JP4708629B2 - 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 - Google Patents

走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 Download PDF

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Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置に関し、特に高速、高記録密度を達成するために光源手段として複数の発光点を有するマルチ半導体レーザを用いて画像形成を行うようにした、例えばレーザビームプリンタやデジタル複写機等の画像形成装置に好適なものである。
【0002】
【従来の技術】
図5は複数の発光点を有する光源手段を用いた従来のマルチビーム走査光学装置の主走査方向の要部断面図(主走査断面図)である。
【0003】
同図において2つの発光点51A,51Bを有するマルチ半導体レーザ51から出射した2つの光束(光ビーム)はコリメータ−レンズ52により略平行光束に変換され、副走査方向にのみ所定の屈折力を有するシリンドリカルレンズ54によって副走査方向にのみ収束される。
【0004】
更に光軸から離れた2つの発光点51A,51Bからたどる光束が異なることから発生する収差の差分が結像性能に影響するため、その影響を極力低減させるための開口絞り53でその光束を整形して光偏向器であるポリゴンミラー55の偏向面(反射面)55c近傍において主走査方向に長く伸びた焦線状に結像する。
【0005】
そして図中矢印55b方向に一定角速度で回転しているポリゴンミラー55によって反射偏向された2つの光束は走査レンズ系56としての2つのfθレンズ56a、56bによって被走査面としての感光ドラム面57上にスポット状に各々集光され、図中矢印57b方向(主走査方向)に一定速度で走査される。
【0006】
このようなマルチビーム走査光学装置においては図6に示すように2つの発光点51A,51Bを副走査方向に直線的に並べて配置してしまうと感光ドラム面上での副走査方向の2つの走査線の間隔が記録密度よりも大幅に間隔が空いてしまうため、通常は図7に示すように2つの発光点51A,51Bを副走査方向に対応する方向に対して傾けて配置し、その傾け角度θを調整することにより、感光ドラム面上での副走査方向の複数の走査線の間隔を記録密度に合わせて正確に調整している。
【0007】
こうすることにより光線束の経路を極力一致させ、より高記録密度を達成することが可能となり、更にポリゴンミラーの駆動モータの回転数を発光点が1つのときに比べて1/2に抑えることができ、充分余裕を持って高速化へ対応することが可能となる。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】
ところで高速で高密度な走査を行うためには画像情報を書き出す時間的制御についても同様に対応が必要である。
【0009】
図5には被走査面上の走査開始位置のタイミングを制御する同期検出手段(BD光学系)58が設けられており、同期信号(BD信号)を検出するための同期検出器(BDセンサー)59と該同期検出器59に同期検出用の光束(BD光束)を導くための同期検出用光学系(BDレンズ)60とが配置されている。
【0010】
前述の如くシリンドリカルレンズ54によって副走査方向にのみ収束光束とされた光束は偏向面58c近傍で主走査方向に伸びた線状の光束とされ、同期検出用光学系60に対して主走査断面内は略平行光束として、副走査断面内は発散光束として入射する。
【0011】
同期検出用光学系60は主走査断面内と副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有しており、該主走査断面内と副走査断面内にそれぞれに対して同期検出器59に集光するよう適したパワーが与えられており、光束は該同期検出器59面上でスポットを形成する。
【0012】
更に電気部品である光源の半導体レーザ51と同期検出器59は、従来別の基板を使った独立した回路構成とされていたが、近年では組立工数の低減や部品点数の削減によるコストダウンのために、該半導体レーザ51と同期検出器59とを同一基板61上に配した工夫がなされている。
【0013】
但し、この場合、同一基板61上に半導体レーザ51と同期検出器59とが配置されることから、その位置合せが重要となってくることは明白である。
【0014】
この位置合せに対しては従来からは、特にマルチビーム光源の場合、該マルチビーム光源を副走査方向のピッチ調整のために光軸周りに回転させることが行われているが、これは同時に同期検出器に対してもその集光位置が回転していくこととなる。
【0015】
つまりマルチビーム光源の回転により移動したスポットを同期検出器に入射させるため、例えば図8に示すようにマルチビーム光源を中心として回転させるような構造がとられていたが、この構造においては回転時に同期検出器から集光点が外れてしまう恐れがあるため移動範囲が十分取れず、また外れた場合には同期検出器かマルチビーム光源の端子の足を曲げるなどして位置そのものをずらす等の作業が必要となり、調整に過大な時間を費やしていた。
【0016】
本発明は光源手段を構成する光源と、該同期検出手段を構成する同期検出器とを同一の基板上に配置した際、その位置関係を良好に保ち、被走査面上への走査開始位置のタイミングの高精度化を可能とする走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置の提供を目的とする。
【0017】
また本発明は位置合せを簡易な方法とし、部品点数の削減やその位置合せに調整に必要な作業時間を短縮することによるコスト削減をも図ることが可能な走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置の提供を目的とする。
【0018】
【課題を解決するための手段】
請求項1の発明の走査光学装置は、複数の発光点を有する光源手段と、前記複数の発光点から射出された複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、前記偏向手段の偏向面により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、前記偏向手段の偏向面により偏向された光束を検知する同期検出器と、前記同期検出器に前記偏向手段の偏向面により偏向された複数の光束を導光する同期検出用光学系と、を備え、前記同期検出器から出力される同期信号を用いて前記被走査面上へ前記偏向手段の偏向面により偏向された複数の光束の画像記録の走査開始位置のタイミングを調整する走査光学装置であって、
前記光源手段と前記同期検出器は、同一の基板上に設けられており、前記基板は、前記入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で、前記複数の発光点の重心位置を回動中心として回動可能な構造であり、前記同期検出用光学系は、前記同期検出用光学系を射出した光束の集光位置が主走査断面内と副走査断面内で一致しないように主走査断面内のパワーと副走査断面内のパワーが異なり、前記基板と一体化されて、前記基板を回転させたときに同期して回転する構造よりなり、前記同期検出器に入射する光束は、前記同期検出器の回転方向に沿うように副走査方向に長い形状をしていることを特徴としている。
【0019】
請求項2の発明は請求項1の発明において、前記同期検出用光学系を通過した光束の主走査断面内の集光位置に副走査方向に長い開口の矩形スリットが設けられており、
前記矩形スリットは前記基板と一体化されており、前記基板を回転させたときに前記矩形スリットが同期して回転する構造としたことを特徴としている。
【0020】
請求項3の発明の画像形成装置は、請求項1又は2に記載の走査光学装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記走査光学装置で走査された光束によって前記感光体の上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴としている。
【0021】
請求項4の発明の画像形成装置は、請求項1又は2に記載の走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータを画像データに変換して前記走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴としている。
【0032】
【発明の実施の形態】
[実施形態1]
図1は本発明の実施形態1の主走査方向の要部断面図(主走査断面図)である。
【0033】
尚、本明細書において偏向手段によって光束(光ビーム)が反射偏向(偏向走査)される方向を主走査方向、走査光学手段の光軸及び主走査方向と直交する方向を副走査方向と定義する。
【0034】
同図において1は光源手段であり、2つの発光点1A,1Bを有するマルチ半導体レーザ(光源)より成っている。この2つの発光点1A,1Bは主走査方向及び副走査方向に対して各々離れて配置されている。
【0035】
2はコリメーターレンズであり、光源手段1から射出した光束を所望の拡がり角に規制している。尚、コリメーターレンズ2で規制される光束は収束光束、発散光束、略平行光束と、必要に応じてその形態がとられるが、ここでは説明を簡単にするために略平行光束としている。
【0036】
4はシリンドリカルレンズであり、副走査方向のみに所定の屈折力を有しており、コリメーターレンズ2で規制された略平行光束を後述するポリゴンミラー5の偏向面5c近傍にて副走査方向に収束(主走査方向に長手の線像)させている。偏向面5c近傍において光源手段1の発光点1Aと発光点1Bから射出した光束の収束点はわずかに副走査方向に間隔をもって結像される。これは被走査面7において既に知られているように2つの光束が副走査方向に走査間隔だけ離れて結像するよう光源であるマルチ半導体レーザ1を光軸周りに回転させてfθレンズ系6の副走査倍率分と合わせて考慮された間隔に配置されているものである。
【0037】
尚、コリメーターレンズ2、シリンドリカルレンズ4等の各要素は入射光学手段21の一要素を構成している。
【0038】
3は開口絞りであり、シリンドリカルレンズ4より出射された2つの光束を所望の最適なビーム形状に成形している。本実施形態における開口絞り3はポリゴンミラー5の近傍、図中では偏向面5cへの入射直前の場所に配置されており、これにより偏向面5cでの光束の不一致を低減し、走査線間での収差の発生度合いを極力差が出ないようにしている。
【0039】
5は偏向手段としての光偏向器であり、例えば回転多面鏡(ポリゴンミラー)より成り、モータ等の駆動手段(不図示)により図中矢印5b方向に一定速度で回転している。
【0040】
6は集光機能とfθ特性を有する走査光学手段(fθレンズ系)であり、第1、第2の2枚の走査レンズ(fθレンズ)6a,6bを有し、該2枚の走査レンズ6a,6bは走査線と同じ平面内の主走査断面とそれと垂直な方向の副走査断面で異なった形状に形成されている。
【0041】
fθレンズ系6は主走査断面内においてはポリゴンミラー5の回転で作られるfθレンズ系6への入射角θに対応した像高で良好なる結像性能が得られるよう、第1、第2のfθレンズ6a、6bともに非球面で形成されている。また副走査断面内についてはポリゴンミラー5の偏向面5c近傍で一旦収束している光束を、同図に示すように被走査面7上にスポットとして形成されるようパワーが配分され、その形状は第2のfθレンズ6bについては主走査方向に沿って曲率が異なるような形状とされ、画角周辺まで結像性能を維持している。
【0042】
また必要に応じて第1、第2のfθレンズ6a、6bのうち少なくとも一方をシフトや傾けなどで光軸Lから偏芯させて使用したり、あるいはfθレンズ系6そのものを主走査方向に沿った方向で非対称とするなどして、主走査方向の両側で異なった最端画角に対応して結像性能が得られるようにすることもできる。
【0043】
またfθレンズ系6はポリゴンミラー5により偏向された2つの光束を感光ドラム面7上にスポット状に結像させ、2本の走査線を形成している。さらにfθレンズ系6は副走査断面内においてポリゴンミラー5の偏向面5a近傍と感光ドラム面7近傍との間を共役関係にすることにより、倒れ補正機能を有している。
【0044】
7は被走査面としての感光ドラム面である。感光ドラム面7はfθレンズ系6の光軸Lに対して副走査方向にαなる角度で光束が入射するよう、該光軸Lからシフトして配置されている。これは感光ドラム面7からの戻り光が発生した場合でも元の光路を辿って光源1に戻らないようにするためである。
【0045】
8は同期検出手段であり、同期検出用光学系(BDレンズ)10と同期同期検出器(BDセンサー)9とを有しており、該同期検出器9で検知して得られた同期信号(BD信号)を用いて感光ドラム面7上への画像記録の走査開始位置のタイミングを調整している。
【0046】
同期検出用光学系10は主走査断面内と副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、該同期検出用光学系10を通過した光束の集光位置が主走査断面内と副走査断面内で一致しないように形成されている。即ち、同期検出用光学系10は主走査断面内と副走査断面内でのパワーが互いに異なっている。また同期検出用光学系10には光束が主走査断面内では略平行光束が入射し、副走査断面内では拡散光束が入射する。
【0047】
本実施形態においては光源1と同期検出器9は同一の基板11上に配置されている。基板11は入射光学手段21の光軸4a方向と垂直な面内で光源1の発光点の重心位置(尚、ここで重心位置とは発光点の一端から他端までの距離の半分の位置のことである。)又はその近傍を回動中心として回動可能な構造であり、また同期検出器9に入射する光束は副走査方向に長い形状と成るようにしている。同期検出用光学系10は基板11と一体構成した筐体13の一部に固定、もしくは基板11と独立に構成している。
【0048】
本実施形態において画像情報に応じてマルチ半導体レーザ1から光変調され出射した2つの光束はコリメーターレンズ2により略平行光束に変換され、シリンドリカルレンズ4に入射する。シリンドリカルレンズ4に入射した光束のうち主走査断面内においてはそのままの状態で出射して開口絞り3を通過する(一部遮光される)。また副走査断面内においては収束して開口絞り3を通過し(一部遮光される)光偏向器5の偏向面5cにほぼ線像(主走査方向に長手の線像)として結像する。そして光偏向器5の偏向面5cで反射偏向された2つの光束は各々走査光学手段6により感光ドラム面7上にスポット状に結像され、該光偏向器5を矢印5b方向に回転させることによって、該感光ドラム面7上を矢印7b方向(主走査方向)に等速度で光走査している。これにより記録媒体である感光ドラム面7上に2本の走査線を同時に形成し、画像記録を行っている
このとき感光ドラム面7上を光走査する前に該感光ドラム面7上の走査開始位置のタイミングを調整する為に、光偏向器5で反射偏向された2つの光束の一部を同期検出用光学系10により同期検出器9に導光している。そして同期検出器9からの出力信号を検知して得られた同期信号(BD信号)を用いて感光ドラム面7上への画像記録の走査開始位置のタイミングを各BD光束毎に調整している。
【0049】
尚、図1は説明を簡便にする為に発光点を2個用いた2ビーム走査光学装置を示しているが、発光点は3つ以上でも良い。
【0050】
次に本実施形態の特徴について図2(A),(B)を用いて説明する。
【0051】
図2(A)は光源1と同期検出器9とを同一基板11上に取り付けた直後の調整前の状態を示しており、図2(B)は調整後(基板11を光源1の2つの発光点1A、1Bの重心位置1c又はその近傍を回動中心として回動させた後)の状態を示している。
【0052】
光源1から出射した2つの光束の一部は光偏向器5を介し同期検出用光学系10により同期検出器9へ向けられているが、該同期検出用光学系10の副走査断面内においては主走査断面内と比較して弱いパワーしか与えられておらず、該同期検出器9においては結像位置に達していない。
【0053】
同期検出用光学系10は主走査断面内(図1の面内)に対して同期検出器9上で光束が結像するようパワーが与えられているので、結果として同期検出器9上では副走査方向に長い形状の光束として存在することとなる。このとき被走査面上における走査線ピッチの間隔を光源1を回転させることによって調整する。
【0054】
基板11の回転は光源1の2つの発光点1A、1Bの重心位置1Cを中心として入射光学手段21の光軸4a周りに回転され、同一基板11に載せられている同期検出器9も同じ方向に同角度回転する。
【0055】
このとき同期検出用光学系10が基板11と一体的に構成されているときは基板11と一体的に回転する。すると同期して図2(B)に示すように光束の状態も(イ)から(ロ)へ変化する。しかしながら光束が回転方向におよそ沿うような細長い形状の光束のため、同期検出器9から光束が外れることはなく、回転による光量の変化の影響も微小なため安定した同期検出が行える。
【0056】
ここで同期検出用光学系10の副走査断面内のパワーは同期検出器9で結像しない弱いパワーとしたが、状況に応じて、逆に副走査断面内のパワーを強くし、主走査断面内の結像位置よりも前に設定して副走査断面内の結像点よりも後ろに同期検出器9を配置しても同様の効果が得られる。
【0057】
この際、同期検出用光学系10としては1面以上のシリンドリカル面や1面以上のトーリック面(トロイダル面)を含むレンズやプリズムで構成することで主走査断面内及び副走査断面内に対して最適な結像位置を与えることができる。
【0058】
また同期検出用光学系10を1面以上の回折面を含む1枚ないし複数枚のレンズ構成とし、この回折面に適宜パワーを配分することにより収差上の有利性や構成枚数の簡略化の利便性などと共に同様の効果が得られる。
【0059】
また同期検出用光学系10を集光又は発散性能を有する面と、主走査方向を軸として傾けた平面からなる光学素子とを有するように構成すれば、射出光束を所定の方向に偏向させることができ、これにより同期検出器9に入射する光束を制限することができる。
【0060】
尚、本実施形態では光源手段を複数の発光点を有するマルチ半導体レーザーより構成したが、単一の発光点を有する半導体レーザ(光源)より構成しても本発明は実施形態1と同様に適用することができる。このときは光源と同期検出器とを配置した基板を光源の位置又はその近傍を回動中心として回動させれば良い。
【0061】
また本実施形態においてはコリメーターレンズ2とシリンドリカルレンズ4等を用いずに、光源手段1からの光束を直接開口絞り3を介して光偏向器5に導光しても良い。
【0062】
また本実施形態においては走査光学手段を2枚のレンズより構成したが、これに限らず、例えば単一、もしくは3枚以上のレンズより構成しても良い。
【0063】
[実施形態2]
図3(A),(B)は各々本発明の実施形態2の主要部分の要部断面図である。図3(A),(B)において図2に示した要素と同一要素には同一符番を付している。
【0064】
本実施形態において前述の実施形態1と異なる点は、光源1の重心位置1cを回転軸とし、その周りに回転する基板11と同期して回転する同期検出器9の前方に主走査方向の光束を制限する矩形スリット(絞り)12を配置したことである。その他の構成および光学的作用は実施形態1と略同様であり、これにより同様な効果を得ている。
【0065】
即ち、同図において12は副走査方向に長い開口の矩形スリット(絞り)であり、同期検出用光学系(不図示)を通過した光束の主走査断面内の集光位置に配置され、基板11を回転させたときに同期して回転する構造より成っている。
【0066】
本実施形態では上記の如く同期検出用光学系の主走査断面内の結像位置に絞り12を配置し、主走査断面内での所謂BD信号の切れを良くしたものである。
【0067】
つまり副走査方向に長い開口の矩形スリット12を配置して、主走査方向に走査される光束のうち、利用されるのは該矩形スリット12をよぎった間の時間のみであるので、該矩形スリット12を置いていない設定に比べて常にBD光束を受光する時間が一定化され、より確実な同期検出が可能となる。
【0068】
しかも光源1と同期検出器9が載っている基板11と一体化して回転するため回転により位置関係がずれてしまうこともない。またこの際にも同期検出器9に入射する光束は副走査方向に長い形状としているため、前述のような基板11の回転を行っても光束を見失うことはない。
【0069】
[画像形成装置]
図4は、前述した実施形態1又は2の走査光学装置を用いた画像形成装置(電子写真プリンタ)の実施形態を示す副走査断面内における要部断面図である。図4において、符号104は画像形成装置を示す。この画像形成装置104には、パーソナルコンピュータ等の外部機器117からコードデータDcが入力する。このコードデータDcは、装置内のプリンタコントローラ111によって、画像データ(ドットデータ)Diに変換される。この画像データDiは、各実施形態1、2で示した構成を有する光走査ユニット100に入力される。そして、この光走査ユニット(走査光学装置)100からは、画像データDiに応じて変調された光ビーム(光束)103が射出され、この光ビーム103によって感光ドラム101の感光面が主走査方向に走査される。
【0070】
静電潜像担持体(感光体)たる感光ドラム101は、モータ115によって時計廻りに回転させられる。そして、この回転に伴って、感光ドラム101の感光面が光ビーム103に対して、主走査方向と直交する副走査方向に移動する。感光ドラム101の上方には、感光ドラム101の表面を一様に帯電せしめる帯電ローラ102が表面に当接するように設けられている。そして、帯電ローラ102によって帯電された感光ドラム101の表面に、前記光走査ユニット100によって走査される光ビーム103が照射されるようになっている。
【0071】
先に説明したように、光ビーム103は、画像データDiに基づいて変調されており、この光ビーム103を照射することによって感光ドラム101の表面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光ビーム103の照射位置よりもさらに感光ドラム101の回転断面内における下流側で感光ドラム101に当接するように配設された現像器107によってトナー像として現像される。
【0072】
現像器107によって現像されたトナー像は、感光ドラム101の下方で、感光ドラム101に対向するように配設された転写ローラ(転写器)108によって被転写材たる用紙112上に転写される。用紙112は感光ドラム101の前方(図4において右側)の用紙カセット109内に収納されているが、手差しでも給紙が可能である。用紙カセット109端部には、給紙ローラ110が配設されており、用紙カセット109内の用紙112を搬送路へ送り込む。
【0073】
以上のようにして、未定着トナー像を転写された用紙112はさらに感光ドラム101後方(図4において左側)の定着器へと搬送される。定着器は内部に定着ヒータ(図示せず)を有する定着ローラ113とこの定着ローラ113に圧接するように配設された加圧ローラ114とで構成されており、転写部から撒送されてきた用紙112を定着ローラ113と加圧ローラ114の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙112上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ローラ113の後方には排紙ローラ116が配設されており、定着された用紙112を画像形成装置の外に排出せしめる。
【0074】
図4においては図示していないが、プリントコントローラ111は、先に説明したデータの変換だけでなく、モータ115を始め画像形成装置内の各部や、光走査ユニット100内のポリゴンモータなどの制御を行う。
【0075】
【発明の効果】
本発明によれば前述の如く光源手段を構成する光源と、同期検出手段を構成する同期検出器とを同一の基板上に設け、該基板を入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で回動可能な構造とし、同期検出器に入射する光束を副走査方向に長い形状と成るように構成することにより、簡単な位置合わせでも高精度な同期検出が可能となり、これにより高密度化された高性能な走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置を達成することができる。
【0076】
更に本発明によれば前述の如く複雑な、または微妙な調整も必要ないため、組立時の工数が大幅に短縮され、これにより低コストに対して優れた走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置を達成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施形態1の走査光学装置の主走査断面図
【図2】 (A)は本発明の実施形態1の光源と同期検出素子とを同一基板に配置したときの図、(B)は基板を回転させたときの図
【図3】 本発明の実施形態2の説明図であり、(A)は光源と同期検出素子とを同一基板に配置したときの図、(B)は基板を回転させたときの図
【図4】 本発明の走査光学装置を用いた画像形成装置(電子写真プリンタ)の構成例を示す副走査断面図
【図5】 従来の走査光学装置の主走査断面図
【図6】 2つの発光点を副走査方向に直線的に並べて配置した図
【図7】 2つの発光点を副走査方向に対応する方向に対して傾けて配置した図
【図8】 マルチビーム光源を中心として回転させたときの図
【符号の説明】
1 光源手段(半導体レーザ)
2 コリメーターレンズ
3 絞り
4 シリンドリカルレンズ
5 偏向手段(ポリゴンミラー)
6 走査光学手段(fθレンズ系)
7 被走査面
8 同期検出手段
9 同期検出器
10 同期検出用光学系
11 基板
13 筐体
21 入射光学手段
100 走査光学装置
101 感光ドラム
102 帯電ローラ
103 光ビーム
104 画像形成装置
107 現像装置
108 転写ローラ
109 用紙カセット
110 給紙ローラ
111 プリンタコントローラ
112 転写材(用紙)
113 定着ローラ
114 加圧ローラ
115 モータ
116 排紙ローラ
117 外部機器

Claims (4)

  1. 複数の発光点を有する光源手段と、前記複数の発光点から射出された複数の光束を偏向手段に導光する入射光学手段と、前記偏向手段の偏向面により偏向された複数の光束を被走査面上に結像させる走査光学手段と、前記偏向手段の偏向面により偏向された光束を検知する同期検出器と、前記同期検出器に前記偏向手段の偏向面により偏向された複数の光束を導光する同期検出用光学系と、を備え、前記同期検出器から出力される同期信号を用いて前記被走査面上へ前記偏向手段の偏向面により偏向された複数の光束の画像記録の走査開始位置のタイミングを調整する走査光学装置であって、
    前記光源手段と前記同期検出器は、同一の基板上に設けられており、前記基板は、前記入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で、前記複数の発光点の重心位置を回動中心として回動可能な構造であり、前記同期検出用光学系は、前記同期検出用光学系を射出した光束の集光位置が主走査断面内と副走査断面内で一致しないように主走査断面内のパワーと副走査断面内のパワーが異なり、前記基板と一体化されて、前記基板を回転させたときに同期して回転する構造よりなり、前記同期検出器に入射する光束は、前記同期検出器の回転方向に沿うように副走査方向に長い形状をしていることを特徴とする走査光学装置。
  2. 前記同期検出用光学系を通過した光束の主走査断面内の集光位置に副走査方向に長い開口の矩形スリットが設けられており、
    前記矩形スリットは前記基板と一体化されており、前記基板を回転させたときに前記矩形スリットが同期して回転する構造としたことを特徴とする請求項1に記載の走査光学装置。
  3. 請求項1又は2に記載の走査光学装置と、前記被走査面に配置された感光体と、前記走査光学装置で走査された光束によって前記感光体の上に形成された静電潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特徴とする画像形成装置。
  4. 請求項1又は2に記載の走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータを画像データに変換して前記走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラとを有していることを特徴とする画像形成装置。
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