に３角上のスリッ
トを設けた様子を示す図である。

【図１７】 図１６におけるブロック回路図である。

【図１８】 図１７における各部の波形を示した図であ
る。

【図１９】 従来技術の２分割センサの構造図である。

【符号の説明】

１ 半導体レーザ ３ ポリゴンミラー ５ 感光体 １０ ポリゴン面誤差検出器 １１ａ、１１ｂ 電圧ホールド回路 １２ 比較回路 ２２ レーザ駆動回路

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 周面に複数の反射面を有するポリゴンミ
   ラーによりレーザビームを走査し画像を形成する画像形
   成装置であって、 前記ポリゴンミラーの複数の反射面の隣接する複数の反
   射面で反射する各レーザビームの副走査方向の位置の変
   化量を検出する検出手段と、 前記検出手段により検出された変化量に基づいて、前記
   隣接する複数の反射面で反射した各レーザビームの走査
   位置の変動で生じる濃度むらを補正する補正手段と、 を備えた画像形成装置。
2. 【請求項２】 前記検出手段は、レーザビームの走査線
   上に設けられかつレーザビームを検出するレーザビーム
   検出手段と、 前記レーザビーム検出手段の検出信号の変化により前記
   レーザビームの副走査方向の位置の変化量を検出する変
   化量検出手段と、 を備えたことを特徴とする請求項１記載の画像形成装
   置。
3. 【請求項３】 前記レーザビーム検出手段は、 レーザビームの走査線上に設けられかつ少なくとも副走
   査方向にビームが絞られていないレーザビームを副走査
   方向にビームを絞る光学手段と、 前記光学手段により絞られてレーザビームが集光する位
   置に設けられかつ光出力を検出する光検出手段と、 前記光学手段のレーザビームの入射側に設けられかつ副
   走査方向の略半分を覆う一定の透過率のフィルタ手段ま
   たは完全に遮蔽する遮蔽手段と、 を備え、 前記変化量検出手段は、前記光検出手段の出力信号に基
   づいて前記レーザビームの副走査方向の位置の変化量を
   検出する、 ことを特徴とする請求項２記載の画像形成装置。
4. 【請求項４】 前記レーザビーム検出手段は、 レーザビームの走査線上に設けられかつ光出力を検出す
   る光検出手段と、 前記光検出手段のレーザビームの入射側に設けられかつ
   副走査方向に透過率が変化するフィルタ手段と、 を備え、 前記変化量検出手段は、前記光検出手段の出力信号に基
   づいて前記レーザビームの副走査方向の位置の変化量を
   検出する、ことを特徴とする請求項２記載の画像形成装
   置。