JP2000214427A5 - - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】
動作流れを制御するホストと、
複数の第１基板と複数の第２基板とを有するストッカーと、
基板上の情報に基づいて基板を選択するものであって、第１基板上の情報を受信して受信した情報に基づいて第１基板に対応する第２基板を選択するソータと、
を備える作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項２】
動作流れを制御するホストと、
複数の第１基板と複数の第２基板とを有するストッカーと、
基板の情報に基づいて基板を選択するものであって、第１基板の情報を受信して受信した情報に基づいて第１基板に対応する第２基板を選択するソータと、
を備え、前記第１基板は不良に応じた異なるグレードを有し、前記第２基板は不良に応じた異なるグレードを有し、
前記ソータは不良に応じたグレードに基づいて次の作業工程のために第１基板と第２基板を対にすることを特徴とする作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項３】
前記ストッカーは、
複数の第１基板を有する第１ストッカーと、
複数の第２基板を有する第２ストッカーと、
を備え、前記第２ストッカーは前記第１ストッカーと通信し、次の作業工程のために対となる第１基板に対応する第２基板を選択するソータを有することを特徴とする請求項２に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項４】
前記第１基板は液晶表示装置の薄膜トランジスタ（TFT）基板であり、前記第２基板は液晶表示装置のカラーフィルタ（CF）基板であることを特徴とする、請求項３に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項５】
前記第１ストッカーと第２ストッカーとはそれぞれ１つのストッカーである、請求項４に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項６】
前記第１基板は液晶表示装置の薄膜トランジスタ（TFT）基板であり、前記第２基板は液晶表示装置のカラーフィルタ（CF）基板であることを特徴とする、請求項２に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項７】
前記ストッカーは１つのストッカーであることを特徴とする、請求項６に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項８】
ストッカーに格納され、それぞれが不良に応じた異なるグレードを有する第１基板および第２基板を結合処理する自動化方法において、
(a)第１基板の供給を受ける段階と、
(b)前記第１基板の不良に応じたグレードを特定する段階と、
(c)前記第１基板の不良に応じたグレードに対応するグレードである第２基板を照会する段階と、
(d)前記第１基板の不良に応じたグレードに対応するグレードである第２基板があればこれを選択し、選択された前記第２基板を新たなカセットに保管する段階と、
(e)前記第１基板の不良に応じたグレードに対応するグレードである第２基板がなければ、前記第１基板を製造工程に投入するのを待機させる段階と、
(f)前記第１基板の不良に応じたグレードに対応するグレードである第２基板があれば、前記第１基板および第２基板をそれぞれ次の製造工程に搬送して投入する段階と、
(g)次の製造工程を続行する段階と、
からなることを特徴とする作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項９】
前記新たなカセットが満たされるまで前記(a)〜(f)の段階を繰り返し実行することを特徴とする、請求項８に記載の作業対象物の結合処理自動化システムの方法。
【請求項１０】
前記第１基板は液晶表示装置のための薄膜トランジスタ基板であり、前記第２基板は液晶表示装置のためのカラーフィルタ基板であることを特徴とする、請求項８に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項１１】
それぞれが不良に応じた異なるグレードと前記不良に応じたグレードに対応するIDを有する第１基板および第２基板を結合する作業対象物の結合処理自動化システムであって、
前記第１基板のIDと整合する第２基板のIDがあるか否かを特定する段階と、
前記第１基板のIDに整合する第２基板にIDがあれば、第２基板があるか否かを特定する段階と、
前記第２基板があれば第１基板と第２基板を同期して処理する段階と、
処理前に第１基板のIDと第２基板のIDとを比較する段階と、
前記第２基板のIDが前記第１基板のIDと整合していない場合には、第１基板と対をなすことができずに残された多数の第２基板のうちから第１基板とIDにより整合する第２基板を選択する段階と、
からなる作業対象物の結合処理自動化システムの方法。
【請求項１２】
前記第１基板は液晶表示装置のための薄膜トランジスタ基板であり、前記第２基板は液晶表示装置のためのカラーフィルタ基板であることを特徴とする、請求項１１に記載の作業対象物の結合処理自動化システムの方法。
【請求項１３】
動作流れを制御するホストと、
第１投入部、第１作業部、第１アンローダ部を備える第１基板の作業のための第１設備と、
第２投入部、第２作業部、第２アンローダ部を備える第２基板の作業のための第２設備と、
を備え、
前記第１設備と第２設備は互いに通信可能に結合され、
前記第１基板は不良に応じた異なるグレードを有し、前記第２基板は不良に応じた異なるグレードを有し、
前記第１設備は前記第１基板が投入された際に不良に応じたグレードを特定し、前記第２設備に第１基板の不良に応じたグレードの情報を送信し、
前記第２設備が第１設備から第１基板の不良に応じたグレードの情報を受信し、第１基板の不良に応じたグレードに対応する第１基板を選択し、
前記第２設備が前記第１基板の不良に応じたグレードに対応する第２基板を見つけた旨の報告を行った場合に、前記投入された第１基板は前記第１作業部により作業され、前記選択された第２基板は第２作業部により作業されることを特徴とする、作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項１４】
前記第１投入部は、第１基板の不良に応じたグレードを特定し、前記第２設備に第１基板の不良に応じたグレードの情報を送信可能なデバイスを備え、前記第１基板に対応する第２基板の選択情報を受信し、
前記第１作業部は、第１基板に対する一連の製造工程を実行することが可能であり、
前記第２投入部は、第１基板の不良に応じたグレードの情報を受信し、第１基板の不良に応じたグレードの情報に対応する第２基板を選択することが可能なデバイスを備え、前記第１基板に対応する第２基板の選択情報を送信し、
前記第２作業部は、第２基板に対する一連の製造工程を実行することが可能であることを特徴とする、請求項１３に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項１５】
前記第１基板は液晶表示装置の薄膜トランジスタ基板であり、前記第２基板は液晶表示装置のカラーフィルター基板であり、
前記第１投入部は薄膜トランジスタ基板（TFT）カセット投入部であり、前記第２投入部はカラーフィルター基板（CF）カセット投入部であり、
前記第１アンローダ部は薄膜トランジスタ基板（TFT）カセットアンローダ部であり、前記第２アンローダ部はカラーフィルター基板（CF）カセットアンローダ部であることを特徴とする、請求項１４に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項１６】
前記第１基板に対する一連の製造工程は液晶表示装置の薄膜トランジスタ基板に対するものであり、洗浄工程、オーブン工程、配向膜塗布工程、検査工程を含み、
前記第２基板に対する一連の製造工程は液晶表示装置のためのカラーフィルター基板に対するものであり、洗浄工程、オーブン工程、配向膜塗布工程、検査工程を含むことを特徴とする、請求項１５に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項１７】
前記第１アンローダ部は一連の製造工程が終了する前の液晶表示装置の薄膜トランジスタ基板を格納可能なカセットを有し、
前記第２アンローダ部は一連の製造工程が終了する前の液晶表示装置のカラーフィルター基板を格納可能なカセットを有することを特徴とする、請求項１６に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項１８】
前記CFカセット投入部は多数のカセットを備え、各カセットは同一のグレードのカラーフィルター基板を保管することを特徴とする、請求項１７に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項１９】
前記CFカセット投入部は１つのストッカーに結合されることを特徴とする、請求項１７に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項２０】
前記TFTカセット投入部とCFカセット投入部は１つのストッカーに結合されることを特徴とする、請求項１７に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項２１】
前記TFTカセット投入部は、システムの初期準備段階、または前記第２設備が故障である時に、前記第１設備を介して投入可能な多数のダミー基板を有することを特徴とする、請求項１７に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項２２】
前記CFカセット投入部は、システムの初期準備段階、または前記第１設備が故障である時に、前記第２設備を介して投入可能な多数のダミー基板を有することを特徴とする、請求項１７に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項２３】
前記TFTカセット投入部と前記CFカセット投入部とは第１ストッカーに結合され、
前記TFTカセットアンローダ部と前記CFカセットアンローダ部とは第１ストッカーに結合されることを特徴とする、請求項１７に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項２４】
前記薄膜トランジスタ基板とカラーフィルター基板とは、それぞれの一連の製造工程が終了した後、前記第２ストッカーにおいて対にされることを特徴とする、請求項２３に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項２５】
動作流れを制御するホストと、
第１投入部、第１作業部、第１アンローダ部を備える第１基板の作業のための第１設備と、
第２投入部、第２作業部、第２アンローダ部を備える第２基板の作業のための第２設備と、
前記第１作業部の下流端部に接続される第１バッファ部と、
前記第２作業部の下流端部に接続される第２バッファ部と、
前記第１アンローダ部と第２アンローダ部の両方に接続されるアセンブリ部と、
完成品を格納するストッカーを有するアンローダ部と、
を備え、前記第１設備と第２設備とは互いに通信可能に結合されていることを特徴とする作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項２６】
前記第１バッファ部と第２バッファ部はそれぞれ第１基板と第２基板のグレードを検査し、前記第１基板と第２基板との対応を確実にし、
前記アセンブリ部は前記第１および第２バッファ部から投入される第１基板および第２基板を受け取ってこれらを組み立てることを特徴とする、請求項２５に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項２７】
前記第１基板は液晶表示装置の薄膜トランジスタ基板であり、前記第２基板は液晶表示装置のカラーフィルター基板であり、前記第１基板および第２基板はパネルを形成するために組み立てられることを特徴とする、請求項２６に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項２８】
前記第１投入部は、薄膜トランジスタ基板を保持するデバイスと、前記薄膜トランジスタ基板のIDを読み取るベリコードリーダとを有する薄膜トランジスタ基板（TFT）カセット投入部であり、
前記第２投入部は、カラーフィルタ基板を保持するデバイスと、前記カラーフィルター基板のIDを読み取るベリコードリーダとを有するカラーフィルター基板（CF）カセット投入部であることを特徴とする、請求項２７に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項２９】
前記第１作業部は、洗浄工程、オーブン工程、スペーサ散布工程からなる薄膜トランジスタ基板に対する一連の製造工程を実行し、
前記第２作業部は、洗浄工程、オーブン工程、封合材付着工程からなるカラーフィルター基板に対する一連の製造工程を実行することを特徴とする、請求項２７に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項３０】
前記第１バッファ部と第２バッファ部とがカラーフィルター基板に対応する薄膜トランジスタ基板を決定した場合、前記第１バッファ部と第２バッファ部とがそれぞれ薄膜トランジスタ基板とカラーフィルター基板を前記アセンブリ部に搬送することを特徴とする、請求項２７に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項３１】
前記作業部において前記薄膜トランジスタ基板またはカラーフィルター基板に不良が加わったと特定された場合、前記第１バッファ部または第２バッファ部が再処理のためにこれら基板を戻すことを特徴とする、請求項３０に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項３２】
前記第１バッファ部または第２バッファ部は、残っている薄膜トランジスタ基板またはカラーフィルター基板のうちいずれかを格納し、残っている基板と、残っている基板の同一のグレードを有する次の基板とを対にすることを特徴とする、請求項３１に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項３３】
前記第１設備のバッファ部と前記第２設備のバッファ部とは１つのストッカーに結合されることを特徴とする、請求項２７に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。
【請求項３４】
前記第１投入部は薄膜トランジスタ基板（TFT）カセット投入部であり、前記第２投入部はカラーフィルター基板（CF）カセット投入部であり、
前記ストッカーは前記薄膜トランジスタ基板とカラーフィルター基板とを対にすることを特徴とする、請求項３３に記載の作業対象物の結合処理自動化システム。