JP2000237955A - 端面研磨装置におけるウエハ吸着部への液体の供給および真空引き機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハを研磨するときにウエハを真空吸着す
るとともに、剥離時には真空を解除するとともに、液体
を噴出させてパッドの劣化を防止する端面研磨装置にお
けるウエハ吸着部への液体の供給および真空引き機構を
提供する。 【解決手段】 上面にパッドを介してウエハを載置する
吸着盤に、ロータリージョイントを介して管部材を配設
して駆動源によって回転可能とし、前記管部材に切換え
弁を介して真空源と水供給源とを接続し、真空源との接
続時にウエハを吸着し、水供給源との接続時に吸着した
ウエハを剥離するとともに、パッドの内部の砥粒を流出
するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は端面研磨装置にお
けるウエハ吸着部への液体の供給および真空引き機構に
関し、特に、研磨時にウエハをパッドの上面に載置した
状態で吸着させることができるとともに、真空を解除す
ることでウエハを容易に離脱させることができる端面研
磨装置におけるウエハ吸着部への液体の供給および真空
引き機構に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一般に、シリコンウエハのような半導体
ウエハは、エッジのチッピング防止やエピタキシャル成
長時のクラウン防止等のために、その周縁部に面取り加
工が施されている。この面取り加工は、ダイヤモンド砥
石で研削することにより行われるが、研削後に加工歪層
が残り易く、このような加工歪層が残っていると、ディ
バイスプロセスにおいて熱処理を繰り返した時に結晶欠
陥が発生することがある。このために通常は、上記加工
歪層をエッチングにより除去しているが、エッチング処
理した表面は波状や鱗状の凹凸になって汚れが残り易
く、この汚れがディバイスプロセスにおいてウエハ全体
に拡散し、特性を劣化させる大きな原因となる。

【０００３】そこで、近年では、ウエハの面取り加工し
たエッジを鏡面研磨により平滑化するための技術がウエ
ハの表面の研磨とは全く別の技術として確立されてお
り、ウエハのエッジを鏡面研磨する装置として種々の端
面研磨装置が提案されている。

【０００４】そして、端面研磨装置でウエハを鏡面研磨
する場合には、ノッチ研磨装置および周面研磨装置等で
ウエハのノッチおよび周面を研磨するようにしている
が、この研磨時には吸着盤の上面に位置するパッドの上
面に被研磨物であるウエハを載置して研磨している。こ
のように、吸着盤の上面に位置するパッドの上面にウエ
ハを載置して取付けるようになっており、ウエハを吸着
盤に真空吸着して取付け、また、真空を解除して吸着を
解除している。このために、パッド自体が乾燥してしま
い、均一に吸着できなくなってしまったり、あるいは、
パッドの内部に砥粒が溜まってしまい、染みが生じると
いう問題点を有している。

【０００５】この発明の目的は、端面研磨装置において
ウエハの研磨時にウエハを真空吸着するとともに、真空
を解除する時には液体を噴出して吸着を解除するように
し、乾燥してパッドが変形したり、あるいは、液体がパ
ッドを浸すことでパッドを湿った状態に保持するととも
に、砥粒がパッド内に溜まることなく流出されるように
した端面研磨装置におけるウエハ吸着部への液体の供給
および真空引き機構を提供することにある。

【０００６】

【問題点を解決するための手段】上記の問題点を解決す
るためにこの発明は、供給したウエハをノッチ研磨装置
および周面研磨装置で研磨した後に排出するようにした
端面研磨装置において、前記ノッチ研磨装置および周面
研磨装置のウエハの吸着部に液体の供給および真空引き
機構を配設し、該液体の供給および真空引き機構は、上
面にパッドを介して載置したウエハを回転駆動する吸着
盤に配設される管部材と、この管部材にロータリージョ
イントおよび切換え手段を介して接続される真空源およ
び液体の供給源とを具え、前記ウエハの吸着時には前記
管部材と連通する吸着孔から真空引きしてウエハをパッ
ドに吸着し、ウエハの剥離時には液体の供給源からの液
体をパッドを介してウエハを押圧し、この液体はパッド
の内部の砥粒を流すとともに、パッドを湿らせる構成を
有している。また、前記切換え手段は、真空源および液
体の供給源を前記管部材に択一的に接続する切換え弁で
ある手段を採用したものである。

【０００７】

【作用】この発明は上記の手段を採用したことにより、
切換え手段が真空源および液体の供給源を択一的に管部
材を介して吸着盤の吸着孔に連通して、上面にパッドを
介して載置したウエハを真空引き、あるいは液体の噴出
を行うものであり、この液体の噴出時にはパッドの内部
に溜まった砥粒も流出させるものである。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、図面に示すこの発明の実施
の形態について説明する。図面にはこの発明によるウエ
ハ吸着部への液体の供給および真空引き機構が採用され
ているウエハの端面研磨装置（エッジポリッシャ）の全
体が示されている。

【０００９】この端面研磨装置は、内部にウエハを積層
して収納したカセットからウエハを取り出して一定の向
きに整列させ、さらに前後を反転してつぎの工程に搬送
する供給部１０と、この供給部１０からのウエハを受け
取ってウエハに設けたノッチを研磨するノッチ研磨部２
０と、このノッチ研磨部２０でノッチを研磨されたウエ
ハを受け取って、まず表面側を上にした状態でウエハの
端面の研磨を行い、さらに、表裏を反転させた状態で同
様にウエハの端面の研磨を行う端面研磨部５０と、ノッ
チおよび端面の研磨が終了したウエハを収納するカセッ
トを有している排出部１００とを具えている。

【００１０】この発明によるウエハ吸着部への液体の供
給および真空引き機構は、前記ノッチ研磨部２０に配設
されたノッチ研磨装置２２の吸着部３０と、端面研磨部
５０に配設された周面研磨装置５３の吸着部６０とに採
用されている。したがって、ノッチ研磨部２０に配設さ
れたノッチ研磨装置２２の吸着部３０と、端面研磨部５
０に配設された周面研磨装置５３の吸着部６０とについ
て説明する。

【００１１】まず、ノッチ研磨装置２２にあっては、図
４、５に示すように、吸着部３０と、研磨部３４とから
構成され、前記吸着部３０は、上面にウエハＷを吸着可
能である一方、前記研磨部３４は、吸着部３０に吸着さ
れたウエハＷに接離可能であるとともに、ノッチに対向
する部位が開放しているカバー３１と、このカバー３１
の内部に位置してノッチに当接するように表出している
ノッチ研磨用パッド３２と、このノッチ研磨用パッド３
２を回動する駆動源３３等とから構成されている。

【００１２】そして、前記ノッチ研磨装置２２の前記吸
着部３０は、円盤をなす吸着盤３６の上面に円周状の吸
着孔３５が形成され、この吸着盤３６には真空源が接続
されている。

【００１３】この場合、前記吸着部３０は、後述する端
面研磨部５０に配設された周面研磨装置５３の吸着盤５
４が配設されている吸着部６０と同様なので、図９に示
す周面研磨装置５３の吸着部６０に基づいて説明する。
なお、ウエハ吸着部への液体の供給および真空引き機構
の概略説明図を図１３に示す。

【００１４】この吸着部６０（３０）は、ウエハＷを真
空吸着するための吸着盤５４（ノッチ研磨装置２２にあ
っては吸着盤３６）を保持する第１ボディ６１と、この
第１ボディ６１を支軸６２を中心に揺動可能に保持する
第２ボディ６３とを有し、この第２ボディ６３の一部に
は駆動源であるモータ１２０が配設されているととも
に、このモータ１２０の駆動軸１２１に設けた歯車１２
３と、ロータリージョイント７７を介して取付けられた
管部材１２５に設けた歯車１２６とが噛合い係合してい
る。前記管部材１２５はロータリージョイント７７によ
って回転可能に配設され、この管部材１２５の上端には
前記吸着盤５４（３６）が配設されているとともに、上
面にパッドＰが載置され、このパッドＰの上面に被研磨
物であるウエハＷが配設されている。

【００１５】一方、既述のように前記吸着盤５４の上面
には円周状の吸着孔（図示せず、ノッチ研磨装置２２に
あっては３５）が形成され、この吸着孔は前記管部材１
２５と連通し、さらに、管部材１２５はロータリージョ
イント７７を介して切換え弁１２７に接続され、この切
換え弁１２７は真空源１２８および水供給源１２９と連
通している。

【００１６】したがって、切換え弁１２７を介して真空
源１２８および水供給源１２９と接続されているので、
切換え弁１２７によって真空源１２８と接続されている
時は管部材１２５の上端の吸着盤５４の吸着孔から外気
が吸い込まれることになり、パッドＰを介して上面に載
置したウエハＷを吸着することになる。

【００１７】一方、切換え弁１２７によって真空源１２
８が切り換えられて水供給源１２９と接続された時は、
吸着孔から水が噴出される。この水はパッドＰを通過し
てウエハＷの下面に達し、ウエハＷに作用することによ
り、ウエハＷをパッドＰから容易に離間させることがで
きる。さらにパッドＰを水が通過することにより水の作
用によって、パッドＰの内部に溜まっていた砥粒が流出
されるとともに、つぎのウエハＷが吸着される迄の間は
パッドＰの内部は水が含浸していて湿った状態に保持さ
れることになる。上記のようにノッチ研磨装置２２の吸
着部３０および周面研磨装置５３の吸着部６０は構成さ
れている。

【００１８】次にノッチ研磨部２０にウエハを供給する
供給部１０について説明する。すなわち、図１２に示す
ように、供給部１０は、内部にウエハＷを積層して収納
する２つのカセット１１、１１と、このカセット１１内
のウエハＷを順次取り出して周面に形成されたノッチが
一定の位置となるように整列させるアライナ１２と、前
記カセット１１からアライナ１２にウエハを伝達すると
ともに、アライナ１２から取り出して整列されたウエハ
をノッチ研磨工程に搬送するための多関節アーム１３を
具えた搬送部材１４とから構成されている。

【００１９】前記２つのカセット１１、１１と、アライ
ナ１２とは載置台１１０に載置されており、一方、前記
搬送部材１４はロボット１１１によって前記載置台１１
０に沿って移動するように構成されている。そして、前
記搬送部材１４は図示の実線の位置と２点鎖線の位置と
の間を往復移動可能であり、先端部に二股部１５が配設
された多関節アーム１３、１３を２つ有しており、この
搬送部材１４の２つの二股部１５の上面にはそれぞれウ
エハＷが載置されて多関節アーム１３の伸縮に応じてウ
エハＷを搬送可能となっている。

【００２０】なお、前記搬送部材１４の外側で２点鎖線
で示す円は二股部１５の回動域を示している。さらに、
前記アライナ１２は、たとえば特許第２７２９２９７号
公報に示されており、搬送部材１４の多関節アーム１３
の二股部１５で搬送されたウエハＷを受け取って、ウエ
ハＷの周縁部に設けたノッチが多関節アーム１３の二股
部１５に対して所定の位置として整列させるようになっ
ている。

【００２１】したがって、前記搬送部材１４は、カセッ
ト１１からウエハＷを取り出してアライナ１２に搬送
し、また、アライナ１２で整列されたウエハＷを受け取
ってウエハ渡し部２１、２１に伝達する。この場合、ウ
エハ渡し部２１、２１は後述するノッチ研磨部２０に設
けられたノッチ研磨装置２２に対応するように２点鎖線
で示すように２か所に形成されている（図１参照）。

【００２２】この供給部１０に連続してノッチ研磨部２
０が設けられている。このノッチ研磨部２０は、図１に
示すように前記２つのウエハ渡し部２１、２１を挟んで
対向する一対のノッチ研磨装置２２、２２が配設され、
さらに、図２に示すように前記両ノッチ研磨装置２２、
２２の上方にそれぞれ位置するとともに、昇降可能、か
つウエハ渡し部２１とノッチ研磨装置２２との間をＸ方
向に配設された軌条２９に沿って移動可能であり、下降
位置の時に前記ウエハ渡し部２１において前記ウエハＷ
を受け取って上昇し、さらに、Ｘ方向に移動してノッチ
研磨装置２２の上方に位置し、こののち下降してノッチ
研磨装置２２の吸着盤３６に渡すようになっている３爪
部材２３が設けられている。

【００２３】さらに、前記研磨部３４は、ノッチ研磨装
置２２の機台３７に、吸着部３０を向いて配設された主
軸３８が貫通した状態で基盤３９が設けられ、この基盤
３９には基板４０が起立状態で配設され、この基板４０
の上部には内部にノッチ研磨用パッド３２が位置するカ
バー３１が取付けられ、下方には駆動源３３が設けられ
て駆動源３３とノッチ研磨用パッド３２の回転軸との間
にはベルト４１が張設されている。

【００２４】一方、前記基盤３９には連結部材４２が設
けられ、この連結部材４２にはワイヤ４３が連結されて
ワイヤ４３には機台に設けたプーリ４４を介して重り４
５が吊り下げられている。したがって、重り４５によっ
て主軸３８に沿って基盤３９が移動して基盤３９に設け
た基板４０に設けたノッチ研磨用パッド３２が吸着盤３
６に吸着されたウエハＷのノッチに押圧されるようにな
っている。なお、４６は、作動部４６ａが前記重り４５
に抗する基盤３９を移動させるシリンダであり、シリン
ダ４６によってノッチから離れた位置に可動部を位置さ
せることかできる。

【００２５】そして、ノッチ研磨部２０には上記のよう
に構成されているノッチ研磨装置２２がウエハ渡し部２
１を挟んで２つ設けられている。

【００２６】上記のようなノッチ研磨装置２２にウエハ
を供給する３爪部材２３は下方に垂下する爪部２４を有
し、図３には図１のＣ−Ｃ線に沿って見た状態が示され
ている。前記爪部２４は３つの爪を有し、ウエハＷを掴
持した時に１つの爪が前記ウエハのノッチに入るととも
に、他の２つの爪はウエハの周端面を押圧している。そ
して、この各爪が駆動源によって掴持、拡開可能であ
り、また、掴持時には１つの爪がノッチに位置すること
でウエハの回動は阻止される。

【００２７】また、前記爪部２４は駆動源によって昇降
可能であるとともに、Ｘ方向に移動可能、かつ、水平を
保持したままで回動可能に構成されており、Ｘ方向に移
動した時には図４に示すようなノッチ研磨装置２２、２
２の吸着盤３６の上方にそれぞれ位置するようになって
いる。

【００２８】そして、まず、前記供給部１０の搬送部材
１４の多関節アーム１３がその上面にウエハを位置した
状態でウエハ渡し部２１、２１に位置する。すると、３
爪部材２３の爪部２４がウエハを掴持して吸着部３０に
搬送して吸着盤３６に位置する。そして、シリンダ４６
を不作動とすると、基盤３９は重り４５の作用によって
主軸３８に沿って移動して基盤３９に設けた基板４０の
ノッチ研磨用パッド３２が吸着盤３６に吸着されたウエ
ハＷのノッチに押圧されることになる。

【００２９】そして、このようにしてノッチにカバー３
１から表出しているノッチ研磨用パッド３２を押圧する
とともに、駆動源３３を起動する。すると、駆動源３３
の駆動力はベルト４１を介してノッチ研磨用パッド３２
に伝達されるので、ノッチ研磨用パッド３２がウエハＷ
のノッチに当接した状態で回転を開始する。この回転時
に、図１３に示すようにノッチ研磨用パッド３２自体は
ある程度弾性を有しているので、回転時に膨らんでノッ
チとの当接部を境にして回転方向手前側の部位はノッチ
に十分に当接するが、回転方向先方側の部位はノッチか
ら離れる方向に変位する。

【００３０】つまり、ノッチ研磨用パッド３２はノッチ
との当接部を境にして回転方向手前側の部位は膨らみ、
先方側の部位は凹むことになるので、ノッチは常に当接
部の手前側が良好に研磨される。また、このような条件
において、前記ノッチ研磨用パッド３２は駆動源３３が
正回転および逆回転するのでノッチはどの部位であって
も良好に研磨されることになる。

【００３１】すなわち、ウエハＷに設けたノッチは平面
から見ると入口側がノッチ研磨用パッド３２の厚みとほ
ぼ同一の幅となっていて、内方に行くほど幅が狭くなる
碗状をなしているが、ノッチ研磨用パッド３２が前記と
同様に正回転および逆回転することでノッチのどの部位
であっても確実、かつ、均一に研磨されることになる。

【００３２】なお、前記駆動源３３は、それ自体が正回
転および逆回転する可逆性を有している駆動源であって
も、あるいは、駆動源３３と、このベルト４１を介して
回転されるノッチ研磨用パッド３２との間に可逆可能な
機構を介して正回転および逆回転可能としても良いもの
である。

【００３３】一方、前記ノッチ研磨部２０に連続してウ
エハの周面を研磨するための端面研磨部５０が設けられ
ている。この端面研磨部５０は、中央部にＹ方向に連続
して配設されるとともに、直列に設けられて、それぞれ
Ｙ方向に往復移動可能な２つの多関節アームを具えた２
つの搬送部材５１、５２と、この２つの搬送部材５１、
５２を挟んで対向しているとともに、Ｙ方向にそれぞれ
直列に２つ配設された周面研磨装置５３とを具え、さら
に、ウエハ反転部材８０を具えている。

【００３４】このウエハ反転部材８０は、端面研磨部５
０の上部に沿ってそれぞれ設けられた軌条８２に沿って
Ｙ方向に移動可能であるとともに、ウエハを反転可能な
一対のウエハ反転機構８１を具えている。

【００３５】そして、このウエハ反転機構８１は、前記
一方の搬送部材５１の各多関節アーム１３の上面に載置
したウエハを受け取って一方の多関節アーム１３が載置
したウエハを一方の周面研磨装置５３の片側の吸着盤５
４に、また、他方の多関節アーム１３が載置しているウ
エハを前記一方の周面研磨装置５３の他の片側の吸着盤
５４にそれぞれ受け渡す。さらに、前記供給部１０側の
周面研磨装置５３による端面の研磨後に吸着盤５４の両
ウエハを受け取って上昇するとともに、反転を行って、
他方の周面研磨装置５３の両吸着盤５４に受け渡し、こ
の他方の周面研磨装置５３による周端面の研磨後に他方
の搬送部材５２の両多関節アームに受け渡すようになっ
ている。

【００３６】なお、前記中央部にＹ方向に連続して配設
された２つの搬送部材５１、５２は、供給部１０で用い
た搬送部材１４と同様の構成である。

【００３７】一方、前記周面研磨装置５３は、中央部に
位置してドラムパッド５５ａがそれぞれ巻かれている一
対の研磨ドラム５５を有し、この研磨ドラム５５の両側
のＹ方向にはそれぞれ支持機構６５が配設されており、
この支持機構６５の上部には吸着盤５４を有する吸着部
６０が配設されている。この場合、各支持機構６５は、
平面から見てＹ方向に対して所定角度だけ傾斜した方向
（Ａ方向）で配設されており（図１０参照）、吸着部６
０には水平状態と傾斜状態との間を垂直方向に揺動可能
な吸着盤５４が配設されている。

【００３８】この吸着部６０は既述したように、ウエハ
をバキューム吸着するための吸着盤５４を保持する第１
ボディ６１と、この第１ボディ６１を支軸６２を中心に
揺動可能に保持する第２ボディ６３とを有し、この第２
ボディ６３が支持機構６５によって回転テーブル６４の
半径方向、すなわち、研磨ドラム５５に接離する方向
と、この研磨ドラム５５の半径方向と直交する方向、す
なわち、隣接する２つの研磨ドラム５５の中心を結ぶ線
と平行な方向とに移動可能に支持されている。

【００３９】そして、前記吸着盤５４を支持している吸
着部６０には、既述したようにこの発明によるウエハ吸
着部への液体の供給および真空引き機構が配設されてい
る。

【００４０】前記支持機構６５は、回転テーブル６４の
下面に固定された台板６６に研磨ドラム５５に接離する
方向（Ａ方向）に設けられた第１レール６７と、この第
１レール６７に沿って移動自在の第１スライド部材６８
と、第１スライド部材６８の上部に前記第１レール６７
と直交する向き（Ｂ方向）に設けられた第２レール６９
と、第２レール６９に沿って移動可能の第２スライド部
材７０とを有し、第２スライド部材７０の上部に前記第
２ボディ６３が脚７１により取付けられている。

【００４１】また、前記台板６６の下面にはプーリ７２
が取付けられ、このプーリ７２にワイヤ７２ａが張設さ
れており、ワイヤ７２ａの後端は前記第１スライド部材
６８から下向きに延出するアーム７３に固定され、ワイ
ヤ７２ａの先端には重り７４が吊り下げられている。そ
して、この重り７４によって第１スライド部材６８が第
１レール６７上を研磨ドラム５５側に向けて常時付勢さ
れている。

【００４２】また、前記第２スライド部材７０にはプー
リ９０を介して端部に重り９１が取付けられたワイヤ９
２が取付けられ、この重り９１によって吸着盤５４が付
勢されて吸着したウエハが２つの研磨ドラム５５、５５
に対して略均一に当接するように構成されている。

【００４３】これは、回転する研磨ドラム５５、５５に
対してウエハが当接した時にウエハ自体が回転すること
により生じる両研磨ドラム５５、５５に対する不均一な
当接力を略均一にするためのものである。

【００４４】前記台板６６の下面にはエアシリンダ７５
が取付けられ、このエアシリンダ７５のロッド７５ａの
先端がアーム７３に当接し、エアシリンダ７５により第
１スライド部材６８が重り７４に抗して研磨ドラム５５
から離間する方向に付勢されるように構成されている。

【００４５】なお、図９に示すように前記吸着盤５４
は、その表面に複数の吸着孔が穿設され、それらの吸着
孔が第１ボディ６１および第２ボディ６３等に設けられ
たポートや配管（ロータリージョイント）７７を介して
真空源１２８に接続されている。この吸着盤５４は、第
１ボディ６１に設けた駆動源で研磨時には非常にゆっく
りとした速度で回転される。

【００４６】また、前記のように前記第１ボディ６１
は、ロータリアクチュエータ７８で吸着盤５４が水平を
向いた状態と、傾斜した状態との間を支軸６２を中心と
して揺動可能であり、水平状態の時は研磨ドラム５５か
ら離間してウエハの受渡し、あるいは受取りを行なう。
そして、吸着盤５４が傾斜した状態では重り７４の作用
力によって両研磨ドラム５５、すなわち、２つの研磨ド
ラム５５に巻き付けたドラムパッド５５ａにそれぞれ押
圧接触し、これにより、ウエハは周面の２か所が同時に
研磨されるようになっている。

【００４７】なお、第１ボディ６１は非研磨位置にある
水平状態の時はシリンダ７５により重り７４に抗して研
磨ドラム５５から離間する方向に後退されている。ま
た、前記研磨ドラム５５は研磨装置の機台に設けた駆動
源７６によって回転可能に構成されている。さらに、吸
着盤５４に取付けたウエハＷの研磨時には切換え弁１２
７により真空源１２８と接続されて真空引きで吸着され
て研磨剤（スラリー）が用いられるとともに、この研磨
剤は回収されて再利用されるようになっている。

【００４８】ウエハ反転部材８０は、図２、図６に示
し、前述したように一方の側の２つの周面研磨装置５３
の上方を移動可能に設けられている。すなわち、ウエハ
反転部材８０は、一方の側の２つの周面研磨装置５３の
上方にＹ方向に設けられた軌条８２と、この軌条８２に
取付けられるとともに、前記研磨ドラム５５を挟んで対
向する一対の吸着盤５４に対応する間隔を有している一
対のウエハ反転機構８１とを有している。

【００４９】このウエハ反転部材８０のウエハ反転機構
８１は、周面研磨装置５３の研磨ドラム５５を挟んで対
向している水平状態の吸着盤５４に対応する位置の上方
にそれぞれ位置している。そして、ウエハ反転機構８１
は、駆動源によりウエハＷを掴持可能、かつ、垂直方向
に回転可能であり、ウエハを掴持した状態で回転するこ
とでウエハの表裏面を反転可能となっている一対の湾状
アームからなる湾状爪部８３と、この湾状爪部８３をシ
リンダ等の部材によって昇降可能な昇降アーム８４と、
この昇降アーム８４を固定している移動機台８５とを有
している。

【００５０】前記移動機台８５は、それに設けた駆動源
によって前記軌条８２に沿ってＹ方向に移動可能となっ
ている。

【００５１】したがって、図２に示すようにそれぞれ湾
状爪部８３を有しているウエハ反転機構８１（８１ａ、
８１ｂ）は、供給部１０側の周面研磨装置５３の研磨ド
ラム５５を挟んで対向している水平状態の吸着盤５４、
５４の上方から、他の周面研磨装置５３の研磨ドラム５
５を挟んで対向する水平状態の吸着盤５４、５４の上方
に位置する位置までの間を、上方に配設された軌条８２
に沿ってＹ方向に移動可能となっている。

【００５２】この場合、両周面研磨装置５３の吸着盤５
４のうちの供給部１０側の吸着盤５４ａの上方に対向す
るのは同一のウエハ反転機構８１（８１ａ）であり、し
たがって、両周面研磨装置５３の吸着盤５４のうちの供
給部１０側と反対側の吸着盤５４ｂの上方に対向するの
も同一のウエハ反転機構８１（８１ｂ）である。これに
よって、両周面研磨装置５３の供給部１０側の吸着盤５
４ａ、および供給部１０側と反対側の吸着盤５４ｂには
それぞれ同一のウエハＷが供給されるようになってい
る。なお、前記軌条８２およびウエハ反転部材８０は、
前記２つの搬送部材５１、５２を境にして対向して配設
されている他の２つの周面研磨装置５３の上方にも配設
されている。

【００５３】これによって、端面研磨部５０は、搬送部
材５１、５２を共用としてＹ方向に連続する２つの周面
研磨装置５３およびウエハ反転部材８０からなる２組の
端面研磨部５０が形成されることになる。

【００５４】また、前記端面研磨部５０に隣接して、研
磨後のウエハをカセットに収納する排出部１００が配設
されている。この排出部１００は、前記供給部１０に設
けられたカセット１１と同様なカセット１１が２つ配設
されており、このカセット１１の挿入方向先側は閉塞さ
れていて、それ以上の挿入は阻止されている。

【００５５】また、この各カセット１１の配設された部
位は前記端面研磨部５０に配設された搬送部材５２の両
多関節アームによって研磨後のウエハＷが収納可能な位
置である。さらに、この両カセット１１は基台１０１に
取付けられているとともに、この基台１０１は駆動源１
０２によって水平位置と垂直位置との間を上下方向に揺
動可能な基板１０３の上面に固定されており、しかも、
この基板１０３が垂直位置となった時は上面に設けたカ
セット１１が水没するように、排出部１００には水の貯
溜部１０４が形成されている（図２参照）。

【００５６】なお、前記両カセット１１のウエハの挿入
方向先側にはそれ以上のウエハの挿入を阻止するように
閉塞されているので、カセット１１の挿入方向先側が下
方になるように駆動源１０２で基板１０３が回動されて
水没した場合であっても、カセット１１内のウエハが飛
び出したりする恐れはない。

【００５７】このカセット１１が水没する時に、内部に
収納した研磨後のウエハはその端面から水没することに
なり、水の抵抗が作用することがなく円滑に水没できる
とともに、水没時および引き上げ時には水によって表面
が洗われるような作用を受けるものである。

【００５８】つぎに、前記のように構成されている端面
研磨装置の動作について説明する。前記供給部１０の載
置台１１０上に載置されたカセット１１から搬送部材１
４によってウエハＷが搬出されてアライナ１２に伝達さ
れ、このアライナ１２でノッチが一定の位置となるよう
にウエハＷの位置決めを行う。

【００５９】こののち、搬送部材１４の多関節アーム１
３がウエハＷを搬送してウエハＷの前後を反転し、一
方、３爪部材２３の爪部２４がウエハを掴持してノッチ
研磨装置２２の吸着盤３６に渡し、ノッチ研磨装置２２
でノッチの研磨を行う。

【００６０】このノッチの研磨時に、この発明によるウ
エハ吸着部への液体の供給および真空引き機構によって
吸着盤３６の上面にパッドＰを介してウエハＷが吸着さ
れ、吸着を解除する時は、真空源から水等の液体の供給
源との接続に切り換え、パッドＰの内部に液体を通過さ
せることで、ウエハＷを剥離するとともに、パッドＰの
内部の砥粒を流し出すことになる。また、ノッチの研磨
が終了したウエハは搬送部材５１によって、周面研磨装
置５３の対向する吸着盤５４に搬送されて、この吸着盤
５４でも同様にこの発明によるウエハ吸着部への液体の
供給および真空引き機構が作用し、周面研磨装置５３に
おいて２つの研磨ドラム５５で端面を研磨される。

【００６１】また、この研磨は水平に対して垂直方向に
所定角度だけ傾斜した状態で行われるので、まず、始め
の周面研磨装置５３で研磨され、こののちウエハは次の
周面研磨装置５３に運ばれる。そして、始めの周面研磨
装置５３と次の周面研磨装置５３との間の上方にはウエ
ハ反転部材８０が設けられているので、始めの周面研磨
装置５３で研磨されたウエハはウエハ反転部材８０で反
転されて次の周面研磨装置５３に搬送されて再び研磨さ
れる。すなわち、ウエハＷの端面は傾斜状態で２回研磨
ドラム５５に押圧されて研磨されることになる。そし
て、吸着盤５４で吸着されたときはこの発明によるウエ
ハ吸着部への液体の供給および真空引き機構が作用す
る。

【００６２】この研磨時にウエハの端面は面取りされて
いるので表面側の研磨時に端面の中央部および表面側の
面取り端面が、そして裏面側の研磨時に端面の中央部お
よび裏面側の面取り端面がそれぞれ研磨されることにな
る。

【００６３】そして表裏面でそれぞれ研磨されたウエハ
Ｗは、搬送部材５２のアームによって排出部１００に搬
送されてそこに位置するカセット１１に収納されるよう
になっている。したがって、排出部１００のカセット１
１の内部にはノッチおよび周端面が研磨されたウエハＷ
が積層された状態で収納されることとなり、端面研磨装
置における研磨作業は終了するものである。

【００６４】

【発明の効果】この発明は前記のように構成したことに
より、ウエハの研磨時にウエハを固定する時は真空源と
接続することでウエハを吸着盤に真空吸着して確実に固
定することができ、また、研磨終了後に液体供給源と接
続することでウエハの吸着を確実に解除することができ
る。この解除する時に、吸着盤の吸着孔から液体を噴出
するようにしたので、噴出された液体はまずパッドを通
過してウエハの下面に到達する。このパッドの通過時
に、パッドの内部に溜まっている砥粒は流されるので砥
粒がパッドの内部に留まることはなく、パッドに染みが
生じる恐れはないし、パッド自体が湿されているので乾
燥して変形する等の劣化が生じる恐れもない。しかも、
前記の真空源と液体供給源との接続の切換えは切換え弁
で行うことができるので、全体の構成が簡易、かつ安価
であるという効果を有している。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明によるウエハ吸着部への液体の供給お
よび真空引き機構が採用されている端面研磨装置の全体
を示す概略平面図である。

【図２】端面研磨装置の全体を示す概略正面図である。

【図３】図１のＣ−Ｃ線に沿って見た概略図である。

【図４】ノッチ研磨装置の概略平面図である。

【図５】ノッチ研磨装置の概略正面図である。

【図６】図１のＤ−Ｄ線に沿って見た概略図である。

【図７】端面研磨装置に配置された周面研磨装置の概略
正面図である。

【図８】端面研磨装置に配置された周面研磨装置の概略
側面図である。

【図９】端面研磨装置に配置された周面研磨装置の吸着
部の近傍を示す概略正面図である。

【図１０】端面研磨装置に配置された端面研磨部の片側
を示す概略平面図である。

【図１１】端面研磨装置に配置された端面研磨部の片側
を示す概略正面図である。

【図１２】供給部を示す概略平面図である。

【図１３】ウエハ吸着部への液体の供給および真空引き
機構の概略説明図である。

【符号の説明】

１０……供給部 １１……カセット １２……アライナ １３……多関節アーム １４、５１、５２……搬送部材 １５……二股部 ２０……ノッチ研磨部 ２１……ウエハ渡し部 ２２……ノッチ研磨装置 ２３……３爪部材 ２４……爪部 ２９、８２……軌条 ３０、６０……吸着部 ３１……カバー ３２……ノッチ研磨用パッド ３３、７６、１０２……駆動源 ３４……研磨部 ３５……吸着孔 ３６、５４（５４ａ、５４ｂ）……吸着盤 ３７……機台 ３８……主軸 ３９……基盤 ４０、１０３……基板 ４１……ベルト ４２……連結部材 ４３、７２ａ、９２……ワイヤ ４４、７２、９０……プーリ ４５、７４、９１……重り ４６、７５……シリンダ ４６ａ……作動部 ５０……端面研磨部 ５３……周面研磨装置 ５５……研磨ドラム ５５ａ……ドラムパッド ６１……第１ボディ ６２……支軸 ６３……第２ボディ ６４……回転テーブル ６５……支持機構 ６６……台板 ６７……第１レール ６８……第１スライド部材 ６９……第２レール ７０……第２スライド部材 ７１……脚 ７３……アーム ７５ａ……ロッド ７７……配管（ロータリージョイント） ７８……ロータリアクチュエータ ８０……ウエハ反転部材 ８１（８１ａ、８１ｂ）……ウエハ反転機構 ８３……湾状爪部 ８４……昇降アーム ８５……移動機台 １００……排出部 １０１……基台 １０４……貯溜部 １１０……載置台 １１１……ロボット １２０……モータ １２１……駆動軸 １２３、１２６……歯車 １２５……管部材 １２７……切換え弁 １２８……真空源 １２９……水供給源 Ｐ……パッド Ｗ……ウエハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/304 ６２２ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６２２Ｈ 21/68 21/68 Ｐ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 供給したウエハをノッチ研磨装置および
   周面研磨装置で研磨した後に排出するようにした端面研
   磨装置において、前記ノッチ研磨装置および周面研磨装
   置のウエハの吸着部に液体の供給および真空引き機構を
   配設し、該液体の供給および真空引き機構は、上面にパ
   ッドを介して載置したウエハを回転駆動する吸着盤に配
   設される管部材と、この管部材にロータリージョイント
   および切換え手段を介して接続される真空源および液体
   の供給源とを具え、前記ウエハの吸着時には前記管部材
   と連通する吸着孔から真空引きしてウエハをパッドに吸
   着し、ウエハの剥離時には液体の供給源からの液体をパ
   ッドを介してウエハを押圧し、この液体はパッドの内部
   の砥粒を流すとともに、パッドを湿らせることを特徴と
   する端面研磨装置におけるウエハ吸着部への液体の供給
   および真空引き機構。
2. 【請求項２】 前記切換え手段は、真空源および液体の
   供給源を前記管部材に択一的に接続する切換え弁である
   請求項１記載の端面研磨装置におけるウエハ吸着部への
   液体の供給および真空引き機構。