JP2000208661A - 中継基板 - Google Patents

中継基板

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JP2000208661A
JP2000208661A JP399099A JP399099A JP2000208661A JP 2000208661 A JP2000208661 A JP 2000208661A JP 399099 A JP399099 A JP 399099A JP 399099 A JP399099 A JP 399099A JP 2000208661 A JP2000208661 A JP 2000208661A
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board
solder
substrate
relay board
connection
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JP399099A
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English (en)
Inventor
Hajime Saiki
一 斉木
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Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 中継基板本体自身に反りがあり、あるいは、
反りのある取付基板と接続しても、ショートや不導通な
どを生じない信頼性の高い接続が可能な中継基板を提供
する。 【解決手段】 中継基板10は、接続パッドSpを有す
るLGA型基板Sと対応する位置に取付パッドTpを有
するプリント基板Tとの間に介在させ、基板Sと基板T
とを接続させるものである。中継基板10は、本体1
と、貫通孔2に挿通され、第1面側突出部6aと第2面
側突出部6bとを備える高温ハンダからなる軟質金属体
6と、第1面側ハンダ7と、を備える。ここで、ハンダ
7の体積Vs1は、突出部6aの高さおよび体積をh1
およびVt1、隣接する突出体6a同士の間隔をPとし
たとき、Vs1<π/4・P2h1+(π2−4π)/8・Ph12
(10−3π)/24・h13−Vt1の関係を満たす。例えば基板
Sが反っていた場合でも、ハンダ7同士がショートした
り、一方に偏って他方で接続不良となることが防止され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、BGA型集積回路
パッケージ等の面接続端子を有する電子部品搭載基板
と、この面接続端子に対応する位置に同様に面接続端子
を備え、この電子部品搭載基板を取付けるためのマザー
ボード等の取付基板との間に介在させる中継基板に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年の集積回路(IC)技術の進展によ
り、ICチップに設けられる入出力端子の数が増大し、
それに伴い、ICチップを搭載するIC搭載基板に形成
される入出力端子も増大している。これに対応すべく、
PGA(ピングリッドアレイ)型基板、さらには、パッ
ドのみ格子状に設けたLGA(ランドグリッドアレイ)
型基板や、パッド上にボール状の端子部材(接続端子)
を備えたBGA(ボールグリッドアレイ)型基板が製造
されている。
【0003】ところで、IC搭載基板、プリント基板の
平面上に線状や格子状(千鳥状も含む)にパッドやバン
プなどの端子を形成し、IC搭載基板とプリント基板を
接続する場合(このような接続を面接続ともいう)に
は、IC搭載基板とプリント基板の材質の違いにより熱
膨張係数が異なるので、平面方向に熱膨張差が発生す
る。即ち、端子部材から見ると、接続しているIC搭載
基板およびプリント基板が平面方向についてそれぞれ逆
方向に寸法変化しようとするので、端子部材やパッドに
はせん断応力が働くこととなる。
【0004】このせん断応力は、面接続される端子のう
ち、最も離れた2つの端子間で最大となる。即ち、例え
ば端子が格子状にかつ最外周の端子が正方形をなすよう
に形成されている場合、それぞれこの正方形の最外周の
対角上に位置する2つの端子間で最も大きな熱膨張差が
発生し、最も大きなせん断応力が掛かることとなる。特
に、LGA型やBGA型などのIC搭載基板をプリント
基板と接続する場合には、端子間の間隔(ピッチ)が比
較的大きく、従って、最も離れた端子間の距離が大きく
なりやすい。特に、LGA型やBGA型基板にセラミッ
ク製基板を用いた場合、一般にガラスエポキシ製のプリ
ント基板とは、熱膨張係数が大きく異なるので、発生す
るせん断応力が大きくなる。
【0005】これに対し、例えば、特開平10−129
90号には、IC搭載基板とプリント基板との間に中継
基板を介在させてハンダ付けにより接続し、中継基板本
体の貫通孔に貫挿させた軟質金属体の変形により応力を
吸収する中継基板が開示されている。この特開平10−
12990号では、軟質金属体は、中継基板本体の表面
または裏面からIC搭載基板側にもプリント基板側にも
突出するものの他、IC搭載基板側には突出しない形状
のものも示されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな軟質金属体がIC搭載基板側に突出しないあるいは
突出高さが小さい中継基板を介在させた場合、中継基板
本体あるいは、IC搭載基板やプリント基板の持つ反り
によって、以下のような問題を生じることが判ってき
た。即ち、例えば、図8(a)に示すように、平坦な中
継基板本体Inと、これを貫通して図中下面側に突出す
る突出部It2を備え、軟質金属(例えば高温ハンダ
(90Pb-10Sn))からなる軟質金属体Isと、軟質金属よ
り低融点のハンダ(例えば、37Pb-73Sn)からなり、図中
上面側に盛り上がって形成されたハンダ層Idとを備え
る中継基板Iについて考える。ここで、この中継基板I
を用いて、IC搭載基板Sの接続パッドSpとの接続を
行う場合に、IC搭載基板Sが反っていた(図では上に
凸の状態)とする。この場合には、このIC搭載基板S
と中継基板Iとを重ねて、ハンダ層Idを溶融させる
と、図8(b)に示すように、接続後も反りの影響で中
継基板I(中継基板本体In)とIC搭載基板Sとの間
隔が、場所によって異なり、本例では、中央部分に比べ
周縁部(図中左右部分)で、極端に間隔の狭い部分がで
きることがある。
【0007】このような場合、図8(c)の部分拡大図
に示すように、中継基板本体InとIC搭載基板Sとの
間で、ハンダIdが押しつぶされ、両者間で略円盤状に
拡がる。そして、極端な場合には、隣接する端子のハン
ダと接触しショートし、さらには、接触して一体化した
ハンダが吸い取られるようにして一方に偏ることによ
り、他方のハンダが少なくなった側で接続不良(不導
通)が生じることがある。このような不具合は、IC搭
載基板Sが下に凸状に反っている場合には、中央部分で
生じることになる。また、IC搭載基板Sに反りがある
場合だけでなく、中継基板、さらには、図示しなかった
が、IC搭載基板とは逆側に接続するプリント基板に反
りがあるでも同様に生じる。本発明は、かかる問題点に
鑑みてなされたものであって、中継基板本体自身に反り
があり、あるいは、反りのある電子部品搭載基板や取付
基板と接続しても、ショートや不導通などの不具合を生
じない信頼性の高い接続が可能な中継基板を提供するこ
とを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】そして、
その解決手段は、面接続パッドを有する電子部品搭載基
板と該面接続パッドと対応する位置に面接続取付パッド
を有する取付基板との間に介在させ、第1面側で該面接
続パッドと接続させ、第2面側で該面接続取付パッドと
接続させることにより上記電子部品搭載基板と上記取付
基板とを接続させるための中継基板であって、上記第1
面及び第2面を有する中継基板本体と、上記中継基板本
体の上記第1面から突出する第1面側突出体と、上記中
継基板本体の上記第2面から突出する第2面側突出体
と、上記第1面側において上記第1面側突出体に溶着し
ており、上記面接続パッドと溶着することにより面接続
パッドと第1面側突出体とを接続するための第1面側ハ
ンダと、を備え、上記第1面側ハンダの体積Vs1は、
上記第1面側突出体の高さおよび体積をh1およびVt
1、隣接する第1面側突出体同士の間隔をPとしたと
き、Vs1<π/4・P2h1+(π2−4π)/8・Ph12+(10−
3π)/24・h13−Vt1の関係を満たすことを特徴とする
中継基板である。
【0009】この発明によれば、中継基板本体の第1面
には、この面から突出する第1面側突出体を備えている
ので、電子部品搭載基板または中継基板本体の反りによ
り、電子部品搭載基板と中継基板本体との間隔が場所に
よって異なり、両者の間隔が極端に小さくなる場合があ
ったとしても、少なくとも第1面側突出体の高さh1に
相当する間隔は確保できる。ここで、第1面側ハンダの
体積Vs1は、Vs1<π/4・P2h1+(π2−4π)/8・P
h12+(10−3π)/24・h13−Vt1の式を満たす。即ち、
電子部品搭載基板等の反りによって高さh1まで第1面
側ハンダが押しつぶされた場合でも、上記の関係を満た
す場合には、隣接するパッドのハンダ(第1面側ハン
ダ)と接触することがないので、互いにショートするこ
とが無い。従って、隣接するパッドに形成された第1面
側ハンダの同士が繋がって、一方に吸い取られるように
ハンダが偏り、接続不良を生じることもない。
【0010】電子部品搭載基板としては、ICチップや
その他の電子部品などが実装されるIC搭載基板等の配
線基板が挙げられる。また、面接続パッドとは、取付基
板との電気的接続のために電子部品搭載基板上に設けら
れる端子であって、面接続によって接続を行うためのパ
ッドを指す。なお、面接続とは、チップや基板、マザー
ボードの平面上に線状や格子状(千鳥状も含む)にパッ
ドやバンプなどの端子を形成し、これらを相互に接続す
る場合の接続方法を指し、線状の配置の例としては、例
えば四角形の枠状配置が挙げられる。また、面接続パッ
ドを有する電子部品搭載基板の例としては、パッド(ラ
ンド)を格子状に配列したLGA型基板が挙げられる
が、必ずしもパッドが格子状に配列されていなくとも良
い。
【0011】一方、取付基板は、上記電子部品搭載基板
を取付けるための基板であって、マザーボード等のプリ
ント基板が挙げられる。この取付基板には、面接続によ
って電子部品搭載基板を取付けるための面接続取付パッ
ドが形成されている。この面接続取付パッドとは、電子
部品搭載基板との電気的接続のために取付基板上に設け
られる端子であって、面接続によって接続を行うための
パッドを指す。面接続取付パッドを有する取付基板の例
としては、パッドを格子状に配列したプリント基板が挙
げられるが、必ずしもパッドが格子状に配列されていな
くとも良いし、複数の電子部品搭載基板を取付けるため
にそれぞれの電子部品搭載基板に対応する面接続取付パ
ッド群を複数有していても良い。なお、本発明の中継基
板は、電子部品搭載基板と取付基板の間に介在して、そ
れぞれと接続するものであるので、便宜的に電子部品搭
載基板と接続する側を第1面側、取付基板と接続する側
を第2面側として両者を区別する。
【0012】中継基板本体の材質は、電子部品搭載基板
や取付基板の材質を考慮して適宜選択すればよいが、例
えば、アルミナ,窒化アルミニウム,ムライト等のセラ
ミックや、ガラス−エポキシ樹脂複合材料、ガラス−B
T樹脂複合材料、ポリエステル−エポキシ樹脂複合材料
等の無機あるいは有機繊維と樹脂との複合材料などが挙
げられる。
【0013】また、軟質金属体とは、熱膨張係数の違い
などによって、電子部品搭載基板と取付基板間、あるい
は、電子部品搭載基板と中継基板本体間や中継基板本体
と取付基板間で発生する応力を変形によって吸収する柔
らかい金属からなるものである。具体的な材質として
は、鉛(Pb)やスズ(Sn)、亜鉛(Zn)やこれら
を主体とする合金などが挙げられ、Pb−Sn系高温ハ
ンダ(例えば、pb90%−Sn10%合金、Pb95
%−Sn5%合金等)やホワイトメタルなどが挙げられ
る。なお、鉛、ズス等は再結晶温度が常温にあるので、
塑性変形をしても再結晶する。したがって、繰り返し応
力がかかっても容易に破断(破壊)に至らないので都合
がよい。その他、純度の高い銅(Cu)や銀(Ag)も
柔らかいので用いることができる。
【0014】さらに、上記中継基板であって、前記中継
基板本体には貫通孔を有し、前記第1面側突出体及び第
2面側突出体は、それぞれ上記貫通孔に挿通された軟質
金属体の上記第1面から突出する第1面側突出部と上記
第2面から突出する第2面側突出部であることを特徴と
する中継基板とすると良い。
【0015】この中継基板と電子部品搭載基板や取付基
板との熱膨張率の違いによって生じる応力が、第1面側
突出部(体)や第2面側突出部(体)にかかったとして
も、軟質金属からなる突出部の変形によって応力を吸収
できる。しかも、貫通孔内を軟質金属層が挿通している
ので、電子部品搭載基板と取付基板との間を低抵抗で接
続することができる。
【0016】また同様に、中継基板と取付基板との関係
について考えても同様であるから、面接続パッドを有す
る電子部品搭載基板と該面接続パッドと対応する位置に
面接続取付パッドを有する取付基板との間に介在させ、
第1面側で該面接続パッドと接続させ、第2面側で該面
接続取付パッドと接続させることにより上記電子部品搭
載基板と上記取付基板とを接続させるための中継基板で
あって、上記第1面及び第2面を有する中継基板本体
と、上記中継基板本体の上記第1面から突出する第1面
側突出体と、上記中継基板本体の上記第2面から突出す
る第2面側突出体と、上記第2面側において上記第2面
側突出体に溶着しており、上記面接続取付パッドと溶着
することにより面接続取付パッドと第2面側突出体とを
接続するための第2面側ハンダと、を備え、上記第2面
側ハンダの体積Vs2は、上記第2面側突出体の高さお
よび体積をh2およびVt2、隣接する第2面側突出体
同士の間隔をPとしたとき、Vs2<π/4・P2h2+(π2
−4π)/8・Ph22+(10−3π)/24・h23−Vt2の関係を
満たすことを特徴とする中継基板とすると良い。
【0017】この発明によれば、中継基板本体の第2面
には、この面から突出する第2面側突出体を備えている
ので、取付基板または中継基板本体の反りにより、取付
基板と中継基板本体との間隔が場所によって異なり、両
者の間隔が極端に小さくなる場合があったとしても、少
なくとも第2面側突出部の高さh2に相当する間隔は確
保できる。ここで、第2面側ハンダの体積Vs2は、V
s2<π/4・P2h2+(π2−4π)/8・Ph22+(10−3π)/2
4・h23−Vt2の式を満たす。即ち、取付基板等の反り
によって高さh2まで第2面側ハンダが押しつぶされた
場合でも、上記の関係を満たす場合には、隣接するパッ
ドのハンダ(第2面側ハンダ)と接触することがないの
で、互いにショートすることが無い。従って、隣接する
パッドに形成された第2面側ハンダの同士が繋がって、
一方に吸い取られるようにハンダが偏り、他方が接続不
良となることもない。
【0018】さらに、この中継基板であって、前記中継
基板本体には貫通孔を有し、前記第1面側突出体及び第
2面側突出体は、それぞれ上記貫通孔に挿通された軟質
金属体の上記第1面から突出する第1面側突出部と上記
第2面から突出する第2面側突出部であることを特徴と
する中継基板のが好ましい。中継基板と電子部品搭載基
板や取付基板との熱膨張率の違いによって生じる応力
が、第1面側突出部(体)や第2面側突出部(体)にか
かったとしても、軟質金属体からなる突出部の変形によ
って応力を吸収できる。しかも、貫通孔内を軟質金属体
が挿通しているので、電子部品搭載基板と取付基板との
間を低抵抗で接続することができるからである。
【0019】
【発明の実施の形態】(実施形態1)本発明にかかる実
施の形態を図面と共に説明する。図1は本実施形態にか
かる中継基板10の部分拡大断面図であり、図2はこの
中継基板10を電子部品搭載基板及び取付基板と接続す
る様子を示す説明図である。中継基板10は、厚さ0.
3mm、一辺25mmの略正方形の平板形状の中継基板
本体1を有する。この中継基板本体1は、アルミナを主
成分(90%)とするアルミナセラミックからなる。中
継基板本体1には、その上下面である第1面1aと第2
面1bとの間を貫通する複数の貫通孔2(直径0.8m
m)を有する。この貫通孔2は、ピッチP=1.27m
mの間隔で格子状に縦横各19ヶ(合計361ヶ)穿孔
されており、中継基板本体1のほぼ全面に配置されてい
る。中継基板本体1の貫通穴2には、タングステン金属
層およびその上に形成された無電解Ni−Bメッキ層か
らなる金属層4が形成され、この金属層4に軟質金属体
6が溶着している。
【0020】この軟質金属体6は、高温ハンダ(Pb9
0%−Sn10%)からなり、貫通孔2内に挿通して配
置され、第1面1aを越えて図中上方に突出する第1面
側突出部6aおよび第2面1bを越えて図中下方に突出
した第2面側突出部6bを備え、その先端面(図中上端
面および下端面)6at,6btは、いずれも中継基板
本体1(第1面1a及び第2面1b)と略平行な平坦に
されている。さらに、第1面側突出部6aの先端面6a
tには、共晶ハンダ(Pb37%−Sn63%)からな
る第1面側ハンダ7が略半球状に盛り上がって溶着して
いる。
【0021】なお、第1面1aから測った第1面側突出
部6aの高さ(第1突出高さ)h1(図1参照)は0.
35mmとされ、同じく第2面1bから測った第2面側
突出部6bの高さ(第2突出高さ)h2(図1参照)は
0.58mmとされている。また、第1面1aから測っ
た第1面側ハンダ7の頂部までの高さZsは0.5mm
とされている。軟質金属体6のうち第1面側突出部6a
の体積Vt1は、上底の直径0.8mm、下底の直径
0.9mmで高さh1=0.35mmの円錐台の体積と
なるので、Vt1=0.199mm3である。また、第
2面側突出部6bの体積Vt2は、上底の直径0.8m
m、下底の直径0.9mmで高さh1=0.58mmの
円錐台の体積となるので、Vt2=0.330mm3
ある。
【0022】この中継基板10は、例えば以下のように
して電子部品搭載基板および取付基板と接続する。ま
ず、中継基板10と接続する電子部品搭載基板として、
厚さ1.0mm、一辺25mmの略正方形状のLGA型
基板Sを用意した(図2(a)参照)。このLGA型基
板Sは、中継基板本体11と同様のアルミナセラミック
からなり、図中上面Saに破線で示すように集積回路チ
ップICをフリップチップ接続により載置するためのフ
リップチップパッド(図示しない)を備え、図中下面S
bに外部接続端子として接続パッドSpを備えている。
この接続パッドSpは、直径0.86mmで、中継基板
10の軟質金属体6の位置に適合するように、ピッチ
1.27mmの格子状に縦横各19ヶ配列され、下地の
モリブデン層上に無電解Ni−Bメッキが施され、さら
に酸化防止のために薄く無電解金メッキが施されてい
る。また、図示しない内部配線によって、フリップチッ
プパッドと接続パッドSpとがそれぞれ接続している。
【0023】また、取付基板として、プリント基板Tを
用意した(図2(d)参照)。このプリント基板Tは、
厚さ1.6mm、一辺30mmの略正方形板状で、ガラ
ス−エポキシ樹脂複合材料(JIS:FR−4)からな
り、主面Taには、LGA型基板Sの接続パッドSp
と、したがって、中継基板10の軟質金属体6とも対応
する位置に、取付パッドTpが形成されている。この取
付パッドTpは、厚さ25μmの銅からなり、直径0.
72mmで、ピッチ1.27mmで格子状に縦横各19
ヶ、計361ヶ形成されている。なお、取付パッドTp
の表面には、耐食性を向上させるために、ニッケルメッ
キ及び金メッキが施されることもある。
【0024】以下に説明するように、上記したLGA型
基板Sとプリント基板Tとの間に中継基板10介在させ
て三者を接続するのであるが、LGA型基板Sが、図2
(a)に示すように上に凸状に反っていた場合について
説明する。まず、中継基板10とLGA型基板Sとを重
ねる(図2(a)参照)。さらに、最高温度220℃の
リフロー炉を通過させ、共晶ハンダからなる第1面側ハ
ンダ7を溶融させると、軟質金属体6の第1面側突出部
6aと接続パッドSpとがこの第1面側ハンダ7を介し
て接続してされ、接続体Ksができる(図2(b)参
照)。ここで、LGA型基板Sが反っているので、LG
A型基板Sと中継基板本体1との間隔は、一定ではな
く、中央付近に比して周縁部(図中左右端付近)で、両
者の間隔が狭くなっている。この点では、上記した従来
技術(図8(b)参照)と同様である。このため、周縁
部では、第1面側ハンダ7がパッドSpと第1面側突出
部6atの間に押しつぶされて、図中横方向にはみ出す
ことになる。
【0025】但し、本実施形態では、第1面1a側に高
さh1の第1面側突出部6aが突出しているため、中継
基板本体1とLGA型基板Sとの間隔は、少なくともh
1以上に保たれる(図2(c)参照)。なお、厳密には
さらにパッドSpの高さも加える必要があるが、パッド
Spの高さは、例えば10μmなどの小さな値であるの
で無視することにする。ここで、中継基板本体1とLG
A型基板Sとの間隔が、最低の値、即ち、第1面側突出
部6aの高さh1とほぼ等しくなった場合を考える。こ
の場合、第1面側ハンダ7および第1面側突出部6aを
合わせたものは、図3に示すように、中継基板本体1
(第1面1a)やLGA型基板Sと当接する面(図中上
下)では平坦になり、その間では表面張力によって外周
面が概略断面半円状(半径r=h1/2)の円盤状にな
る。
【0026】この円盤の体積Vは、V=π/4・D2h1+
2−4π)/8・Dh12+(10−3π)/24・h13で求められ
る。またこの円盤の体積Vは、第1面側突出部6aの体
積Vt1と第1面側ハンダ7の体積Vs1の和(V=V
t1+Vs1)となるが、この円盤の図中左右方向の直
径Dが、最大でも隣接する貫通孔2との間隔Pより小さ
くなければならない(D<P)。これより大きくなった
場合(D≧Pの場合)には、隣接する第1面側突出部6
aに溶着した第1面側ハンダ7同士が、接触して電気的
にショートするからである。従って、D=Pとした場合
の円盤の体積VpよりVt1+Vs1が小さければよい
ことになる。つまり、円盤の体積Vを、V=π/4・P2
1+(π2−4π)/8・Ph12+(10−3π)/24・h13>Vt1
+Vs1とすればよい。ここで、第1面側突出部6bの
体積Vt1は、予め決められているので、第1面側ハン
ダ7の体積Vs1で、調節することになる。そこで、本
実施形態では、第1面側ハンダ7の体積Vs1をそれぞ
れ、π/4・P2h1+(π2−4π)/8・Ph12+(10−3π)/24
・h13−Vt1=0.193mm3より小さくした(P=
1.27、h1=0.35、Vt1=0.199)。具
体的には、Vs1=0.113mm3<0.193mm3
としている。
【0027】これにより、LGA型基板Sが反っている
ために中継基板本体1とLGA型基板Sとの間隔が極端
に小さくなった場合でも、はみ出した第1面側ハンダ7
が、互いに接触してショートし、あるいは、さらに第1
面側ハンダ7が一方に偏って他方が導通不良となること
はなくなるから、信頼性の高い接続が可能となる。
【0028】その後、プリント基板T上に接続体Ksを
重ね、予め取付パッドTp上に塗布した共晶ハンダペー
ストを介して、第2面側突出部6bの先端面6btを取
付パッドTpとそれぞれ位置を合わせるようにして突き
当て、これらを最高温度220℃のリフロー炉を通過さ
せて加熱する。これにより、取付パッドTp上の共晶ハ
ンダペーストを溶融させてハンダ層Hとし、図2(d)
示すように、LGA型基板S−中継基板10−プリント
基板Tの三者を接続した構造体Kzを形成した。なお、
本例では、ハンダ層7とハンダ層Hに同じ共晶ハンダを
用いた例を示したが、例えば、ハンダ層7に、ハンダ層
Hよりも融点の高いハンダを用いることにより、ハンダ
層Hを形成するときに、ハンダ層7が溶融しないように
してもよい。
【0029】ここで、本例における構造体Kzにおいて
は、LGA型基板Sと中継基板本体1との間ではほとん
ど応力は生じない。これは、LGA型基板Sと中継基板
本体1とは略同じ材質(アルミナセラミック)であり、
熱膨張差が生じないからである。一方、中継基板本体1
とプリント基板Tの間では応力が発生する。中継基板本
体1とプリント基板Tとは材質が異り、熱膨張率が異な
るからである。従って、この構造体Kzを加熱または冷
却した場合には、中継基板本体1とプリント基板Tの熱
膨張率の違いにより、両者間にせん断方向(第1面1b
に沿う方向)の変形が生じ、最大応力は、軟質金属体6
のうち、第2面側突出部6bの根元部(第2面1bと軟
質金属体6との交差部付近)、およびプリント基板40
近傍のハンダ層Hに発生する。しかし、軟質金属体6
(第2面側突出部6b)は、容易に塑性変形するから、
第2面側突出部6bにおいて変形して応力を緩和し、中
継基板本体1とプリント基板Tの間に発生した応力を小
さくして、破壊しにくい信頼性のある接続とすることが
できる。
【0030】なお、上述の例では、中継基板10を、い
ったんLGA型基板Sに取付けて電子部品搭載基板と中
継基板との接続体(中継基板付基板)Ksとした後に、
さらにプリント基板Tに接続した例を示したが、一挙に
製作する方法を採ることもできる。即ち、プリント基板
Tと中継基板10とLGA型基板Sとをこの順に重ね、
リフローして、LGA型基板Sと中継基板10、および
中継基板10とプリント基板Tとを一挙に接続(ハンダ
付け)しても良い。また、中継基板10とプリント基板
Tとを先に接続しておいても良い。
【0031】ついで、この中継基板10の製造方法につ
いて説明する。まず、アルミナセラミック製で、貫通孔
2の内周面及び第1面1a及び第2面1bのうち貫通孔
2周縁に、タングステンメタライズ層およびNi−Bメ
ッキ層(個別に図示しない)からなる金属層4を形成し
た中継基板本体1を用意する(図4参照)。この中継基
板本体1は、例えば、周知の手法によって形成したセラ
ミックグリーンシートに、パンチングによって貫通孔を
形成し、この貫通孔の内周面および貫通孔の周縁にタン
グステンペーストを塗布し、焼成した後、Ni−B無電
解メッキを施すことで得られる。なお、金属層4(Ni
−Bメッキ層)の酸化防止のため、Ni−Bメッキ層上
に厚さ0.1μm程度の無電解金メッキ層(図示しな
い)を形成すると良い。
【0032】次いで、貫通孔2内に軟質金属体6を挿
通、成形する。本実施形態では、溶融軟質金属保持治具
Mおよび押さえ治具Nを用いて軟質金属体6を形成す
る。図4に示すように、耐熱性があり溶融した高温ハン
ダに濡れない材質であるカーボンからなる軟質金属保持
治具Mの上面M2には、貫通孔2にそれぞれ対応した位
置に、開口径0.9mm、底部径0.8mm、深さ0.
58mmの円錐台形状の凹部M1が形成されている。ま
た、同じくカーボンからなる押さえ治具Nの下面N2に
も、貫通孔2にそれぞれ対応した位置に、開口径0.9
mm、底部径0.8mm、深さ0.35mmの円錐台形
状の凹部N1が形成されている。
【0033】まず、この軟質金属保持治具Mの各凹部M
1に直径0.88mmの高温ハンダ(Pb90%−Sn
10%ハンダ)のボールSB1を投入しておく。その
後、ボールSB1の図中上方に、第2面1bが下になる
ようにして中継基板本体1を載置する。このとき、貫通
孔2にボールSB1がはまるように位置決めをする。さ
らに、貫通孔2内に、それぞれ直径0.8mmの高温ハ
ンダ(Pb90%−Sn10%ハンダ)のボールSB2
を投入する。その後、ボールSB2上に凹部N1を被せ
るようにして押さえ治具Nを載せて、下方に圧縮する。
【0034】次いで、窒素雰囲気下で、最高温度360
℃、最高温度保持時間1分のリフロー炉にこれらを投入
し、高温ハンダのボールSB1,SB2を溶融させる。
すると、溶融した高温ハンダSB1及びSB2は、流動
して軟質金属保持治具Mおよび押さえ治具Nの各凹部M
1,N1の形状(円錐台形状)に応じた形状にされると
共に、中継基板本体1の貫通孔2内に挿通され、金属層
4と溶着する。その後冷却すると、円錐台形状の第1面
側突出部6aおよび第2面側突出部6bをそれぞれ備え
る軟質金属体6が成形できる。なお、凹部M1およびN
1の各底面M1b,N1bの深さを一定に揃えるように
精度良く軟質金属保持治具Mや押さえ治具Nを形成して
おくと、各突出部の先端面6at,6btのコプラナリ
ティを良好にできるので、LGA型基板Sおよびプリン
ト基板Tとの接続時に接続性を向上させることができ
る。
【0035】ついで、図5に示すように、第1面側突出
部6aの先端面6atに、直径0.6mm(体積0.1
13mm3)の共晶ハンダ(37%Pb−63%Sn)
からなる共晶ハンダボールSB3を載置する。なお、こ
の共晶ハンダボールSB3を載置するには、ボール規制
板Rをその透孔RHが先端面6atの上方に位置するよ
うにセットし、この規制板R上に共晶ハンダボールSB
3を散播いて揺動し、透孔RHに共晶ハンダボールSB
3を落とし込む方法によると容易に載置できる。本例に
おいては、規制板Rの厚みは0.5mm、透孔RHの直
径は0.9mmである。
【0036】しかる後、窒素雰囲気下で、最高温度22
0℃、最高温度保持時間1分のリフロー炉にこれらを投
入し、共晶ハンダボールSB3を溶融させる。なお、こ
の温度条件では軟質金属体6は溶融しない。溶融した共
晶ハンダは、第1面側突出部6aの先端面6atにドー
ム状に濡れて拡がり、第1面側ハンダ7となって、中継
基板10が完成する(図1参照)。本実施形態では、共
晶半田ボールSB3を溶融して第1面側ハンダ7とし
た。共晶ハンダボールSB3はその半径、従って、その
の体積が一定に規制されているので、この第1面側ハン
ダ7の体積Vs1も一定となり、その高さも均一にする
ことができる。具体的には、Vs1=0.113mm3
である。
【0037】(実施形態2)上記実施形態では、第1
面、第2面側突出部6a,6bとも、略円錐台形状とし
たが、円柱状や角柱状、ドーム状その他の形状であって
も良い。例えば、図6(a)に示す中継基板30におい
ては、上記実施形態1と同様な中継基板本体1に、高さ
h21のドーム状(半球面状)に盛り上がった第1面側
突出部26aが形成され、一方、第2面側突出部26b
は円柱状で先端(図中下端)が半球状にされている。こ
のような中継基板30においても、第1面側突出部26
aが高さh21を有するため、LGA型基板Sが反って
いるなどしてLGA型基板Sと中継基板本体1との間隔
が小さくなった場合でも、両者の間隔は少なくとも高さ
h21より大きくなる。従って、第1面側突出部26a
に溶着した第1面側ハンダ27の体積Vs21は、第1
面側突出部26aの体積をVt21、第1面側突出部2
6a同士の間隔をPとしたとき、Vs21<π/4・P2h21
+(π2−4π)/8・Ph212+(10−3π)/24・h213−Vt21
とすれば、隣接する第1面側ハンダ27同士が接触して
ショートすることが無い。このため、実施形態1の場合
と同様に、この中継基板30を用いれば、信頼性の高い
接続が可能となる。
【0038】(実施形態3)さらに、上記2つの実施形
態では、貫通孔2に軟質金属体6,26を挿通した中継
基板10,20を示したが、容易に理解できるように、
軟質金属体を貫通孔に挿通した中継基板でなくとも第1
面側ハンダ同士のショート等を防止できる。従って、例
えば、図6(b)に示す中継基板30のようにしてもよ
い。即ち、第1面31aおよび第2面31bに各々形成
したパッド34a及びパッド34b、並びにこられの間
をつなぐビア36cを有する中継基板本体31につい
て、パッド34aに略円錐台状の第1面側突出体36a
を、パッド34bに円柱状で先端半球状の第2面側突出
体36bを形成し、第1面側突出体36aに第1面側ハ
ンダ37を溶着して形成したものを用いても良い。
【0039】この場合でも、第1面側突出体36aが高
さh31を有するため、LGA型基板Sが反っているな
どしてLGA型基板Sと中継基板本体31との間隔が小
さくなった場合でも、両者の間隔は少なくとも高さh3
1より大きくなる。従って、第1面側突出体36aの体
積をVt31、これに溶着した共晶ハンダ37の体積を
Vs31、第1面側突出体36a同士の間隔をPとした
とき、Vs31<π/4・P2h31+(π2−4π)/8・Ph312
(10−3π)/24・h313−Vt31とすれば、隣接する共晶ハ
ンダ37同士が接触してショートすることが無い。この
ため、実施形態1、2の場合と同様に、この中継基板3
0を用いれば、信頼性の高い接続が可能となる。
【0040】以上において、本発明を実施形態に即して
説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるもので
はなく、その要旨を逸脱しない範囲で、適宜変更して適
用できることはいうまでもない。例えば、上記各実施形
態では、LGA型基板Sが上に凸状に反っていた場合に
ついて説明したが、逆に下に凸状に反っていても同様に
ショートや接続不良を防止できることは容易に理解でき
よう。また、中継基板本体1,31が反っている場合や
LGA型基板Sと中継基板本体の両者に反りを有する場
合であっても、同様にショートや接続不良を防止できる
ことは明らかである。また、上記実施形態1〜3におい
ては、LGA型基板Sと中継基板10,20,30との
接続におけるショートの防止の観点から、第1面1a,
31a側に第1面側突出部6a,26a及び第1面側突
出体36aを設け、第1面側ハンダ7,27,37を溶
着したが、全く逆に考えることにより、中継基板とプリ
ント基板Tとの間の接続時におけるショートを防止すべ
く、第2面側突出部(体)の高さh2および体積Vt2
とこれに溶着する第2面側ハンダの体積Vs2の関係を
考慮し、Vs2<π/4・P2h2+(π2−4π)/8・Ph22
(10−3π)/24・h23−Vt2の関係を満たすようにしても
良い。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態にかかる中継基板の部分拡大断面図で
ある。
【図2】図1の中継基板とIC搭載基板及びプリント基
板との接続の様子を示す説明図であり、(a)はIC搭
載基板との接続前、(b)は接続後、(c)は周縁部の
拡大断面図、(d)はさらにプリント基板との接続後の
様子を示す。
【図3】中継基板本体とIC搭載基板とが接近して、第
1面側突出部の周りに第1面側ハンダがはみ出した状態
の形状を示す説明図である。
【図4】実施形態にかかる中継基板の製造方法のうち、
中継基板本体に軟質金属体を挿通する工程を説明するた
めの説明図である。
【図5】実施形態にかかる中継基板の製造方法のうち、
第1面側突出部に第1面側ハンダを溶着する工程を説明
するための説明図である。
【図6】他の実施形態にかかる中継基板の部分拡大断面
図である。
【図7】参考形態にかかり、第2面側に形成する第2面
側ハンダを備えた中継基板とIC搭載基板とを接続した
ものと、プリント基板との接続の様子を示す説明図であ
り、(a)はプリント基板との接続前、(b)は接続後
の様子を示す。
【図8】従来の中継基板とIC搭載基板とを接続する時
の様子を示す説明図であり、(a)は接続前、(b)は
接続後、(c)は周縁部の拡大断面図の様子を示す。
【符号の説明】
10,20,30 中継基板 1,31 中継基板本体 1a,21a,31a 第1面 1b,21a,31a 第2面 2 貫通孔 4 金属層 6,26 軟質金属体 6a,26a,36a 第1面側突出部(第1面側突
出体) 6b,26b,36b 第2面側突出部(第2面側突
出体) 6at,6bt 先端面 7,27,37 第1面側ハンダ S LGA型基板(電子部品搭載
基板) Sp 接続パッド(面接続パッド) T プリント基板(取付基板) Tp 取付パッド(面接続取付パッ
ド)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】面接続パッドを有する電子部品搭載基板と
    該面接続パッドと対応する位置に面接続取付パッドを有
    する取付基板との間に介在させ、第1面側で該面接続パ
    ッドと接続させ、第2面側で該面接続取付パッドと接続
    させることにより上記電子部品搭載基板と上記取付基板
    とを接続させるための中継基板であって、 上記第1面及び第2面を有する中継基板本体と、 上記中継基板本体の上記第1面から突出する第1面側突
    出体と、 上記中継基板本体の上記第2面から突出する第2面側突
    出体と、 上記第1面側において上記第1面側突出体に溶着してお
    り、上記面接続パッドと溶着することにより面接続パッ
    ドと第1面側突出体とを接続するための第1面側ハンダ
    と、を備え、 上記第1面側ハンダの体積Vs1は、上記第1面側突出
    体の高さおよび体積をh1およびVt1、隣接する第1
    面側突出体同士の間隔をPとしたとき、 Vs1<π/4・P2h1+(π2−4π)/8・Ph12+(10−3π)
    /24・h13−Vt1 の関係を満たすことを特徴とする中継基板。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の中継基板であって、 前記中継基板本体には貫通孔を有し、 前記第1面側突出体及び第2面側突出体は、それぞれ上
    記貫通孔に挿通された軟質金属体の上記第1面から突出
    する第1面側突出部と上記第2面から突出する第2面側
    突出部であることを特徴とする中継基板。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US7317165B2 (en) 2003-06-24 2008-01-08 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Intermediate substrate, intermediate substrate with semiconductor element, substrate with intermediate substrate, and structure having semiconductor element, intermediate substrate and substrate
US7327554B2 (en) 2003-03-19 2008-02-05 Ngk Spark Plug Co., Ltd. Assembly of semiconductor device, interposer and substrate

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