JP2000183135A - 端面研磨装置における搬送部材の支持機構 - Google Patents

端面研磨装置における搬送部材の支持機構

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JP2000183135A
JP2000183135A JP35789198A JP35789198A JP2000183135A JP 2000183135 A JP2000183135 A JP 2000183135A JP 35789198 A JP35789198 A JP 35789198A JP 35789198 A JP35789198 A JP 35789198A JP 2000183135 A JP2000183135 A JP 2000183135A
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polishing
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notch
movable plate
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JP35789198A
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Shunji Hakomori
駿二 箱守
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハの受取り、および受渡しを行うととも
に、水平方向に搬送する搬送部材を、水平方向に円滑
に、かつ、短時間で移動させることができる端面研磨装
置における搬送部材の支持機構を提供する。 【解決手段】 基板に、上下方向に間隔を置くととも
に、水平方向に延びる突出部と、ねじ軸とを配設し、可
動板に、この突出部と係合する係合部と、前記ねじ軸に
螺合するねじ孔を有するねじ部材と配設し、駆動源で前
記ねじ軸を回転した時前記可動板は突出部および係合部
の作用によって水平方向に移動するようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は端面研磨装置にお
ける搬送部材の支持機構に関し、特に、ウエハを供給部
内および研磨部内において搬送するための搬送部材を支
持するための端面研磨装置における搬送部材の支持機構
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、シリコンウエハのような半導体
ウエハは、エッジのチッピング防止やエピタキシャル成
長時のクラウン防止等のために、その周縁部に面取り加
工が施されている。この面取り加工は、ダイヤモンド砥
石で研削することにより行われるが、研削後に加工歪層
が残り易く、このような加工歪層が残っていると、ディ
バイスプロセスにおいて熱処理を繰り返した時に結晶欠
陥が発生することがある。このために通常は、上記加工
歪層をエッチングにより除去しているが、エッチング処
理した表面は波状や鱗状の凹凸になって汚れが残り易
く、この汚れがディバイスプロセスにおいてウエハ全体
に拡散し、特性を劣化させる大きな原因となる。
【0003】そこで、近年では、ウエハの面取り加工し
たエッジを鏡面研磨により平滑化するための技術がウエ
ハの表面の研磨とは全く別の技術として確立されてお
り、ウエハのエッジを鏡面研磨する装置として種々の端
面研磨装置が提案されている。
【0004】そして、ウエハの端面研磨装置にあって
は、複数のダブルアームからなる搬送部材が設けられて
いる。すなわち、それらは、まず、供給部に、内部に複
数のウエハを積層状態で収納したカセットを配設し、搬
送部材によってこのカセットの内部からウエハを排出し
てノッチの位置決めを行うためのアライナに搬送するた
めの搬送部材である。さらに、こののちウエハは、ノッ
チ研磨部でノッチが研磨され、さらに、ノッチが研磨さ
れたウエハを周面研磨部に搬送し、この周面研磨部にお
いては、表面側を上にして周面を研磨し、さらに、表裏
面を反転して、今度は裏面を上にして周面の研磨を行う
ようになっているので、ノッチが研磨されたウエハを受
け取るとともに、表面を上にして周面を研磨する周面研
磨装置に搬送するための搬送部材と、裏面を上にして周
面が研磨された周面研磨装置からウエハを受け取るため
の搬送部材とが設けられている。そして、各搬送部材は
横方向に移動可能に配設されている。
【0005】この発明の目的は、供給部および研磨部に
おいてウエハを水平方向に搬送するための搬送部材を、
水平方向に、かつ、円滑に移動させることができる端面
研磨装置における搬送部材の支持機構を提供することに
ある。
【0006】
【問題点を解決するための手段】上記の問題点を解決す
るためにこの発明は、カセット内のウエハを搬送部材で
受け取ってアライナに搬送し、こののちノッチ研磨装置
で研磨したウエハを搬送部材で順次受け取って周面研磨
部の周面研磨装置に搬送し、また、周面研磨部で周面を
研磨したウエハを搬送部材で順次受け取って排出部に搬
送するようにした端面研磨装置において、前記搬送部材
を水平方向に移動させる支持機構を配設し、該支持機構
は、水平方向に延びる突出部と、該突出部と平行となっ
ているとともに、駆動源によって回転駆動されるねじ軸
とが配設された基板を有し、さらに、前記突出部と係合
する係合部と、ねじ軸と螺合するねじ孔を有するねじ部
材とを有する可動板を具え、該可動板に前記搬送部材が
取付けられる構成を有している。そして、前記基板に設
けられた突出部は上下方向に平行に一対設けられている
とともに、前記可動板の係合部も一対配設されている構
成を有している。
【0007】
【作用】この発明は上記の手段を採用したことにより、
供給部においてはカセット内に収納されたウエハを受け
取ってアライナ搬送する搬送部材を水平方向に確実に移
動させることができる。また、周面研磨部においても、
ノッチ研磨済みのウエハを最初の周面研磨装置に搬送す
るための搬送部材を水平方向に確実に移動させ、また、
最後の周面研磨装置で周面が研磨されたウエハを受け取
って排出部に移動するための搬送部材を水平方向に確実
に移動させることができることとなる。
【0008】
【発明の実施の形態】以下、図面に示すこの発明の実施
の形態について説明する。図面にはこの発明による搬送
部材の支持機構が採用されているウエハの端面研磨装置
(エッジポリッシャ)の全体が示されている。
【0009】この端面研磨装置は、内部にウエハを積層
して収納したカセットからウエハを取り出して一定の向
きに整列させ、さらに前後を反転してつぎの工程に搬送
する供給部10と、この供給部10からのウエハを受け
取ってウエハに設けたノッチを研磨するノッチ研磨部2
0と、このノッチ研磨部20でノッチを研磨されたウエ
ハを受け取って、まず表面側を上にした状態でウエハの
周面の研磨を行い、さらに、ウエハの表裏を反転させた
状態で同様にウエハの周面の研磨を行う周面研磨部50
と、ノッチおよび周面の研磨が終了したウエハを収納す
るカセットを有している排出部100とを具えている。
【0010】そして、この発明による搬送部材の支持機
構111、112は前記供給部10および周面研磨部5
0とに設けられている。すなわち、この搬送部材の支持
機構111、112は、端面研磨装置における配置状態
が図1、図2、図3、図6および図12に示されてお
り、詳細が図13、図14および図15に示されてい
る。
【0011】この支持機構111は、前記供給部10の
載置台110に沿って直立状態で取付けられるととも
に、側面に上下方向に所定の間隔をおいて水平方向に延
びる2つの突出部121が設けられた基板120を有
し、さらに、前記基板120には前記突出部121間に
おいて水平方向に延びるとともに、軸受け122によっ
て回転可能に支持され、一方の端部にモータ等の回転駆
動源123が一体に連結されているねじ軸124が取付
けられている。
【0012】また、前記ねじ軸124に螺合するねじ孔
が設けられたねじ部材125が裏面に取付けられた可動
板126は、裏面に前記両突出部121を受け入れる係
合部127がそれぞれ配設され、これによって、回転駆
動源123の駆動によるねじ軸124の回動時に、前記
可動板126は係合部127が基板120の突出部12
1と係合していることにより、水平方向に移動可能とな
っている。さらに、前記可動板126の表面側にはカセ
ット11内のウエハWをアライナ12に配送するための
多関節アーム13を有している搬送部材14が取付けら
れている。
【0013】一方、前記周面研磨部50においても、搬
送部材の支持機構112が設けられており、このものに
あっては、前記供給部10に配設された支持機構111
が2つ連続して配設された形状をなしている。すなわ
ち、長尺な基板120に外側に上下方向に所定の間隔を
おいて水平方向に延びる2つの突出部121が一体に形
成されるとともに、この突出部121間において水平方
向に延びるとともに、2つの部分で構成され、各部分は
軸受け122によってそれぞれ回転可能に支持され、そ
れぞれの部分の一方の端部にモータ等の回転駆動源12
3がそれぞれ一体に連結されているねじ軸124が配設
されている。
【0014】そして、各ねじ軸124には裏面に、螺合
するねじ孔を有するねじ部材125を有する可動板12
6がそれぞれ取付けられ、さらに、可動板126の裏面
に設けた係合部127は前記突出部121に係合した状
態となっている。これによって、回転駆動源123の駆
動によるねじ軸124の回動時に、前記各可動板126
はそれぞれ水平方向に移動可能となっている。そして、
一方の可動板126には搬送部材51が、他方の可動板
126には搬送部材52がそれぞれ配設されている。
【0015】この発明の支持機構111、112は上記
のように構成されており、上記のように構成されたこの
発明による支持機構111、112が前記供給部10お
よび周面研磨部50とに設けられた端面研磨装置を説明
する。
【0016】まず、前記供給部10について説明する
と、前記供給部10は、その詳細を図12に示すよう
に、内部にウエハWを積層して収納する2つのカセット
11、11と、このカセット11内のウエハWを順次取
り出して周面に形成されたノッチが一定の位置となるよ
うに整列させるアライナ12と、前記カセット11から
アライナ12にウエハを伝達するとともに、アライナ1
2から取り出して整列されたウエハを水平状態で180
°回転して前後を反転させ、この前後が反転した状態で
次のノッチ研磨工程に搬送するための多関節アーム13
を具えた搬送部材14とから構成されており、前記搬送
部材14は載置台110の側部に設けた支持機構111
に取付けられている。
【0017】前記2つのカセット11、11と、アライ
ナ12とは載置台110に載置されており、一方、前記
搬送部材14は前記載置台110に沿って移動するよう
に載置台110の側面に取付けられた支持機構111に
取付けられている。そして、前記搬送部材14は図示の
実線の位置と2点鎖線の位置との間を往復移動可能であ
り、先端部に二股部15が配設された多関節アーム1
3、13を2つ有しており、この搬送部材14の2つの
二股部15の上面にはそれぞれウエハWが載置されて多
関節アーム13の伸縮に応じてウエハWを搬送可能とな
っている。
【0018】なお、前記搬送部材14の外側で2点鎖線
で示す円は二股部15の回動域を示している。さらに、
前記アライナ12は、たとえば特許第2729297号
公報に示されており、搬送部材14の多関節アーム13
の二股部15で搬送されたウエハWを受け取って、ウエ
ハWの周縁部に設けたノッチが多関節アーム13の二股
部15に対して所定の位置として整列させるようになっ
ている。
【0019】したがって、前記搬送部材14は、カセッ
ト11からウエハWを取り出して支持機構111によっ
て水平方向に移動してアライナ12に搬送し、また、ア
ライナ12で整列されたウエハWを受け取ってこのウエ
ハの前後位置を反転し、すなわち、ノッチの位置を前後
逆にしてアライナ12側としてウエハ渡し部21、21
に伝達する。この場合、ウエハ渡し部21、21は後述
するノッチ研磨部20に設けられたノッチ研磨装置22
に対応するように2点鎖線で示すように2か所に形成さ
れている(図1参照)。
【0020】また、前記供給部10に連続してノッチ研
磨部20が設けられている。このノッチ研磨部20は、
図1に示すように前記2つのウエハ渡し部21、21を
挟んで対向する一対のノッチ研磨装置22、22と、図
2に示すように前記両ノッチ研磨装置22、22の上方
にそれぞれ位置するとともに、昇降可能、かつウエハ渡
し部21とノッチ研磨装置22との間をX方向に配設さ
れた軌条29に沿って移動可能であり、下降位置の時に
前記ウエハ渡し部21において前記ウエハWを受け取っ
て上昇し、さらに、X方向に移動してノッチ研磨装置2
2の上方に位置し、こののち下降してノッチ研磨装置2
2の吸着盤36に渡すようになっているウエハ掴持機構
23が設けられている。
【0021】そして、前記ウエハ掴持機構23の爪部2
4の3つの爪によって、ウエハWを掴持して搬送するも
のである。
【0022】そして、前記爪部24は昇降可能であると
ともに、X方向に移動可能、かつ、水平を保持したまま
で回動可能に構成されており、X方向に移動した時には
図4に示すようなノッチ研磨装置22、22の吸着盤3
6の上方にそれぞれ位置するようになっている。
【0023】前記ノッチ研磨装置22は、図4、5に示
すように、ウエハ掴持機構23の爪部24の下降位置に
位置し、かつ、上面にウエハを吸着するとともに、水平
状態を基準として上下方向に傾斜可能な吸着部30と、
この吸着部30に吸着されたウエハに接離可能であると
ともに、ノッチに対向する部位が開放しているカバー3
1と、このカバー31の内部に位置してノッチに当接す
るように表出しているノッチ研磨用パッド32と、この
ノッチ研磨用パッド32を回動する駆動源33等からな
る研磨部34とから構成されている。
【0024】前記吸着部30は、円盤をなす上面に円周
状の吸着孔35が形成され、さらに、図5の2点鎖線で
示す状態に、研磨部34側の端部、すなわちノッチ側を
中心として傾斜可能となっている吸着盤36を有し、こ
の吸着盤36には真空源が接続されている。
【0025】前記研磨部34は、ノッチ研磨装置22の
機台37に、吸着部30を向いて配設された主軸38が
貫通した状態で基盤39が設けられ、この基盤39には
基板40が起立状態で配設され、この基板40の上部に
は内部にノッチ研磨用パッド32が位置するカバー31
が取付けられ、下方には駆動源33が設けられて駆動源
33とノッチ研磨用パッド32の回転軸との間にはベル
ト41が張設されている。
【0026】一方、前記基盤39には連結部材42が設
けられ、この連結部材42にはワイヤ43が連結されて
ワイヤ43には機台に設けたプーリ44を介して重り4
5が吊り下げられている。したがって、重り45によっ
て主軸38に沿って基盤39が移動して基盤39に設け
た基板40に設けたノッチ研磨用パッド32が吸着盤3
6に吸着されたウエハWのノッチに押圧されるようにな
っている。なお、46は、作動部46aが前記重り45
に抗して基盤39を移動させるシリンダであり、シリン
ダ46によってノッチから離れた位置に可動部を位置さ
せることができる。
【0027】そして、ノッチ研磨部20には上記のよう
に構成されているノッチ研磨装置22がウエハ渡し部2
1を挟んで2つ設けられている。
【0028】さらに、前記ノッチ研磨部20に連続して
周面研磨部50が設けられている。この周面研磨部50
には、直列に配設された周面研磨装置53、53の横側
にこの発明による支持機構112が配設されており、こ
の支持機構112で支持された状態で搬送部材51、5
2が配設されている。したがって、周面研磨部50に
は、中央部にY方向に連続して配設されるとともに、直
列に設けられて、それぞれY方向に往復移動可能な2つ
の多関節アームを具えた2つの搬送部材51、52と、
この2つの搬送部材51、52を挟んで対向していると
ともに、Y方向にそれぞれ直列に2つ配設された周面研
磨装置53とが設けられ、さらに、ウエハ反転部材80
が設けられている。
【0029】このウエハ反転部材80は、周面研磨部5
0の上部に沿ってそれぞれ設けられた軌条82に沿って
Y方向に移動可能であるとともに、ウエハを反転可能な
一対のウエハ反転機構81を具えている。
【0030】そして、このウエハ反転機構81にはウエ
ハチャック機構83が設けられている。すなわち、この
ウエハチャック機構83は、前記一方の搬送部材51の
各多関節アーム13の上面に載置したウエハWを受け取
るようになっている。この場合、一方の多関節アーム1
3が載置したウエハを一方の周面研磨装置53の片側の
吸着盤54に、また、他方の多関節アーム13が載置し
ているウエハを前記一方の周面研磨装置53の他の片側
の吸着盤54にそれぞれ受け渡す。さらに、前記供給部
10側の周面研磨装置53による端面の研磨後に吸着盤
54の両ウエハを受け取って上昇するとともに、反転を
行って、他方の周面研磨装置53の両吸着盤54に受け
渡し、この他方の周面研磨装置53による周端面の研磨
後に他方の搬送部材52の両多関節アーム13、13に
受け渡すようになっている。
【0031】なお、前記中央部にY方向に連続して配設
された2つの搬送部材51、52は、供給部10で用い
た搬送部材14と同様の構成である。
【0032】一方、前記周面研磨装置53は、中央部に
位置してドラムパッド55aがそれぞれ巻かれている一
対の研磨ドラム55を有し、この研磨ドラム55の両側
のY方向にはそれぞれウエハ押圧機構60が配設されて
いる。この場合、各ウエハ押圧機構60は、平面から見
てY方向に対して所定角度だけ傾斜した方向(A方向)
で配設されており(図10参照)、また、上部には水平
状態と傾斜状態との間を垂直方向に揺動可能な吸着盤5
4が配設されている。
【0033】このウエハ押圧機構60は図7、図8およ
び図9に示すように、ウエハをバキューム吸着するため
の吸着盤54を保持する第1ボディ61と、この第1ボ
ディ61を支軸62を中心に揺動可能に保持する第2ボ
ディ63とを有し、第2ボディ63が支持機構65によ
って回転テーブル64の半径方向、すなわち、研磨ドラ
ム55に接離する方向と、この研磨ドラム55の半径方
向と直交する方向、すなわち、隣接する2つの研磨ドラ
ム55の中心を結ぶ線と平行な方向とに移動可能に支持
されている。
【0034】前記支持機構65は、回転テーブル64の
下面に固定された台板66に研磨ドラム55に接離する
方向(A方向)に設けられた第1レール67と、この第
1レール67に沿って移動自在の第1スライド部材68
と、第1スライド部材68の上部に前記第1レール67
と直交する向き(B方向)に設けられた第2レール69
と、第2レール69に沿って移動可能な第2スライド部
材70とを有し、第2スライド部材70の上部に前記第
2ボディ63が脚71により取付けられている。
【0035】また、前記台板66の下面にはプーリ72
が取付けられ、このプーリ72にワイヤ72aが張設さ
れており、ワイヤ72aの後端は前記第1スライド部材
68から下向きに延出するアーム73に固定され、ワイ
ヤ72aの先端には重り74が吊り下げられている。そ
して、この重り74によって第1スライド部材68が第
1レール67上を研磨ドラム55側に向けて常時付勢さ
れている。
【0036】また、前記第2スライド部材70にはプー
リ90を介して端部に重り91が取付けられたワイヤ9
2が取付けられ、この重り91によって吸着盤54が付
勢されて吸着したウエハが2つの研磨ドラム55、55
に対して略均一に当接するように構成されている。
【0037】これは、回転する研磨ドラム55、55に
対してウエハが当接した時にウエハ自体が回転すること
により生じる両研磨ドラム55、55に対する不均一な
当接力を略均一にするためのものである。
【0038】前記台板66の下面にはエアシリンダ75
が取付けられ、このエアシリンダ75のロッド75aの
先端がアーム73に当接し、エアシリンダ75により第
1スライド部材68が重り74に抗して研磨ドラム55
から離間する方向に付勢されるように構成されている。
【0039】なお、図9に示すように前記吸着盤54
は、その表面に複数の吸着孔が穿設され、それらの吸着
孔が第1ボディ61および第2ボディ63等に設けられ
たポートや配管77を介して真空源(図示せず)に接続
されている。この吸着盤54は、第1ボディ61に設け
た駆動源で研磨時には非常にゆっくりとした速度で回転
される。
【0040】また、前記のように前記第1ボディ61
は、ロータリアクチュエータ78で吸着盤54が水平を
向いた状態と、傾斜した状態との間を支軸62を中心と
して揺動可能であり、水平状態の時は研磨ドラム55か
ら離間してウエハの受渡し、あるいは受取りを行なう。
そして、吸着盤54が傾斜した状態では重り74の作用
力によって両研磨ドラム55、すなわち、2つの研磨ド
ラム55に巻き付けたドラムパッド55aにそれぞれ押
圧接触し、これにより、ウエハは周面の2か所が同時に
研磨されるようになっている。
【0041】なお、第1ボディ61は非研磨位置にある
水平状態の時はシリンダ75により重り74に抗して研
磨ドラム55から離間する方向に後退されている。ま
た、前記研磨ドラム55は研磨装置の機台に設けた駆動
源76によって回転可能に構成されている。さらに、吸
着盤54に取付けたウエハWの研磨時には研磨剤(スラ
リー)が噴出されるとともに、この研磨剤は回収されて
再利用されるようになっている。
【0042】ウエハ反転部材80は、図2、図6に示
し、前述したように一方の側の2つの周面研磨装置53
の上方を移動可能に設けられている。すなわち、ウエハ
反転部材80は、一方の側の2つの周面研磨装置53の
上方にY方向に設けられた軌条82と、この軌条82に
取付けられるとともに、前記研磨ドラム55を挟んで対
向する一対の吸着盤54に対応する間隔を有している一
対のウエハ反転機構81とを有している。
【0043】このウエハ反転部材80のウエハ反転機構
81は、周面研磨装置53の研磨ドラム55を挟んで対
向している水平状態の吸着盤54に対応する位置の上方
にそれぞれ位置している。そして、ウエハ反転機構81
は、駆動源によりウエハWを掴持可能、かつ、垂直方向
に回転可能であり、ウエハを掴持した状態で回転するこ
とでウエハの表裏面を反転可能となっている一対の湾状
アームからなるウエハチャック機構83と、このウエハ
チャック機構83をシリンダ等の部材によって昇降可能
な昇降アーム84と、この昇降アーム84を固定してい
る移動機台85とを有している。
【0044】前記移動機台85は、それに設けた駆動源
によって前記軌条82に沿ってY方向に移動可能となっ
ている。
【0045】したがって、図2に示すようにそれぞれウ
エハチャック機構83を有しているウエハ反転機構81
(81a、81b)は、供給部10側の周面研磨装置5
3の研磨ドラム55を挟んで対向している水平状態の吸
着盤54、54の上方から、他の周面研磨装置53の研
磨ドラム55を挟んで対向する水平状態の吸着盤54、
54の上方に位置する位置までの間を、上方に配設され
た軌条82に沿ってY方向に移動可能となっている。
【0046】この場合、両周面研磨装置53の吸着盤5
4のうちの供給部10側の吸着盤54aの上方に対向す
るのは同一のウエハ反転機構81(81a)であり、し
たがって、両周面研磨装置53の吸着盤54のうちの供
給部10側と反対側の吸着盤54bの上方に対向するの
も同一のウエハ反転機構81(81b)である。これに
よって、両周面研磨装置53の供給部10側の吸着盤5
4a、および供給部10側と反対側の吸着盤54bには
それぞれ同一のウエハWが供給されるようになってい
る。なお、前記軌条82およびウエハ反転部材80は、
前記2つの搬送部材51、52を境にして対向して配設
されている他の2つの周面研磨装置53の上方にも配設
されている。
【0047】これによって、周面研磨部50は、搬送部
材51、52を共用としてY方向に連続する2つの周面
研磨装置53およびウエハ反転部材80からなるものが
2組形成されることになる。
【0048】また、前記周面研磨部50に隣接して、研
磨後のウエハをカセットに収納する排出部100が配設
されている。この排出部100は、前記供給部10に設
けられたカセット11と同様なカセット11が2つ配設
されており、このカセット11の挿入方向先側は閉塞さ
れていて、それ以上の挿入は阻止されている。
【0049】また、この各カセット11の配設された部
位は前記周面研磨部50に配設された搬送部材52の両
多関節アームによって研磨後のウエハWが収納可能な位
置である。さらに、この両カセット11は基台101に
取付けられているとともに、この基台101は駆動源1
02によって水平位置と垂直位置との間を上下方向に揺
動可能な基板103の上面に固定されており、しかも、
この基板103が垂直位置となった時は上面に設けたカ
セット11が水没するように、排出部100には水の貯
溜部104が形成されている(図2参照)。
【0050】なお、前記両カセット11のウエハの挿入
方向先側にはそれ以上のウエハの挿入を阻止するように
閉塞されているので、カセット11の挿入方向先側が下
方になるように駆動源102で基板103が回動されて
水没した場合であっても、カセット11内のウエハが飛
び出したりする恐れはない。
【0051】このカセット11が水没する時に、内部に
収納した研磨後のウエハはその端面から水没することに
なり、水の抵抗が作用することがなく円滑に水没できる
とともに、水没時および引き上げ時には水によって表面
が洗われるような作用を受けるものである。
【0052】つぎに、前記のように構成されている端面
研磨装置の動作について説明する。ウエハを収納したカ
セットを載置台110に載置すると支持機構111に沿
って水平方向に移動可能となっている搬送部材14によ
ってウエハWが搬出されてアライナ12に伝達され、こ
のアライナ12でノッチが所定の位置となるようにウエ
ハWの位置決めを行う。
【0053】こののち、搬送部材14の多関節アーム1
3がウエハWを搬送してウエハWの前後を反転し、一
方、ウエハ掴持機構23の爪部24がウエハWを掴持し
て移動してノッチ研磨装置22の吸着盤36に渡し、ノ
ッチ研磨装置22でノッチの研磨を行う。また、ノッチ
の研磨が終了したウエハは図1の実線に示す位置となっ
ている搬送部材51が、その両多関節アーム13、13
でウエハWをそれぞれ受取ると、一方の周面研磨装置5
3の片側の吸着盤54に受渡し、また、搬送部材51は
回転駆動源123によって回転されるねじ軸124の作
用によって水平方向に右方に移動して鎖線に示す位置と
なって前記一方の周面研磨装置53の反対側の吸着盤5
4にそれぞれウエハを渡すようになっている。そして、
前記一方の周面研磨装置53において2つの研磨ドラム
55で周面を研磨される。
【0054】また、この研磨は水平に対して垂直方向に
所定角度だけ傾斜した状態で行われるので、まず、始め
の周面研磨装置53で研磨され、こののちウエハは次の
周面研磨装置53に運ばれる。そして、始めの周面研磨
装置53と次の周面研磨装置53との間の上方にはウエ
ハ反転部材80が設けられているので、始めの周面研磨
装置53で研磨されたウエハはウエハ反転部材80で反
転されて次の周面研磨装置53に搬送されて再び研磨さ
れる。すなわち、ウエハWの端面は傾斜状態で2回研磨
ドラム55に押圧されて研磨されることになる。
【0055】この研磨時にウエハの端面は面取りされて
いるので表面側の研磨時に端面の中央部および表面側の
面取り端面が、そして裏面側の研磨時に端面の中央部お
よび裏面側の面取り端面がそれぞれ研磨されることにな
る。
【0056】そして表裏面でそれぞれ研磨されたウエハ
Wは、まず、実線の位置となっている搬送部材52の一
方の多関節アーム13によって他方の周面研磨装置53
の片側の吸着盤54からのウエハWを受取り、また、搬
送部材52は回転駆動源123によって回転されるねじ
軸124の作用によって水平方向に右方に移動して鎖線
に示す位置となって他方の多関節アーム13によって前
記他方の周面研磨装置53の反対側の吸着盤54からの
ウエハWを受け取るようになっている。そして、両多関
節アーム13に受け取られて研磨されたウエハWは、排
出部100に搬送されてそこに位置するカセット11に
収納されるようになっている。したがって、排出部10
0のカセット11の内部にはノッチおよび周端面が研磨
されたウエハWが積層された状態で収納されることとな
り、端面研磨装置における研磨作業は終了するものであ
る。
【0057】上記のように搬送部材14は駆動源で回転
されるねじ軸によって水平方向に移動される可動板に取
付けられ、しかも、可動板自体が、それに設けた係合部
が突出部に係合しているので、自重も作用して上下方向
の変位なしに円滑に移動することができる。したがって
搬送部材自体も円滑に移動することができる。さらに、
搬送部材51、52とは、上記のような可動板を直列に
配設して、それぞれに取付けて構成してあるので、すな
わち、2分割した状態で配設してあるので、分割しない
で2つの搬送部材を並列に配設した場合と比較して図1
のX方向の幅を狭く構成できるとともに、移動する範囲
を分割したので移動に要する時間を短縮することができ
る。
【0058】
【発明の効果】この発明は前記のように構成したことに
より、可動板自体が、それに設けた係合部が突出部に係
合することと、自重が作用することとが相俟って駆動源
の起動時に上下方向に変位することなしに円滑に移動す
ることができ、したがって搬送部材自体も円滑に移動す
ることができ、搬送途中でウエハの載置位置をずらした
り、あるいは落下させたりして後工程に悪い影響を与え
る恐れは確実に防止できる。また、2分割してそれぞれ
を単独で移動可能としてそれぞれに搬送部材を取付ける
ことで搬送部材を直列に配設すると移動する時間を短く
することができて作業時間を短縮することができるとと
もに、2つの搬送部材を並列に配設した場合と比較して
図1のX方向の幅を狭く構成できて取付ける装置全体を
小型とすることができるという効果を有している。さら
に、前記突出部を上下方向に平行に一対配設するととも
に、係合部を一対配設することで係合時に作用する力を
分散することができるので耐久性も良好になるという効
果を有している。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明による搬送部材の支持機構が設けられ
ている端面研磨装置の全体を示す概略平面図である。
【図2】端面研磨装置の全体を示す概略正面図である。
【図3】図1のC−C線に沿って見た概略図である。
【図4】ノッチ研磨装置の概略平面図である。
【図5】ノッチ研磨装置の概略正面図である。
【図6】図1のD−D線に沿って見た概略図である。
【図7】周面研磨装置の概略正面図である。
【図8】周面研磨装置の概略側面図である。
【図9】周面研磨装置の吸着部の近傍を示す概略正面図
である。
【図10】周面研磨部の片側を示す概略平面図である。
【図11】周面研磨部の片側を示す概略正面図である。
【図12】供給部を示す概略平面図である。
【図13】この発明による搬送部材の支持機構を示す概
略正面図である。
【図14】この発明による搬送部材の支持機構を示す概
略側面図である。
【図15】この発明による搬送部材の支持機構の他の形
状を示す概略正面図である。
【符号の説明】
10……供給部 11……カセット 12……アライナ 13……多関節アーム 14、51、52……搬送部材 15……二股部 20……ノッチ研磨部 21……ウエハ渡し部 22……ノッチ研磨装置 23……ウエハ掴持機構 24……爪部 29、82……軌条 30……吸着部 31……カバー 32……ノッチ研磨用パッド 33、76、102……駆動源 34……研磨部 35……吸着孔 36、54(54a、54b)……吸着盤 37……機台 38……主軸 39……基盤 40、103、120……基板 41……ベルト 42……連結部材 43、72a、92……ワイヤ 44、72、90……プーリ 45、74、91……重り 46、75……シリンダ 46a……作動部 50……周面研磨部 53……周面研磨装置 55……研磨ドラム 55a……ドラムパッド 60……ウエハ押圧機構 61……第1ボディ 62……支軸 63……第2ボディ 64……回転テーブル 65……支持機構 66……台板 67……第1レール 68……第1スライド部材 69……第2レール 70……第2スライド部材 71……脚 73……アーム 75a……ロッド 77……配管 78……ロータリアクチュエータ 80……ウエハ反転部材 81(81a、81b)……ウエハ反転機構 83……ウエハチャック機構 84……昇降アーム 85……移動機台 100……排出部 101……基台 104……貯溜部 110……載置台 111、112……支持機構 121……突出部 122……軸受け 123……回転駆動源 124……ねじ軸 125……ねじ部材 126……可動板 127……係合部 W……ウエハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 3C049 AA07 AA12 AA16 AA18 AB01 AB08 AC01 AC04 BB04 CA01 CB03 5F031 CA02 DA01 DA17 FA01 FA11 FA12 FA20 FA22 GA08 GA10 GA13 GA44 GA47 GA48 GA49 MA22

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 カセット内のウエハを搬送部材で受け取
    ってアライナに搬送し、こののちノッチ研磨装置で研磨
    したウエハを搬送部材で順次受け取って周面研磨部の周
    面研磨装置に搬送し、また、周面研磨部で周面を研磨し
    たウエハを搬送部材で順次受け取って排出部に搬送する
    ようにした端面研磨装置において、前記搬送部材を水平
    方向に移動させる支持機構を配設し、該支持機構は、水
    平方向に延びる突出部と、該突出部と平行となっている
    とともに、駆動源によって回転駆動されるねじ軸とが配
    設された基板を有し、さらに、前記突出部と係合する係
    合部と、ねじ軸と螺合するねじ孔を有するねじ部材とを
    有する可動板を具え、該可動板に前記搬送部材が取付け
    られることを特徴とする端面研磨装置における搬送部材
    の支持機構。
  2. 【請求項2】 前記基板に設けられた突出部は上下方向
    に平行に一対設けられているとともに、前記可動板の係
    合部も一対配設されている請求項1記載の端面研磨装置
    における搬送部材の支持機構。
JP35789198A 1998-12-16 1998-12-16 端面研磨装置における搬送部材の支持機構 Withdrawn JP2000183135A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103358202A (zh) * 2013-07-26 2013-10-23 苏州信能精密机械有限公司 一种零件内孔去毛刺装置
CN111551364A (zh) * 2020-05-07 2020-08-18 北京铁道工程机电技术研究所股份有限公司 一种丝杠磨合机构和磨合方法

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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