JP2000232083A - 半導体ウエハのユニバーサルチャック機構 - Google Patents

半導体ウエハのユニバーサルチャック機構

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JP2000232083A
JP2000232083A JP7065799A JP7065799A JP2000232083A JP 2000232083 A JP2000232083 A JP 2000232083A JP 7065799 A JP7065799 A JP 7065799A JP 7065799 A JP7065799 A JP 7065799A JP 2000232083 A JP2000232083 A JP 2000232083A
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wafer
automatic switching
annular grooves
switching mechanism
disk
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Saburo Sekida
三郎 関田
Moriyuki Kashiwa
守幸 柏
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Okamoto Machine Tool Works Ltd
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Okamoto Machine Tool Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 半導体ウエハをバキューム吸着して研削また
は研磨するのに用いる径の異なる半導体ウエハに共通し
て使用可能なウエハのユニバーサルチャック機構の提
供。 【解決手段】 複数の環状溝4a〜4dの底部に各々球
状弁5zの弁座5sを備える中空状の連通管5hを各々
起立させ、かつ、この連通管内部には上方の圧縮スプリ
ング5jと下方の圧縮スプリング5iとで挟持した遊動
自在な球状弁を球状弁が弁座よりも上の位置に浮いて存
在するように介在させ、かつ、下方の圧縮スプリングが
存在する連通管の場所に水平方向に一端が封栓され、他
端が中央凹陥部に連通する通気管を備えるフレーム本体
4の下面に設けられる自動切替機構5、これらフレーム
本体4および自動切替機構5を軸承する中空管8および
上端が自動切替機構5の中央凹陥部5fに連通し、下端
がバキューム機器に連通されている前記中空軸8の内部
に設けられた中空軸7を備える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、径が異なった半導
体ウエハであっても1台のチャックテーブルでウエハを
吸着し、研削あるいは研磨できるユニバーサルチャック
機構に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体ウエハの研削、研磨に用いるバキ
ュームチャック機構1としては、例えば図7に示すよう
に不通気性部材で形成した円盤形状のフレーム本体4の
中心部に中央凹陥部を形成し、該凹陥部に通気性のポー
ラスセラミック製円盤状取付板または通気孔を有する不
通気性部材で構成された円盤状取付板3を積載し、この
取付板3とフレーム4間で形成された通気路4eに上端
を臨ませ、他端7bをバキュームポンプ、コンプレッサ
ー等のバキューム機器(図示されていない)にロータリ
ージョイント10を介して連結された中空管7をフレー
ム本体4を軸承する中空軸8に内蔵させたものが利用さ
れている。図中、9はベアリングである。
【0003】取付板3に載せられたウエハwは、中空管
7を減圧することにより取付板3にバキューム吸着さ
れ、ついでモーターMの回転駆動を軸8に伝えて軸8を
回転させ、ウエハ表面にスピンドル軸に軸承された砥石
を押し当て、砥石を回転させることにより研削される。
【0004】半導体ウエハの研削、研磨に用いるバキュ
ームチャックとしては、従来はウエハ径に応じて径の異
なるウエハ吸着取付板を用意し、その都度、ウエハの径
に応じて最適なウエハ吸着取付板を用いていた。従っ
て、径の異なるウエハを研削するときはチャックのウエ
ハ吸着板を取り替える必要があり、研削作業が中断され
る。
【0005】かかる欠点をなくすチャックとして、径の
異なるウエハでも1台のチャックでウエハを吸着し、研
削(研磨)を行えるユニバーサルチャック取付板が提案
され、実用化されている(特開平3−32537号、同
8−1464号、同8−148548号、同9−174
364号)。
【0006】ユニバーサルチャック機構1は、例えば図
5および図6に示されるように、(A)通気性ポーラス
セラミック製円板12を中心とし、この円板の外周に軸
心を同一、かつ、高さを同一にした複数の通気性ポーラ
スセラミック製環状体13a,13b,13c,13d
が配列され、前記通気性ポーラスセラミック製円板12
と通気性ポーラスセラミック製環状体13a,13b,
13c,13d…の間およびこれら通気性ポーラスセラ
ミック製環状体同士の間に、幅が数ミリメートル、高さ
が前記円板と同一の非通気性薄膜環状仕切壁14a,1
4b,14c…が配列されて全体として1枚の円盤を構
成するウエハ取付板15、および(B)上面にこの取付
板を収納する凹状環状縁部16を有し、取付板15の下
側に位置する上面部分の中心部に凹陥部17を設けると
共に、該凹陥部17を中心にして複数の流体通路用の環
状溝18a,18b,18cが同心円状に設けられ、該
環状溝には複数の吸気孔19,19,19,19,19
が各々垂直方向に設けられたウエハ取付板収納フレーム
20、および(C)取付板の非通気性薄膜環状仕切壁と
前記フランジの環状溝に設けられた吸気孔により構成さ
れた吸気領域における通気性ポーラスセラミック製円
板、通気性ポーラスセラミック製環状体の各底面を吸気
する吸気手段21a,21b,21c,21d、この吸
気手段を減圧、または加圧する、あるいは水等の液体を
供給するパイプ22a,22b,22c,22d、これ
らパイプに取り付けられた切替バルブ23a,23b,
23c,23dを有している。
【0007】前記パイプは、図示されていないが、コン
プレッサー、吸水ポンプ、真空ポンプ等に接続されてい
る。このユニバーサルチャック機構は、通常中空軸に軸
承された回転テーブルに備え付けられ、ウエハをチャッ
クの取付板に置き、ウエハの径により円板とどの位置の
環状体を吸気させるか決め、吸気手段21の切替バルブ
22aおよび他の切替バルブ22b,22c,22dを
開き、減圧してウエハを吸着した後、砥石または研磨パ
ッドをウエハ面に押圧し、ウエハおよび砥石または研磨
パッドの両方を回転させてウエハを研削または研磨す
る。研削または研磨中、研削剤または研磨剤スラリーが
ウエハ面または研磨パッド面に供給されることもある。
【0008】また、ユニバーサルチャック機構は、ウエ
ハをバキュームチャックに吸着させる前にウエハ裏面を
洗浄する仮置台のウエハチャックとして利用されること
もある。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】前述のユニバーサルチ
ャック機構では、ウエハの径に応じていちいち作業者が
切替弁を切り替える作業が必要である。本発明は、かか
る作業者の切替弁の切り替え作業を不要とするユニバー
サルチャック機構の提供を目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、半導体ウエハ
をバキューム吸着して研削または研磨するのに用いる径
の異なる半導体ウエハに共通して使用可能なウエハのユ
ニバーサルチャック機構1において、該ユニバーサルチ
ャック機構は (A)円盤形状のフレーム本体4を不通気性部材で形成
し、該フレーム本体の中心部に中央凹陥部4fを形成
し、該中央凹陥部より外方へ向って兼用されるウエハ径
に応じた同心の複数環状溝4a,4b,4c,4dをフ
レーム表面部に形成し、かつ、後述する自動切替機構5
の上面壁に設けられた複数環状溝5b,5c,5dと連
通する複数の流体通路4b’,4c’,4d’を有する
フレーム本体4、
【0011】(B)前記フレーム本体の同心の複数環状
溝4a,4b,4c,4dに接する部分は通気性部材で
形成され、かつ兼用されるウエハ径に応じて円筒状の不
通気性壁で前記通気性部材が仕切られている、前記フレ
ーム本体4の上面に積載された円盤状のウエハ取付板
3、
【0012】(C)フレーム本体4の中心部の中央凹陥
部4fと軸を同軸として設けられた中央凹陥部5fを有
し、上面壁にはウエハ径に応じた同心の複数環状溝5
b,5c,5dが設けられ、この各々の環状溝5b,5
c,5dの底部に球状弁5x,5y,または5zの弁座
5sを備える中空状の連通管5hを各々起立させ、か
つ、この連通管5h内部には上方の圧縮スプリング5j
と下方に圧縮スプリング5iで挟持した遊動自在な球状
弁を球状弁が前記弁座5sよりも上の位置で浮んで存在
するように介在させ、かつ、下方の圧縮スプリングが存
在する連通管の場所に水平方向に一端が封栓5gされ、
他端が中央凹陥部5fに連通する通気管5l,5m,5
nを備える前記フレーム本体の下面に設けられる自動切
替機構5、
【0013】(D)これらフレーム本体4および自動切
替機構5を軸承する中空軸8、および (E)上端が自動切替機構5の中央凹陥部5fに連通
し、下端がバキューム機器に連通されている前記中空軸
8の内部に設けられた中空管7、を備える半導体ウエハ
のユニバーサルチャック機構を提供するものである。
【0014】ウエハを取付板3上に載せ、中空管7を減
圧するとウエハにより通気部材が塞がれている部分の連
通管においては、減圧初期の連通管の球状弁上部は大気
圧から減圧の状態となり、球状弁下部は減圧となる。下
方の圧縮スプリングには上方の圧縮スプリングの荷重、
球状弁の荷重、および減圧力の合計の力が負荷される
が、下方の圧縮スプリングとして縮む量がこれら合計の
荷重では球状体下部が弁座に当接しない量となるように
バネ弾性率のものを選ぶことにより、球状弁が弁座5s
より浮んだ(便座と球状弁間に空隙が存在し、球状弁の
上下の圧力は同じ減圧度)状態が保たれ、ウエハを吸引
する。
【0015】一方、ウエハが載っていない部分の連通管
においては、球状弁の上部には上方の圧縮スプリングの
荷重と大気圧の合計の力が負荷し、下方の圧縮スプリン
グには大気圧、上方の圧縮スプリングの荷重、球状弁の
荷重、および減圧力の合計の力が負荷されるが、下方の
圧縮スプリングとして縮む量がこれら合計の荷重で球状
体下部が弁座に当接する量となるようにバネ弾性率のも
のを選ぶことにより、球状弁が弁座5sに座り(便座と
球状弁間に空隙が存在しない。球状弁の上下の圧力は異
なる)、ウエハを吸引しない。
【0016】本発明は、上記ウエハ取付板として、通気
性ポーラスセラミック製円板を中心とし、この円板の外
周に軸心を同一、かつ、高さを同一にした複数の通気性
ポーラスセラミック製環状体が配列され、前記通気性ポ
ーラスセラミック製円板と通気性ポーラスセラミック製
環状体の間および通気性ポーラスセラミック製環状体同
士の間には、幅が0.1〜0.8mm、高さが前記円板
と同一の溶射セラミックの不通気性薄膜環状仕切壁が配
列されて全体として1枚の円盤を構成する、ユニバーサ
ルチャック用ウエハ取付板を用いる。
【0017】不通気性薄膜環状仕切壁の厚み幅が0.1
〜0.8mm、高さが前記円板と同一であるので、この
不通気性薄膜環状仕切壁の形状が研削あるいは研磨され
たウエハに転写されず、表面が平坦なウエハが得られ
る。
【0018】本発明はまた、半導体ウエハをバキューム
吸着して研削または研磨するのに用いる径の異なる半導
体ウエハに共通して使用可能なウエハのユニバーサルチ
ャック機構1において、該ユニバーサルチャック機構は
【0019】(A)円盤形状のフレーム本体4を不通気
性部材で形成し、該フレーム本体の中心部に中央凹陥部
4fを形成し、該中央凹陥部より外方へ向って兼用され
るウエハ径に応じた同心の複数環状溝4a,4b,4
c,4dをフレーム表面部に形成し、かつ、後述する自
動切替機構5の上面壁に設けられた複数環状溝5b,5
c,5dと連通する複数の流体通路4b’,4c’,4
d’を有するフレーム本体4、
【0020】(B)不通気性部材で構成された円盤状取
付板であって、前記フレーム本体の同心の複数環状溝4
a,4b,4c,4dに接する部分には同心円状に流体
通路用孔が上下方向に貫通して設けられてなる、前記フ
レーム本体の上面に積載された円盤状のウエハ取付板
3、
【0021】(C)フレーム本体4の中心部の中央凹陥
部4fと軸を同軸として設けられた中央凹陥部5fを有
し、上面壁にはウエハ径に応じた同心の複数環状溝5
b,5c,5dが設けられ、この各々の環状溝5b,5
c,5dの底部に球状弁5x,5y,または5zの弁座
5sを備える中空状の連通管5hを各々起立させ、か
つ、この連通管5h内部には上方の圧縮スプリング5j
と下方に圧縮スプリング5iで挟持した遊動自在な球状
弁を球状弁が前記弁座5sよりも上の位置に浮んで存在
するように介在させ、かつ、下方の圧縮スプリングが存
在する連通管の場所に水平方向に一端が封栓5gされ、
他端が中央凹陥部5fに連通する通気管5l,5m,5
nを備える前記フレーム本体の下面に設けられる自動切
替機構5、
【0022】(D)これらフレーム本体4および自動切
り替え機構5を軸承する中空軸8、および (E)上端が自動切り替え機構5の中央凹陥部5fに連
通し、下端がバキューム機器に連通されている前記中空
軸8の内部に設けられた中空管7を備える半導体ウエハ
のユニバーサルチャック機構を提供するものである。
【0023】ウエハを取付板3上に載せ、中空管7を減
圧するとウエハにより通気部材が塞がれている部分の連
通管においては、減圧初期の連通管の球状弁上部は大気
圧から減圧の状態となり、球状弁下部は減圧となる。下
方の圧縮スプリングには上方の圧縮スプリングの荷重、
球状弁の荷重、および減圧力の合計の力が負荷される
が、下方の圧縮スプリングとして縮む量がこれら合計の
荷重では球状体下部が弁座に当接しない量となるように
バネ弾性率のものを選ぶことにより、球状弁が弁座5s
より浮んだ(便座と球状弁間に空隙が存在し、球状弁の
上下の圧力は同じ減圧度)状態が保たれ、ウエハを吸引
する。
【0024】一方、ウエハが載っていない部分の連通管
においては、球状弁の上部には上方の圧縮スプリングの
荷重と大気圧の合計の力が負荷し、下方の圧縮スプリン
グには大気圧、上方の圧縮スプリングの荷重、球状弁の
荷重、および減圧力の合計の力が負荷されるが、下方の
圧縮スプリングとして縮む量がこれら合計の荷重で球状
体下部が弁座に当接する量となるようにバネ弾性率のも
のを選ぶことにより、球状弁が弁座5sに座り(便座と
球状弁間に空隙が存在しない。球状弁の上下の圧力は異
なる)、ウエハを吸引しない。
【0025】また、取付板は不通気性板、例えばアルミ
ニウム板を穿孔することにより製作できるので安価であ
る。
【0026】
【発明の実施の形態】以下、4インチ、6インチ、8イ
ンチと3種の径の異なるユニバーサルチャック機構を具
体例として、図面を用いて本発明を詳細に説明する。図
1は、本発明のユニバーサルチャック機構上部の要部を
示す部分断面図で、図2および図3においてI−Iで切
断したものである。図2はフレーム本体の上面図、図3
は自動切替機構の上面図、図4は自動切替機構の連通管
部分の拡大断面図である。
【0027】図1、図2および図3において、1はユニ
バーサルチャック機構、2は基台、3はユニバーサルチ
ャック取付板、4はフレーム本体、5は自動切替機構、
6はボルト、7は中空管、8は中空軸である。
【0028】フレーム本体:フレーム本体4はアルミニ
ウム、鉄鋼等の不通気性部材で構成された円盤状のもの
で、基台2を刳り抜いて研削装置あるいは研磨装置に据
え付けられる。フレーム本体は中心部に中央凹陥部4f
を形成し、該中央凹陥部より外方へ向って兼用されるウ
エハ径に応じた同心の複数環状溝4a,4b,4c,4
dと最内側の環状溝4aを連結する気体流路用溝4eを
フレーム表面部に形成し、かつ、後述する自動切り替え
機構5の上面壁に設けられた複数環状溝5b,5c,5
dと連通する流体通路4b’,4c’,4d’を有す
る。フレーム本体4はボルト6により自動切替機構5の
上面に固定される。
【0029】ウエハ取付板:ウエハ取付板3としては、
前記フレーム本体の同心の複数環状溝4a,4b,4
c,4dに接する部分は通気性部材で形成され、かつ兼
用される4インチ、6インチ、8インチの3種のウエハ
径に応じて円筒状の不通気性壁で前記通気性部材が仕切
られている円盤状のウエハ取付板が挙げられる。このウ
エハ取付板3は、例えば、通気性ポーラスセラミック製
円板12を中心とし、この円板の外周に軸心を同一、か
つ、高さを同一にした複数の通気性ポーラスセラミック
製環状体13a,13b,13c,13dが配列され、
前記通気性ポーラスセラミック製円板と通気性ポーラス
セラミック製環状体の間および通気性ポーラスセラミッ
ク製環状体同士の間には、幅が0.1〜0.8mm、高
さが前記円板と同一の溶射セラミックの不通気性薄膜環
状仕切壁14a,14b,14cが配列されて全体とし
て1枚の円盤を構成する、ユニバーサルチャック用ウエ
ハ取付板3である。
【0030】上記取付板の通気性円板、環状体のポーラ
スセラミックは、窒化珪素、窒化硼素、炭化珪素、珪
石、カーボランダム、アルミナ、チタンカーバイト等の
セラミック粉末を、メタクリル酸n−ブチル・メタクリ
ル酸共重合体、メタクリル酸n−ブチル・メタクリル酸
・スチレン共重合体、メタクリル酸n−ブチル・メタク
リル酸・メタクリル酸メチル共重合体等のアクリル系水
性エマルジョンをバインダーとしてシート状に形成した
グリーンシートを円板または環状体に成型し、これを先
に600〜900℃で仮焼し、ついで1000〜130
0℃で焼成して得た焼成物を円筒形研削盤(研磨盤)や
平面研削盤(研磨盤)を用いて外周面、内周面、表裏面
を平坦に研削(研磨)することにより製造される。
【0031】非通気性環状薄膜仕切壁は、上記通気性ポ
ーラスセラミック製円板の外周に、前記セラミック粉末
を600〜800℃で溶射して幅2〜3mmの環状の非
通気性環状体膜を形成し、この非通気性環状体膜を研削
して幅0.1〜0.8mmの非通気性薄膜環状体とし、
この非通気性薄膜環状体の外周にグリーンシートを上記
のように仮焼・焼成(燒結)して通気性ポーラスセラミ
ック製環状体を形成し、この通気性ポーラスセラミック
製環状体の外周にセラミック粉末を溶射して環状の非通
気性環状仕切壁膜を形成し、この非通気性環状仕切壁膜
を研削して幅0.1〜0.8mmの非通気性薄膜環状仕
切壁とし、この非通気性薄膜環状仕切壁の外周にグリー
ンシートを焼結して通気性ポーラスセラミック製環状体
を形成させる。
【0032】通気性ポーラスセラミック製環状体および
非通気性薄膜環状仕切壁の数は、ユニバーサルチャック
をどの径のウエハ兼用にするかにより決まる。取付板の
厚みは、10〜30mmが一般である。ウエハ取付板
は、また、アルミニウム製板、ポリ塩化ビニル板等の不
通気製円盤に前記フレーム本体の同心の複数環状溝4
a,4b,4c,4dに接する部分に同心円状に流体通
路用孔を上下方向に貫通して設けたものであってもよ
い。
【0033】自動切替機構:自動切替機構5は、フレー
ム本体4の中心部の中央凹陥部4fと軸を同じくして中
央凹陥部5fを有し、上面壁にはウエハ径に応じた同心
の複数環状溝5b,5c,5dが設けられ、この各々の
環状溝5b,5c,5dの底部に球状弁5x,5y,ま
たは5zの弁座5sを備える中空状の連通管5hを各々
起立させ、かつ、この連通管5h内部には上方の圧縮ス
プリング5jと、下方の圧縮スプリング5iで挟持した
遊動自在な球状弁を球状弁が前記弁座5sよりも上の位
置に浮遊するように介在させ、かつ、下方の圧縮スプリ
ングが存在する連通管の場所に水平方向に一端が封栓5
gされ、他端が中央凹陥部5fに連通する通気管5l,
5m,5nを備えるものである。この自動切替機構5は
前記フレーム本体4の下面に設けられる。5kはO−リ
ング、5r,5pはボルトである。
【0034】図3に示す自動切替機構5は、4インチ用
連通管5x,6インチ用連通管5y,8インチ用連通管
5zを放射状に分散させ、かつ、水平方向に設けられた
4インチ用通気管5l,6インチ用通気管5m,8イン
チ用通気管5nをそれぞれ設けているが、構造を簡略す
るために水平方向の通気管を1本とし、この1本の通気
管の上に連通管5x,5y,5zをそれぞれのウエハ径
に応じて連立させた構造のものでもよい。
【0035】圧縮スプリングのバネ弾性率は、中空管7
の減圧度、球状弁の重さにも依存するが、中空管7の減
圧前は、球状弁が弁座5sより上の位置に存在し、ウエ
ハが取付板3に載せられ、中空管7が減圧された際は、
ウエハが載って通気性部剤が塞がれている部分の連通管
においては、減圧度、上方圧縮スプリング荷重および球
状弁荷重の合計の力が加わっても下方の圧縮スプリング
の縮む量が球状弁が弁座5sより浮いて弁座と球状弁の
間に空隙が生じる量となり、一方、ウエハが載っていな
い部分の連通管においては、大気圧、減圧度、上方圧縮
スプリング荷重および球状弁荷重の合計の力が加わって
下方の圧縮スプリングの縮む量が球状弁が弁座5sに坐
る量となるように上下の圧縮スプリングのバネ弾性率を
選択する。
【0036】具体例として、上側にバネ弾性率の高い圧
縮スプリングを、下側にバネ弾性率の低い圧縮スプリン
グを用いる。例えば中空管7の減圧度が、−80kP
a、球状弁の径が12mmのときは、上方の圧縮スプリ
ング5jに0.98N/mm、下方の圧縮スプリング5
iに0.29N/mmのバネ弾性率のものを用いる。
【0037】中空管、中空軸:前記フレーム本体4およ
び自動切替機構5は中空軸8に軸承される。そして、中
空軸8の中空部内には、上端が自動切替機構5の中央中
央凹陥部5fに連通し、下端がバキューム機器に連通さ
れている中空管7が内蔵される。
【0038】かかるユニバーサルチャック機構のウエハ
取付板3上にウエハを載せ、中空管7をバキュームポン
プで吸引して減圧すると、ウエハが載っている部分に位
置する連通管内部においては球状弁が弁座より浮いた状
態で、ウエハが載っていない部分の連通管においては球
状弁が弁座に座って通気管内に外部の異物を吸引しな
い。ウエハがチャック機構にバキューム吸着された後、
中空軸8を回転させ、ウエハ表面にスピンドル軸に軸承
された砥石または研磨パッドを押し当て、両軸を回転さ
せてウエハの研削または研磨を行う。
【0039】以上の例は、4インチ、6インチ、8イン
チ径と3種の径の異なったウエハの兼用のために環状溝
が4つの例で示したが、兼用されるウエハが2種のとき
は環状溝も当然減ることは記載するまでもない。また、
図1では封栓はボルト式の螺着するものを示したが、通
気管の一端を密封できるものであればゴム栓でも、発泡
体栓であってもよい。
【0040】さらに、ウエハをユニバーサルチャック機
構の取付板から取り外すには、中空管7のバキュームを
止め、バキューム吸着が解放されると弁座5sに座って
いた球状弁は下方の圧縮スプリングの伸びにつれて弁座
から浮遊し、球状弁の上下の圧力が大気圧と等しくな
り、また、球状弁が浮んでいた連通管内ではバキューム
を止めると直に球状弁の上下の圧力が等しくなり、ウエ
ハを吸着パッドまたはロボットのハンドアームで搬送で
きる。
【0041】
【発明の効果】本発明のユニバーサルチャック機構は、
載せられたウエハの径によりウエハが載っている部分に
位置する連通管はウエハを吸引するように球状弁を自動
的に作動させ、ウエハが載っていない部分に位置する連
通管はウエハを吸引しないように自動的に弁座に座るの
で、ウエハ径が変えられる際、従来のように作業者が切
替弁を切り替えるという作業が不要となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 ユニバーサルチャック機構の要部を示す部分
断面図である。
【図2】 フレーム本体の上面図である。
【図3】 自動切替機構の上面図である。
【図4】 自動切替機構の連通管の部分断面図である。
【図5】 ユニバーサルチャックテーブルの一部を切り
欠いた斜視図である。
【図6】 図5のA−A線での切断図である。
【図7】 従来のユニバーサルチャック機構の部分断面
図である。
【符号の説明】
1 ユニバーサルチャック機構 w ウエハ 2 基台板 3 ウエハ取付板 4 フレーム本体 5 自動切替機構 5h 連通管 5i 下方圧縮スプリング 5j 上方圧縮スプリング 5s 弁座 5Z 球状弁

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハをバキューム吸着して研削
    または研磨するのに用いる径の異なる半導体ウエハに共
    通して使用可能なウエハのユニバーサルチャック機構1
    において、該ユニバーサルチャック機構は (A)円盤形状のフレーム本体4を不通気性部材で形成
    し、該フレーム本体の中心部に中央凹陥部4fを形成
    し、該中央凹陥部より外方へ向って兼用されるウエハ径
    に応じた同心の複数環状溝4a,4b,4c,4dをフ
    レーム表面部に形成し、かつ、フレーム本体の上下方向
    に後述する自動切替機構5の上面壁に設けられた複数環
    状溝5b,5c,5dと連通する複数の流体通路4
    b’,4c’,4d’を有するフレーム本体4、 (B)前記フレーム本体の同心の複数環状溝4a,4
    b,4c,4dに接する部分は通気性部材で形成され、
    かつ兼用されるウエハ径に応じて円筒状の不通気性壁で
    前記通気性部材が仕切られている、前記フレーム本体4
    の上面に積載された円盤状のウエハ取付板3、 (C)フレーム本体4の中心部の中央凹陥部4fと軸を
    同軸とする中央凹陥部5fを有し、上面壁にはウエハ径
    に応じた同心の複数環状溝5b,5c,5dが設けら
    れ、この各々の環状溝5b,5c,5dの底部に球状弁
    5x,5y,または5zの弁座5sを備える中空状の連
    通管5hを各々起立させ、かつ、この連通管5h内部に
    は上方の圧縮スプリング5jと下方の圧縮スプリング5
    iで挟持した遊動自在な球状弁を球状弁が前記弁座より
    も上の位置に浮いて存在するように介在させ、かつ、下
    方の圧縮スプリングが存在する連通管の場所に水平方向
    に一端が封栓5gされ、他端が中央凹陥部5fに連通す
    る通気管5l,5m,5nを備える前記フレーム本体の
    下面に設けられる自動切替機構5、 (D)これらフレーム本体4および自動切替機構5を軸
    承する中空管8、および (E)上端が自動切替機構5の中央凹陥部5fに連通
    し、下端がバキューム機器に連通されている前記中空軸
    8の内部に設けられた中空軸7、を備える半導体ウエハ
    のユニバーサルチャッタ機構。
  2. 【請求項2】 ウエハ取付板が、通気性ポーラスセラミ
    ック製円板を中心とし、この円板の外周に軸心を同一、
    かつ、高さを同一にした複数の通気性ポーラスセラミッ
    ク製環状体が配列され、前記通気性ポーラスセラミック
    製円板と通気性ポーラスセラミック製環状体の間および
    通気性ポーラスセラミック製環状体同士の間には、幅が
    0.1〜0.8mm、高さが前記円板と同一の溶射セラ
    ミックの不通気性薄膜環状仕切壁が配列されて全体とし
    て1枚の円盤を構成する、ユニバーサルチャック用ウエ
    ハ取付板である、請求項1に記載の半導体ウエハのユニ
    バーサルチャック機構。
  3. 【請求項3】 半導体ウエハをバキューム吸着して研削
    または研磨するのに用いる径の異なる半導体ウエハに共
    通して使用可能なウエハのユニバーサルチャック機構1
    において、該ユニバーサルチャック機構は (A)円盤形状のフレーム本体4を不通気性部材で形成
    し、該フレーム本体の中心部に中央凹陥部4fを形成
    し、該中央凹陥部より外方へ向って兼用されるウエハ径
    に応じた同心の複数環状溝4a,4b,4c,4dをフ
    レーム表面部に形成し、かつ、後述する自動切替機構5
    の上面壁に設けられた複数環状溝5b,5c,5dと連
    通する複数の流体通路4b’,4c’,4d’を有する
    フレーム本体4、 (B)不通気性部材で構成された円盤状取付板であっ
    て、前記フレーム本体の同心の複数環状溝4a,4b,
    4c,4dに接する部分には同心円状に流体通路用孔が
    上下方向に貫通して設けられてなる、前記フレーム本体
    の上面に積載された円盤状のウエハ取付板3、 (C)フレーム本体4の中心部の中央凹陥部4fと軸を
    同軸として設けられた中央凹陥部5fを有し、上面壁に
    はウエハ径に応じた同心の複数環状溝5b,5c,5d
    が設けられ、この各々の環状溝5b,5c,5dの底部
    に球状弁5x,5y,または5zの弁座5sを備える中
    空状の連通管5hを各々起立させ、かつ、この連通管5
    h内部には上方の圧縮スプリング5jと下方に圧縮スプ
    リング5iで挟持した遊動自在な球状弁を球状弁が前記
    弁座よりも上の位置に浮いて存在するように介在させ、
    かつ、下方の圧縮スプリングが存在する連通管の場所に
    水平方向に一端が封栓5gされ、他端が中央凹陥部5f
    に連通する通気管5l,5m,5nを備える前記フレー
    ム本体の下面に設けられる自動切替機構5、 (D)これらフレーム本体4および自動切替機構5を軸
    承する中空軸8、および (E)上端が自動切替機構5の中央凹陥部5fに連通
    し、下端がバキューム機器に連通されている前記中空軸
    8の内部に設けられた中空管7を備える半導体ウエハの
    ユニバーサルチャック機構。
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