JP2002082302A

JP2002082302A - 光走査方法・光走査装置・感光媒体・画像形成装置

Info

Publication number: JP2002082302A
Application number: JP2000269130A
Authority: JP
Inventors: Hiromichi Atsumi; 広道厚海; Kenichi Takanashi; 健一高梨
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2000-09-05
Filing date: 2000-09-05
Publication date: 2002-03-22

Abstract

(57)【要約】【課題】偏向光束の結像状態を主走査方向および副走査
方向について検出し、主走査方向と副走査方向とについ
て、結像位置を調整可能とする。【解決手段】光源１から放射される１以上の光束を、走
査光学系により偏向させ、且つ、感光媒体７上に１以上
の光スポットとして形成し、１以上の走査線を光走査す
る光走査方法において、感光媒体７の画像形成領域外
に、感光媒体の一部として形成され、偏向光束の主走査
方向および副走査方方向の結像位置と感光媒体表面との
ずれを検知するための光透過性の検知パターン７０を、
偏向光束により光走査し、検知パターンによる透過光の
変化を検出し、検出結果に基づき、偏向光束の結像位置
と感光媒体表面とのずれを、主走査方向および副走査方
向につき独立に補正して光走査を行う。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、光走査方法・光
走査装置・感光媒体・画像形成装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近時、デジタル複写機やレーザプリンタ
等、光走査装置を用いる画像形成装置において、光書込
みの高密度化に伴い、被走査面上での光スポット径の小
径化が要請されている。このような要請に応え、３０μ
ｍ程度の光スポット径が実用化されつつある。しかし、
一方において、光スポット径を小径化すると、それに伴
なって部品精度や組み付け制度が厳しくなるという問題
がある。例えば、光スポット径を上記の３０μｍ程度に
設定すると、実際の光スポット径が３０±３μｍ程度の
範囲に収まるための機械誤差的な余裕（所謂深度余裕）
は１ｍｍ程度しかとれず、このような余裕内に部品精度
や組み付け精度を収めるのは必ずしも容易ではない。そ
こで、偏向光束の結像状態を検知して、結像位置を被走
査面に対して調整する方法として、偏向光束の結像位置
を調整するために「光源からの光束を、以後の光学系に
カップリングさせるカップリングレンズ」を光軸方向に
変位させる方法が提案されている（特開平２−２８９８
１２号公報、特開平１０−１４２５４６号公報）。しか
し、光走査装置の光学系は、主走査方向と副走査方向と
で結像作用が異なるものが一般的であり、カップリング
レンズを光軸方向に調整しても主走査方向の結像位置と
副走査方向の結像位置とを同時に調整できるとは限らな
い。また、上記公報記載の検知手段では、主走査方向の
結像状態は検知できるが、副走査方向の結像状態は検知
できない。また近来、光走査の高速化を目して、複数の
光束により光走査を行う所謂「マルチビーム走査方式」
が実用化されているが、マルチビーム走査方式では、副
走査方向に隣接する光スポットによる走査線の間隔であ
る走査線ピッチが適正でないと、良好な画像を形成する
ことができない。このため、マルチビーム走査方式で
は、走査線ピッチを検出できることが好ましい。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】この発明は上記事情に
鑑み、偏向光束の結像状態を主走査方向および副走査方
向について検出し、主走査方向と副走査方向とについ
て、結像位置を調整可能とすることを課題とする。

【０００４】この発明はまた、マルチビーム走査方式に
おいて、走査縁ピッチを簡便に検知できるようにするこ
とを課題とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の光走査方
法は「光源から放射される１以上の光束を、走査光学系
により偏向させ、且つ、感光媒体上に１以上の光スポッ
トとして形成し、１以上の走査線を光走査する光走査方
法」であって、以下の如き特徴を有する。即ち、「偏向
光束の主走査方向および副走査方方向の結像位置と感光
媒体表面とのずれを検知するための光透過性の検知パタ
ーン」が、感光媒体の画像形成領域外に感光媒体の一部
として形成されている。この検知パターンを偏向光束に
より光走査し、検知パターンによる透過光の変化を検出
する。この検出結果に基づき、偏向光束の結像位置と感
光媒体表面とのずれを、主走査方向および副走査方向に
つき独立に補正して光走査を行う。この請求項１記載の
光走査方法において、光透過性の検知パターンを「副走
査方向に長いスリットと、主走査方向に対して傾いた方
向に長いスリット」により構成し、副走査方向に長いス
リットを透過した光の変化に基づき、偏向光束の結像位
置と感光媒体表面とのずれを主走査方向につき補正し、
主走査方向に対して傾いた方向に長いスリットを透過し
た光の変化に基づき、上記ずれを副走査方向につき補正
することができる（請求項２）。なお、この明細書にお
いて、検知パターンに関してスリットというのは「スリ
ット状の透光部」を意味する。

【０００６】あるいはまた、上記光透過性の検知パター
ンを「副走査方向に長い辺と、主走査方向に対して傾い
た方向に長い辺とを持つ単一の透過部」により構成し、
副走査方向に長い辺の部分での透過光の変化に基づき、
偏向光束の結像位置と感光媒体表面とのずれを主走査方
向につき補正し、主走査方向に対して傾いた方向に長い
辺の部分での透過光の変化に基づき、上記ずれを副走査
方向につき補正することができる（請求項３）。上記請
求項１または２または３記載の光走査方法においては、
光源から２以上の光束を放射して、複数の走査線を同時
に光走査し、光透過性の検知パターンによる透過光に基
づき、走査線ピッチの検知を行うことができる（請求項
４）。即ち、この請求項４記載の光走査方法は、マルチ
ビーム走査方式に適用され、結像位置の調整とともに、
走査線ピッチの検知を行うのである。上記請求項１〜４
の任意の１に記載の光走査方法において、偏向光束の結
像位置と感光媒体表面とのずれの補正のための検知を行
うときは、感光媒体を静止させることが好ましい（請求
項５）。

【０００７】また、上記請求項４記載の光走査方法にお
いて、走査線ピッチの検知を行うときは、感光媒体を静
止させることが好ましい（請求項６）。通常、光走査に
おける光スポットの光走査速度は、感光媒体の感光面の
副走査方向への移動速度に比して十分に早いので、感光
面を走行させつつ、結像状態の検知や走査線ピッチの検
知を行うこともできるが、請求項５に記載の光走査方法
のように「偏向光束の結像状態を検知するとき」や、請
求項６に記載の発明のように「感光媒体上での複数の光
スポットの走査ピッチを検知するとき」に感光媒体を静
止させることにより、結像状態や走査線ピッチの検知精
度をより高くすることができる。上記請求項５記載の光
走査方法において、走査光学系に含まれる光偏向器を回
転鏡とし、偏向光束の結像位置と感光媒体表面とのずれ
の補正のための検知を行うときは「回転鏡の回転速度を
低速化する」ことができる（請求項７）。また、請求項
６記載の光走査方法において、走査光学系に含まれる光
偏向器を回転鏡とし、走査線ピッチの検知を行うときは
「回転鏡の回転速度を低速化する」ことができる（請求
項８）。「回転鏡」は、偏向反射面の回転により光束を
偏向させる光偏向器であり、具体的には回転単面鏡、回
転２面鏡や回転多面鏡である。

【０００８】請求項５や６に記載の光走査方法では、検
知が行われる際、感光媒体が静止しているので、回転鏡
の回転速度を低速化し、光スポットの光走査速度を低速
にしても精度の良い検知を行うことができる。この場
合、光走査速度が低速なので、検知パターンによる透過
光の変化を検出する検知手段の応答速度を下げることが
出来、コストを下げることができる。また、光走査周波
数（単位時間当たりの光走査回数）を低くできるので、
検知精度を向上させることが出来る。上記請求項１〜７
の任意の１に記載の光走査方法においては、走査光学系
に含まれる光偏向器を回転２面鏡もしくは回転多面鏡と
し、偏向光束の結像位置と感光媒体表面とのずれの補正
のための検知を行うときは「検知を行う１サイクル内に
用いる偏向反射面を同一とする」ことができ（請求項
９）、請求項４または６または８記載の光走査方法にお
いても、走査光学系に含まれる光偏向器を回転２面鏡も
しくは回転多面鏡とし、走査線ピッチの検知を行うとき
は「検知を行う１サイクル内に用いる偏向反射面を同一
とする」ことができる（請求項１０）。このように、検
知を行う１サイクル内に用いる偏向反射面を同一にする
ことにより、回転鏡の各偏向反射面での反射率のばらつ
きによる光スポットの「光量ばらつき」に起因する検知
精度の劣化を防ぐことが出来る。

【０００９】上記請求項１〜１０の任意の１に記載の光
走査方法において、偏向光束の結像位置と感光媒体表面
のずれを補正する方法として「光源と光偏向器との間
に、主走査方向にのみパワーを有する第１のシリンドリ
カルレンズと、副走査方向にのみパワーを有する第２の
シリンドリカルレンズとを設け、偏向光束の結像位置と
感光媒体表面との主走査方向のずれの補正は第１のシリ
ンドリカルレンズを光軸方向へ変位させて行い、副走査
方向のずれの補正は第２のシリンドリカルレンズを光軸
方向へ変位させて行うことができる（請求項１１）。こ
のようにする代わりに、例えば、上記第２のシリンドリ
カルレンズのみを設け、主走査方向における結像位置の
補正を「カップリングレンズ」で行い、カップリングレ
ンズによる主走査方向の結像位置調整後に、第２シリン
ドリカルレンズの光軸方向への変位により副走査方向の
結像位置調整を行うようにすることもできる。但し、カ
ップリングレンズは「光源に対する位置精度」が要求さ
れ、変位による光軸ずれ等の可能性もあるので、カップ
リングレンズの変位は慎重に行う必要がある。

【００１０】請求項１２記載の光走査方法は「光源から
放射される２以上の光束を、走査光学系により偏向さ
せ、且つ、感光媒体上に１以上の光スポットとして形成
し、２以上の走査線を光走査する光走査方法」におい
て、感光媒体の画像形成領域外に、感光媒体の一部とし
て形成され、走査線ピッチを検知するための光透過性の
検知パターンを、各偏向光束により走査し、検知パター
ンによる透過光の変化を検出し、検出結果に基づき、走
査線ピッチを検知することを特徴とする。この請求項１
２記載の光走査方法においても、検知パターンは「副走
査方向に長いスリットと、主走査方向に対して傾いた方
向に長いスリット」や「副走査方向に長い辺と、主走査
方向に対して傾いた方向に長い辺とを持つ単一の透過
部」により構成することができ、上に説明したのと同じ
理由で、走査線ピッチの検知を行うときは、感光媒体を
静止させることが好ましく、走査光学系に含まれる光偏
向器を回転鏡とする場合、走査線ピッチの検知を行うと
きは「回転鏡の回転速度を低速化する」ことが好まし
く、回転鏡が回転２面鏡もしくは回転多面鏡である場合
には、走査線ピッチの検知を行うときは「検知を行う１
サイクル内に用いる偏向反射面を同一とする」ことが好
ましい。

【００１１】請求項１３記載の光走査装置は「光源から
放射される１以上の光束を、走査光学系により偏向さ
せ、且つ、感光媒体上に１以上の光スポットとして形成
し、１以上の走査線を光走査する光走査装置」であっ
て、以下の如き特徴を有する。即ち、光源からの光束の
結像位置を、主走査方向と副走査方向に独立に調整する
調整手段が設けられる。また、感光媒体には、その画像
形成領域外に、偏向光束の主走査方向および副走査方方
向の結像位置と感光媒体表面とのずれを検知するための
光透過性の検知パターンが、感光媒体の一部として、偏
向光束により光走査可能に設けられる。さらに、検知パ
ターンを透過した光束を受光する受光手段が設けられ、
この受光手段の出力に基づき「偏向光束が、主走査方向
および副走査方向において、感光媒体表面上に結像す
る」ように、制御手段により調整手段を制御する。請求
項１３記載の光走査装置において、光透過性の検知パタ
ーンは「副走査方向に長いスリットと、主走査方向に対
して傾いた方向に長いスリット」により構成することも
できるし（請求項１４）、「副走査方向に長い辺と、主
走査方向に対して傾いた方向に長い辺とを持つ単一の透
過部」により構成することもできる（請求項１５）。

【００１２】請求項１３または１４または１５記載の光
走査装置は、光源が２以上の光束を放射するものであ
り、制御手段が、走査線ピッチを検知する機能を有する
ように構成できる（請求項１６）。この場合において、
光走査装置が「走査線ピッチを調整する走査線ピッチ調
整手段」を有するようにし、制御手段が「検知した走査
線ピッチに応じて、走査線ピッチ調整手段を制御して、
走査線ピッチの補正を行う機能」を有するようにできる
（請求項１７）。上記請求項１２〜１６の任意の１に記
載の光走査装置において「光源からの光束の結像位置
を、主走査方向と副走査方向に独立に調整する調整手
段」は、光源と光偏向器との間に設けられ、主走査方向
にのみパワーを有する第１のシリンドリカルレンズおよ
び副走査方向にのみパワーを有する第２のシリンドリカ
ルレンズと、これら第１および第２のシリンドリカルレ
ンズを独立して光軸方向へ変位させる変位手段とを有す
る構成とすることができる（請求項１８）。請求項１９
記載の光走査装置は「光源から放射される２以上の光束
を、走査光学系により偏向させ、且つ、感光媒体上に１
以上の光スポットとして形成し、２以上の走査線を光走
査する光走査装置」であって、以下の点を特徴とする。

【００１３】即ち、走査線ピッチを調整する走査線ピッ
チ調整手段を設ける。また、感光媒体には、その画像形
成領域外に、感光媒体の一部として、走査線ピッチを検
知するための光透過性の検知パターンを、各偏向光束に
より走査可能に設ける。さらに、上記検知パターンを透
過した光束を受光する受光手段を設ける。そして、この
受光手段の出力に基づき、適正な走査線ピッチが得られ
るように、走査線ピッチ制御手段により走査線ピッチ調
整手段を制御する。請求項２０記載の感光媒体は、上記
請求項１３〜１８記載の光走査装置に用いられる感光媒
体であって「画像形成領域外に、偏向光束の主走査方向
および副走査方方向の結像位置と感光媒体表面とのずれ
を検知するための光透過性の検知パターンを、感光媒体
の一部として、偏向光束により光走査可能に設けられ
た」ことを特徴とする。この感光媒体は「光導電性の感
光体」であることができる（請求項２１）。請求項２２
に記載の感光媒体は、請求項１９記載の光走査装置に用
いられる感光媒体であって「画像形成領域外に、走査線
ピッチを検知するための光透過性の検知パターンを、感
光媒体の一部として、偏向光束により光走査可能に設け
られた」ことを特徴とする。この感光媒体は「光導電性
の感光体」であることができる（請求項２３）。これら
請求項２０ないし２３記載の感光媒体の形態は、円筒状
あるいは無端のベルト状が好適である。

【００１４】なお、上に説明した検知パターン（副走査
方向に長いスリットと、主走査方向に対して傾いた方向
に長いスリットの対や、副走査方向に長い辺と、主走査
方向に対して傾いた方向に長い単一の光透過部によるパ
ターン）は、感光媒体の画像領域外において、副走査方
向に繰り返して、あるいは連続して形成することもでき
る。この発明の画像形成装置は「感光媒体の感光面に光
走査により潜像を形成し、この潜像を可視化して所望の
画像を形成する画像形成装置」である（請求項２４、２
６）。感光媒体としては、銀塩フィルムを用いることも
できる。この場合、感光媒体に光走査により書込まれる
潜像は、通常の銀塩写真プロセスの現像・定着手法に従
い可視化することができる。このような画像形成装置
は、光製版装置や光描画装置等として実施することがで
きる。また、感光媒体として「光導電性の感光体」を用
い、その均一帯電と光走査とにより静電潜像を形成し、
この静電潜像をトナー画像として可視化することもでき
る（請求項２５、２７）このような画像形成装置は、デ
ジタル複写装置や光プリンタとして実施することができ
る。トナー画像は、転写紙やＯＨＰシート（オーバヘッ
ドプロジェクタ用のプラスチックシート）等のシート状
の記録媒体に転写・定着することができる。請求項２４
記載の画像形成装置は、感光媒体の光走査を行う光走査
装置として、請求項１４〜１８の任意の１に記載の光走
査装置を用いることを特徴とする。また、請求項２６記
載の画像形成装置は、感光媒体の光走査を行う光走査装
置として、請求項１９記載の光走査装置を用いることを
特徴とする。

【００１５】なお、請求項１〜１１および請求項１２記
載の光走査方法において、また、上記請求項１３〜１８
および請求項１９記載の光走査装置において、光走査時
に、検知パターンを透過した偏向光束を検知し、検知信
号を「光書込み同期用の信号として使用する」ことがで
きる。

【００１６】

【発明の実施の形態】図１は、この発明の光走査装置の
実施の１形態を説明するための図である。この実施の形
態の光走査装置はシングルビーム方式のものであり、光
源１は半導体レーザである。光源１から放射された発散
性の光束は、カップリングレンズ２により以後の光学系
に適した光束形態に変換される。この実施の形態におい
て、カップリングレンズ２は、光源１側から入射する光
束を「集束性の光束」に変換する。カップリングレンズ
２から射出した集束性の光束は、第１のシリンドリカル
レンズ３に入射する。第１のシリンドリカルレンズ３は
「主走査方向にのみ」パワーを有する。この実施の形態
において、シリンドリカルレンズ３の有するパワーは
「負のパワー」である。シリンドリカルレンズ３は、入
射してくる集束性の光束を、基準状態としては「主走査
方向に平行な光束」に変換する。シリンドリカルレンズ
３は、ステージ等の変位手段３Ａに搭載され、光軸方向
へ変位させることができるようになっている。シリンド
リカルレンズ３を透過した光束（主走査方向には平行光
束で、副走査方向には集束性の光束である）は、第２の
シリンドリカルレンズ４に入射する。第２のシリンドリ
カルレンズは副走査方向のみにパワーを有する。この実
施の形態においてはシリンドリカルレンズ４は副走査方
向に正のパワーを有する。このため、シリンドリカルレ
ンズ４を透過した光束は、主走査方向には平行光束、副
走査方向には集束光束となって、光偏向器としての回転
多面鏡５の偏向反射面に入射する。このとき、入射光束
は偏向反射面の近傍に「主走査方向に長い線像」として
結像する。

【００１７】偏向反射面により反射された光束は、回転
多面鏡５の矢印方向への等速回転に共ない、等角速度的
に偏向する偏向光束となり、走査結像光学系６（図の簡
単化のため、単純化して描いている。走査結像光学系６
は図のようにレンズ１枚構成とすることもできるし、複
数枚のレンズで構成することもでき、更には結像機能を
持つミラーや、ミラーとレンズの混合系として構成する
こともできる）を透過し、走査結像光学系６の作用によ
り、被走査面の実体をなす感光媒体７の感光面上に光ス
ポットとして集光する。この実施の形態において、感光
媒体７は「光導電性の感光体」である。従って、以下で
は感光体７と称する。光スポットは偏向光束の偏向に伴
ない、感光体７を主走査方向（図面に平行な方向）へ変
位して主走査を行う。走査結像光学系６は「ｆθ機能」
を有し、主走査速度を等速化する。ここで、図１（ｂ）
を参照する。感光体７は、円筒状に形成されたものであ
るが「画像形成領域」外に、偏向光束の主走査方向およ
び副走査方方向の結像位置と感光体表面とのずれを検知
するための光透過性の検知パターン７０を「感光体の一
部」として、偏向光束により光走査可能に設けられてい
る。

【００１８】図１（ｄ）に示すように、検知パターン７
０は、副走査方向（感光体７の回転方向）に長いスリッ
ト７１（スリット状の光透過部であり、連続して形成さ
れている）と、主走査方向に対して傾いた方向に長いス
リット７２（スリット状の光透過部で、副走査方向に繰
り返し形成されている）により形成されている。そし
て、図１（ａ）、（ｃ）、（ｄ）に示すように、感光体
７の内側には、検知パターン７０を透過した光束を受光
する受光手段８が設けられている。受光手段８は、図１
（ｃ）、（ｄ）に示すように、集光レンズ８１と受光素
子８２とにより構成されている。この例では、受光手段
は１つで、スリット７１と７２とに共用されているが、
必要に応じて、スリット７１と７２にそれぞれ個別的に
受光手段を設けるようにしてもよい。次ぎに、偏向光束
の結像位置を感光体７の表面に合致させる「結像位置の
ずれの補正」を説明する。図１（ｅ）は、光スポットＳ
Ｐがスリット７１を主走査方向へ横切るように変位する
ときの様子を示している。この図において、光スポット
ＳＰは、偏向光束の結像位置が感光体表面（即ちスリッ
ト７１）に対してずれたことにより、主走査方向にも副
走査方向にも径が大きくなっている。

【００１９】図１（ｅ）の右図は、光スポットＳＰがス
リット７１を横切るときに、受光手段８における受光素
子８２の出力の様子を示している。軸は時間、縦軸は出
力である。光スポットＳＰが、主走査方向（図の左右方
向）にも副走査方向にも「径が大きく（このため、光ス
ポットの最大光強度は小さくなっている）なっている」
ため、出力信号は出力の最大値が低い「裾野の広い山
形」になる。光スポットＳＰの形状が、図１（ｆ）に示
すように「主走査方向に狭くなった状態（この状態は、
偏向光束が、主走査方向において感光体表面近傍に結像
していることに対応する）」になると、受光素子８２の
出力は、（ｆ）の右図のように最大出力が大きくなり、
裾野が狭くなる。図１（ｇ）、（ｈ）は、光スポットＳ
Ｐがスリット７２を主走査方向に横切るときの様子と、
このときの受光素子８２の出力の様子を示している。
（ｇ）では光スポットＳＰは主走査方向に短く、副走査
方向に長い形状をしているが、スリット７２が「主走査
方向に対して傾いている」ため、裾野がある程度広くな
っている。（ｈ）では、光スポットＳＰは主走査方向に
も副走査方向にも径が小さく（即ち、主走査・副走査方
向において偏向光束が感光面近傍に結像している）、こ
のため、受光素子８２の出力は、出力のピークが大き
く、裾野の狭い形状になっている。

【００２０】図（ｅ）〜（ｈ）に示すように、受光素子
８２の出力曲線の最大値をＰ、上記出力曲線を破線で示
す「閾値」で切ったときの出力幅をｔとすると、Ｐとｔ
とは互いに反比例的な関係にあることが分かる。このた
め、上記時間：ｔもしくはＰの逆数：１／Ｐと、偏向光
束の結像位置と感光面との「ずれ量」の関係をプロット
してみると、主走査方向のずれ・副走査方向のずれと
も、図１（ｉ）に示す如く「最小値をもった曲線」とな
る。

【００２１】ここで、図１（ａ）に戻ると、偏向光束の
結像位置と感光体７の感光面とのずれの補正を行うとき
には、感光体７の回転を停止して、感光体７を静止さ
せ、同時に、回転多面鏡５の回転速度を低速化した状態
で、光走査を繰り返す。光走査が繰り返されるたびに、
受光手段８（の受光素子８２）からの信号は制御手段と
しての制御部９へ入力する。制御部９はマイクロコンピ
ュータと入出力装置とを有する。制御部９は、受光手段
８からの入力信号に応じ、プログラムされた制御工程に
従い、先ず、変位手段３Ａを駆動して、シリンドリカル
レンズ３を光軸方向へ変位させる。シリンドリカルレン
ズ３は「主走査方向にのみパワーを有する」から、この
変位により偏向光束の「主走査方向の結像位置」が変化
することになる。制御部９は、シリンドリカルレンズ３
の変位に伴なう受光手段からの出力から例えば、上記時
間：ｔもしくは「１／Ｐ」を検出し、これらが最小値を
とるように、変位手段３Ａの変位を制御する。その結
果、上記最小値が実現されると、偏向光束は、主走査方
向において感光面上に結像していることになる。

【００２２】このようにして、主走査方向の結像位置の
補正が終了したら、今度は、変位手段４Ａを制御してシ
リンドリカルレンズ４を光軸方向へ変位させ、上記と同
様に時間：ｔもしくは「１／Ｐ」が最小値をとるように
変位手段４Ａの変位を制御する。このようにして最小値
が実現すると、偏向光束は、主走査・副走査の両方向に
おいて感光面上に結像していることになり、主・副走査
方向とも最小のスポット径が実現されたことになる。な
お、上記のような制御に代えて、以下のようにすること
もできる。即ち、主走査方向・副走査方向の各々につ
き、図１（ｉ）の如き特性曲線を予め測定で設定し、こ
れを制御部に記憶させておき、検出部の２回の光走査
（シリンドリカルレンズ３、４の基準位置における光走
査結果と、基準位置から所定位置変位させたときの光走
査結果から、各シリンドリカルレンズの「補正変位量」
を演算もしくはテーブルにより求め、このように得られ
た補正変位量に基づき各シリンドリカルレンズ３、４を
変位させるようにしてもよい。上には、スリット７１で
主走査方向、スリット７２で副走査方向の結像位置を補
正する場合を説明したが、スリット７２のみを用いて主
・副走査方向の結像位置を補正することもできる。しか
し、補正の精度は、スリット７１、７２を用いる方が高
い。

【００２３】図２は、光走査装置の実施の別形態を説明
するための図である。繁雑を避けるため、図１（ａ）に
おけると同じものについては、図１（ａ）におけると同
一の符号を付し、これらについての説明を省略する。図
２（ａ）に示す光走査装置は、光走査装置は「マルチビ
ーム方式」のものであり、光源１Ａから複数の光束が放
射されるようになっている。光源１から放射される光束
の数は２以上の適宜である。このような光源１Ａは、マ
ルチビーム走査装置の光源として周知の「半導体レーザ
アレイを用いるもの」や「独立した半導体レーザからの
光束をビーム合成プリズムを用いて合成するもの」とし
て実現することができる。以下の説明では、説明の簡単
のため、光源１Ａから２本の光束が放射されるものとす
る。これら２本の光束は、カップリングレンズ２から走
査結像光学系６に至る光学素子により構成される「走査
光学系」により偏向され、且つ、感光体７の感光面上に
「副走査方向に互いに分離した２つの光スポット」とし
て集光され、２走査線を同時に光走査する。

【００２４】「各偏向光束の結像位置と感光面とのず
れ」は、図１に即して説明したのと同様の方法で補正さ
れる。この場合、補正は、２つの偏向光束の「適宜のも
の」について行われる。すると、他方の偏向光束につい
ての補正も自動的に行われる。図２の光走査装置では、
走査線ピッチの検知と補正とが行われるようになってい
る。このための補正が行われるときには、感光体７を静
止させ、回転多面鏡５の回転速度を低速化する。図２
（ｂ）は、検出パターン７０を構成するスリット７１、
７２を、２つの光スポットＳＰ１、ＳＰ２が主走査方向
に横切るときの様子を示している。光スポットＳＰ１、
ＳＰ２は主走査方向および副走査方向（図の上下方向）
に分離しており、スリット７２は主走査方向に対して
角：θだけ傾いているので、光スポットＳＰ１がスリッ
ト７１、７２間を横切る時間：Ｔ₁と、光スポットＳＰ
２がスリット７１、７２間を横切る時間：Ｔ₂とは互い
に異なる。光スポットＳＰ１、ＳＰ２の光走査速度：ｖ
は、検知の条件として一義的に与えることができる。す
ると、上記の時間：Ｔ₁、Ｔ₂が知れると、走査線ピッチ
は「（Ｔ₁−Ｔ₂）ｖ×ｔａｎθ」で求まる。即ち、制御
手段としての制御部９は、受光手段８の出力に基づき、
時間：Ｔ₁、Ｔ₂を求め、演算：（Ｔ₁−Ｔ₂）ｖ×ｔａｎ
θを行って現に行われているマルチビーム走査の走査線
ピッチを検知する。

【００２５】検知された結果が「本来設定されている走
査線ピッチ」と異なるとき、制御部９は、走査線ピッチ
調整手段１０を制御して、走査線ピッチを適正な大きさ
に補正する。走査線ピッチ調整手段１０は、例えば、
「光源１Ａをカップリングレンズ２の光軸の回りに回転
させる機構」や、光源１Ａ全体をカップリングレンズの
光軸方向へ変位させて、結像倍率を変化させる機構とし
て構成できる。

【００２６】上には、検知パターンとして、２つのスリ
ット７１、７２を組み合わせたものを説明したが、検知
パターンとしてはまた、図３（ａ）に示す如きものを用
いることができる（混同の虞はないと思われるので、感
光体に対して図１、図２におけると同様、符号７を付し
た。検知パターン７３は、光透過性で「副走査方向に長
い辺と、主走査方向に対して傾いた方向に長い辺とを持
つ単一の透過部（図の例では、このようなパターンが副
走査方向に繰り返し、連続的に形成され、主走査方向に
対して傾いた辺の繋りが鋸歯状になっている）」であ
る。図３（ｂ）は、検出パターン７３を、２つの光スポ
ットＳＰ１、ＳＰ２が主走査方向に横切るときの様子を
示している。光スポットＳＰ１、ＳＰ２は主走査方向お
よび副走査方向（図の上下方向）に分離しており、検出
パターン７３の１辺７３ｂは主走査方向に対して角：θ
だけ傾いているので、光スポットＳＰ１が辺７３ａ、７
３ｂ間を横切る時間：Ｔ₁と、光スポットＳＰ２が辺７
３ａ、７３ｂ間を横切る時間：Ｔ₂とは互いに異なる。
光スポットＳＰ１、ＳＰ２の光走査速度：ｖは設定値で
あるから、時間：Ｔ₁、Ｔ₂が知れると、走査線ピッチは
「（Ｔ₁−Ｔ₂）ｖ×ｔａｎθ」で求まる。

【００２７】制御手段としての制御部９は、受光手段８
の出力に基づき、時間：Ｔ₁、Ｔ₂を求め、演算：（Ｔ₁
−Ｔ₂）ｖ×ｔａｎθを行って現に行われているマルチ
ビーム走査の走査線ピッチを検知することができる。ま
た、検知パターン７３を用いて偏向光束の結像位置と感
光面とのずれを検知することができる。図３（ｃ）に示
すように、光スポットＳＰ（上記光スポットＳＰ１、Ｓ
Ｐ２の適宜のもの）が、検知パターン７３を主走査方向
に走査すると、受光手段８からの出力は、図３（ｄ）の
上の図のようになる。即ち、出力は、光スポットＳＰが
検知パターン７３の副走査方向に長い辺７３ａの部分を
横切ることにより、増大し、一定値となったのち、主走
査方向に対して傾いた方向７３ｂの部分を横切ることに
より次第に減少する。この出力信号の立ち上がりと立下
りをモニタしても良いが、例えば、上記出力を微分する
と、図３（ｄ）の下の図のようになる。この図の山部の
頂部と谷部の底との間隔である時間：Ｔは、上記時間：
Ｔ₁、Ｔ₂に対応するものである。

【００２８】図３（ｄ）の下の図の山部の高さ：Ｐ１
は、偏向光束の主走査方向の結像位置と感光面とのずれ
に応じて変化し、主走査方向の結像位置が感光面に合致
するときに最大となるので、このことに着目して、高
さ：Ｐ１が最大となるように、シリンドリカルレンズ３
の位置を制御調整すれば、偏向光束の主走査方向の結像
位置を感光体７の感光面に合致させることができる。同
様に、図３（ｄ）下図の谷部の深さ：Ｐ２は、偏向光束
の副走査方向の結像位置と感光面とのずれに応じて変化
し、副走査方向の結像位置が感光面に合致するときに最
大となるので、深さ：Ｐ２が最大となるように、シリン
ドリカルレンズ４の位置を制御調整すれば、偏向光束の
副走査方向の結像位置を感光体７の感光面に合致させる
ことができる。上記の如くする代わりに、高さ：Ｐ１の
逆数：１／Ｐ１、深さ：Ｐ２の逆数：１／Ｐ２のそれぞ
れにつき、図１（ｉ）で説明したようなグラフデータを
予め作成して制御部に記憶させておき、これらに基づ
き、シリンドリカルレンズ３、４の変位量を決定するよ
うにしてもよい。

【００２９】図４は、光走査装置の実施の他の形態であ
る。この図においても、図１におけると同一のものにつ
いては、図１におけると同一の符号を付し、これらにつ
いての説明を省略する。この実施の形態は、図２に示し
た実施の形態と同様のマルチビーム方式の光走査装置で
ある。図２の実施の形態との差異は、図４の実施の形態
においては、偏向光束の結像位置と感光体７の感光面と
のずれの補正は行わず、走査線ピッチの検知と補正を行
うことである。走査線ピッチの検知と補正は、図２の実
施の形態と全く同様にして行う。検知パターンとして
は、図３に即して説明した検知パターン７３を用いるこ
ともできる。

【００３０】図５は、画像形成装置の実施１形態を示し
ている。この画像形成装置１００はレーザプリンタであ
る。レーザプリンタ１００は、感光媒体として、円筒状
に形成された光導電性の感光体１１１を有している。感
光体１１１の周囲には、帯電手段としての帯電ローラ１
１２、現像装置１１３、転写ローラ１１４、クリーニン
グ装置１１５が配備されている。帯電手段としては周知
の「コロナチャージャ」を用いることもできる。感光体
としては「ベルト状のもの」を用いることもできる。ま
た、レーザ光束による光走査装置１１６が設けられ、帯
電ローラ１１２と現像装置１１３との間で「光走査によ
る露光」で、画像書き込みを行うようになっている。光
走査装置１１６は、図１、図２、図４に即して実施の形
態を説明したものを適宜に用いることができる。

【００３１】図５において、符号１１７は定着装置、符
号Ｓは「シート状の記録媒体」としての転写紙を示して
いる。画像形成を行うときは、光導電性の感光体１１１
が時計回りに等速回転され、その表面が帯電ローラ１１
２により均一帯電され、光走査装置１１６のレーザ光束
の光書き込による露光を受けて静電潜像が形成される。
形成された静電潜像は所謂「ネガ潜像」であって画像部
が露光されている。この静電潜像は、現像装置１１３に
より反転現像され、感光体１１１上にトナー画像が形成
される。転写紙Ｓは矢印方向へ搬送されつつ、転写部に
おいてトナー画像と重ね合わせられ、転写ローラ１１４
の作用によりトナー画像を静電転写される。トナー画像
を転写された転写紙Ｓは定着装置１１７でトナー画像を
定着され、装置外へ排出される。トナー画像転写後の感
光体１１１の表面は、クリーニング装置１１５によりク
リーニングされ、残留トナーや紙粉等が除去される。な
お、転写紙に代えて前述の「ＯＨＰシート」等を用いる
こともでき、トナー画像の転写は、中間転写ベルト等の
「中間転写媒体」を介して行うようにすることもでき
る。

【００３２】光走査装置として、図１の実施形態のもの
を用いると、偏向光束が主走査方向・副走査方向とも、
感光体１１１の感光面上に結像した状態で光走査を行う
ことができるので、高密度の良好な書き込みが可能であ
る。また、光走査装置として、図２の実施の形態のもの
を用いると、偏向光束が主走査方向・副走査方向とも、
感光体１１１の感光面上に結像し、かつ、適正な走査線
ピッチでマルチビーム走査を行うことができ、高密度の
良好な書き込みが可能である。光走査装置として、図４
の実施の形態のものを用いると、適正な走査線ピッチで
マルチビーム走査を行うことができ、良好な書き込みが
可能である。

【００３３】図１および図２に即して実施の形態を説明
した光走査装置は、光源１、１Ａから放射される１以上
の光束を、走査光学系２、３、４、５、６により偏向さ
せ、且つ、感光媒体７上に１以上の光スポットとして形
成し、１以上の走査線を光走査する光走査装置におい
て、光源１、１Ａからの光束の結像位置を、主走査方向
と副走査方向に独立に調整する調整手段３、３Ａ、４、
４Ａを設け、感光媒体７の画像形成領域外に、偏向光束
の主走査方向および副走査方方向の結像位置と感光媒体
表面とのずれを検知するための光透過性の検知パターン
７０を、感光媒体７の一部として、偏向光束により光走
査可能に設けるとともに、検知パターン７０を透過した
光束を受光する受光手段８を設け、この受光手段８の出
力に基づき、偏向光束が、主走査方向および副走査方向
において、感光媒体表面上に結像するように、制御手段
９により調整手段３、３Ａ、４、４Ａを制御するように
した光走査装置（請求項１３）であり、光透過性の検知
パターン７０が、副走査方向に長いスリット７１と、主
走査方向に対して傾いた方向に長いスリット７２により
構成され（請求項１４）、光源１、１Ａからの光束の結
像位置を、主走査方向と副走査方向に独立に調整する調
整手段が、光源１、１Ａと光偏向器５との間に設けら
れ、主走査方向にのみパワーを有する第１のシリンドリ
カルレンズ３および副走査方向にのみパワーを有する第
２のシリンドリカルレンズ４と、これら第１および第２
のシリンドリカルレンズを独立して光軸方向へ変位させ
る変位手段３Ａ、４Ａにより構成されている（請求項１
８）。

【００３４】また、図３に即して説明したように、光透
過性の検知パターンとして、副走査方向に長い辺７３ａ
と、主走査方向に対して傾いた方向に長い辺７３ｂとを
持つ単一の透過部により構成された検知パターン７３を
用いることもできる（請求項１５）。図２に実施の形態
を示した光走査装置は、光源１Ａが２以上の光束を放射
するものであり、制御手段９が、走査線ピッチを検知す
る機能を有するものである（請求項１６）。そして、走
査線ピッチを調整する走査線ピッチ調整手段１０を有
し、制御手段９が、検知した走査線ピッチに応じて、走
査線ピッチ調整手段１０を制御して、走査線ピッチの補
正を行う機能を有する（請求項１７）。図４に実施の形
態を示した光走査装置は、光源１Ａから放射される２以
上の光束を、走査光学系２、３、４、５、６により偏向
させ、且つ、感光媒体７上に１以上の光スポットとして
形成し、２以上の走査線を光走査する光走査装置におい
て、走査線ピッチを調整する走査線ピッチ調整手段１０
を設け、感光媒体７の画像形成領域外に、感光媒体の一
部として、走査線ピッチを検知するための光透過性の検
知パターン７０（７３）を、各偏向光束により走査可能
に設けるとともに、検知パターン７０（７３）を透過し
た光束を受光する受光手段８を設け、この受光手段８の
出力に基づき、適正な走査線ピッチが得られるように、
走査線ピッチ制御手段９により走査線ピッチ調整手段１
０を制御するようにしたものである（請求項１９）。

【００３５】また、図１、図３に即して実施の形態を説
明した感光媒体７は、画像形成領域外に、偏向光束の主
走査方向および副走査方方向の結像位置と感光媒体表面
とのずれを検知するための光透過性の検知パターン７０
（７３）を、感光媒体７の一部として、偏向光束により
光走査可能に設けられたものであって（請求項２０）、
光導電性の感光体である（請求項２１）。図４に実施の
形態を示した光走査装置に用いられる感光媒体７も、画
像形成領域外に、走査線ピッチを検知するための光透過
性の検知パターン７０（７３）を、感光媒体７の一部と
して、偏向光束により光走査可能に設けられたものであ
り（請求項２２）、光導電性の感光体である（請求項２
３）。図１および図２に実施の形態を示した光走査装置
によれば、光源１、１Ａから放射される１以上の光束
を、走査光学系２〜６により偏向させ、且つ、感光媒体
７上に１以上の光スポットとして形成し、１以上の走査
線を光走査する光走査方法において、感光媒体７の画像
形成領域外に、感光媒体７の一部として形成され、偏向
光束の主走査方向および副走査方方向の結像位置と感光
媒体表面とのずれを検知するための光透過性の検知パタ
ーン７０を、偏向光束により光走査し、検知パターン７
０による透過光の変化を検出し、検出結果に基づき、偏
向光束の結像位置と感光媒体７表面とのずれを、主走査
方向および副走査方向につき独立に補正して光走査を行
う光走査方法（請求項１）が実施される。

【００３６】そして、光透過性の検知パターン７０は、
副走査方向に長いスリット７１と、主走査方向に対して
傾いた方向に長いスリット７２により構成され、副走査
方向に長いスリット７１を透過した光の変化に基づき、
偏向光束の結像位置と感光媒体７表面とのずれを、主走
査方向につき補正し、主走査方向に対して傾いた方向に
長いスリット７２を透過した光の変化に基づき、上記ず
れを副走査方向につき補正する光走査方法が実施される
（請求項２）。また、図３に示すように、光透過性の検
知パターン７３を、副走査方向に長い辺７３ａと、主走
査方向に対して傾いた方向に長い辺７３ｂとを持つ単一
の透過部により構成し、副走査方向に長い辺７３ａの部
分での透過光の変化に基づき、偏向光束の結像位置と感
光媒体表面とのずれを、主走査方向につき補正し、主走
査方向に対して傾いた方向に長い辺７３ｂの部分での透
過光の変化に基づき、上記ずれを副走査方向につき補正
する光走査方法（請求項３）を実施することができる。
また、図２に実施の形態を示す光走査装置によれば、光
源１Ａから２以上の光束を放射して、複数の走査線を同
時に光走査し、光透過性の検知パターン７０による透過
光に基づき、走査線ピッチの検知を行う光走査方法が実
施される。

【００３７】また、図１〜図３に示した実施の形態の説
明において述べたように、偏向光束の結像位置と感光媒
体７表面とのずれの補正のための検知を行うときは、感
光媒体７が静止させられ（請求項５）、図２の光走査装
置で実施される光走査方法では、走査線ピッチの検知を
行うとき、感光媒体７を静止させる（請求項６）。ま
た、図１、図２の光走査装置とも、走査光学系に含まれ
る光偏向器５は回転鏡であり、この装置により実施され
る光走査方法では、偏向光束の結像位置と感光媒体表面
とのずれの補正のための検知を行うときは、回転鏡の回
転速度を低速化し（請求項７）、図２の光走査装置で実
施される光走査方法では、走査線ピッチの検知を行うと
きは、回転鏡５の回転速度を低速化する（請求項８）。
そして、図１、図２の光走査装置により実施される光走
査方法では、光偏向器５は回転多面鏡であり、偏向光束
の結像位置と感光媒体表面とのずれの補正のための検知
を行うときは、検知を行う１サイクル内に用いる偏向反
射面を同一とし（請求項９）、走査線ピッチの検知を行
うときも、検知を行う１サイクル内に用いる偏向反射面
を同一とする（請求項１０）。

【００３８】図１、図２の光走査装置で実施される光走
査方法では、光源１、１Ａと光偏向器５との間に、主走
査方向にのみパワーを有する第１のシリンドリカルレン
ズ３と、副走査方向にのみパワーを有する第２のシリン
ドリカルレンズ４とが設けられ、偏向光束の結像位置と
感光媒体表面との主走査方向のずれの補正は第１のシリ
ンドリカルレンズ３を光軸方向へ変位させて行い、副走
査方向のずれの補正は第２のシリンドリカルレンズ４を
光軸方向へ変位させて行う（請求項１１）。図４の光走
査装置では、光源１Ａから放射される２以上の光束を、
走査光学系２〜６により偏向させ、且つ、感光媒体７上
に１以上の光スポットとして形成し、２以上の走査線を
光走査する光走査方法であって、感光媒体７の画像形成
領域外に、感光媒体の一部として形成され、走査線ピッ
チを検知するための光透過性の検知パターン７０（７
３）を、各偏向光束により走査し、検知パターンによる
透過光の変化を検出し、検出結果に基づき、走査線ピッ
チを検知する光走査方法（請求項１２）が実施される。

【００３９】図５に実施の形態を示した画像形成装置
は、感光媒体１１１の感光面に光走査により潜像を形成
し、この潜像を可視化して所望の画像を形成する画像形
成装置であって、光走査装置１１６として、図１、図２
に実施の形態を示した各光走査装置を用いる（請求項２
４）ことも、図４２に実施の形態を示した光走査装置を
用いる（請求項２６）こともでき、感光媒体１１１が光
導電性の感光体で、静電潜像が、感光媒体１１１の均一
帯電と光走査とにより形成され、トナー画像として可視
化される（請求項２５、２７）。

【００４０】

【発明の効果】以上に説明したように、この発明によれ
ば新規な光走査方法・光走査装置・感光媒体・画像形成
装置を実現できる。この発明の感光媒体は、その一部と
して、画像形成領域外に「検知パターン」を有するの
で、この感光媒体を用いる光走査方法・光走査装置で
は、光学部品誤差・組み付け誤差や温・湿度変動等によ
る「偏向光束の結像位置と感光媒体表面とのずれ」を、
主走査方向と副走査方向とで独立に精度良く補正し、適
正な光スポットで光走査を行うことができる。また、感
光媒体の透過光を直接検知しているので、走査光学系と
感光媒体との位置精度によらず、結像位置ずれを精度良
く補正できる。また、マルチビーム方式の光走査を行う
場合においては、「偏向光束の結像位置と感光媒体表面
との位置ずれの補正」および／または「走査線ピッチの
補正」を行い、良好なマルチビーム走査を実現できる。
また、この発明の画像形成装置は上記光走査装置を用い
て画像の書き込みを行うことにより、良好な画像形成を
実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】光走査装置の実施の１形態を説明するための図
である。

【図２】光走査装置の実施の別形態を説明するための図
である。

【図３】感光媒体の実施の１形態を説明するための図で
ある。

【図４】光走査装置の実施の他の形態を説明するための
図である。

【図５】画像形成装置の実施の１形態を説明するための
図である。

【符号の説明】

１光源２カップリングレンズ３第１のシリンドリカルレンズ４第２のシリンドリカルレンズ５回転多面鏡６走査結像光学系７感光体８受光手段

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０３Ｇ 21/00 ３５０Ｈ０４Ｎ 1/29 Ｈ５Ｃ０７２ 21/14 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ５Ｃ０７４Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｇ０３Ｇ 21/00 ３７２ 1/29 Ｈ０４Ｎ 1/04 １０４ＡＦターム(参考） 2C362 AA48 BA34 BA57 BA68 BA69 BA71 BA84 BB30 BB32 BB37 BB40 BB46 BB47 CA23 CB59 CB73 DA03 2H027 DA23 DD09 DE02 DE07 ED02 ED04 ED06 EE02 EE03 ZA07 2H035 CA07 CB03 CZ00 2H045 AA52 BA22 BA33 CA89 CA98 CB22 CB24 DA41 2H076 AB05 AB06 AB12 AB16 AB18 AB67 AB68 EA05 5C072 AA03 BA03 BA04 DA02 HA02 HA06 HA13 HB08 HB10 XA01 XA05 5C074 AA07 AA10 BB03 BB26 CC22 CC26 DD15 EE02 EE04 GG02 GG03 GG04 GG09 GG12

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源から放射される１以上の光束を、走査
光学系により偏向させ、且つ、感光媒体上に１以上の光
スポットとして形成し、１以上の走査線を光走査する光
走査方法において、感光媒体の画像形成領域外に、上記感光媒体の一部とし
て形成され、偏向光束の主走査方向および副走査方方向
の結像位置と感光媒体表面とのずれを検知するための光
透過性の検知パターンを、偏向光束により光走査し、上
記検知パターンによる透過光の変化を検出し、検出結果
に基づき、偏向光束の結像位置と感光媒体表面とのずれ
を、主走査方向および副走査方向につき独立に補正して
光走査を行うことを特徴とする光走査方法。
【請求項２】請求項１記載の光走査方法において、光透過性の検知パターンは、副走査方向に長いスリット
と、主走査方向に対して傾いた方向に長いスリットによ
り構成され、上記副走査方向に長いスリットを透過した光の変化に基
づき、偏向光束の結像位置と感光媒体表面とのずれを、
主走査方向につき補正し、上記主走査方向に対して傾いた方向に長いスリットを透
過した光の変化に基づき、上記ずれを、副走査方向につ
き補正することを特徴とする光走査方法。
【請求項３】請求項１記載の光走査方法において、光透過性の検知パターンは、副走査方向に長い辺と、主
走査方向に対して傾いた方向に長い辺とを持つ単一の透
過部により構成され、上記副走査方向に長い辺の部分での透過光の変化に基づ
き、偏向光束の結像位置と感光媒体表面とのずれを、主
走査方向につき補正し、上記主走査方向に対して傾いた方向に長い辺の部分での
透過光の変化に基づき、上記ずれを、副走査方向につき
補正することを特徴とする光走査方法。
【請求項４】請求項１または２または３記載の光走査方
法において、光源から２以上の光束を放射して、複数の走査線を同時
に光走査し、光透過性の検知パターンによる透過光に基づき、走査線
ピッチの検知を行うことを特徴とする光走査方法。
【請求項５】請求項１〜４の任意の１に記載の光走査方
法において、偏向光束の結像位置と感光媒体表面とのずれの補正のた
めの検知を行うときは、感光媒体を静止させることを特
徴とする光走査方法。
【請求項６】請求項４記載の光走査方法において、走査線ピッチの検知を行うときは、感光媒体を静止させ
ることを特徴とする光走査方法。
【請求項７】請求項５記載の光走査方法において、走査光学系に含まれる光偏向器を回転鏡とし、偏向光束の結像位置と感光媒体表面とのずれの補正のた
めの検知を行うときは、上記回転鏡の回転速度を低速化
することを特徴とする光走査方法。
【請求項８】請求項６記載の光走査方法において、走査光学系に含まれる光偏向器を回転鏡とし、走査線ピッチの検知を行うときは、上記回転鏡の回転速
度を低速化することを特徴とする光走査方法。
【請求項９】請求項１〜７の任意の１に記載の光走査方
法において、走査光学系に含まれる光偏向器を回転２面鏡もしくは回
転多面鏡とし、偏向光束の結像位置と感光媒体表面とのずれの補正のた
めの検知を行うときは、検知を行う１サイクル内に用い
る偏向反射面を同一とすることを特徴とする光走査方
法。
【請求項１０】請求項４または６または８記載の光走査
方法において、走査光学系に含まれる光偏向器を回転２面鏡もしくは回
転多面鏡とし、走査線ピッチの検知を行うときは、検知を行う１サイク
ル内に用いる偏向反射面を同一とすることを特徴とする
光走査方法。
【請求項１１】請求項１〜１０の任意の１に記載の光走
査方法において、光源と光偏向器との間に、主走査方向にのみパワーを有
する第１のシリンドリカルレンズと、副走査方向にのみ
パワーを有する第２のシリンドリカルレンズとを設け、
偏向光束の結像位置と感光媒体表面との主走査方向のず
れの補正を、上記第１のシリンドリカルレンズを光軸方
向へ変位させて行い、副走査方向のずれの補正を、上記
第２のシリンドリカルレンズを光軸方向へ変位させて行
うことを特徴とする光走査方法。
【請求項１２】光源から放射される２以上の光束を、走
査光学系により偏向させ、且つ、感光媒体上に１以上の
光スポットとして形成し、２以上の走査線を光走査する
光走査方法において、感光媒体の画像形成領域外に、上記感光媒体の一部とし
て形成され、走査線ピッチを検知するための光透過性の
検知パターンを、各偏向光束により走査し、上記検知パ
ターンによる透過光の変化を検出し、検出結果に基づ
き、走査線ピッチを検知することを特徴とする光走査方
法。
【請求項１３】光源から放射される１以上の光束を、走
査光学系により偏向させ、且つ、感光媒体上に１以上の
光スポットとして形成し、１以上の走査線を光走査する
光走査装置において、上記光源からの光束の結像位置を、主走査方向と副走査
方向に独立に調整する調整手段を設け、感光媒体の画像形成領域外に、偏向光束の主走査方向お
よび副走査方方向の結像位置と感光媒体表面とのずれを
検知するための光透過性の検知パターンを、感光媒体の
一部として、偏向光束により光走査可能に設けるととも
に、上記検知パターンを透過した光束を受光する受光手段を
設け、この受光手段の出力に基づき、偏向光束が、主走査方向
および副走査方向において、感光媒体表面上に結像する
ように、制御手段により上記調整手段を制御するように
したことを特徴とする光走査装置。
【請求項１４】請求項１３記載の光走査装置において、光透過性の検知パターンが、副走査方向に長いスリット
と、主走査方向に対して傾いた方向に長いスリットによ
り構成されたことを特徴とする光走査装置。
【請求項１５】請求項１３記載の光走査装置において、光透過性の検知パターンが、副走査方向に長い辺と、主
走査方向に対して傾いた方向に長い辺とを持つ単一の透
過部により構成されたことを特徴とする光走査装置。
【請求項１６】請求項１３または１４または１５記載の
光走査装置において、光源が２以上の光束を放射するものであり、上記制御手段が、走査線ピッチを検知する機能を有する
ことを特徴とする光走査装置。
【請求項１７】請求項１６記載の光走査装置において、走査線ピッチを調整する走査線ピッチ調整手段を有し、制御手段が、検知した走査線ピッチに応じて、走査線ピ
ッチ調整手段を制御して、走査線ピッチの補正を行う機
能を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項１８】請求項１３〜１７の任意の１に記載の光
走査装置において、光源からの光束の結像位置を、主走査方向と副走査方向
に独立に調整する調整手段が、上記光源と光偏向器との間に設けられ、主走査方向にの
みパワーを有する第１のシリンドリカルレンズおよび副
走査方向にのみパワーを有する第２のシリンドリカルレ
ンズと、これら第１および第２のシリンドリカルレンズ
を独立して光軸方向へ変位させる変位手段とを有するこ
とを特徴とする光走査装置。
【請求項１９】光源から放射される２以上の光束を、走
査光学系により偏向させ、且つ、感光媒体上に１以上の
光スポットとして形成し、２以上の走査線を光走査する
光走査装置において、走査線ピッチを調整する走査線ピッチ調整手段を設け、感光媒体の画像形成領域外に、上記感光媒体の一部とし
て、走査線ピッチを検知するための光透過性の検知パタ
ーンを、各偏向光束により走査可能に設けるとともに、
上記検知パターンを透過した光束を受光する受光手段を
設け、この受光手段の出力に基づき、適正な走査線ピッチが得
られるように、走査線ピッチ制御手段により上記走査線
ピッチ調整手段を制御するようにしたことを特徴とする
光走査装置。
【請求項２０】請求項１３〜１８記載の光走査装置に用
いられる感光媒体であって、画像形成領域外に、偏向光束の主走査方向および副走査
方方向の結像位置と感光媒体表面とのずれを検知するた
めの光透過性の検知パターンを、感光媒体の一部とし
て、偏向光束により光走査可能に設けられたことを特徴
とする感光媒体。
【請求項２１】請求項２０記載の感光媒体において、光導電性の感光体であることを特徴とする感光媒体。
【請求項２２】請求項１９記載の光走査装置に用いられ
る感光媒体であって、画像形成領域外に、走査線ピッチを検知するための光透
過性の検知パターンを、感光媒体の一部として、偏向光
束により光走査可能に設けられたことを特徴とする感光
媒体。
【請求項２３】請求項２２記載の感光媒体において、光導電性の感光体であることを特徴とする感光媒体。
【請求項２４】感光媒体の感光面に光走査により潜像を
形成し、この潜像を可視化して所望の画像を形成する画
像形成装置において、感光媒体の光走査を行う光走査装置として、請求項１２
〜１８の任意の１に記載の光走査装置を用いることを特
徴とする画像形成装置。
【請求項２５】請求項２４記載の画像形成装置におい
て、感光媒体が光導電性の感光体であり、静電潜像が、感光
媒体の均一帯電と光走査とにより形成され、トナー画像
として可視化されることを特徴とする画像形成装置。
【請求項２６】感光媒体の感光面に光走査により潜像を
形成し、この潜像を可視化して所望の画像を形成する画
像形成装置において、感光媒体の光走査を行う光走査装置として、請求項１９
記載の光走査装置を用いることを特徴とする画像形成装
置。
【請求項２７】請求項２６記載の画像形成装置におい
て、感光媒体が光導電性の感光体であり、静電潜像が、感光
媒体の均一帯電と光走査とにより形成され、トナー画像
として可視化されることを特徴とする画像形成装置。