JP2003075750A - 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 - Google Patents
走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な位置合わせでも高精度な同期検出が可
能で、かつ高密度化された高性能な走査光学装置及びそ
れを用いた画像形成装置を得ること。 【解決手段】 光源手段１から射出された光束を入射光
学手段２１を介して偏向手段５に導光し、偏向手段によ
り偏向された光束を走査光学手段６により被走査面７上
に導光し、被走査面上の光走査を、被走査面上に入射す
る光束の一部を同期検出用光学系１０で同期検出手段８
に導き、同期検出手段で得た同期信号を用いて行う際、
光源手段を構成する光源と、同期検出手段を構成する同
期検出器とは同一の基板１１上に設けられており、基板
は入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で回動可能な構
造であり、同期検出器に入射する光束は副走査方向に長
い形状をしていること。
能で、かつ高密度化された高性能な走査光学装置及びそ
れを用いた画像形成装置を得ること。 【解決手段】 光源手段１から射出された光束を入射光
学手段２１を介して偏向手段５に導光し、偏向手段によ
り偏向された光束を走査光学手段６により被走査面７上
に導光し、被走査面上の光走査を、被走査面上に入射す
る光束の一部を同期検出用光学系１０で同期検出手段８
に導き、同期検出手段で得た同期信号を用いて行う際、
光源手段を構成する光源と、同期検出手段を構成する同
期検出器とは同一の基板１１上に設けられており、基板
は入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で回動可能な構
造であり、同期検出器に入射する光束は副走査方向に長
い形状をしていること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は走査光学装置及びそ
れを用いた画像形成装置に関し、特に高速、高記録密度
を達成するために光源手段として複数の発光点を有する
マルチ半導体レーザを用いて画像形成を行うようにし
た、例えばレーザビームプリンタやデジタル複写機等の
画像形成装置に好適なものである。
れを用いた画像形成装置に関し、特に高速、高記録密度
を達成するために光源手段として複数の発光点を有する
マルチ半導体レーザを用いて画像形成を行うようにし
た、例えばレーザビームプリンタやデジタル複写機等の
画像形成装置に好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】図５は複数の発光点を有する光源手段を
用いた従来のマルチビーム走査光学装置の主走査方向の
要部断面図（主走査断面図）である。
用いた従来のマルチビーム走査光学装置の主走査方向の
要部断面図（主走査断面図）である。
【０００３】同図において２つの発光点５１Ａ，５１Ｂ
を有するマルチ半導体レーザ５１から出射した２つの光
束（光ビーム）はコリメータ−レンズ５２により略平行
光束に変換され、副走査方向にのみ所定の屈折力を有す
るシリンドリカルレンズ５４によって副走査方向にのみ
収束される。
を有するマルチ半導体レーザ５１から出射した２つの光
束（光ビーム）はコリメータ−レンズ５２により略平行
光束に変換され、副走査方向にのみ所定の屈折力を有す
るシリンドリカルレンズ５４によって副走査方向にのみ
収束される。
【０００４】更に光軸から離れた２つの発光点５１Ａ，
５１Ｂからたどる光束が異なることから発生する収差の
差分が結像性能に影響するため、その影響を極力低減さ
せるための開口絞り５３でその光束を整形して光偏向器
であるポリゴンミラー５５の偏向面（反射面）５５ｃ近
傍において主走査方向に長く伸びた焦線状に結像する。
５１Ｂからたどる光束が異なることから発生する収差の
差分が結像性能に影響するため、その影響を極力低減さ
せるための開口絞り５３でその光束を整形して光偏向器
であるポリゴンミラー５５の偏向面（反射面）５５ｃ近
傍において主走査方向に長く伸びた焦線状に結像する。
【０００５】そして図中矢印５５ｂ方向に一定角速度で
回転しているポリゴンミラー５５によって反射偏向され
た２つの光束は走査レンズ系５６としての２つのｆθレ
ンズ５６ａ、５６ｂによって被走査面としての感光ドラ
ム面５７上にスポット状に各々集光され、図中矢印５７
ｂ方向（主走査方向）に一定速度で走査される。
回転しているポリゴンミラー５５によって反射偏向され
た２つの光束は走査レンズ系５６としての２つのｆθレ
ンズ５６ａ、５６ｂによって被走査面としての感光ドラ
ム面５７上にスポット状に各々集光され、図中矢印５７
ｂ方向（主走査方向）に一定速度で走査される。
【０００６】このようなマルチビーム走査光学装置にお
いては図６に示すように２つの発光点５１Ａ，５１Ｂを
副走査方向に直線的に並べて配置してしまうと感光ドラ
ム面上での副走査方向の２つの走査線の間隔が記録密度
よりも大幅に間隔が空いてしまうため、通常は図７に示
すように２つの発光点５１Ａ，５１Ｂを副走査方向に対
応する方向に対して傾けて配置し、その傾け角度θを調
整することにより、感光ドラム面上での副走査方向の複
数の走査線の間隔を記録密度に合わせて正確に調整して
いる。
いては図６に示すように２つの発光点５１Ａ，５１Ｂを
副走査方向に直線的に並べて配置してしまうと感光ドラ
ム面上での副走査方向の２つの走査線の間隔が記録密度
よりも大幅に間隔が空いてしまうため、通常は図７に示
すように２つの発光点５１Ａ，５１Ｂを副走査方向に対
応する方向に対して傾けて配置し、その傾け角度θを調
整することにより、感光ドラム面上での副走査方向の複
数の走査線の間隔を記録密度に合わせて正確に調整して
いる。
【０００７】こうすることにより光線束の経路を極力一
致させ、より高記録密度を達成することが可能となり、
更にポリゴンミラーの駆動モータの回転数を発光点が１
つのときに比べて１／２に抑えることができ、充分余裕
を持って高速化へ対応することが可能となる。
致させ、より高記録密度を達成することが可能となり、
更にポリゴンミラーの駆動モータの回転数を発光点が１
つのときに比べて１／２に抑えることができ、充分余裕
を持って高速化へ対応することが可能となる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで高速で高密度
な走査を行うためには画像情報を書き出す時間的制御に
ついても同様に対応が必要である。
な走査を行うためには画像情報を書き出す時間的制御に
ついても同様に対応が必要である。
【０００９】図５には被走査面上の走査開始位置のタイ
ミングを制御する同期検出手段（ＢＤ光学系）５８が設
けられており、同期信号（ＢＤ信号）を検出するための
同期検出器（ＢＤセンサー）５９と該同期検出器５９に
同期検出用の光束（ＢＤ光束）を導くための同期検出用
光学系（ＢＤレンズ）６０とが配置されている。
ミングを制御する同期検出手段（ＢＤ光学系）５８が設
けられており、同期信号（ＢＤ信号）を検出するための
同期検出器（ＢＤセンサー）５９と該同期検出器５９に
同期検出用の光束（ＢＤ光束）を導くための同期検出用
光学系（ＢＤレンズ）６０とが配置されている。
【００１０】前述の如くシリンドリカルレンズ５４によ
って副走査方向にのみ収束光束とされた光束は偏向面５
８ｃ近傍で主走査方向に伸びた線状の光束とされ、同期
検出用光学系６０に対して主走査断面内は略平行光束と
して、副走査断面内は発散光束として入射する。
って副走査方向にのみ収束光束とされた光束は偏向面５
８ｃ近傍で主走査方向に伸びた線状の光束とされ、同期
検出用光学系６０に対して主走査断面内は略平行光束と
して、副走査断面内は発散光束として入射する。
【００１１】同期検出用光学系６０は主走査断面内と副
走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有しており、
該主走査断面内と副走査断面内にそれぞれに対して同期
検出器５９に集光するよう適したパワーが与えられてお
り、光束は該同期検出器５９面上でスポットを形成す
る。
走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有しており、
該主走査断面内と副走査断面内にそれぞれに対して同期
検出器５９に集光するよう適したパワーが与えられてお
り、光束は該同期検出器５９面上でスポットを形成す
る。
【００１２】更に電気部品である光源の半導体レーザ５
１と同期検出器５９は、従来別の基板を使った独立した
回路構成とされていたが、近年では組立工数の低減や部
品点数の削減によるコストダウンのために、該半導体レ
ーザ５１と同期検出器５９とを同一基板６１上に配した
工夫がなされている。
１と同期検出器５９は、従来別の基板を使った独立した
回路構成とされていたが、近年では組立工数の低減や部
品点数の削減によるコストダウンのために、該半導体レ
ーザ５１と同期検出器５９とを同一基板６１上に配した
工夫がなされている。
【００１３】但し、この場合、同一基板６１上に半導体
レーザ５１と同期検出器５９とが配置されることから、
その位置合せが重要となってくることは明白である。
レーザ５１と同期検出器５９とが配置されることから、
その位置合せが重要となってくることは明白である。
【００１４】この位置合せに対しては従来からは、特に
マルチビーム光源の場合、該マルチビーム光源を副走査
方向のピッチ調整のために光軸周りに回転させることが
行われているが、これは同時に同期検出器に対してもそ
の集光位置が回転していくこととなる。
マルチビーム光源の場合、該マルチビーム光源を副走査
方向のピッチ調整のために光軸周りに回転させることが
行われているが、これは同時に同期検出器に対してもそ
の集光位置が回転していくこととなる。
【００１５】つまりマルチビーム光源の回転により移動
したスポットを同期検出器に入射させるため、例えば図
８に示すようにマルチビーム光源を中心として回転させ
るような構造がとられていたが、この構造においては回
転時に同期検出器から集光点が外れてしまう恐れがある
ため移動範囲が十分取れず、また外れた場合には同期検
出器かマルチビーム光源の端子の足を曲げるなどして位
置そのものをずらす等の作業が必要となり、調整に過大
な時間を費やしていた。
したスポットを同期検出器に入射させるため、例えば図
８に示すようにマルチビーム光源を中心として回転させ
るような構造がとられていたが、この構造においては回
転時に同期検出器から集光点が外れてしまう恐れがある
ため移動範囲が十分取れず、また外れた場合には同期検
出器かマルチビーム光源の端子の足を曲げるなどして位
置そのものをずらす等の作業が必要となり、調整に過大
な時間を費やしていた。
【００１６】本発明は光源手段を構成する光源と、該同
期検出手段を構成する同期検出器とを同一の基板上に配
置した際、その位置関係を良好に保ち、被走査面上への
走査開始位置のタイミングの高精度化を可能とする走査
光学装置及びそれを用いた画像形成装置の提供を目的と
する。
期検出手段を構成する同期検出器とを同一の基板上に配
置した際、その位置関係を良好に保ち、被走査面上への
走査開始位置のタイミングの高精度化を可能とする走査
光学装置及びそれを用いた画像形成装置の提供を目的と
する。
【００１７】また本発明は位置合せを簡易な方法とし、
部品点数の削減やその位置合せに調整に必要な作業時間
を短縮することによるコスト削減をも図ることが可能な
走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置の提供を目
的とする。
部品点数の削減やその位置合せに調整に必要な作業時間
を短縮することによるコスト削減をも図ることが可能な
走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置の提供を目
的とする。
【００１８】
【課題を解決するための手段】請求項１の発明の走査光
学装置は、光源手段から射出された光束を入射光学手段
を介して偏向手段に導光し、該偏向手段により偏向され
た光束を走査光学手段により被走査面上に導光し、該被
走査面上の光走査を、該被走査面上に入射する光束の一
部を同期検出用光学系を含む同期検出手段に導き、該同
期検出手段で得た同期信号を用いて行う走査光学装置に
おいて、該光源手段を構成する光源と、該同期検出手段
を構成する同期検出器とは同一の基板上に設けられてお
り、該基板は該入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で
回動可能な構造であり、該同期検出器に入射する光束は
副走査方向に長い形状をしていることを特徴としてい
る。
学装置は、光源手段から射出された光束を入射光学手段
を介して偏向手段に導光し、該偏向手段により偏向され
た光束を走査光学手段により被走査面上に導光し、該被
走査面上の光走査を、該被走査面上に入射する光束の一
部を同期検出用光学系を含む同期検出手段に導き、該同
期検出手段で得た同期信号を用いて行う走査光学装置に
おいて、該光源手段を構成する光源と、該同期検出手段
を構成する同期検出器とは同一の基板上に設けられてお
り、該基板は該入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で
回動可能な構造であり、該同期検出器に入射する光束は
副走査方向に長い形状をしていることを特徴としてい
る。
【００１９】請求項２の発明は請求項１の発明におい
て、前記基板は前記光源の位置又はその近傍を回動中心
として回動可能な構造であることを特徴としている。
て、前記基板は前記光源の位置又はその近傍を回動中心
として回動可能な構造であることを特徴としている。
【００２０】請求項３の発明の走査光学装置は、複数の
発光点を有する光源手段から射出された複数の光束を入
射光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段によ
り偏向された複数の光束を走査光学手段により被走査面
上に導光し、該被走査面上の光走査を、該被走査面上に
入射する複数の光束の一部を同期検出用光学系を含む同
期検出手段に導き、該同期検出手段で得た同期信号を用
いて行う走査光学装置において、該光源手段の複数の発
光点のうち１以上を含む光源と、該同期検出手段を構成
する同期検出器とは同一の基板上に設けられており、該
基板は該入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で回動可
能な構造であり、該同期検出器に入射する光束は副走査
方向に長い形状をしていることを特徴としている。
発光点を有する光源手段から射出された複数の光束を入
射光学手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段によ
り偏向された複数の光束を走査光学手段により被走査面
上に導光し、該被走査面上の光走査を、該被走査面上に
入射する複数の光束の一部を同期検出用光学系を含む同
期検出手段に導き、該同期検出手段で得た同期信号を用
いて行う走査光学装置において、該光源手段の複数の発
光点のうち１以上を含む光源と、該同期検出手段を構成
する同期検出器とは同一の基板上に設けられており、該
基板は該入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で回動可
能な構造であり、該同期検出器に入射する光束は副走査
方向に長い形状をしていることを特徴としている。
【００２１】請求項４の発明は請求項２の発明におい
て、前記基板は前記光源の発光点の重心位置又はその近
傍を回動中心として回動可能な構造であることを特徴と
している。
て、前記基板は前記光源の発光点の重心位置又はその近
傍を回動中心として回動可能な構造であることを特徴と
している。
【００２２】請求項５の発明は請求項１、２、３又は４
の発明において、前記同期検出用光学系は主走査断面内
と副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、該
同期検出用光学系を射出した光束の集光位置が主走査断
面内と副走査断面内で一致しないことを特徴としてい
る。
の発明において、前記同期検出用光学系は主走査断面内
と副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、該
同期検出用光学系を射出した光束の集光位置が主走査断
面内と副走査断面内で一致しないことを特徴としてい
る。
【００２３】請求項６の発明は請求項１、２、３又は４
の発明において、前記同期検出用光学系は主走査断面内
と副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、一
面以上の回折面を含むことを特徴としている。
の発明において、前記同期検出用光学系は主走査断面内
と副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、一
面以上の回折面を含むことを特徴としている。
【００２４】請求項７の発明は請求項１、２、３又は４
の発明において、前記同期検出用光学系は主走査断面内
と副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、一
面以上のシリンドリカル面を有することを特徴としてい
る。
の発明において、前記同期検出用光学系は主走査断面内
と副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、一
面以上のシリンドリカル面を有することを特徴としてい
る。
【００２５】請求項８の発明は請求項１、２、３又は４
の発明において、前記同期検出用光学系は主走査断面内
と副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、一
面以上のトーリック面を有することを特徴としている。
の発明において、前記同期検出用光学系は主走査断面内
と副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、一
面以上のトーリック面を有することを特徴としている。
【００２６】請求項９の発明は請求項１、２、３又は４
の発明において、前記同期検出用光学系において、集光
または発散性能を有する面と、主走査方向を軸として傾
けた平面からなる光学素子を有することを特徴としてい
る。
の発明において、前記同期検出用光学系において、集光
または発散性能を有する面と、主走査方向を軸として傾
けた平面からなる光学素子を有することを特徴としてい
る。
【００２７】請求項１０の発明は請求項１乃至９の何れ
か１項の発明において、前記同期検出用光学系を通過し
た光束の主走査断面内の集光位置に、副走査方向に長い
開口の矩形スリットを配し、前記基板を回転させたとき
に該矩形スリットが同期して回転する構造としたことを
特徴としている。
か１項の発明において、前記同期検出用光学系を通過し
た光束の主走査断面内の集光位置に、副走査方向に長い
開口の矩形スリットを配し、前記基板を回転させたとき
に該矩形スリットが同期して回転する構造としたことを
特徴としている。
【００２８】請求項１１の発明は請求項１乃至１０の何
れか１項の発明において、前記同期検出用光学系は前記
基板と一体構成した筐体の一部に固定された構造とした
ことを特徴としている。
れか１項の発明において、前記同期検出用光学系は前記
基板と一体構成した筐体の一部に固定された構造とした
ことを特徴としている。
【００２９】請求項１２の発明は請求項１乃至１０の何
れか１項の発明において、前記同期検出用光学系は前記
基板に対して独立した構造としたことを特徴としてい
る。
れか１項の発明において、前記同期検出用光学系は前記
基板に対して独立した構造としたことを特徴としてい
る。
【００３０】請求項１３の発明の画像形成装置は、請求
項１乃至１２の何れか１項に記載の走査光学装置と、前
記被走査面に配置された感光体と、前記走査光学装置で
走査された光束によって前記感光体上に形成された静電
潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたト
ナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナ
ー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特
徴としている。
項１乃至１２の何れか１項に記載の走査光学装置と、前
記被走査面に配置された感光体と、前記走査光学装置で
走査された光束によって前記感光体上に形成された静電
潜像をトナー像として現像する現像器と、現像されたト
ナー像を被転写材に転写する転写器と、転写されたトナ
ー像を被転写材に定着させる定着器とを有することを特
徴としている。
【００３１】請求項１４の発明の画像形成装置は、請求
項１乃至１２の何れか１項に記載の走査光学装置と、外
部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して
前記走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラ
とを有していることを特徴としている。
項１乃至１２の何れか１項に記載の走査光学装置と、外
部機器から入力したコードデータを画像信号に変換して
前記走査光学装置に入力せしめるプリンタコントローラ
とを有していることを特徴としている。
【００３２】
【発明の実施の形態】［実施形態１］図１は本発明の実
施形態１の主走査方向の要部断面図(主走査断面図)であ
る。
施形態１の主走査方向の要部断面図(主走査断面図)であ
る。
【００３３】尚、本明細書において偏向手段によって光
束（光ビーム）が反射偏向（偏向走査）される方向を主
走査方向、走査光学手段の光軸及び主走査方向と直交す
る方向を副走査方向と定義する。
束（光ビーム）が反射偏向（偏向走査）される方向を主
走査方向、走査光学手段の光軸及び主走査方向と直交す
る方向を副走査方向と定義する。
【００３４】同図において１は光源手段であり、２つの
発光点１Ａ，１Ｂを有するマルチ半導体レーザ（光源）
より成っている。この２つの発光点１Ａ，１Ｂは主走査
方向及び副走査方向に対して各々離れて配置されてい
る。
発光点１Ａ，１Ｂを有するマルチ半導体レーザ（光源）
より成っている。この２つの発光点１Ａ，１Ｂは主走査
方向及び副走査方向に対して各々離れて配置されてい
る。
【００３５】２はコリメーターレンズであり、光源手段
１から射出した光束を所望の拡がり角に規制している。
尚、コリメーターレンズ２で規制される光束は収束光
束、発散光束、略平行光束と、必要に応じてその形態が
とられるが、ここでは説明を簡単にするために略平行光
束としている。
１から射出した光束を所望の拡がり角に規制している。
尚、コリメーターレンズ２で規制される光束は収束光
束、発散光束、略平行光束と、必要に応じてその形態が
とられるが、ここでは説明を簡単にするために略平行光
束としている。
【００３６】４はシリンドリカルレンズであり、副走査
方向のみに所定の屈折力を有しており、コリメーターレ
ンズ２で規制された略平行光束を後述するポリゴンミラ
ー５の偏向面５ｃ近傍にて副走査方向に収束（主走査方
向に長手の線像）させている。偏向面５ｃ近傍において
光源手段１の発光点１Ａと発光点１Ｂから射出した光束
の収束点はわずかに副走査方向に間隔をもって結像され
る。これは被走査面７において既に知られているように
２つの光束が副走査方向に走査間隔だけ離れて結像する
よう光源であるマルチ半導体レーザ１を光軸周りに回転
させてｆθレンズ系６の副走査倍率分と合わせて考慮さ
れた間隔に配置されているものである。
方向のみに所定の屈折力を有しており、コリメーターレ
ンズ２で規制された略平行光束を後述するポリゴンミラ
ー５の偏向面５ｃ近傍にて副走査方向に収束（主走査方
向に長手の線像）させている。偏向面５ｃ近傍において
光源手段１の発光点１Ａと発光点１Ｂから射出した光束
の収束点はわずかに副走査方向に間隔をもって結像され
る。これは被走査面７において既に知られているように
２つの光束が副走査方向に走査間隔だけ離れて結像する
よう光源であるマルチ半導体レーザ１を光軸周りに回転
させてｆθレンズ系６の副走査倍率分と合わせて考慮さ
れた間隔に配置されているものである。
【００３７】尚、コリメーターレンズ２、シリンドリカ
ルレンズ４等の各要素は入射光学手段２１の一要素を構
成している。
ルレンズ４等の各要素は入射光学手段２１の一要素を構
成している。
【００３８】３は開口絞りであり、シリンドリカルレン
ズ４より出射された２つの光束を所望の最適なビーム形
状に成形している。本実施形態における開口絞り３はポ
リゴンミラー５の近傍、図中では偏向面５ｃへの入射直
前の場所に配置されており、これにより偏向面５ｃでの
光束の不一致を低減し、走査線間での収差の発生度合い
を極力差が出ないようにしている。
ズ４より出射された２つの光束を所望の最適なビーム形
状に成形している。本実施形態における開口絞り３はポ
リゴンミラー５の近傍、図中では偏向面５ｃへの入射直
前の場所に配置されており、これにより偏向面５ｃでの
光束の不一致を低減し、走査線間での収差の発生度合い
を極力差が出ないようにしている。
【００３９】５は偏向手段としての光偏向器であり、例
えば回転多面鏡（ポリゴンミラー）より成り、モータ等
の駆動手段（不図示）により図中矢印５ｂ方向に一定速
度で回転している。
えば回転多面鏡（ポリゴンミラー）より成り、モータ等
の駆動手段（不図示）により図中矢印５ｂ方向に一定速
度で回転している。
【００４０】６は集光機能とｆθ特性を有する走査光学
手段（ｆθレンズ系）であり、第１、第２の２枚の走査
レンズ（ｆθレンズ）６ａ，６ｂを有し、該２枚の走査
レンズ６ａ，６ｂは走査線と同じ平面内の主走査断面と
それと垂直な方向の副走査断面で異なった形状に形成さ
れている。
手段（ｆθレンズ系）であり、第１、第２の２枚の走査
レンズ（ｆθレンズ）６ａ，６ｂを有し、該２枚の走査
レンズ６ａ，６ｂは走査線と同じ平面内の主走査断面と
それと垂直な方向の副走査断面で異なった形状に形成さ
れている。
【００４１】ｆθレンズ系６は主走査断面内においては
ポリゴンミラー５の回転で作られるｆθレンズ系６への
入射角θに対応した像高で良好なる結像性能が得られる
よう、第１、第２のｆθレンズ６ａ、６ｂともに非球面
で形成されている。また副走査断面内についてはポリゴ
ンミラー５の偏向面５ｃ近傍で一旦収束している光束
を、同図に示すように被走査面７上にスポットとして形
成されるようパワーが配分され、その形状は第２のｆθ
レンズ６ｂについては主走査方向に沿って曲率が異なる
ような形状とされ、画角周辺まで結像性能を維持してい
る。
ポリゴンミラー５の回転で作られるｆθレンズ系６への
入射角θに対応した像高で良好なる結像性能が得られる
よう、第１、第２のｆθレンズ６ａ、６ｂともに非球面
で形成されている。また副走査断面内についてはポリゴ
ンミラー５の偏向面５ｃ近傍で一旦収束している光束
を、同図に示すように被走査面７上にスポットとして形
成されるようパワーが配分され、その形状は第２のｆθ
レンズ６ｂについては主走査方向に沿って曲率が異なる
ような形状とされ、画角周辺まで結像性能を維持してい
る。
【００４２】また必要に応じて第１、第２のｆθレンズ
６ａ、６ｂのうち少なくとも一方をシフトや傾けなどで
光軸Ｌから偏芯させて使用したり、あるいはｆθレンズ
系６そのものを主走査方向に沿った方向で非対称とする
などして、主走査方向の両側で異なった最端画角に対応
して結像性能が得られるようにすることもできる。
６ａ、６ｂのうち少なくとも一方をシフトや傾けなどで
光軸Ｌから偏芯させて使用したり、あるいはｆθレンズ
系６そのものを主走査方向に沿った方向で非対称とする
などして、主走査方向の両側で異なった最端画角に対応
して結像性能が得られるようにすることもできる。
【００４３】またｆθレンズ系６はポリゴンミラー５に
より偏向された２つの光束を感光ドラム面７上にスポッ
ト状に結像させ、２本の走査線を形成している。さらに
ｆθレンズ系６は副走査断面内においてポリゴンミラー
５の偏向面５ａ近傍と感光ドラム面７近傍との間を共役
関係にすることにより、倒れ補正機能を有している。
より偏向された２つの光束を感光ドラム面７上にスポッ
ト状に結像させ、２本の走査線を形成している。さらに
ｆθレンズ系６は副走査断面内においてポリゴンミラー
５の偏向面５ａ近傍と感光ドラム面７近傍との間を共役
関係にすることにより、倒れ補正機能を有している。
【００４４】７は被走査面としての感光ドラム面であ
る。感光ドラム面７はｆθレンズ系６の光軸Ｌに対して
副走査方向にαなる角度で光束が入射するよう、該光軸
Ｌからシフトして配置されている。これは感光ドラム面
７からの戻り光が発生した場合でも元の光路を辿って光
源１に戻らないようにするためである。
る。感光ドラム面７はｆθレンズ系６の光軸Ｌに対して
副走査方向にαなる角度で光束が入射するよう、該光軸
Ｌからシフトして配置されている。これは感光ドラム面
７からの戻り光が発生した場合でも元の光路を辿って光
源１に戻らないようにするためである。
【００４５】８は同期検出手段であり、同期検出用光学
系（ＢＤレンズ）１０と同期同期検出器（ＢＤセンサ
ー）９とを有しており、該同期検出器９で検知して得ら
れた同期信号（ＢＤ信号）を用いて感光ドラム面７上へ
の画像記録の走査開始位置のタイミングを調整してい
る。
系（ＢＤレンズ）１０と同期同期検出器（ＢＤセンサ
ー）９とを有しており、該同期検出器９で検知して得ら
れた同期信号（ＢＤ信号）を用いて感光ドラム面７上へ
の画像記録の走査開始位置のタイミングを調整してい
る。
【００４６】同期検出用光学系１０は主走査断面内と副
走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、該同期
検出用光学系１０を通過した光束の集光位置が主走査断
面内と副走査断面内で一致しないように形成されてい
る。即ち、同期検出用光学系１０は主走査断面内と副走
査断面内でのパワーが互いに異なっている。また同期検
出用光学系１０には光束が主走査断面内では略平行光束
が入射し、副走査断面内では拡散光束が入射する。
走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、該同期
検出用光学系１０を通過した光束の集光位置が主走査断
面内と副走査断面内で一致しないように形成されてい
る。即ち、同期検出用光学系１０は主走査断面内と副走
査断面内でのパワーが互いに異なっている。また同期検
出用光学系１０には光束が主走査断面内では略平行光束
が入射し、副走査断面内では拡散光束が入射する。
【００４７】本実施形態においては光源１と同期検出器
９は同一の基板１１上に配置されている。基板１１は入
射光学手段２１の光軸４ａ方向と垂直な面内で光源１の
発光点の重心位置（尚、ここで重心位置とは発光点の一
端から他端までの距離の半分の位置のことである。）又
はその近傍を回動中心として回動可能な構造であり、ま
た同期検出器９に入射する光束は副走査方向に長い形状
と成るようにしている。同期検出用光学系１０は基板１
１と一体構成した筐体１３の一部に固定、もしくは基板
１１と独立に構成している。
９は同一の基板１１上に配置されている。基板１１は入
射光学手段２１の光軸４ａ方向と垂直な面内で光源１の
発光点の重心位置（尚、ここで重心位置とは発光点の一
端から他端までの距離の半分の位置のことである。）又
はその近傍を回動中心として回動可能な構造であり、ま
た同期検出器９に入射する光束は副走査方向に長い形状
と成るようにしている。同期検出用光学系１０は基板１
１と一体構成した筐体１３の一部に固定、もしくは基板
１１と独立に構成している。
【００４８】本実施形態において画像情報に応じてマル
チ半導体レーザ１から光変調され出射した２つの光束は
コリメーターレンズ２により略平行光束に変換され、シ
リンドリカルレンズ４に入射する。シリンドリカルレン
ズ４に入射した光束のうち主走査断面内においてはその
ままの状態で出射して開口絞り３を通過する（一部遮光
される）。また副走査断面内においては収束して開口絞
り３を通過し（一部遮光される）光偏向器５の偏向面５
ｃにほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結像す
る。そして光偏向器５の偏向面５ｃで反射偏向された２
つの光束は各々走査光学手段６により感光ドラム面７上
にスポット状に結像され、該光偏向器５を矢印５ｂ方向
に回転させることによって、該感光ドラム面７上を矢印
７ｂ方向（主走査方向）に等速度で光走査している。こ
れにより記録媒体である感光ドラム面７上に２本の走査
線を同時に形成し、画像記録を行っている このとき感光ドラム面７上を光走査する前に該感光ドラ
ム面７上の走査開始位置のタイミングを調整する為に、
光偏向器５で反射偏向された２つの光束の一部を同期検
出用光学系１０により同期検出器９に導光している。そ
して同期検出器９からの出力信号を検知して得られた同
期信号（ＢＤ信号）を用いて感光ドラム面７上への画像
記録の走査開始位置のタイミングを各ＢＤ光束毎に調整
している。
チ半導体レーザ１から光変調され出射した２つの光束は
コリメーターレンズ２により略平行光束に変換され、シ
リンドリカルレンズ４に入射する。シリンドリカルレン
ズ４に入射した光束のうち主走査断面内においてはその
ままの状態で出射して開口絞り３を通過する（一部遮光
される）。また副走査断面内においては収束して開口絞
り３を通過し（一部遮光される）光偏向器５の偏向面５
ｃにほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結像す
る。そして光偏向器５の偏向面５ｃで反射偏向された２
つの光束は各々走査光学手段６により感光ドラム面７上
にスポット状に結像され、該光偏向器５を矢印５ｂ方向
に回転させることによって、該感光ドラム面７上を矢印
７ｂ方向（主走査方向）に等速度で光走査している。こ
れにより記録媒体である感光ドラム面７上に２本の走査
線を同時に形成し、画像記録を行っている このとき感光ドラム面７上を光走査する前に該感光ドラ
ム面７上の走査開始位置のタイミングを調整する為に、
光偏向器５で反射偏向された２つの光束の一部を同期検
出用光学系１０により同期検出器９に導光している。そ
して同期検出器９からの出力信号を検知して得られた同
期信号（ＢＤ信号）を用いて感光ドラム面７上への画像
記録の走査開始位置のタイミングを各ＢＤ光束毎に調整
している。
【００４９】尚、図１は説明を簡便にする為に発光点を
２個用いた２ビーム走査光学装置を示しているが、発光
点は３つ以上でも良い。
２個用いた２ビーム走査光学装置を示しているが、発光
点は３つ以上でも良い。
【００５０】次に本実施形態の特徴について図２
（Ａ），（Ｂ）を用いて説明する。
（Ａ），（Ｂ）を用いて説明する。
【００５１】図２（Ａ）は光源１と同期検出器９とを同
一基板１１上に取り付けた直後の調整前の状態を示して
おり、図２（Ｂ）は調整後（基板１１を光源１の２つの
発光点１Ａ、１Ｂの重心位置１ｃ又はその近傍を回動中
心として回動させた後）の状態を示している。
一基板１１上に取り付けた直後の調整前の状態を示して
おり、図２（Ｂ）は調整後（基板１１を光源１の２つの
発光点１Ａ、１Ｂの重心位置１ｃ又はその近傍を回動中
心として回動させた後）の状態を示している。
【００５２】光源１から出射した２つの光束の一部は光
偏向器５を介し同期検出用光学系１０により同期検出器
９へ向けられているが、該同期検出用光学系１０の副走
査断面内においては主走査断面内と比較して弱いパワー
しか与えられておらず、該同期検出器９においては結像
位置に達していない。
偏向器５を介し同期検出用光学系１０により同期検出器
９へ向けられているが、該同期検出用光学系１０の副走
査断面内においては主走査断面内と比較して弱いパワー
しか与えられておらず、該同期検出器９においては結像
位置に達していない。
【００５３】同期検出用光学系１０は主走査断面内（図
１の面内）に対して同期検出器９上で光束が結像するよ
うパワーが与えられているので、結果として同期検出器
９上では副走査方向に長い形状の光束として存在するこ
ととなる。このとき被走査面上における走査線ピッチの
間隔を光源１を回転させることによって調整する。
１の面内）に対して同期検出器９上で光束が結像するよ
うパワーが与えられているので、結果として同期検出器
９上では副走査方向に長い形状の光束として存在するこ
ととなる。このとき被走査面上における走査線ピッチの
間隔を光源１を回転させることによって調整する。
【００５４】基板１１の回転は光源１の２つの発光点１
Ａ、１Ｂの重心位置１Ｃを中心として入射光学手段２１
の光軸４ａ周りに回転され、同一基板１１に載せられて
いる同期検出器９も同じ方向に同角度回転する。
Ａ、１Ｂの重心位置１Ｃを中心として入射光学手段２１
の光軸４ａ周りに回転され、同一基板１１に載せられて
いる同期検出器９も同じ方向に同角度回転する。
【００５５】このとき同期検出用光学系１０が基板１１
と一体的に構成されているときは基板１１と一体的に回
転する。すると同期して図２（Ｂ）に示すように光束の
状態も（イ）から（ロ）へ変化する。しかしながら光束
が回転方向におよそ沿うような細長い形状の光束のた
め、同期検出器９から光束が外れることはなく、回転に
よる光量の変化の影響も微小なため安定した同期検出が
行える。
と一体的に構成されているときは基板１１と一体的に回
転する。すると同期して図２（Ｂ）に示すように光束の
状態も（イ）から（ロ）へ変化する。しかしながら光束
が回転方向におよそ沿うような細長い形状の光束のた
め、同期検出器９から光束が外れることはなく、回転に
よる光量の変化の影響も微小なため安定した同期検出が
行える。
【００５６】ここで同期検出用光学系１０の副走査断面
内のパワーは同期検出器９で結像しない弱いパワーとし
たが、状況に応じて、逆に副走査断面内のパワーを強く
し、主走査断面内の結像位置よりも前に設定して副走査
断面内の結像点よりも後ろに同期検出器９を配置しても
同様の効果が得られる。
内のパワーは同期検出器９で結像しない弱いパワーとし
たが、状況に応じて、逆に副走査断面内のパワーを強く
し、主走査断面内の結像位置よりも前に設定して副走査
断面内の結像点よりも後ろに同期検出器９を配置しても
同様の効果が得られる。
【００５７】この際、同期検出用光学系１０としては１
面以上のシリンドリカル面や１面以上のトーリック面
（トロイダル面）を含むレンズやプリズムで構成するこ
とで主走査断面内及び副走査断面内に対して最適な結像
位置を与えることができる。
面以上のシリンドリカル面や１面以上のトーリック面
（トロイダル面）を含むレンズやプリズムで構成するこ
とで主走査断面内及び副走査断面内に対して最適な結像
位置を与えることができる。
【００５８】また同期検出用光学系１０を１面以上の回
折面を含む１枚ないし複数枚のレンズ構成とし、この回
折面に適宜パワーを配分することにより収差上の有利性
や構成枚数の簡略化の利便性などと共に同様の効果が得
られる。
折面を含む１枚ないし複数枚のレンズ構成とし、この回
折面に適宜パワーを配分することにより収差上の有利性
や構成枚数の簡略化の利便性などと共に同様の効果が得
られる。
【００５９】また同期検出用光学系１０を集光又は発散
性能を有する面と、主走査方向を軸として傾けた平面か
らなる光学素子とを有するように構成すれば、射出光束
を所定の方向に偏向させることができ、これにより同期
検出器９に入射する光束を制限することができる。
性能を有する面と、主走査方向を軸として傾けた平面か
らなる光学素子とを有するように構成すれば、射出光束
を所定の方向に偏向させることができ、これにより同期
検出器９に入射する光束を制限することができる。
【００６０】尚、本実施形態では光源手段を複数の発光
点を有するマルチ半導体レーザーより構成したが、単一
の発光点を有する半導体レーザ（光源）より構成しても
本発明は実施形態１と同様に適用することができる。こ
のときは光源と同期検出器とを配置した基板を光源の位
置又はその近傍を回動中心として回動させれば良い。
点を有するマルチ半導体レーザーより構成したが、単一
の発光点を有する半導体レーザ（光源）より構成しても
本発明は実施形態１と同様に適用することができる。こ
のときは光源と同期検出器とを配置した基板を光源の位
置又はその近傍を回動中心として回動させれば良い。
【００６１】また本実施形態においてはコリメーターレ
ンズ２とシリンドリカルレンズ４等を用いずに、光源手
段１からの光束を直接開口絞り３を介して光偏向器５に
導光しても良い。
ンズ２とシリンドリカルレンズ４等を用いずに、光源手
段１からの光束を直接開口絞り３を介して光偏向器５に
導光しても良い。
【００６２】また本実施形態においては走査光学手段を
２枚のレンズより構成したが、これに限らず、例えば単
一、もしくは３枚以上のレンズより構成しても良い。
２枚のレンズより構成したが、これに限らず、例えば単
一、もしくは３枚以上のレンズより構成しても良い。
【００６３】［実施形態２］図３（Ａ），（Ｂ）は各々
本発明の実施形態２の主要部分の要部断面図である。図
３（Ａ），（Ｂ）において図２に示した要素と同一要素
には同一符番を付している。
本発明の実施形態２の主要部分の要部断面図である。図
３（Ａ），（Ｂ）において図２に示した要素と同一要素
には同一符番を付している。
【００６４】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は、光源１の重心位置１ｃを回転軸とし、その周
りに回転する基板１１と同期して回転する同期検出器９
の前方に主走査方向の光束を制限する矩形スリット（絞
り）１２を配置したことである。その他の構成および光
学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより同様
な効果を得ている。
なる点は、光源１の重心位置１ｃを回転軸とし、その周
りに回転する基板１１と同期して回転する同期検出器９
の前方に主走査方向の光束を制限する矩形スリット（絞
り）１２を配置したことである。その他の構成および光
学的作用は実施形態１と略同様であり、これにより同様
な効果を得ている。
【００６５】即ち、同図において１２は副走査方向に長
い開口の矩形スリット（絞り）であり、同期検出用光学
系（不図示）を通過した光束の主走査断面内の集光位置
に配置され、基板１１を回転させたときに同期して回転
する構造より成っている。
い開口の矩形スリット（絞り）であり、同期検出用光学
系（不図示）を通過した光束の主走査断面内の集光位置
に配置され、基板１１を回転させたときに同期して回転
する構造より成っている。
【００６６】本実施形態では上記の如く同期検出用光学
系の主走査断面内の結像位置に絞り１２を配置し、主走
査断面内での所謂ＢＤ信号の切れを良くしたものであ
る。
系の主走査断面内の結像位置に絞り１２を配置し、主走
査断面内での所謂ＢＤ信号の切れを良くしたものであ
る。
【００６７】つまり副走査方向に長い開口の矩形スリッ
ト１２を配置して、主走査方向に走査される光束のう
ち、利用されるのは該矩形スリット１２をよぎった間の
時間のみであるので、該矩形スリット１２を置いていな
い設定に比べて常にＢＤ光束を受光する時間が一定化さ
れ、より確実な同期検出が可能となる。
ト１２を配置して、主走査方向に走査される光束のう
ち、利用されるのは該矩形スリット１２をよぎった間の
時間のみであるので、該矩形スリット１２を置いていな
い設定に比べて常にＢＤ光束を受光する時間が一定化さ
れ、より確実な同期検出が可能となる。
【００６８】しかも光源１と同期検出器９が載っている
基板１１と一体化して回転するため回転により位置関係
がずれてしまうこともない。またこの際にも同期検出器
９に入射する光束は副走査方向に長い形状としているた
め、前述のような基板１１の回転を行っても光束を見失
うことはない。
基板１１と一体化して回転するため回転により位置関係
がずれてしまうこともない。またこの際にも同期検出器
９に入射する光束は副走査方向に長い形状としているた
め、前述のような基板１１の回転を行っても光束を見失
うことはない。
【００６９】［画像形成装置］図４は、前述した実施形
態１又は２の走査光学装置を用いた画像形成装置（電子
写真プリンタ）の実施形態を示す副走査断面内における
要部断面図である。図４において、符号１０４は画像形
成装置を示す。この画像形成装置１０４には、パーソナ
ルコンピュータ等の外部機器１１７からコードデータＤ
ｃが入力する。このコードデータＤｃは、装置内のプリ
ンタコントローラ１１１によって、画像データ（ドット
データ）Ｄｉに変換される。この画像データＤｉは、各
実施形態１、２で示した構成を有する光走査ユニット１
００に入力される。そして、この光走査ユニット（走査
光学装置）１００からは、画像データＤｉに応じて変調
された光ビーム（光束）１０３が射出され、この光ビー
ム１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方
向に走査される。
態１又は２の走査光学装置を用いた画像形成装置（電子
写真プリンタ）の実施形態を示す副走査断面内における
要部断面図である。図４において、符号１０４は画像形
成装置を示す。この画像形成装置１０４には、パーソナ
ルコンピュータ等の外部機器１１７からコードデータＤ
ｃが入力する。このコードデータＤｃは、装置内のプリ
ンタコントローラ１１１によって、画像データ（ドット
データ）Ｄｉに変換される。この画像データＤｉは、各
実施形態１、２で示した構成を有する光走査ユニット１
００に入力される。そして、この光走査ユニット（走査
光学装置）１００からは、画像データＤｉに応じて変調
された光ビーム（光束）１０３が射出され、この光ビー
ム１０３によって感光ドラム１０１の感光面が主走査方
向に走査される。
【００７０】静電潜像担持体（感光体）たる感光ドラム
１０１は、モータ１１５によって時計廻りに回転させら
れる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の
感光面が光ビーム１０３に対して、主走査方向と直交す
る副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方に
は、感光ドラム１０１の表面を一様に帯電せしめる帯電
ローラ１０２が表面に当接するように設けられている。
そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラ
ム１０１の表面に、前記光走査ユニット１００によって
走査される光ビーム１０３が照射されるようになってい
る。
１０１は、モータ１１５によって時計廻りに回転させら
れる。そして、この回転に伴って、感光ドラム１０１の
感光面が光ビーム１０３に対して、主走査方向と直交す
る副走査方向に移動する。感光ドラム１０１の上方に
は、感光ドラム１０１の表面を一様に帯電せしめる帯電
ローラ１０２が表面に当接するように設けられている。
そして、帯電ローラ１０２によって帯電された感光ドラ
ム１０１の表面に、前記光走査ユニット１００によって
走査される光ビーム１０３が照射されるようになってい
る。
【００７１】先に説明したように、光ビーム１０３は、
画像データＤｉに基づいて変調されており、この光ビー
ム１０３を照射することによって感光ドラム１０１の表
面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光
ビーム１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１
の回転断面内における下流側で感光ドラム１０１に当接
するように配設された現像器１０７によってトナー像と
して現像される。
画像データＤｉに基づいて変調されており、この光ビー
ム１０３を照射することによって感光ドラム１０１の表
面に静電潜像を形成せしめる。この静電潜像は、上記光
ビーム１０３の照射位置よりもさらに感光ドラム１０１
の回転断面内における下流側で感光ドラム１０１に当接
するように配設された現像器１０７によってトナー像と
して現像される。
【００７２】現像器１０７によって現像されたトナー像
は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対
向するように配設された転写ローラ（転写器）１０８に
よって被転写材たる用紙１１２上に転写される。用紙１
１２は感光ドラム１０１の前方（図４において右側）の
用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも
給紙が可能である。用紙カセット１０９端部には、給紙
ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内
の用紙１１２を搬送路へ送り込む。
は、感光ドラム１０１の下方で、感光ドラム１０１に対
向するように配設された転写ローラ（転写器）１０８に
よって被転写材たる用紙１１２上に転写される。用紙１
１２は感光ドラム１０１の前方（図４において右側）の
用紙カセット１０９内に収納されているが、手差しでも
給紙が可能である。用紙カセット１０９端部には、給紙
ローラ１１０が配設されており、用紙カセット１０９内
の用紙１１２を搬送路へ送り込む。
【００７３】以上のようにして、未定着トナー像を転写
された用紙１１２はさらに感光ドラム１０１後方（図４
において左側）の定着器へと搬送される。定着器は内部
に定着ヒータ（図示せず）を有する定着ローラ１１３と
この定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧
ローラ１１４とで構成されており、転写部から撒送され
てきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１
４の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙１
１２上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ロー
ラ１１３の後方には排紙ローラ１１６が配設されてお
り、定着された用紙１１２を画像形成装置の外に排出せ
しめる。
された用紙１１２はさらに感光ドラム１０１後方（図４
において左側）の定着器へと搬送される。定着器は内部
に定着ヒータ（図示せず）を有する定着ローラ１１３と
この定着ローラ１１３に圧接するように配設された加圧
ローラ１１４とで構成されており、転写部から撒送され
てきた用紙１１２を定着ローラ１１３と加圧ローラ１１
４の圧接部にて加圧しながら加熱することにより用紙１
１２上の未定着トナー像を定着せしめる。更に定着ロー
ラ１１３の後方には排紙ローラ１１６が配設されてお
り、定着された用紙１１２を画像形成装置の外に排出せ
しめる。
【００７４】図４においては図示していないが、プリン
トコントローラ１１１は、先に説明したデータの変換だ
けでなく、モータ１１５を始め画像形成装置内の各部
や、光走査ユニット１００内のポリゴンモータなどの制
御を行う。
トコントローラ１１１は、先に説明したデータの変換だ
けでなく、モータ１１５を始め画像形成装置内の各部
や、光走査ユニット１００内のポリゴンモータなどの制
御を行う。
【００７５】
【発明の効果】本発明によれば前述の如く光源手段を構
成する光源と、同期検出手段を構成する同期検出器とを
同一の基板上に設け、該基板を入射光学手段の光軸方向
に垂直な面内で回動可能な構造とし、同期検出器に入射
する光束を副走査方向に長い形状と成るように構成する
ことにより、簡単な位置合わせでも高精度な同期検出が
可能となり、これにより高密度化された高性能な走査光
学装置及びそれを用いた画像形成装置を達成することが
できる。
成する光源と、同期検出手段を構成する同期検出器とを
同一の基板上に設け、該基板を入射光学手段の光軸方向
に垂直な面内で回動可能な構造とし、同期検出器に入射
する光束を副走査方向に長い形状と成るように構成する
ことにより、簡単な位置合わせでも高精度な同期検出が
可能となり、これにより高密度化された高性能な走査光
学装置及びそれを用いた画像形成装置を達成することが
できる。
【００７６】更に本発明によれば前述の如く複雑な、ま
たは微妙な調整も必要ないため、組立時の工数が大幅に
短縮され、これにより低コストに対して優れた走査光学
装置及びそれを用いた画像形成装置を達成することがで
きる。
たは微妙な調整も必要ないため、組立時の工数が大幅に
短縮され、これにより低コストに対して優れた走査光学
装置及びそれを用いた画像形成装置を達成することがで
きる。
【図１】 本発明の実施形態１の走査光学装置の主走査
断面図
断面図
【図２】 （Ａ）は本発明の実施形態１の光源と同期検
出素子とを同一基板に配置したときの図、（Ｂ）は基板
を回転させたときの図
出素子とを同一基板に配置したときの図、（Ｂ）は基板
を回転させたときの図
【図３】 本発明の実施形態２の説明図であり、（Ａ）
は光源と同期検出素子とを同一基板に配置したときの
図、（Ｂ）は基板を回転させたときの図
は光源と同期検出素子とを同一基板に配置したときの
図、（Ｂ）は基板を回転させたときの図
【図４】 本発明の走査光学装置を用いた画像形成装置
（電子写真プリンタ）の構成例を示す副走査断面図
（電子写真プリンタ）の構成例を示す副走査断面図
【図５】 従来の走査光学装置の主走査断面図
【図６】 ２つの発光点を副走査方向に直線的に並べて
配置した図
配置した図
【図７】 ２つの発光点を副走査方向に対応する方向に
対して傾けて配置した図
対して傾けて配置した図
【図８】 マルチビーム光源を中心として回転させたと
きの図
きの図
１ 光源手段（半導体レーザ）
２ コリメーターレンズ
３ 絞り
４ シリンドリカルレンズ
５ 偏向手段（ポリゴンミラー）
６ 走査光学手段（ｆθレンズ系）
７ 被走査面
８ 同期検出手段
９ 同期検出器
１０ 同期検出用光学系
１１ 基板
１３ 筐体
２１ 入射光学手段
１００ 走査光学装置
１０１ 感光ドラム
１０２ 帯電ローラ
１０３ 光ビーム
１０４ 画像形成装置
１０７ 現像装置
１０８ 転写ローラ
１０９ 用紙カセット
１１０ 給紙ローラ
１１１ プリンタコントローラ
１１２ 転写材（用紙）
１１３ 定着ローラ
１１４ 加圧ローラ
１１５ モータ
１１６ 排紙ローラ
１１７ 外部機器
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０４Ｎ 1/113 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ
Ｆターム(参考） 2C362 AA07 AA13 AA48 BA04 BA48
BA70 BA71 BB03 DA27
2H045 CA88 CA89 DA02
2H087 KA19 LA22 NA09 PA02 PA17
PB02 QA03 QA12 RA07 RA08
5C051 AA02 CA07 DB02 DB22 DB24
DB30 DC02 DC04 DC07 DE02
FA01
5C072 AA03 BA04 HA02 HA06 HA09
HA13 HB08 HB13 XA01 XA05
Claims (14)
- 【請求項１】 光源手段から射出された光束を入射光学
手段を介して偏向手段に導光し、該偏向手段により偏向
された光束を走査光学手段により被走査面上に導光し、
該被走査面上の光走査を、該被走査面上に入射する光束
の一部を同期検出用光学系を含む同期検出手段に導き、
該同期検出手段で得た同期信号を用いて行う走査光学装
置において、 該光源手段を構成する光源と、該同期検出手段を構成す
る同期検出器とは同一の基板上に設けられており、該基
板は該入射光学手段の光軸方向に垂直な面内で回動可能
な構造であり、該同期検出器に入射する光束は副走査方
向に長い形状をしていることを特徴とする走査光学装
置。 - 【請求項２】 前記基板は前記光源の位置又はその近傍
を回動中心として回動可能な構造であることを特徴とす
る請求項１記載の走査光学装置。 - 【請求項３】 複数の発光点を有する光源手段から射出
された複数の光束を入射光学手段を介して偏向手段に導
光し、該偏向手段により偏向された複数の光束を走査光
学手段により被走査面上に導光し、該被走査面上の光走
査を、該被走査面上に入射する複数の光束の一部を同期
検出用光学系を含む同期検出手段に導き、該同期検出手
段で得た同期信号を用いて行う走査光学装置において、 該光源手段の複数の発光点のうち１以上を含む光源と、
該同期検出手段を構成する同期検出器とは同一の基板上
に設けられており、該基板は該入射光学手段の光軸方向
に垂直な面内で回動可能な構造であり、該同期検出器に
入射する光束は副走査方向に長い形状をしていることを
特徴とする走査光学装置。 - 【請求項４】 前記基板は前記光源の発光点の重心位置
又はその近傍を回動中心として回動可能な構造であるこ
とを特徴とする請求項３記載の走査光学装置。 - 【請求項５】 前記同期検出用光学系は主走査断面内と
副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、該同
期検出用光学系を射出した光束の集光位置が主走査断面
内と副走査断面内で一致しないことを特徴とする請求項
１、２、３又は４記載の走査光学装置。 - 【請求項６】 前記同期検出用光学系は主走査断面内と
副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、一面
以上の回折面を含むことを特徴とする請求項１、２、３
又は４記載の走査光学装置。 - 【請求項７】 前記同期検出用光学系は主走査断面内と
副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、一面
以上のシリンドリカル面を有することを特徴とする請求
項１、２、３又は４記載の走査光学装置。 - 【請求項８】 前記同期検出用光学系は主走査断面内と
副走査断面内にそれぞれ独立した焦点距離を有し、一面
以上のトーリック面を有することを特徴とする請求項
１、２、３又は４記載の走査光学装置。 - 【請求項９】 前記同期検出用光学系において、集光ま
たは発散性能を有する面と、主走査方向を軸として傾け
た平面からなる光学素子を有することを特徴とする請求
項１、２、３又は４記載の走査光学装置。 - 【請求項１０】 前記同期検出用光学系を通過した光束
の主走査断面内の集光位置に、副走査方向に長い開口の
矩形スリットを配し、前記基板を回転させたときに該矩
形スリットが同期して回転する構造としたことを特徴と
する請求項１乃至９の何れか１項に記載の走査光学装
置。 - 【請求項１１】 前記同期検出用光学系は前記基板と一
体構成した筐体の一部に固定された構造としたことを特
徴とする請求項１乃至１０の何れか１項に記載の走査光
学装置。 - 【請求項１２】 前記同期検出用光学系は前記基板に対
して独立した構造としたことを特徴とする請求項１乃至
１０の何れか１項に記載の走査光学装置。 - 【請求項１３】 請求項１乃至１２の何れか１項に記載
の走査光学装置と、前記被走査面に配置された感光体
と、前記走査光学装置で走査された光束によって前記感
光体上に形成された静電潜像をトナー像として現像する
現像器と、現像されたトナー像を被転写材に転写する転
写器と、転写されたトナー像を被転写材に定着させる定
着器とを有することを特徴とする画像形成装置。 - 【請求項１４】 請求項１乃至１２の何れか１項に記載
の走査光学装置と、外部機器から入力したコードデータ
を画像信号に変換して前記走査光学装置に入力せしめる
プリンタコントローラとを有していることを特徴とする
画像形成装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001271686A JP4708629B2 (ja) | 2001-09-07 | 2001-09-07 | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001271686A JP4708629B2 (ja) | 2001-09-07 | 2001-09-07 | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003075750A true JP2003075750A (ja) | 2003-03-12 |
| JP2003075750A5 JP2003075750A5 (ja) | 2008-10-23 |
| JP4708629B2 JP4708629B2 (ja) | 2011-06-22 |
Family
ID=19097162
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001271686A Expired - Fee Related JP4708629B2 (ja) | 2001-09-07 | 2001-09-07 | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2014182190A (ja) * | 2013-03-18 | 2014-09-29 | Canon Inc | 光走査装置及び画像形成装置 |
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-
2001
- 2001-09-07 JP JP2001271686A patent/JP4708629B2/ja not_active Expired - Fee Related
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