JP2000232059A - 現像液供給装置 - Google Patents
現像液供給装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ウェハ上に現像液を滴下して、ウェハ上のレ
ジストを現像するための現像液供給装置において、現像
液の不均一な供給によるレジストパターン寸法のばらつ
きを防止する。 【解決手段】 水平状態に置かれたウェハＷの上方に配
設されて、平坦な底面１４ａに多数のノズル孔１６が開
口された円錐容器状のノズル１４と、前記ノズル１４内
に現像液を供給するための現像液供給手段１８，２１，
２４と、ノズル１４内を外気に開放しあるいは外気から
密封するための手段１９，２２と、ノズル１４内にガス
圧を供給する手段２０，２３，２６とを備える。ガス圧
供給手段により供給されるガス圧を利用して、現像液供
給手段によりノズル１４内に供給されて溜められた現像
液をノズル孔１６から吐出してウェハＷの表面上に滴下
する。現像液はウェハの中心領域と周辺領域とで同時に
突出されることになり、ウェハの中心領域と周辺領域と
の現像速度が等しくなり、現像されるレジストパターン
寸法のばらつきが防止される。
ジストを現像するための現像液供給装置において、現像
液の不均一な供給によるレジストパターン寸法のばらつ
きを防止する。 【解決手段】 水平状態に置かれたウェハＷの上方に配
設されて、平坦な底面１４ａに多数のノズル孔１６が開
口された円錐容器状のノズル１４と、前記ノズル１４内
に現像液を供給するための現像液供給手段１８，２１，
２４と、ノズル１４内を外気に開放しあるいは外気から
密封するための手段１９，２２と、ノズル１４内にガス
圧を供給する手段２０，２３，２６とを備える。ガス圧
供給手段により供給されるガス圧を利用して、現像液供
給手段によりノズル１４内に供給されて溜められた現像
液をノズル孔１６から吐出してウェハＷの表面上に滴下
する。現像液はウェハの中心領域と周辺領域とで同時に
突出されることになり、ウェハの中心領域と周辺領域と
の現像速度が等しくなり、現像されるレジストパターン
寸法のばらつきが防止される。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明はウェハの表面上に形
成して所要パターンの露光を行ったレジスト上に現像液
を供給して前記レジストを現像するための現像液を供給
するための装置に関する。
成して所要パターンの露光を行ったレジスト上に現像液
を供給して前記レジストを現像するための現像液を供給
するための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体装置の製造工程の一つであるリソ
グラフィ工程では、ウェハの表面にフォトレジスト膜或
いは電子線レジスト膜を形成し、これらのレジスト膜に
対して所要のパターンの露光、電子線描画を行った後、
レジスト膜上に現像液を供給し、ポジ型レジストの場合
には前記レジストの光照射領域或いは電子線照射領域を
除去し、あるいはネガ型レジストの場合には光や電子線
が照射されない部分を除去し、しかる上で残されたレジ
スト膜を利用して選択的なエッチングやイオン注入等の
処理を行っている。この場合、現像液をレジスト膜上に
供給するための現像液供給装置としては、、ウェハ上に
現像液供給用のノルズを配置し、そのノズルからウェハ
の表面上に供給する現像液供給装置が用いられている。
グラフィ工程では、ウェハの表面にフォトレジスト膜或
いは電子線レジスト膜を形成し、これらのレジスト膜に
対して所要のパターンの露光、電子線描画を行った後、
レジスト膜上に現像液を供給し、ポジ型レジストの場合
には前記レジストの光照射領域或いは電子線照射領域を
除去し、あるいはネガ型レジストの場合には光や電子線
が照射されない部分を除去し、しかる上で残されたレジ
スト膜を利用して選択的なエッチングやイオン注入等の
処理を行っている。この場合、現像液をレジスト膜上に
供給するための現像液供給装置としては、、ウェハ上に
現像液供給用のノルズを配置し、そのノズルからウェハ
の表面上に供給する現像液供給装置が用いられている。
【０００３】例えば、特開平７−３２６５５４号公報に
記載の現像液供給装置では、ウェハの上方に配置した容
器状のノズルと、現像液を蓄えて現像液収納タンクとを
現像液供給管を介して連通し、現像液収容タンクを窒素
ガスで加圧し、そのガス圧力によって現像液収容タンク
内の現像液をノズルにまで圧送し、ノズルの下面に設け
られたノズル孔から現像液を吐出する。また、これと同
時にノズルをウェハ面に沿って移動することで、ウェハ
の全面に現像液を供給する構成がとられている。
記載の現像液供給装置では、ウェハの上方に配置した容
器状のノズルと、現像液を蓄えて現像液収納タンクとを
現像液供給管を介して連通し、現像液収容タンクを窒素
ガスで加圧し、そのガス圧力によって現像液収容タンク
内の現像液をノズルにまで圧送し、ノズルの下面に設け
られたノズル孔から現像液を吐出する。また、これと同
時にノズルをウェハ面に沿って移動することで、ウェハ
の全面に現像液を供給する構成がとられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の現像液供給装置では、ウェハの表面に対してノズル
を移動させながら現像液を供給しているため、ウェハ上
の全レジストに対して同時に現像液を供給することがで
きず、現像液の供給が早い領域と遅い領域とで現像に差
が生じ、現像されるレジスクパターン寸法にばらつきが
生じるおそれがある。また、特開昭６０−１９８８１８
号公報に記載の現像液供給装置では、前記したスキャン
方式に比較してウェハの中央領域と周辺領域とでのレジ
ストパターン寸法のばらつきがある程度は小さくなる。
しかしながら、この装置では、前記公報に記載の装置と
同様に、タンクに入った現像液をポンプあるいは窒素ガ
スの圧送にて配管を経てノズルより滴下させているた
め、一定量の現像液を滴下する際、現像液の出始めから
終りまで時間がかかり、現像液の濃度差が生じこれが原
因となるレジストパターンの寸法のばらつきが発生する
という問題がある。また、この場合、従来ではノズルの
径寸法がウェハの径寸法よりも小さく形成されているた
め、特にウェハの周辺領域で現像液が十分に供給されな
い状態が生じ易く周辺領域と中心領域とで前記したレジ
ストパターンの寸法のばらつきが顕著になり易いものと
なっている。
来の現像液供給装置では、ウェハの表面に対してノズル
を移動させながら現像液を供給しているため、ウェハ上
の全レジストに対して同時に現像液を供給することがで
きず、現像液の供給が早い領域と遅い領域とで現像に差
が生じ、現像されるレジスクパターン寸法にばらつきが
生じるおそれがある。また、特開昭６０−１９８８１８
号公報に記載の現像液供給装置では、前記したスキャン
方式に比較してウェハの中央領域と周辺領域とでのレジ
ストパターン寸法のばらつきがある程度は小さくなる。
しかしながら、この装置では、前記公報に記載の装置と
同様に、タンクに入った現像液をポンプあるいは窒素ガ
スの圧送にて配管を経てノズルより滴下させているた
め、一定量の現像液を滴下する際、現像液の出始めから
終りまで時間がかかり、現像液の濃度差が生じこれが原
因となるレジストパターンの寸法のばらつきが発生する
という問題がある。また、この場合、従来ではノズルの
径寸法がウェハの径寸法よりも小さく形成されているた
め、特にウェハの周辺領域で現像液が十分に供給されな
い状態が生じ易く周辺領域と中心領域とで前記したレジ
ストパターンの寸法のばらつきが顕著になり易いものと
なっている。
【０００５】本発明の目的は、レジストパターン寸法の
ばらつきが生じることを防止した現像液供給装置を提供
するものである。
ばらつきが生じることを防止した現像液供給装置を提供
するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、水平状態に置
かれたウェハの上方に配設され、平坦な底面に多数のノ
ズル孔が開口された円錐容器状のノズルを備えており、
前記ノズルには、前記ノズル内に現像液を供給するため
の現像液供給手段と、前記ノズル内を外気に開放しある
いは外気から密封するための手段と、前記ノズル内にガ
ス圧を供給する手段とが付設されていることを特徴とし
ている。ここで、前記ノズルの底面は前記ウェハの径寸
法よりも大きい径寸法に形成され、前記ノズル孔は前記
ウェハの径寸法よりも大きい径寸法領域にわたって配置
される。また、前記ノズルを前記ウェハの表面に対して
近接し、かつウェハ表面から離間させるための移動機構
を備える。さらに、前記ガス圧を供給する手段は、前記
ノズル内に窒素ガスを加圧状態に供給する手段として構
成される。
かれたウェハの上方に配設され、平坦な底面に多数のノ
ズル孔が開口された円錐容器状のノズルを備えており、
前記ノズルには、前記ノズル内に現像液を供給するため
の現像液供給手段と、前記ノズル内を外気に開放しある
いは外気から密封するための手段と、前記ノズル内にガ
ス圧を供給する手段とが付設されていることを特徴とし
ている。ここで、前記ノズルの底面は前記ウェハの径寸
法よりも大きい径寸法に形成され、前記ノズル孔は前記
ウェハの径寸法よりも大きい径寸法領域にわたって配置
される。また、前記ノズルを前記ウェハの表面に対して
近接し、かつウェハ表面から離間させるための移動機構
を備える。さらに、前記ガス圧を供給する手段は、前記
ノズル内に窒素ガスを加圧状態に供給する手段として構
成される。
【０００７】本発明では、ノズルを外気に開放した状態
でノズル内に現像液を供給し、ノズルを密封状態とした
上でノズル内にガスを圧送する。ノズル内に供給された
現像液はノズル内底面に溜められており、供給されるガ
ス圧によって底面に設けたノズル孔から吐出され、ウェ
ハの表面上に滴下される。現像液は、ウェハの中心領域
と周辺領域とで同時に突出されるため、ウェハの中心領
域と周辺領域との現像速度が等しくなり、現像されるレ
ジストパターン寸法のばらつきが防止される。
でノズル内に現像液を供給し、ノズルを密封状態とした
上でノズル内にガスを圧送する。ノズル内に供給された
現像液はノズル内底面に溜められており、供給されるガ
ス圧によって底面に設けたノズル孔から吐出され、ウェ
ハの表面上に滴下される。現像液は、ウェハの中心領域
と周辺領域とで同時に突出されるため、ウェハの中心領
域と周辺領域との現像速度が等しくなり、現像されるレ
ジストパターン寸法のばらつきが防止される。
【０００８】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施形態を図面を
参照して説明する。図１は本発明の現像装置の実施形態
の断面図である。上部が開口した円筒容器状のカップ１
１内の中心位置にチャック１２が配置されており、その
回転軸１２ａに連結されているスピンドルモータ１３に
よって前記チャック１２が回転駆動可能とされている。
前記チャック１２上にはウェハＷが真空吸着されて水平
状態に搭載され、チャック１２と共に回転される。ま
た、前記ウェハＷは、その表面にレジスト膜が形成され
ており、このレジスト膜には光照射或いは電子線照射に
よって所要のパターンが露光されている。なお、前記カ
ップ１１には現像液を排出するためのドレイン口１１ａ
が開口されている。
参照して説明する。図１は本発明の現像装置の実施形態
の断面図である。上部が開口した円筒容器状のカップ１
１内の中心位置にチャック１２が配置されており、その
回転軸１２ａに連結されているスピンドルモータ１３に
よって前記チャック１２が回転駆動可能とされている。
前記チャック１２上にはウェハＷが真空吸着されて水平
状態に搭載され、チャック１２と共に回転される。ま
た、前記ウェハＷは、その表面にレジスト膜が形成され
ており、このレジスト膜には光照射或いは電子線照射に
よって所要のパターンが露光されている。なお、前記カ
ップ１１には現像液を排出するためのドレイン口１１ａ
が開口されている。
【０００９】前記カップ１１の上方位置には、密封され
た円錐容器状のノズル１４が配設されており、上下移動
機構１５に支持されるとともに、前記上下移動機構１５
によって前記チャック１２に対して上下方向に移動可能
とされている。また、前記ノズル１４は、平坦な円形を
した底面１４ａの径寸法が前記ウェハＷの径寸法よりも
大きく形成されており、かつ前記底面１４ａには、図２
に示すように、多数の細かいノズル孔１６が、前記ウェ
ハＷの径寸法よりも大径の領域にわたって開口されてい
る。この実施形態では、多数のノズル孔１６は前記底面
１４ａの中心に対して放射パターン状に配置されてい
る。また、前記ノズル１４内には、例えば、液面高さを
検出する液面センサ１７が内装されており、後述するよ
うにノズル１４内に溜められた現像液の量を検出するこ
とができるようにされている。
た円錐容器状のノズル１４が配設されており、上下移動
機構１５に支持されるとともに、前記上下移動機構１５
によって前記チャック１２に対して上下方向に移動可能
とされている。また、前記ノズル１４は、平坦な円形を
した底面１４ａの径寸法が前記ウェハＷの径寸法よりも
大きく形成されており、かつ前記底面１４ａには、図２
に示すように、多数の細かいノズル孔１６が、前記ウェ
ハＷの径寸法よりも大径の領域にわたって開口されてい
る。この実施形態では、多数のノズル孔１６は前記底面
１４ａの中心に対して放射パターン状に配置されてい
る。また、前記ノズル１４内には、例えば、液面高さを
検出する液面センサ１７が内装されており、後述するよ
うにノズル１４内に溜められた現像液の量を検出するこ
とができるようにされている。
【００１０】一方、前記ノズル１４の上部には、それぞ
れバルブ２１，２２，２３が配設された現像液供給管１
８、エア抜き管１９、窒素ガス供給管２０が連通接続さ
れている。前記現像液供給管１８は現像液タンク２４に
連通され、ポンプ２５によって現像液タンク２４内の現
像液Ｄが現像液供給管１８を通して前記ノズル１４内に
供給されるように構成される。また、前記エア抜き管１
９は図外のフィルタ等を介して外気に開放される。さら
に、前記窒素ガス供給管２０は窒素ガス圧源２６に接続
されている。
れバルブ２１，２２，２３が配設された現像液供給管１
８、エア抜き管１９、窒素ガス供給管２０が連通接続さ
れている。前記現像液供給管１８は現像液タンク２４に
連通され、ポンプ２５によって現像液タンク２４内の現
像液Ｄが現像液供給管１８を通して前記ノズル１４内に
供給されるように構成される。また、前記エア抜き管１
９は図外のフィルタ等を介して外気に開放される。さら
に、前記窒素ガス供給管２０は窒素ガス圧源２６に接続
されている。
【００１１】以上の構成の現像液供給装置による現像時
の動作について、図１及び図３を参照して説明する。チ
ャック１２上に真空吸着によってウェハＷを支持する。
また、エア抜き管１９のバルブ２２を開いてノズル１４
内を外気に開放する一方で、現像液供給管１８のバルブ
２１を開いて現像タンク２４の現像液Ｄをノズル１４内
に注入する。そして、ノズル１４内の液面センサ１７に
よって現像液Ｄの量を検出し、ノズル１４内に約８０cc
程の現像液を溜める。これにより、図３のように、現像
液Ｄはノズル１４内の底面１４ａの全面にわたって数ｍ
ｍないし数ｃｍの高さに溜められる。このとき、自身の
粘性によって現像液Ｄがノズル孔１６から滴下されるこ
とはない。
の動作について、図１及び図３を参照して説明する。チ
ャック１２上に真空吸着によってウェハＷを支持する。
また、エア抜き管１９のバルブ２２を開いてノズル１４
内を外気に開放する一方で、現像液供給管１８のバルブ
２１を開いて現像タンク２４の現像液Ｄをノズル１４内
に注入する。そして、ノズル１４内の液面センサ１７に
よって現像液Ｄの量を検出し、ノズル１４内に約８０cc
程の現像液を溜める。これにより、図３のように、現像
液Ｄはノズル１４内の底面１４ａの全面にわたって数ｍ
ｍないし数ｃｍの高さに溜められる。このとき、自身の
粘性によって現像液Ｄがノズル孔１６から滴下されるこ
とはない。
【００１２】次いで、前記エア抜き管１９のバルブ２２
と現像液供給管１８のバルブ２１を閉じてノズル１４内
を気密状態とした上で、上下移動機構１５によってノズ
ル１４をウェハＷの表面上の数ｍｍの位置にまで下降す
る。なお、この位置は現像液をウェハ表面上に供給した
ときにノズルの下面が現像液に接することがない位置で
ある。しかる上で、窒素ガス供給管２０のバルブ２３を
開き、窒素ガス圧源２６からノズル１６内に窒素ガスを
０．５Ｋｇ／ｃｍ2 程度で加圧する。これにより、ノズ
ル１４内に溜められていた現像液Ｄは上面側からの圧力
によって下面側のノズル孔１６から吐出され、ウェハＷ
の表面上に滴下され、ウェハＷの表面上で若干水平方向
に流動されて現像液層を形成する。その後、上下移動機
構１５によってノズル１４を元の位置にまで上動し、ま
た窒素ガス供給管２０のバルブ２３を閉じる。なお、ウ
ェハ上に滴下されない現像液、あるいはウェハ表面から
溢れた現像液はカップ１１のドレイン口１１ａから排出
される。また、ウェハ上に現像液を滴下した後に、チャ
ック１２によりウェハＷを回転することで現像液をウェ
ハ面上で流動させ、ウェハＷの全面に対して確実に現像
液を供給することも可能となる。
と現像液供給管１８のバルブ２１を閉じてノズル１４内
を気密状態とした上で、上下移動機構１５によってノズ
ル１４をウェハＷの表面上の数ｍｍの位置にまで下降す
る。なお、この位置は現像液をウェハ表面上に供給した
ときにノズルの下面が現像液に接することがない位置で
ある。しかる上で、窒素ガス供給管２０のバルブ２３を
開き、窒素ガス圧源２６からノズル１６内に窒素ガスを
０．５Ｋｇ／ｃｍ2 程度で加圧する。これにより、ノズ
ル１４内に溜められていた現像液Ｄは上面側からの圧力
によって下面側のノズル孔１６から吐出され、ウェハＷ
の表面上に滴下され、ウェハＷの表面上で若干水平方向
に流動されて現像液層を形成する。その後、上下移動機
構１５によってノズル１４を元の位置にまで上動し、ま
た窒素ガス供給管２０のバルブ２３を閉じる。なお、ウ
ェハ上に滴下されない現像液、あるいはウェハ表面から
溢れた現像液はカップ１１のドレイン口１１ａから排出
される。また、ウェハ上に現像液を滴下した後に、チャ
ック１２によりウェハＷを回転することで現像液をウェ
ハ面上で流動させ、ウェハＷの全面に対して確実に現像
液を供給することも可能となる。
【００１３】このように、本実施形態の現像液供給装置
では、ノズル１４の内底面に溜めていた現像液Ｄは、ノ
ズル１４内に供給した窒素ガスのガス圧によって一気に
ノズル孔１６から吐出され、ウェハＷの表面上に滴下さ
れる。このため、ウェハＷの表面上の中心領域と周辺領
域とでは、時間差が生じることなく同時に現像液が供給
される。これによりウェハＷの中心領域と周辺領域との
間に現像速度の違いが生じることはなく、レジストパタ
ーン寸法のばらつきの発生が防止される。また、ノズル
１４は円錐形状に形成されているため、その頂点位置で
連通された窒素ガス供給管２０から供給される窒素ガス
のガス圧は円錐面に沿って底面上の現像液Ｄを加圧する
ため、現像液Ｄに対して均一な加圧を行うことが可能と
なり、中心領域と周辺領域での現像液の吐出状態を均等
化してウェハＷ上に形成される現像液の層厚さの均一性
を高めることも可能となり、現像速度の均一化を進める
上で有効となる。さらに、この実施形態では、ノズル１
４の底面に設けたノズル孔１６は、ウェハＷの径寸法よ
りも大径の位置にまで存在しているため、外周側のノズ
ル孔１６から吐出された現像液の一部はウェハＷの表面
上に滴下されないことはあるが、ウェハＷの周辺領域に
おいて現像液が滴下されないようなことはなく、中心領
域と同様な条件での現像液の滴下が可能とされる。した
がって、この作用によっても、ウェハの周辺領域と中心
領域との現像液の層厚さが相違されることもなく、前記
したレジストパターン寸法のばらつき防止効果を高める
ことが可能になる。
では、ノズル１４の内底面に溜めていた現像液Ｄは、ノ
ズル１４内に供給した窒素ガスのガス圧によって一気に
ノズル孔１６から吐出され、ウェハＷの表面上に滴下さ
れる。このため、ウェハＷの表面上の中心領域と周辺領
域とでは、時間差が生じることなく同時に現像液が供給
される。これによりウェハＷの中心領域と周辺領域との
間に現像速度の違いが生じることはなく、レジストパタ
ーン寸法のばらつきの発生が防止される。また、ノズル
１４は円錐形状に形成されているため、その頂点位置で
連通された窒素ガス供給管２０から供給される窒素ガス
のガス圧は円錐面に沿って底面上の現像液Ｄを加圧する
ため、現像液Ｄに対して均一な加圧を行うことが可能と
なり、中心領域と周辺領域での現像液の吐出状態を均等
化してウェハＷ上に形成される現像液の層厚さの均一性
を高めることも可能となり、現像速度の均一化を進める
上で有効となる。さらに、この実施形態では、ノズル１
４の底面に設けたノズル孔１６は、ウェハＷの径寸法よ
りも大径の位置にまで存在しているため、外周側のノズ
ル孔１６から吐出された現像液の一部はウェハＷの表面
上に滴下されないことはあるが、ウェハＷの周辺領域に
おいて現像液が滴下されないようなことはなく、中心領
域と同様な条件での現像液の滴下が可能とされる。した
がって、この作用によっても、ウェハの周辺領域と中心
領域との現像液の層厚さが相違されることもなく、前記
したレジストパターン寸法のばらつき防止効果を高める
ことが可能になる。
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、水平状態
に置かれたウェハの上方に配設されてウェハに現像液を
供給するノズルの構成として、平坦な底面に多数のノズ
ル孔が開口された円錐容器状に形成し、かつノズル内に
現像液を供給するための現像液供給手段と、ノズル内を
外気に開放しあるいは外気から密封するための手段と、
ノズル内にガス圧を供給する手段とを付設しており、ノ
ズル内に供給されて溜められた現像液を、ノズル内に供
給されるガス圧によってノズル孔から吐出してウェハの
表面上に滴下しているので、現像液はウェハの中心領域
と周辺領域とで同時に突出されることになり、ウェハの
中心領域と周辺領域との現像速度が等しくなり、現像さ
れるレジストパターン寸法のばらつきが防止できる。ま
た、ノズルの底面に設けたノズル孔を、ウェハの径寸法
よりも大径の位置にまで配置することにより、ウェハの
周辺領域においても中心領域と同様な状態で現像液を滴
下し、前記したレジストパターン寸法のばらつき防止効
果を高めることが可能になる。
に置かれたウェハの上方に配設されてウェハに現像液を
供給するノズルの構成として、平坦な底面に多数のノズ
ル孔が開口された円錐容器状に形成し、かつノズル内に
現像液を供給するための現像液供給手段と、ノズル内を
外気に開放しあるいは外気から密封するための手段と、
ノズル内にガス圧を供給する手段とを付設しており、ノ
ズル内に供給されて溜められた現像液を、ノズル内に供
給されるガス圧によってノズル孔から吐出してウェハの
表面上に滴下しているので、現像液はウェハの中心領域
と周辺領域とで同時に突出されることになり、ウェハの
中心領域と周辺領域との現像速度が等しくなり、現像さ
れるレジストパターン寸法のばらつきが防止できる。ま
た、ノズルの底面に設けたノズル孔を、ウェハの径寸法
よりも大径の位置にまで配置することにより、ウェハの
周辺領域においても中心領域と同様な状態で現像液を滴
下し、前記したレジストパターン寸法のばらつき防止効
果を高めることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の現像液供給装置の実施形態の縦断面図
である。
である。
【図２】図１のノズルの底面図である。
【図３】現像液供給動作を説明するための要部の縦断面
図である。
図である。
１１ カップ １２ チャック １３ モータ １４ ノズル １５ 上下移動機構 １６ ノズル孔 １７ 液面センサ １８ 現像液供給管 １９ エア抜き管 ２０ 窒素ガス供給管 ２４ 現像液タンク ２５ ポンプ ２６ ガス圧源
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１２年１月３１日（２０００．１．３
１）
１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】特許請求の範囲
【補正方法】変更
【補正内容】
【特許請求の範囲】
【請求項２】 前記ノズルを前記ウェハの表面に対して
近接し、かつウェハ表面から離間させるための移動機構
を備える請求項１に記載の現像液供給装置。
近接し、かつウェハ表面から離間させるための移動機構
を備える請求項１に記載の現像液供給装置。
【請求項３】 前記ガス圧を供給する手段は、前記ノズ
ル内に窒素ガスを加圧状態で供給する手段である請求項
１または２に記載の現像液供給装置。
ル内に窒素ガスを加圧状態で供給する手段である請求項
１または２に記載の現像液供給装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明は、水平状態に置
かれたウェハの上方に配設され、平坦な底面に多数のノ
ズル孔が開口された円錐容器状のノズルを備えており、
前記ノズルには、前記ノズル内に現像液を供給するため
の現像液供給手段と、前記ノズル内を外気に開放しある
いは外気から密封するための手段と、前記ノズル内にガ
ス圧を供給する手段とが付設されている。さらに、前記
ノズルの底面は前記ウェハの径寸法よりも大きい径寸法
に形成され、前記ノズル孔は前記ウェハの径寸法よりも
大きい径寸法領域にわたって配置される。また、前記ノ
ズルを前記ウェハの表面に対して近接し、かつウェハ表
面から離間させるための移動機構を備える。さらに、前
記ガス圧を供給する手段は、前記ノズル内に窒素ガスを
加圧状態に供給する手段として構成される。
かれたウェハの上方に配設され、平坦な底面に多数のノ
ズル孔が開口された円錐容器状のノズルを備えており、
前記ノズルには、前記ノズル内に現像液を供給するため
の現像液供給手段と、前記ノズル内を外気に開放しある
いは外気から密封するための手段と、前記ノズル内にガ
ス圧を供給する手段とが付設されている。さらに、前記
ノズルの底面は前記ウェハの径寸法よりも大きい径寸法
に形成され、前記ノズル孔は前記ウェハの径寸法よりも
大きい径寸法領域にわたって配置される。また、前記ノ
ズルを前記ウェハの表面に対して近接し、かつウェハ表
面から離間させるための移動機構を備える。さらに、前
記ガス圧を供給する手段は、前記ノズル内に窒素ガスを
加圧状態に供給する手段として構成される。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００７】本発明では、ノズルを外気に開放した状態
でノズル内に現像液を供給し、ノズルを密封状態とした
上でノズル内にガスを圧送する。ノズル内に供給された
現像液はノズル内底面に溜められており、供給されるガ
ス圧によって底面に設けたノズル孔から吐出され、ウェ
ハの表面上に滴下される。現像液は、ウェハの中心領域
と周辺領域とで同時に吐出されるため、ウェハの中心領
域と周辺領域との現像速度が等しくなり、現像されるレ
ジストパターン寸法のばらつきが防止される。
でノズル内に現像液を供給し、ノズルを密封状態とした
上でノズル内にガスを圧送する。ノズル内に供給された
現像液はノズル内底面に溜められており、供給されるガ
ス圧によって底面に設けたノズル孔から吐出され、ウェ
ハの表面上に滴下される。現像液は、ウェハの中心領域
と周辺領域とで同時に吐出されるため、ウェハの中心領
域と周辺領域との現像速度が等しくなり、現像されるレ
ジストパターン寸法のばらつきが防止される。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【００１４】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、水平状態
に置かれたウェハの上方に配設されてウェハに現像液を
供給するノズルの構成として、平坦な底面に多数のノズ
ル孔が開口された円錐容器状に形成し、かつノズル内に
現像液を供給するための現像液供給手段と、ノズル内を
外気に開放しあるいは外気から密封するための手段と、
ノズル内にガス圧を供給する手段とを付設しており、ノ
ズル内に供給されて溜められた現像液を、ノズル内に供
給されるガス圧によってノズル孔から吐出してウェハの
表面上に滴下しているので、現像液はウェハの中心領域
と周辺領域とで同時に吐出されることになり、ウェハの
中心領域と周辺領域との現像速度が等しくなり、現像さ
れるレジストパターン寸法のばらつきが防止できる。ま
た、ノズルの底面に設けたノズル孔を、ウェハの径寸法
よりも大径の位置にまで配置することにより、ウェハの
周辺領域においても中心領域と同様な状態で現像液を滴
下し、前記したレジストパターン寸法のばらつき防止効
果を高めることが可能になる。
に置かれたウェハの上方に配設されてウェハに現像液を
供給するノズルの構成として、平坦な底面に多数のノズ
ル孔が開口された円錐容器状に形成し、かつノズル内に
現像液を供給するための現像液供給手段と、ノズル内を
外気に開放しあるいは外気から密封するための手段と、
ノズル内にガス圧を供給する手段とを付設しており、ノ
ズル内に供給されて溜められた現像液を、ノズル内に供
給されるガス圧によってノズル孔から吐出してウェハの
表面上に滴下しているので、現像液はウェハの中心領域
と周辺領域とで同時に吐出されることになり、ウェハの
中心領域と周辺領域との現像速度が等しくなり、現像さ
れるレジストパターン寸法のばらつきが防止できる。ま
た、ノズルの底面に設けたノズル孔を、ウェハの径寸法
よりも大径の位置にまで配置することにより、ウェハの
周辺領域においても中心領域と同様な状態で現像液を滴
下し、前記したレジストパターン寸法のばらつき防止効
果を高めることが可能になる。
Claims (4)
- 【請求項１】 水平状態に置かれたウェハの表面上に現
像液を供給するための装置であって、前記ウェハの上方
に配設され、平坦な底面に多数のノズル孔が開口された
円錐容器状のノズルを備えており、前記ノズルには、前
記ノズル内に現像液を供給するための現像液供給手段
と、前記ノズル内を外気に開放しあるいは外気から密封
するための手段と、前記ノズル内にガス圧を供給する手
段とが付設されていることを特徴とする現像液供給装
置。 - 【請求項２】 前記ノズルの底面は前記ウェハの径寸法
よりも大きい径寸法に形成され、前記ノズル孔は前記ウ
ェハの径寸法よりも大きい径寸法領域にわたって配置さ
れている請求項１に記載の現像液供給装置。 - 【請求項３】 前記ノズルを前記ウェハの表面に対して
近接し、かつウェハ表面から離間させるための移動機構
を備える請求項１又は２に記載の現像液供給装置。 - 【請求項４】 前記ガス圧を供給する手段は、前記ノズ
ル内に窒素ガスを加圧状態で供給する手段である請求項
１ないし３のいずれかに記載の現像液供給装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3337199A JP3049039B1 (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 現像液供給装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3337199A JP3049039B1 (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 現像液供給装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP3049039B1 JP3049039B1 (ja) | 2000-06-05 |
| JP2000232059A true JP2000232059A (ja) | 2000-08-22 |
Family
ID=12384738
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3337199A Expired - Lifetime JP3049039B1 (ja) | 1999-02-10 | 1999-02-10 | 現像液供給装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3049039B1 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002110525A (ja) * | 2000-10-02 | 2002-04-12 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 現像処理方法 |
| JP2012110844A (ja) * | 2010-11-25 | 2012-06-14 | Kawaguchi Spring Seisakusho:Kk | シャワー式塗装装置 |
| CN103034076A (zh) * | 2012-11-28 | 2013-04-10 | 上海华力微电子有限公司 | 一种新型显影处理单元结构 |
| JP2016111123A (ja) * | 2014-12-04 | 2016-06-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像処理装置、現像処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| JP2019161040A (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | Tdk株式会社 | 現像装置及び現像方法 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN110230909B (zh) * | 2019-05-10 | 2021-01-19 | 黔南民族师范学院 | 一种农产品保鲜仓储设备及其方法 |
-
1999
- 1999-02-10 JP JP3337199A patent/JP3049039B1/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002110525A (ja) * | 2000-10-02 | 2002-04-12 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 現像処理方法 |
| JP4566376B2 (ja) * | 2000-10-02 | 2010-10-20 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の製造方法 |
| JP2012110844A (ja) * | 2010-11-25 | 2012-06-14 | Kawaguchi Spring Seisakusho:Kk | シャワー式塗装装置 |
| CN103034076A (zh) * | 2012-11-28 | 2013-04-10 | 上海华力微电子有限公司 | 一种新型显影处理单元结构 |
| JP2016111123A (ja) * | 2014-12-04 | 2016-06-20 | 東京エレクトロン株式会社 | 現像処理装置、現像処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| JP2019161040A (ja) * | 2018-03-14 | 2019-09-19 | Tdk株式会社 | 現像装置及び現像方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3049039B1 (ja) | 2000-06-05 |
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