JP2000226352A - ヒドロキシアセトン含有フェノ―ルからヒドロキシアセトンを除去する方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ヒドロキシアセトン含有フェノールからヒド
ロキシアセトンを除去する方法 【解決手段】 クモールヒドロペルオキシドの酸触媒作
用分解時に生じる蒸気状ヒドロキシアセトン含有フェノ
ールを塩基で処理する。本発明の方法では、蒸留工程及
び反応工程を、蒸留塔の頭部から引き出された蒸気相を
反応器中に入れ、この中で蒸気としてのこの相を塩基と
反応させるか又は蒸留塔中で反応を行なわせ、この塔中
に蒸留すべきヒドロキシアセトン含有フェノールのみな
らず塩基も供給するように組み合わせる。 【効果】 公知方法で実施されるよりも、ヒドロキシア
セトンの分離除去のために必要なエネルギー使用量を低
く、フェノール損失を低くすることができる。特にホッ
クのフェノール合成時に生じる粗製フェノールの後処理
の際に使用できる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ヒドロキシアセト
ン含有フェノールからヒドロキシアセトンを除去する方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ホック（Hock'schen)の方法でクモール
の酸化により得られたクモールヒドロペルオキシドの酸
触媒作用分解の際に、不所望な副生成物としてヒドロキ
シアセトンが生じる。このヒドロキシアセトンの濃度
は、クモールヒドロペルオキシドの不均一分解の際には
約４００〜７００ｐｐｍであり、クモールヒドロペルオ
キシドの均一分解の際には約１０００〜２０００ｐｐｍ
である。このヒドロキシアセトンは、双方の化合物が３
７℃も異なる沸点を有するにも関わらず、簡単な蒸留に
よってはフェノールから分離することはできない。それ
というのも、ヒドロキシアセトンとフェノールとの間で
極性の交換作用が起こるからである。粗製フェノールの
後処理の場合に通常支配しているような条件下で、ヒド
ロキシアセトンは、粗製フェノールと及び／又は例えば
ホックの方法でのフェノール合成時に同様に生じること
ができる他の副生成物、例えばα−メチルスチロール、
メシチルオキシド又はアセトフェノンと反応するので、
このヒドロキシアセトンをフェノールの最終的精製の前
に分離除去しなければならない。

【０００３】ＥＰ ０５０５１４６明細書中には、フェ
ノールを不純物、特にヒドロキシアセトンから、水抽出
蒸留により抽出する方法を記載している。

【０００４】ＵＳ ４２５１３２５では、フェノールが
分別蒸留の特別な実施によりアセトフェノンから分離さ
れる。

【０００５】ＢＰ ８８３７４６明細書からは、ヒドロ
キシアセトンで不純化されたフェノール液相に塩基を添
加する方法が公知である。ヒドロキシアセトンは、塩基
による触媒作用により、簡単な蒸留によりフェノールか
ら分離できる充分に異なる沸点を有する生成物になる。

【０００６】ＢＰ ９２０９０５明細書中には、ヒドロ
キシアセトン含有フェノールの精製のために、フェノー
ル液相に先ず塩基を、次いで蒸留後処理の後に塩化鉄を
添加する方法が記載されている。

【０００７】ＵＳ ２９７１８９３明細書からは、フェ
ノール液相に塩基性過酸化水素溶液を添加し、引き続き
蒸留することによりフェノールの精製を達成する方法が
公知である。

【０００８】ＵＳ ４２９８７６５明細書には、液相で
精製すべきフェノールに同様に塩基を添加する方法が教
示されている。第２工程でこの混合物に酸が加えられ、
引き続き水蒸気蒸留が実施される。塔底中に残留するフ
ェノールを真空蒸留により更に精製し、高純度のフェノ
ールを得ている。

【０００９】ＵＳ ４６３４７９６明細書から、同様
に、精製すべきフェノールに塩基を添加する方法が公知
である。ここでは、混合物が直接水蒸気蒸留される。主
としてフェノールを含有する塔底物を先ず酸で処理し、
この混合物が高純度フェノールを分離するために更に蒸
留される。

【００１０】フェノールの塩基処理を伴う前記の全ての
方法は、高純度フェノールの製造のために非常に高いエ
ネルギー消費を必要とする。それというのも、処理すべ
きフェノールと塩基との液相での反応の後に、フェノー
ルを常に蒸留により分離しなければならないからであ
る。

【００１１】ＵＳ ５４１４１５４明細書中には、酸性
イオン交換体及び／又は超酸性触媒の使用下でのフェノ
ールからのメチルベンゾフランの分離のために使用でき
るもう一つの方法が記載されている。この方法では、メ
チルベンゾフランがもう１分子のフェノールの導入によ
り、フェノールから容易に蒸留分離できる化合物に変じ
られる。この方法は、フェノールからヒドロキシアセト
ンの除去のためにも使用でき、この際には、同様に、酸
触媒作用ヒドロキシアセトフェノンとフェノールとを反
応させてメチルベンゾフェノンにし、これを再びもう１
分子のフェノールの導入により、フェノールから容易に
蒸留により分離することのできる化合物に変じることが
できる。しかしながら、この方法では、その反応メカニ
ズムに基づき、不純物としてのヒドロキシアセトン１モ
ル当たり２モルのフェノールが失われる。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の課題
は、できるだけ少ないエネルギー使用量を必要とし、同
時にフェノールの損失を最小とする、ヒドロキシアセト
ン含有フェノールからヒドロキシアセトンを除去するた
めの簡単な方法を提供することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】ところで意外にも、ヒド
ロキシアセトン含有フェノールからのヒドロキシアセト
ンの除去が、蒸気相のヒドロキシアセトン含有フェノー
ルに少なくとも１種の塩基を添加することにより、著し
く簡単にされ、必要エネルギー使用量及びフェノール損
失が明確に減少されることが判明した。

【００１４】従って、本発明の目的は、ヒドロキシアセ
トン含有フェノールからヒドロキシアセトンを除去する
方法であり、これは、ヒドロキシアセトン含有フェノー
ルを蒸気相で少なくとも１種の塩基で処理することを特
徴とする。

【００１５】本発明の方法を用いると、ヒドロキシアセ
トン含有フェノールから意外に簡単に、ヒドロキシアセ
トンを除去することができる。公知方法に比べた重要な
一つの利点は、蒸気相でのヒドロキシアセトン含有フェ
ノールへの塩基の添加により、フェノールの熱エネルギ
ーが、同時に、明らかに低いエネルギー消費で蒸留（熱
損失を補償するためだけに充分なエネルギーを供給しな
ければならない）を行うために利用できることにある。
公知方法では、先の蒸留作業工程からの塔頂生成物とし
て生じるヒドロキシアセトン含有フェノールを先ず凝縮
させ、次いで塩基を加え、かつ引き続き再度蒸留させ
る。フェノールの凝縮時に生じる凝縮熱が本発明の方法
でも公知の方法におけると同様に利用されるが、本発明
ではフェノールがヒドロキシアセトンの除去のために働
く反応塔又は蒸留塔を出た後に初めて（即ち１回だけ）
凝縮されることで異なっている。本発明の方法の使用に
より、更に、フェノールがヒドロキシアセトンとの反応
により失われることが阻止される。本発明の方法は、収
率及びエネルギー使用量に関して著しく経済的なフェノ
ールの生成をも可能にする。

【００１６】次に、ホックの合成で製造される粗製フェ
ノールの精製を用いて、本発明の方法を例示的に詳述す
る。

【００１７】公知方法で実施された合成では、クモール
及び酸素からクモールヒドロペルオキシドが製造され
る。これは、例えば均一相で実施される分解反応で、酸
触媒作用により分解されてフェノール及びアセトンにさ
れる。この全体的プロセスではアセトン及びフェノール
だけではなく、分解生成物は、付加的になおクモール、
メチルベンゾフラン、ヒドロキシアセトン、α−メチル
スチロール及び他の副生成物を含有することができる。

【００１８】分解生成混合物からのアセトン及びクモー
ルの分離除去は、通常は蒸留により行なわれる。第１の
蒸留塔中でアセトンが分離除去される。塔底中に生じる
粗製フェノールは、一般にクモールの分離除去のために
もう一つの蒸留塔中に導かれる。ここで、クモールは塔
頂部から引き出される。塔底部から取り出された粗製フ
ェノールは更なる蒸留精製にかけられる。

【００１９】この後続の精製工程で、粗製フェノール
は、通常は蒸留塔中に導かれ、塔頂部から引き出され
る。高沸点不純物、例えば重合されたα−メチルスチロ
ールは、塔底中に残留し、後処理、例えばフェノール及
び／又はクモールの回収のためにクラッキングすること
ができる。

【００２０】慣用の方法では、凝縮熱の利用下での粗製
フェノールの凝縮及び更なる蒸留後処理が行なわれる。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明によれば、塔頂部から蒸気
状で引き出され、ヒドロキシアセトン含有フェノール以
外になおフェノールよりも低い沸点を有する化合物を含
有する混合物を、次いで本発明の方法に導く。この目的
のために、この混合物を、蒸気状で、即ち凝縮すること
なく、この例では１反応塔中に導く。本発明により、こ
の混合物の上部から、少なくとも１種の塩基、有利にフ
ェノレートアルカリ溶液、任意の有機塩基又はアルカリ
金属水酸化物−溶液を、これが蒸気状混合物に対して向
流で流れるようにして反応塔中に導く。

【００２２】蒸気状ヒドロキシアセトン含有フェノール
及び低沸点物を含有する混合物へ向流で流れる塩基によ
り、意外にもヒドロキシアセトンの塩基触媒作用縮合反
応が達成される。樹脂状であり、塩基中に溶けて存在す
るこの縮合反応からの生成物は、フェノールよりも高い
沸点を有し、これにより塔の塔底中で濃度増加する。

【００２３】同様に反応塔の塔底中に集まり、部分的に
ヒドロキシアセトンの縮合生成物を含有する塩基から、
連続的に又は非連続的に、有利には連続的に、反応塔の
塔底中に存在する液体量がほぼ一定に留まるように塩基
を取り出す。取り出された塩基の全て又は一部を、有利
に再び混合物供給部の上から塔中に供給するか又は、全
て又は一部を後処理に又は無害化に、塩基としてのフェ
ノレートアルカリ溶液の場合には有利に公知方法で酸に
より行われるフェノレートアルカリ溶液分解に供する。

【００２４】反応塔中での塩基の反応性を保持するため
に、本発明によれば、連続的又は非連続的に、有利に連
続的に、塩基、特にフェノレートアルカリ溶液、有機塩
基又はアルカリ金属水酸化物溶液を、混合物供給部の上
方又は下方から、有利には上方から反応塔中に、この反
応により消費された塩基の量を補充するような量で導
く。

【００２５】ヒドロキシアセトンから精製されたフェノ
ール及び低沸点物を含有する混合物を反応塔の塔頂部か
ら引き出すために、反応塔を蒸気状流入物の熱損失の補
償のために僅かに付加的に加熱し、これによりこの混合
物を反応帯域中の全滞留時間の間に蒸気状で存在させる
べきである。この反応塔中の温度は、本発明においては
１００〜３００℃、有利に１５０〜２５０℃、特に有利
に１７０〜１９０℃である。反応塔の加熱は、公知方法
で、例えば熱伝導器又は過熱蒸気を用いて行うことがで
きる。

【００２６】反応塔の塔頂部から引き出されたヒドロキ
シアセトン不含の混合物は、凝縮熱の利用下に凝縮さ
れ、更なる後処理、例えばフェノールからの低沸点化合
物の蒸留除去に供することができる。

【００２７】反応塔としては、通常、気体と液体との間
の反応のために使用される、気相と液相との間の反応の
ためにできるだけ大きい接触表面を提供する装置、例え
ば蒸留塔を使用することができ、その大きさは、例えば
塩基としてのアルカリ金属水酸化物又はフェノレートア
ルカリ溶液の使用により反応塔中に導入されるアルカリ
が、ヒドロキシアセトンから精製された混合物と共に反
応塔を出ないように構成されるべきである。それという
のも、これは、更なる操作工程、例えばイオン交換体の
使用の際にその効果を妨げることがあり得るからであ
る。塔の寸法は簡単な前試験により決めることができ
る。

【００２８】本発明の方法の特別の１実施法では、反応
塔として、既に存在するその中に反応帯域が組み込まれ
る蒸留塔を使用する方法で、反応塔を省略することがで
きる。

【００２９】出発物質は、再び既に高沸点物が除かれ、
なおフェノールよりも低い沸点を有する不純物を含有す
るヒドロキシアセトン含有フェノールである。これは連
続的にではなく、唯一の方法工程で、ヒドロキシアセト
ンと一緒に粗製フェノールから除去すべき場合に、この
混合物を、塔頂部の下方で、有利に塔底の上の第１棚段
と第５棚段の間で液状又はガス状で蒸留塔中に導びく。
蒸留塔中の混合物供給部の温度は、その中で主として蒸
気状の混合物が塩基と反応することができる反応帯域が
有効利用される様に選択すべきである。

【００３０】少なくとも１種の塩基、有利にフェノレー
トアルカリ溶液、有機塩基又はアルカリ金属水酸化物溶
液を、本発明の方法のこの特別な実施法で、混合物供給
部の上から塔中に、この塩基をヒドロキシアセトン含有
蒸気状混合物に対して向流で供給する。混合物供給部と
塩基供給部との間隔は、それらの間に、反応帯域を有効
利用するのに充分な数の理論的棚段が存在するように選
択すべきである。

【００３１】ヒドロキシアセトンから精製されたフェノ
ールは、塩基供給部の上方の側部から液状でこの塔から
取り出すことができる。塩基供給部と精製フェノールの
取り出し位置との間の理論的棚段の間隔は、例えば取り
出されるフェノールと一緒のフェノレートアルカリ溶液
の形の塩基の排出が確実に阻止されるような大きさに選
択すべきである。

【００３２】塔頂部から、主としてフェノールの沸点を
下回る温度で沸騰する化合物を含有する混合物が蒸気状
で引き出される。この混合物の一部は凝縮されて還流物
として塔の上部に戻すことができる。他の適当な試剤、
例えば水も単独で、又は塔頂部から引き出され、凝縮さ
れた混合物への添加物として、この塔の上部中に還流と
して導くこともできる。

【００３３】塩基性触媒作用縮合により、ヒドロキシア
セトンから生じる樹脂状縮合生成物（これは塩基中に溶
解されて存在する）が塔の塔底中で濃度増加される。塔
のこの塔底から縮合生成物を、同様に塔の塔底中に集ま
る塩基と一緒に、連続的又は非連続的に、有利には連続
的に、蒸留塔の塔底中の液体量がほぼ一定に残留するよ
うに取り出すことができる。取り出され、ヒドロキシア
セトンの縮合生成物を含有する塩基の一部は、再びフェ
ノール供給部の上方から、蒸留塔中に供給することがで
きる。取り出された塩基の他の部分は、無害化又は後処
理に、使用塩基としてのフェノレートアルカリ溶液の場
合には、フェノレートアルカリ溶液分解に供することが
できる。

【００３４】蒸留塔中の塩基の反応性を保持するため
に、本発明により連続的に又は非連続的に、有利には連
続的に塩基、有利にはフェノレートアルカリ溶液、有機
塩基又はアルカリ水酸化物溶液をこの反応で消費された
塩基の量が補充されるような量で、混合物供給部の上か
らこの蒸留塔中に導くことができる。

【００３５】蒸留塔中の温度は、ヒドロキシアセトン含
有混合物が、塩基と反応する反応帯域中でもっぱら蒸気
状で存在するように選択すべきである。この蒸留塔中の
温度は、本発明では１００〜３００℃、有利に１５０〜
２５０℃、特に有利に１７０〜１９０℃である。蒸留塔
の加熱は、公知方法で、例えば熱伝導器又は過熱蒸気を
用いて行うことができる。

【００３６】蒸留塔としては、通常、蒸留のために使用
される塔を使用することができ、その大きさは、アルカ
リがヒドロキシアセトンから精製されたフェノールと一
緒に蒸留塔を出ないように構成すべきである。それとい
うのも、これは更なる後処理工程で、例えばイオン交換
体の使用の際にその有効性を害することがあり得るから
である。この塔の寸法及び供給位置と取り出し位置との
間の理論的棚段の間隔は、簡単な前試験により決めるこ
とができる。

【００３７】本発明の方法の前記の特別な実施法では、
本発明の方法の最初に記載の実施法と比べて特別な１反
応塔を省略することができる。

【００３８】蒸留塔及び反応塔の組合せを使用する本発
明の方法のもう一つの特別な実施法は、１工程でフェノ
ールをヒドロキシアセトンからも高沸点及び低沸点化合
物からも分離すべき場合に使用することができる。

【００３９】この方法では、粗製フェノールが塔頂部の
下、有利に塔底の直ぐ上から蒸留塔中に導びかれる。こ
の塔中の温度プロフィルにより、粗製フェノールは、フ
ェノールよりも高い沸点を有する化合物が塔の塔底中で
濃度増加し、フェノールよりも低い沸点を有する化合物
は主として蒸留塔の塔頂部に濃度増加し、精製されたフ
ェノールが側部から液状で取り出すことができる様な方
法で分離される。精製されたフェノールは、側部から、
塔の取り出し位置の上方の理論的棚段対下方の理論的棚
段の割合が約１対３、有利に１：３．５、特に有利に
１：４で蒸留塔から取り出される。主としてフェノール
よりも高い沸点を有する不純物を含有する混合物が濃度
増加している蒸留塔の塔底から、この混合物を連続的又
は非連続的に、有利に連続的に取り出すことができる。
この取り出された不純物は後処理に供することができ
る。蒸留塔の塔頂部から、主として低沸点不純物並びに
ヒドロキシアセトン及びフェノールを含有する混合物が
引き出される。

【００４０】この蒸気状混合物は、本発明によれば直接
反応塔中に導びかれる。この混合物の上方から塩基、有
利にフェノレートアルカリ溶液、任意の有機塩基又はア
ルカリ金属水酸化物、特に有利にフェノレートアルカリ
溶液が、この塩基が精製すべき蒸気状混合物に向かって
流れるように反応塔中に導かれる。

【００４１】この塩基によりヒドロキシアセトンの縮合
反応が接触され、高沸点樹脂状縮合生成物が生じ、これ
が塔底中に集まり、塩基中に溶解して存在する。反応塔
の塔頂部から引き出されるヒドロキシアセトンの濃度減
少された蒸気の一部を凝縮させて上から蒸留塔中に戻す
ことができる。他の部分は、低沸点物の含分に基づき必
要に応じて他の選別工程、例えばフェノール製造の全プ
ロセス中の早期蒸留工程に供することができる。反応塔
の塔頂部で凝縮された蒸気の場合による第３の部分は、
この反応塔中に戻すことができる。凝縮された塔頂生成
物の部分流は当業者に公知の構造的手段により量的に制
御することができるので、部分流の組成に応じて、これ
を、より多く凝縮された蒸気が反応塔の塔頂部中に、蒸
留塔の塔頂部中に又は後処理に供給できるように調節で
きることが有利でありうる。構造的手段により、この方
法は、有利に凝縮された全ての蒸気の０〜１００％の部
分流を収容できるように実施することができる。

【００４２】その中にヒドロキシアセトンの縮合生成物
及び塩基が集まる反応塔の塔底から連続的に又は非連続
的に、有利に連続的に、反応塔中の液体成分がほぼ一定
に留まるような量で縮合生成物を含有する塩基を取り出
すことができる。この取り出された塩基は、不純の度合
い及び残留反応性に依存して、後処理に、塩基としての
フェノールアルカリ溶液の場合には有利にフェノレート
アルカリ溶液分解に導くことができるか、又は蒸留塔の
塔頂部から引き出された混合物が蒸気状で供給される混
合物供給部の上方から、再び反応塔中に供給することが
できる。

【００４３】反応塔中の塩基の反応性の保持のために、
本発明により連続的に又は非連続的に、有利には連続的
に、塩基、有利にフェノレートアルカリ溶液、任意の有
機塩基又はアルカリ金属水酸化物溶液を、この反応によ
り消費された塩基量を補充するような量で反応塔中に、
混合物供給部の上方又は下方から、有利には上方から導
くことができる。

【００４４】蒸留塔として、通常は蒸留のために使用さ
れる塔を使用することができ、その大きさは低沸点又は
高沸点化合物からのフェノールの本発明による分離が達
成されるように選択すべきである。反応塔としては、通
常、ガスと液体との間の反応に使用される装置、例えば
蒸留塔を使用することができ、その大きさは、アルカリ
が、ヒドロキシアセトンから精製されたフェノールと一
緒に反応塔を出ないように選択すべきである。それとい
うのも、これは更なる後処理工程で、例えばイオン交換
体の使用の際に、その作用効果を妨げるおそれがあるか
らである。塔の大きさ及び供給位置と取り出し位置との
間の理論的棚段の間隔は、予備試験により決めることが
できる。

【００４５】ヒドロキシアセトンから精製されたフェノ
ール及び低沸点物を含有する混合物を反応塔の塔頂部か
ら引き出すために、反応塔は、蒸気状流入物の熱損失の
補償のために僅かに付加加熱すべきであり、これによ
り、この混合物は反応帯域中の全滞留時間の間中蒸気状
で存在する。

【００４６】反応塔及び蒸留塔中の温度は、本発明では
１００〜３００℃、有利に１５０〜２５０℃、特に有利
に１７０〜１９０℃である。反応塔の加熱は、公知方法
で、例えば熱伝導器又は過熱蒸気を用いて行うことがで
きる。

【００４７】本発明の方法の実施時のヒドロキシアセト
ンの縮合生成物とそれ自体又はヒドロキシアセトンとの
更なる縮合反応により生じることのできる固体の形成を
避けるために、反応−又は蒸留塔の塔底中に集まり、塩
基中に溶解して存在する縮合生成物の一部分を連続的に
又は非連続的に塩基と一緒にこのプロセスから流出させ
るのが有利であり得る。このプロセス中での縮合生成物
のこれが縮合して固体になりもはや塩基中に可溶でなく
なるまでの平均の最大滞留時間は、予備試験で決めるこ
とができる。

【００４８】同様に、縮合生成物を、これがそれ自体と
の又はヒドロキシアセトンとの更なる縮合反応によりも
はや塩基中に溶解しない固体を形成するまで放置するの
も有利でありうる。この固体は、少なくとも液相からの
固体の分離のために好適である装置、例えば、塔底から
取り出された塩基を導く導管中に取り付けることができ
るフィルターにより分離され、こうしてこのプロセスか
ら除去することができる。分離された固体は、後処理、
例えば熱的加工に供することができる。

【００４９】本発明の方法は、大気圧、高圧及び低圧、
有利に大気圧下に実施することができる。

【００５０】ヒドロキシアセトン含有フェノールからヒ
ドロキシアセトン又は他のフェノール中に存在する不純
物を除去する場合の分離効率を高めるために、本発明の
方法の１以上の実施態様を組合せるか又は前後に接続す
るのが有利でありうる。

【００５１】塔中に入る及びそれから出る物質流の調節
のために、並びに部分流の調節のために、当業者に公知
の調節可能性、例えば弁又は栓を物質流又は部分流を案
内する導管中に備えるのが有利である。

【００５２】本発明の方法は、連続的又は非連続的に実
施することができる。

【００５３】図１中には、本発明の方法の１実施態様が
例示されているが、この方法はこれのみに限定されるも
のではない。

【００５４】処理すべきフェノール１を蒸留塔Ｄ中に導
入する。蒸留塔の塔底から、フェノールよりも高い沸点
を有する化合物を含有する残分２を取り出す。蒸留塔の
塔頂部から、蒸気状のヒドロキシアセトン含有フェノー
ル３を引き出し、反応塔Ｒ中に供給する。この反応塔の
塔底からヒドロキシアセトンの縮合生成物を含有する塩
基を後処理に、例えばフェノレートアルカリ溶液分解に
供する（導管６）か又は再びフェノール供給部の上方か
ら反応塔中に供給する（導管５）。導管６から取り出さ
れた塩基の補充のために、反応塔にフェノール供給部の
上方から新しい塩基４を導入する。反応塔の塔頂部から
ヒドロキシアセトンの濃度減少されたフェノールを引き
出し（導管７）、これを凝縮熱の利用下に凝縮させるこ
とができる。このために、塔頂生成物を熱交換器Ｋに通
し、凝縮させる。この凝縮された混合物を再び蒸留塔中
に戻し導入（導管９）、反応塔中に導入（導管１０）又
は後処理、例えば更なる蒸留（導管１１）に供する。

【００５５】図２中には、例えば本発明の方法のもう一
つの実施態様が記載されているが、この方法はこれに限
定されるものではない。

【００５６】処理すべきフェノール１を蒸留塔Ｄ中に導
く。蒸留塔の塔底から、フェノールよりも高い沸点を有
する化合物を含有する残分２を取り出す。蒸留塔の塔頂
部からヒドロキシアセトン、低沸点不純物及び少量のフ
ェノールを含有する蒸気状混合物を引き出し、反応塔Ｒ
中に供給する（導管３）。この反応塔の塔底部からヒド
ロキシアセトンの縮合生成物を含有する塩基を後処理
に、例えばフェノレートアルカリ溶液分解に供する（導
管６）か又は、再び反応塔中にフェノール供給部の上方
から供給する（導管５）。導管６から取り出された塩基
の補充のために、反応塔にフェノール供給部の上方から
新しい塩基４を導入する。反応塔の頭部からヒドロキシ
アセトンの濃度減少された低沸点物及び少量のフェノー
ルからの混合物を引き出す（導管７）。これを熱交換器
Ｋを通し、凝縮させる。凝縮された混合物を再び蒸留塔
中に戻し導入する（導管９）か、反応塔中に導びく（導
管１０）か又は後処理に、例えば更なる蒸留に供する
（導管１１）。ヒドロキシアセトンが充分に除かれたフ
ェノール８を蒸留塔の側部から取り出し、更なる後処理
工程又は加工工程に供する。

【００５７】図３中に本発明の方法のもう一つの実施態
様を例示するが、この方法はこれに限定されるものでは
ない。

【００５８】予備塔中で高沸点物の除かれたフェノール
を、１’から反応塔Ｒ’の下部に供給する。フェノール
中に含有する妨害性化合物、例えばヒドロキシアセトン
は、５’を通って循環する塩基性塔底生成物と反応す
る。一部流を２’から取り出し、塩基の損失分を４’か
ら補充する。３’から低沸点物が塔から出て、かつ６’
から適当な試剤、例えば水を還流分として導入するか又
は導管８’から低沸点物の一部を還流として導入する。
導管８’中に熱交換器Ｋが備えられていてよく、これは
低沸点物を凝縮させることを可能とする。７’からヒド
キシアセトン及び低沸点物が充分除去されたフェノール
を取り出し、更なる処理に供する。

【００５９】本発明の方法を次の実施例で詳述するが、
これのみに限定されるものではない。

【００６０】

【実施例】例１ 蒸留塔中で、フェノール８０ｇに５０％苛性ソーダ８ｇ
を加えた。短路から、苛性ソーダにより導入された水を
留去した。水の除去の後に、１０００〜１２０００ｐｐ
ｍのヒドロキシアセトン含量を有する粗製フェノール４
００ｇ／ｈを５時間かかって滴下した。同時に蒸留塔の
塔頂部から塔頂生成物４００ｇ／ｈが留出された。塔頂
部から留出したフェノールは、３０〜６５ｐｐｍのヒド
ロキシアセトン含有率を有した。

【００６１】この例は、ヒドロキシアセトン含有フェノ
ールへの苛性ソーダの添加により、ヒドロキシアセトン
がフェノールから充分除去できることを示している。そ
れというのも、これは縮合生成物を形成し、これが塔の
塔底中で濃度増加するからである。

【００６２】例２ 蒸留塔中で、フェノール４０ｇに５０％苛性ソーダ８ｇ
を加えた。８時間かかって、ヒドロキシアセトン２．５
％を含有する粗製フェノール２００ｇ／ｈを滴加した。
短路から同量のフェノールが留出された。次いで、４時
間かかって、５０％苛性ソーダ２００ｐｐｍ及びヒドロ
キシアセトン１０００〜２０００ｐｐｍを含有するフェ
ノール２５０ｇ／ｈを滴加した。塔頂部から同時に塔頂
生成物２５０ｇ／ｈが留出された。この塔頂生成物は、
ヒドロキシアセトン６０ｐｐｍを含有した。

【００６３】この蒸留の終了後に、塔の塔底中に残って
いる溶液を１０％硫酸で中和した。この混合物をヒドロ
キシアセトン不含の精製フェノール２５０ｇ／ｈの滴加
下に、４時間にわたり蒸留させた。

【００６４】塔頂部から同時にフェノール２５０ｇ／ｈ
が留出された。塔頂生成物中のヒドロキシアセトン含分
は７０ｐｐｍであった。

【００６５】この例は、蒸留塔の塔底中に残留する縮合
生成物は塔底中に存在する混合物の硫酸を用いる中和の
後に、かつ引き続く熱作用下にヒドロキシアセトンを再
び全く放出しない程度に安定であることを示している。

【００６６】例３ 蒸留塔中で フェノール５０ｇに５０％苛性ソーダ１ｇ
を加えた。４時間にわたり、ヒドロキシアセトン１％を
含有するフェノール５００ｇを滴加した。同時に、蒸留
時間の間の塔底物量が常に５０ｇであるような量のフェ
ノールが塔頂から留出された。塔頂生成物中のヒドロキ
シアセトンの含量は１００ｐｐｍであった。

【００６７】この実験を繰り返した。しかしながら、ヒ
ドロキシアセトン含有フェノールの供給部の上方から、
前記の実験からの塔底混合物の５０ｇを供給した。塔頂
生成物は、４０ｐｐｍのヒドロキシアセトン含分を有し
た。

【００６８】この例では、ヒドロキシアセトン含有フェ
ノールの供給部の上からの、ヒドロキシアセトンの縮合
生成物及び苛性ソーダを含有する塔底混合物の導入は、
ヒドロキシアセトン含有フェノールからのヒドロキシア
セトンの分離除去の効率に関して有利であることを立証
していることが非常に明白である。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の方法の１実施形を示すフローシート

【図２】本発明のもう一つの実施形を示すフローシート

【図３】本発明のもう一つの実施形の反応塔部分を示す
フローシート

【符号の説明】

Ｄ 蒸留塔、 Ｒ、Ｒ’ 反応塔、 Ｋ 熱交換器

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 蒸気相のヒドロキシアセトン含有フェノ
   ールを少なくとも１種の塩基で処理することを特徴とす
   る、ヒドロキシアセトン含有フェノールからヒドロキシ
   アセトンを除去する方法。
2. 【請求項２】 ヒドロキシアセトン含有フェノールを蒸
   留塔中で１種の塩基で処理する、請求項１に記載の方
   法。
3. 【請求項３】 ヒドロキシアセトンを塩基触媒作用でフ
   ェノールよりも高い沸点を有する化合物に変換する、請
   求項１又は２に記載の方法。
4. 【請求項４】 塩基としてアルカリ金属水酸化物を使用
   する、請求項１から３までのいずれか１項に記載の方
   法。
5. 【請求項５】 塩基として有機塩基を使用する、請求項
   １から３までのいずれか１項に記載の方法。
6. 【請求項６】 塩基としてフェノレートアルカリ溶液を
   使用する、請求項１から３までのいずれか１項に記載の
   方法。
7. 【請求項７】 塔底中に生じる塩基をヒドロキシアセト
   ン含有フェノールの供給部の上方から再び蒸留塔又は反
   応塔中に供給する、請求項１から６までのいずれか１項
   に記載の方法。
8. 【請求項８】 温度は１００〜３００℃である、請求項
   １から７までのいずれか１項に記載の方法。
9. 【請求項９】 温度は１５０〜２５０℃である、請求項
   ８に記載の方法。
10. 【請求項１０】 温度は１７０〜１９０℃である、請求
    項９に記載の方法。