JP2000202749A - 基板面取装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 取り扱う透明基板のサイズ、透明基板の厚み
のばらつき、吸着テーブル自体の加工精度や取り付け精
度等にかかわらず、該透明基板の高精度な面取りを効率
的に行うことができる基板面取装置を提供する。 【解決手段】 液晶セル１１を吸着・固定する吸着ステ
ージ１２の上方に、高さ検出器１５を設置する。高さ検
出器１５は、液晶セル１１の上面をなすガラス基板１１
ａ上面の一辺の近傍における高さの変動量、および／ま
たは、固定面１２ｃの高さの変動量を、送り方向に連続
的に測定する。主制御部２０は、高さ検出器１５による
測定結果に応じて、制御軸１６ａの移動量、および、制
御軸１７ａの移動量を制御し、この結果、一対の研磨器
１４・１４それぞれの位置補正が行われる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、液晶ディ
スプレイ等の薄型表示機器に用いられるガラス基板等の
透明基板の、各辺の面取りを行う基板面取装置に関する
ものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイ等の薄型表示機器に用
いられるガラス基板等の透明基板は、例えば、適切な大
きさに切断された後に、一対の透明基板をもつ液晶セル
等として組み立てられる。しかし、切断後の透明基板
は、その切断面が鋭いため、取扱いが危険である。さら
には、該切断面により、液晶セルに備えられるバックラ
イトが削られたり、また、透明基板上に配設された電極
回路が切断されたりする危険性がある。このため、例え
ば、液晶セル内の電極回路と外部の駆動回路とを接続す
る端子部等において、透明基板の切断面における辺
（角）を研磨する面取りが行われる。

【０００３】透明基板の様々な角を面取りする工程にお
いて使用される従来の基板面取装置は、図１０および図
１１に示すように、水平方向に旋回および送り可能な吸
着ステージ１２０、吸着ステージ１２０上に吸着・固定
される透明基板としてのガラス基板１１０ａの固定位
置、または、液晶セル１１０の固定位置を確認するため
のＣＣＤカメラ１３０ａ・１３０ｂ、および、ガラス基
板１１０ａ、または、液晶セル１１０の上面、下面を研
磨するための２個の回転する砥石１４０ａ・１４０ｂと
を備えている。そして、ガラス基板１１０ａ、または、
液晶セル１１０自体を吸着ステージ１２０に真空吸着に
より吸着・固定し、続いて、ＣＣＤカメラ１３０ａ・１
３０ｂを用いて、例えば、ガラス基板１１０ａ、また
は、液晶セル１１０が正規の位置にくるように吸着ステ
ージ１２０の位置を補正する。そして、ガラス基板１１
０ａの各辺、または、液晶セル１１０の各辺を回転して
いる砥石１４０ａ・１４０ｂに当てながら、該吸着ステ
ージ１２０を辺の長さ方向に移動させることにより各辺
の面取りがおこなわれる。

【０００４】上記従来の基板面取装置においては、例え
ば、吸着ステージ１２０（図１０参照）の傾き、すなわ
ち、吸着ステージ１２０の送り方向に垂直な２辺間の高
さの差、があるとすると、図１２および図１３に示すよ
うに、面取り終了後のガラス基板１１０ａの上面と下面
とでは、面取りラインの傾きは逆方向となる。そして、
上記の傾きが２０μｍあるときに、面取り角度を３０°
として３００ｍｍの辺を面取りした場合、吸着ステージ
１２０の旋回によって補正しきれない傾きが、ガラス基
板１１０ａの上下両面それぞれに、理論値にて３４μｍ
生じる。すなわち、±３４μｍの面取り量のばらつきが
生じる。

【０００５】さらに、ガラス基板１１０ａの厚みばらつ
き±３０μｍに起因する面取り量のはらつきが±５１μ
ｍ生じ、また、ガラス基板１１０ａの外形ばらつき±２
０μｍや、元来加工に基づくばらつきにより、さらに±
２０μｍ程度の面取り量のばらつきが生じる。すなわ
ち、欲しい面取り量に対して、総合して±１０５μｍの
面取り量のばらつきが生じる。また、上記の面取り量の
ばらつきは、条件設定時と加工時の両方に存在するた
め、実際の面取り量のばらつきは、さらに大きなものと
なる。

【０００６】したがって、上記のような吸着ステージ１
２０の傾きがある場合には、吸着ステージ１２０を水平
方向に旋回させて、上面・下面それぞれの面取り量がほ
ぼ均一となる方向に位置補正を行い、これによって、図
１４および図１５に示すように、例えば、吸着ステージ
１２０の取り付け精度に起因する面取り量のばらつきを
回避していた。この位置補正を行うことにより、実際の
面取り量のばらつきを、面取りの公差±０．２ｍｍ程度
の範囲内、具体的には、約±１５０μｍの範囲内におさ
めることができる。

【０００７】また、異なる大きさのガラス基板の辺を面
取りする際には、各ガラス基板のサイズに応じた吸着ス
テージに取り替える必要がある。これは、ガラス基板の
面取りが施される辺が、吸着ステージより外側に突出し
て配置される必要があるためであり、また、ガラス基板
の面取り量のばらつきを防ぐために、該ガラス基板の突
出量を、ガラス基板のサイズ毎に所定の値とする必要が
あるためである。吸着ステージの取り替え作業は、作業
者が、加工データと吸着ステージのサイズとの照合結果
に基づき行う。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】近年、薄型表示機器に
おいては、表示部の大型化、高精度化、細密化がもとめ
られている。また、一方では、薄型表示機器の携帯性を
重視し、該薄型表示機器の総合外形の縮小化および軽量
化ももとめられている。これらの要求に応えるために、
薄型表示機器に備えられた液晶セルにおいては、表示部
が一段と拡大し、一方、駆動回路部分、および、液晶セ
ルと該駆動回路等の実装部材とを接続する端子部（非表
示部）の面積は一段と縮小している。

【０００９】上記のように、非表示部の面積が小さくな
るにつれて、透明基板の面取の精度も高い水準が要求さ
れるようになり、最近では、面取り量のばらつきが、±
０．１ｍｍを下回る精度が要求されるようになってい
る。例えば、具体的には、実装部材を取り付けるための
端子部の長さが１．２ｍｍ〜２．０ｍｍ程度のものであ
れば、要求される面取り仕様は、１５０μｍ±６０〜８
０μｍとなっている。

【００１０】しかしながら、上記従来の基板面取装置で
は、吸着テーブル自体の加工精度や取り付け精度、ま
た、切削水の温度変化等に起因する面取り量のばらつき
が、±０．２ｍｍ程度と大きく、上記要求精度に応えら
れない。

【００１１】また、上記従来の基板面取装置では、透明
基板のサイズ毎に用意された吸着ステージの取り付け精
度の悪さが、面取りの精度を悪くしてしまう。そのた
め、透明基板のサイズ毎に、吸着ステージを取り替える
こともままならないという問題もあった。さらに、上記
従来の基板面取装置では、作業者が誤って別のサイズの
吸着ステージを取り付けた場合に、該吸着ステージと砥
石とが衝突して吸着ステージの平面度に狂いが生じてし
まったり、また、砥石や、砥石を回転させている高精度
なモータを偏心させてしまう等のダメージを与えてしま
い、その後の面取りの精度を維持できなくさせてしまう
という問題もあった。

【００１２】本発明は、上記問題点を解決するためにな
されたものであって、その目的は、取り扱う透明基板の
サイズ、透明基板の厚みのばらつき、吸着テーブル自体
の加工精度や取り付け精度等にかかわらず、該透明基板
の辺に対する高精度な面取りを効率的に行うことができ
る基板面取装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１記載の
基板面取装置は、上記の課題を解決するために、基板
を、その固定面上に固定する固定台と、基板の辺の研磨
を行う研磨手段とを備え、研磨手段と固定台とを送り方
向に相対運動させることで、該辺の面取りを行う基板面
取装置において、上記研磨手段を、基板に対して垂直方
向に移動させる移動手段と、固定面に対向して設けら
れ、送り方向への固定台との相対運動が可能な、高さ測
定手段とを有し、さらに、上記高さ測定手段による、固
定面の送り方向における高さの変動量の測定結果に基づ
いて、移動手段の移動量を制御する制御手段を備えてい
ることを特徴としている。

【００１４】上記の構成によれば、高さ測定手段が、固
定面の送り方向における高さの変動量を測定する。そし
て、制御手段が、高さ測定手段による測定結果に基づい
て移動手段の移動量を制御する。すなわち研磨手段は、
移動手段により、固定面の送り方向における高さの変動
量に応じて、基板に対して垂直方向に移動させられる。

【００１５】すなわち、固定面の凹凸、固定台の取り付
け精度、固定台下面とその取り付け台との間への異物の
入り込み等の、固定面以下の位置における要因により、
面取りが施される基板の辺に、該基板に対して垂直方向
の傾きが生じている場合であっても、該傾きに応じて研
磨手段を移動させることができるため、精度の高い面取
りを行うことができる。また、固定台の交換を行わない
限りにおいては、高さ測定手段による測定は一度でよ
い。したがって、基板の辺に対する高精度な面取りを効
率的に行うことができる基板面取装置を提供することが
できる。

【００１６】本発明の請求項２記載の基板面取装置は、
上記の課題を解決するために、基板を、その固定面に固
定する固定台と、基板の辺の研磨を行う研磨手段とを備
え、研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させるこ
とで、該辺の面取りを行う基板面取装置において、上記
研磨手段を、基板に対して垂直方向に移動させる移動手
段と、固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台
との相対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、さら
に、上記高さ測定手段による、基板上面の送り方向にお
ける高さの変動量の測定結果に基づいて、移動手段の移
動量を制御する制御手段を備えていることを特徴として
いる。

【００１７】上記の構成によれば、高さ測定手段が、基
板上面の送り方向における高さの変動量を測定する。そ
して、制御手段が、高さ測定手段による測定結果に基づ
いて移動手段の移動量を制御する。すなわち、研磨手段
は、移動手段により、基板上面の送り方向における高さ
の変動量に応じて、該基板に対して垂直方向に移動させ
られる。

【００１８】すなわち、基板厚のムラ、基板上面の凹
凸、基板下面の凹凸、固定面と基板の下面との間への異
物の入り込み、固定面の凹凸、固定台の取り付け精度、
固定台下面とその取り付け台との間への異物の入り込み
等の、基板上面以下の位置における要因により、面取り
が施される基板の辺に、該基板に対して垂直方向の傾き
が生じている場合であっても、該傾きに応じて研磨手段
を移動させることができる。また、面取りが行われる基
板ごとに、高さ測定手段による測定を行うため、各基板
ごとの上面の傾きに応じた、精度の高い面取りを行うこ
とができる。さらに、必要に応じて、面取りが行われる
基板上面の辺ごとに、該辺の近傍の送り方向における高
さの変動量を測定することもできる。したがって、基板
の辺に対する高精度な面取りを効率的に行うことができ
る基板面取装置を提供することができる。

【００１９】本発明の請求項３記載の基板面取装置は、
上記の課題を解決するために、基板を、その固定面に固
定する固定台と、基板の辺の研磨を行う複数の研磨手段
とを備え、研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動さ
せることで、該辺の面取りを行う基板面取装置におい
て、上記複数の研磨手段のそれぞれを独立に、基板に対
して垂直方向に移動させる複数の移動手段と、固定面に
対向して設けられ、送り方向への固定台との相対運動が
可能な、高さ測定手段とを有し、さらに、上記高さ測定
手段による、基板上面の送り方向における高さの変動
量、および、固定面の送り方向における高さの変動量
の、測定結果に基づいて複数の移動手段の移動量を独立
に制御する制御手段を備えていることを特徴としてい
る。

【００２０】例えば、基板上面の辺の面取りと下面の辺
の面取りとを同時進行で行う場合、基板上面の辺と下面
の辺とは、必ずしも上下方向に同じ傾きを持っているわ
けではないので、どちらかの辺の傾きを基準として面取
りを行うと、基準とされない側の辺の面取りの精度が低
下してしまうおそれがある。

【００２１】しかしながら、上記の構成によれば、高さ
測定手段が、固定面の送り方向における高さの変動量を
測定し、さらに、基板上面の送り方向における高さの変
動量を測定する。そして、制御手段が、固定面の送り方
向における高さの変動量の測定結果に基づいて、ある移
動手段の移動量を制御する。また同時に、制御手段が、
基板上面の送り方向における高さの変動量の測定結果に
基づいて、他の移動手段の移動量を制御する。

【００２２】すなわち、研磨手段のあるものは、ある移
動手段により、固定面の送り方向における高さの変動量
に応じて、基板に対して垂直方向に移動させられ、ま
た、研磨手段の他のものは、他の移動手段により、基板
上面の送り方向における高さの変動量に応じて、該基板
に対して垂直方向に移動させられる。したがって、面取
りが施される辺ごとに応じて、研磨手段の位置補正を細
かく行うことができ、基板の辺に対する高精度な面取り
を効率的に行うことができる基板面取装置を提供するこ
とができる。

【００２３】例えば、固定面と当接している基板下面の
辺の面取りを、固定面の送り方向における高さの変動量
に応じて移動させられる研磨手段によって行い、一方、
基板の上面の辺の面取りを、基板上面の送り方向におけ
る高さの変動量に応じて移動させられる研磨手段によっ
て行うこととすれば、各辺の傾きに応じた精度の高い面
取りを実現することができる。

【００２４】また、液晶セルをなす一対の基板の、上側
基板上面の一辺の面取りと、下側基板下面の一辺の面取
りとを同時に行う場合には、例えば、上側基板と下側基
板との間に存在するシール材層の厚さムラなどが原因と
なって、面取りが行われる２辺間の傾きが大きく異なる
場合もある。しかしながら、上記のように、下側基板下
面の一辺の面取りを、固定面の送り方向における高さの
変動量に応じて移動させられる研磨手段によって行い、
一方、上側基板の上面の一辺の面取りを、基板上面の送
り方向における高さの変動量に応じて移動させられる研
磨手段によって行うこととすれば、各辺の傾きに応じた
精度の高い面取りを実現することができる。

【００２５】本発明の請求項４記載の基板面取装置は、
上記の課題を解決するために、請求項２または３に記載
の構成において、上記高さ測定手段が、研磨手段に対し
て送り方向前方に設けられており、高さ測定手段によ
る、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定と
並行して、制御手段による移動手段の移動量の制御が行
われることを特徴としている。

【００２６】上記の構成によれば、高さ測定手段によ
る、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定
と、制御手段による移動手段の移動量の制御とを同時進
行で行うことができる。したがって、面取り動作にかか
る時間を短縮することができるため、基板の辺に対する
高精度な面取りを効率的に行うことができる基板面取装
置を提供することができる。

【００２７】本発明の請求項５記載の基板面取装置は、
上記の課題を解決するために、請求項１ないし４のいず
れか一項に記載の構成において、固定面の幅方向の長さ
を測定する長さ測定手段をさらに備えていることを特徴
としている。

【００２８】上記の構成によれば、長さ測定手段によ
り、固定面の幅寸法を測定することができるので、誤っ
て異なる幅寸法を持つ固定台を取り付けた場合でも、そ
の誤りを簡単・迅速に検出することができる。

【００２９】

【発明の実施の形態】本発明の実施の一形態について図
１ないし図９に基づいて説明すれば、以下の通りであ
る。尚、これによって、本発明が限定されるものではな
い。本発明の実施の形態に係る基板面取装置は、図１に
示すように、面取りが施される一対のガラス基板（基
板）１１ａ・１１ｂを有する液晶セル１１を、その固定
面１２ｃに吸着・固定するための吸着ステージ（固定
台）１２、吸着ステージ１２を、面取りが行われる方向
（送り方向）に送るための送り軸１２ａ、吸着ステージ
１２を水平方向に旋回するための旋回軸１２ｂを備えて
いる。また、吸着ステージ１２上方には、該吸着ステー
ジ１２に吸着・固定される液晶セル１１の位置を確認す
るための一対のＣＣＤカメラ１３ａ・１３ｂが備えられ
ている。

【００３０】一方、吸着ステージ１２の斜め上方におい
ては、固定板２３ａ上に、上面用砥石１４ａを備えた研
磨器（研磨手段）１４が設けられており、また、固定板
２３ｂ上に、下面用砥石１４ｂを備えた研磨器（研磨手
段）１４が設けられている。上記固定板２３ａ上にはさ
らに、面取りが施されるガラス基板１１ａの上面の高
さ、および／または、固定面１２ｃの高さを測定する高
さ検出器（高さ測定手段）１５が、固定面１２ｃと対向
して設けられている。

【００３１】上記固定板２３ａには、該固定板２３ａを
上下方向に送るための制御軸（移動手段）１６ａと、該
固定板２３ａを左右方向（後述する幅方向）に送るため
の制御軸１６ｂとが備えられている。また、固定板２３
ｂには、該固定板２３ｂを上下方向に送るための制御軸
（移動手段）１７ａと、該固定板２３ｂを左右方向に送
るための制御軸１７ｂとが備えられている。

【００３２】また、本実施の一形態に係る基板面取装置
は、ＣＣＤカメラ１３ａ・１３ｂの撮像した画像を処理
し、この処理に基づいて上面用砥石１４ａ・下面用砥石
１４ｂと吸着ステージ１２との相対的な位置補正のため
の信号を出力するアライメント画像処理部１８、高さ検
出器１５の測定結果に基づいて、上面用砥石１４ａ・下
面用砥石１４ｂと吸着ステージ１２との相対的な位置の
補正のために、所定の演算を行う演算機１９、アライメ
ント画像処理部１８からの出力、および、演算機１９か
らの出力に基づき、送り軸・旋回軸モータコントローラ
２１、砥石位置モータコントローラ２２、それぞれに制
御信号を出力する主制御部２０とを備えている。尚、送
り軸・旋回軸モータコントローラ２１は、吸着ステージ
１２に備えられた送り軸１２ａ・旋回軸１２ｂの動作を
制御するものであり、砥石位置モータコントローラ２２
は、制御軸１６ａ・１６ｂを通じて上面用砥石１４ａの
位置を、制御軸１７ａ・１７ｂを通じて下面用砥石１４
ｂの位置を、制御するものである。尚、場合によって
は、演算機１９を省略することもできる。

【００３３】次に、該基板面取装置の要部および面取り
が施される液晶セル１１について、さらに具体的に説明
する。上記吸着ステージ１２は平坦な固定面１２ｃの一
部に吸着孔２４を有しており、該吸着孔２４の内部空間
を真空にすることで液晶セル１１を吸着し、固定面１２
ｃに固定する。尚、液晶セル１１の固定面１２ｃへの固
定方法は、これに限られるものではない。吸着ステージ
１２の固定面１２ｃは、その幅寸法、および、長さ寸法
の両方が、液晶セル１１より小さく設計されている。ま
た、吸着ステージ１２は、旋回軸１２ｂの動作により水
平方向に３６０°自由に回転することが可能に設置され
ており、さらに、送り軸１２ａの動作により送り方向へ
移動可能に設置されている。尚、以下に説明するが、吸
着ステージ１２のサイズは特に限定されるものではな
く、面取りが施されるガラス基板のサイズに応じて変更
することが好ましい。

【００３４】一対の研磨器１４・１４はそれぞれ、制御
軸１６ａ・１６ｂの動作により上下方向（すなわち、基
板に対して垂直方向）に移動可能に設置されており、さ
らに、制御軸１７ａ・１７ｂの動作により左右方向（後
述する幅方向）に移動可能に設置されている。また、研
磨器１４・１４の先端にはそれぞれ、軸支された上面用
砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂが設けられ、所定の速度
で回転し、液晶セル１１の所定位置に面取りを施す。下
面用砥石１４ｂは、上面用砥石１４ａに対し送り方向前
方になるように配置されているが、配置関係は特に限定
されない。上面用砥石１４ａおよび下面用砥石１４ｂの
材質は、その研磨面が、面取りの対象とされるガラス基
板１１ａ・１１ｂの硬度と同等か、それ以上の硬度をも
つものであれば特に限定されるものではなく、例えば、
その研磨面にダイヤモンド粒を配したものを挙げること
ができる。また、研磨器１４・１４それぞれの、固定板
２３ａ・２３ｂに対する取り付け角度は、施される面取
りの角度に応じて自由に変更することができるようにな
っている。尚、上記の研磨器１４は、特に、一対に設け
られる必要はなく、少なくとも一つ設けられていればよ
い。また、その配置は特に限定されるものではなく、例
えば、液晶セル１１を挟んで対向するように配置されて
もよい。

【００３５】高さ検出器１５は、図２に示すように、触
針１５ａを有しており、触針１５ａで測定すべき対象
（図２においては、吸着ステージ１２）の上面に当接し
て、該上面の水平度やうねり、凹凸の高さや形状等に代
表される高さの変動（変動量）を連続的または、不連続
に測定し、その状態を電気量に変換するものである。具
体的には、例えば、触針１５ａと吸着ステージ１２とを
一定速度で相対運動させ、これによって、触針１５ａ
を、固定面１２ｃ上の凹凸に倣って上下に運動させる。
そして、触針１５ａの上下運動が、図示しないレバーを
介して変位−電気変換器に伝えられる。この変位−電気
変換は、例えば、ａ）ムービングコイル型やムービング
マグネット型に代表される速度型、ｂ）差動変圧器等を
用いた変位型、等の変位−電気変換器によって行うこと
ができる。

【００３６】高さ検出器１５は、特に固定板２３に固定
される必要はなく、上下・左右方向に移動可能なよう
に、他の固定板に固定されていてもよい。また、高さ検
出器１５を、送り方向に移動可能なように取り付けても
よい。また、測定対象（吸着ステージ１２）の表面に触
針１５ａによるキズを付けないように測定力（針圧）を
小さくしておくことが望ましい。さらに、測定対象表面
のうねりや傾斜に対して高さ検出器１５本体を倣い運動
させるためにスキッドを設けてもよい。

【００３７】面取りを施されるべき液晶セル１１とし
て、例えば、１）液晶注入孔を出すためにガラス基板１
１ａ・１１ｂの分断が行われたもの、２）図示しない電
極部分を出すためにガラス基板１１ａ・１１ｂの分断が
行われたもの、３）多面取りの基板から分断されてでき
た個々の液晶セル１１、等のように、面取りが施される
べき辺を有するガラス基板１１ａ・１１ｂを持つもので
あれば特に限定されるものではない。液晶セル１１をな
す下側のガラス基板１１ｂの幅方向（すなわち、固定面
１２ｃと平行で、かつ、送り方向と垂直な方向）両端に
は、上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂと吸着ステー
ジ１２との相対的な位置補正に用いられるアライメント
用マーク２２ａ・２２ｂが設けられている。アライメン
ト用マークの形状、配置数、および、配置位置は、特に
限定されるものではなく、例えば、ガラス基板１１ａ・
１１ｂの貼り合わせの為の位置合わせマーク等があれ
ば、これを代用することも可能である。尚、特にことわ
らない限りにおいて、該液晶セル１１の「基板下面」と
は、固定面１２ｃと当接している、ガラス基板１１ｂの
下面のことを指し、「基板上面」とは、ガラス基板１１
ａの上面のことを指すものとする。

【００３８】続いて、図１、および、図３ないし図９に
基づいて、本発明の実施の一形態に係る基板面取装置の
動作について具体的に説明する。

【００３９】図１に示すように、薄型表示機器の代表で
ある液晶ディスプレイの製造の途中段階にある液晶セル
１１は、外部より、吸着ステージ１２の固定面１２ｃ上
に搬送された後に、吸着孔２４において吸着され、該固
定面１２ｃ上に固定される。

【００４０】続いて、吸着ステージ１２上方に備えられ
た、一対のＣＣＤカメラ１３ａ・１３ｂにより、液晶セ
ル１１上のアライメント用マーク２２ａ・２２ｂの撮像
が行われる。ＣＣＤカメラ１３ａ・１３ｂの撮像した画
像は、アライメント画像処理部１８に送られた後に、こ
こで処理され、この処理に基づいて上面用砥石１４ａ・
下面用砥石１４ｂと吸着ステージ１２との相対的な位置
補正のための信号が主制御部２０に出力される。主制御
部２０は、該信号に基づき、送り軸・旋回軸モータコン
トローラ２１に制御信号を出力し、該制御信号に基づい
た送り軸１２ａおよび旋回軸１２ｂの動作によって液晶
セル１１の位置を、正規の位置に補正する。尚、改めて
後述するが、液晶セル１１の幅方向への位置補正は、研
磨器１４・１４の幅方向への移動により相対的に行われ
る。

【００４１】次に、液晶セル１１上面の面取りが行われ
る付近、すなわち、ガラス基板１１ａ上面の送り方向に
のびる一辺の、水平度やうねり、凹凸の高さや形状等に
代表される高さの変動量の測定が行われる。この測定
は、高さ検出器１５に関する上記説明のように、触針１
５ａがガラス基板１１ａ上面の送り方向にのびる一辺に
当接した状態で、吸着ステージ１２を一定速度で送り、
これによって、触針１５ａを、該一辺上の凹凸に倣って
上下に運動させる。そして、触針１５ａの上下運動が、
図示しないレバーを介して変位−電気変換器に伝えられ
る。そして、電気変換された測定結果は、演算機１９に
入力されて所定の演算が行われた後に、高さ情報として
図示しないメモリに保存される。図３に示すのは、この
ようにして得られた高さ情報の一例であり、該高さ情報
は、ガラス基板１１ａ上面の送り方向にのびる一辺が、
送り方向に対して上向きの傾斜を持っていることを示し
ている。

【００４２】ガラス基板１１ａ上面の送り方向にのびる
一辺に高さの変動が生じる原因として、例えば、具体的
には、固定面１２ｃ上の凹凸、液晶セル１１のセル厚の
不均一性（ガラス基板１１ａ・１１ｂのガラス厚のム
ラ、図示しないシール材層の厚さムラ等）、ガラス基板
１１ａ上面の凹凸、ガラス基板１１ｂ下面の凹凸、固定
面１２ｃと液晶セル１１の下面との間への異物の入り込
み、吸着ステージ１２下面とその取り付け台との間への
異物の入り込み、等をあげることができる。

【００４３】研磨器１４・１４はそれぞれ、面取り動作
に先立って、予め登録されている液晶セル１１の外形、
液晶セル１１の厚み、および、施される面取りの量等に
応じて所定の位置に移動される。すなわち、液晶セル１
１の外形、液晶セル１１の厚み、および、施される面取
りの量等に応じて、主制御部２０が、砥石位置モータコ
ントローラ２２に制御信号を出力し、該制御信号に基づ
いた制御軸１６ａ・１６ｂの動作、および、制御軸１７
ａ・１７ｂの動作によって研磨器１４・１４が、それぞ
れの所定の位置へと移動される。尚、液晶セル１１の幅
方向への位置補正が必要な場合には、アライメント画像
処理部１８より出力された信号に基づき、主制御部２０
が、砥石位置モータコントローラ２２に制御信号を出力
する。そして、該制御信号に基づいた制御軸１６ｂの動
作、および、制御軸１７ｂの動作によって研磨器１４・
１４がそれぞれ、所定の位置への移動とあわせて移動さ
れる。この時点では、研磨器１４・１４は、吸着ステー
ジ１２に対し、その送り方向前方に離れて位置してい
る。

【００４４】続いて、液晶セル１１を真空吸着した吸着
ステージ１２は、所定の送り速度（５０ｍｍ／ｓｅｃ〜
２００ｍｍ／ｓｅｃ）で、所定の速度で回転する上面用
砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂに向かって進行し、液晶
セル１１のエッジの研磨（面取り）が行われる。本実施
の形態において、面取りが行われるべき液晶セル１１の
エッジとは、上面用砥石１４ａと当接するガラス基板１
１ａ上面の辺、および、下面用砥石１４ｂと当接するガ
ラス基板１１ｂ下面の辺、の２辺をさす。このときの上
面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂの回転速度は、３０
００ｒｐｍ〜２００００ｒｐｍである。尚、上記の送り
速度、回転速度は特に限定されるものではない。

【００４５】面取り動作時には、研磨器１４・１４の高
さはそれぞれ、図示しないメモリに保存された上記高さ
情報に応じて小刻みに補正される。すなわち、主制御部
２０は、図示しないメモリから読み出された高さ情報に
応じて、砥石位置モータコントローラ２２に制御信号を
出力する。そして、該制御信号に基づいて制御軸１６ａ
の移動量、および、制御軸１７ａの移動量の制御が行わ
れることにより、研磨器１４・１４がそれぞれ上下に移
動され、一定の面取り量で面取りを行うことができる。
これにより、例えば、図３に示すような、送り方向に傾
斜を持つ辺に対しても、該辺が水平であるかのように面
取りを行うことができる。

【００４６】一方、図４に示すように、例えば、液晶セ
ル１１の各部位におけるセル厚の不均一性により面取り
が施されるべき上側の辺が複雑な傾斜を持つ場合には、
該辺が水平であるとして面取り動作を行うと、図５に示
すように、その面取り量は一定とはならず、すなわち、
該辺の水平精度に応じた面取り加工しかできない。

【００４７】しかしながら、高さ検出器１５を用いて、
液晶セル１１上面の面取りが行われる付近、すなわち、
ガラス基板１１ａ上面の送り方向にのびる一辺の、水平
度やうねり、凹凸の高さや形状等の測定を行った後に、
得られた高さ情報に基づいて、図６に示すように、研磨
器１４・１４（上面用砥石１４ａ、および、下面用砥石
１４ｂ）の高さを補正しながら面取り動作が行われれ
ば、一定の面取り量で面取りを行うことができる。これ
により、例えば、図４に示すような、送り方向に数段階
の複雑な傾斜を持つ辺に対しても、図７に示すように、
該辺が水平であるかのように精度の高い面取りを行うこ
とができる。

【００４８】また、上記説明のように得られた高さ情報
に基づいて、研磨器１４・１４（上面用砥石１４ａ、お
よび、下面用砥石１４ｂ）の高さを補正しながら面取り
動作が行われても、図８に示すように、液晶セル１１の
面取りラインが、ガラス基板１１ａ、および、ガラス基
板１１ｂの双方において同一の方向に傾く場合がある。
このような傾きは、液晶セル１１の設置位置の水平方向
のずれに由来するものである。従って、このような場合
には、主制御部２０から送り軸・旋回軸モータコントロ
ーラ２１に出力された制御信号に基づき旋回軸１２ｂを
動作させて、吸着ステージ１２を水平方向に所望の角度
旋回して位置補正を行い、さらに、この補正を新たに登
録することで一定の面取り量で精度の良い面取りを行う
ことができる。または、上面用砥石１４ａ、および、下
面用砥石１４ｂの位置補正を行うことによっても上記問
題に対応することができる。

【００４９】ところで上記のように、液晶セル１１の上
下両面、すなわち、ガラス基板１１ａ上面の辺、およ
び、ガラス基板１１ｂ下面の辺、を同時に面取りする場
合には、上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂと吸着ス
テージ１２との接触・緩衝を無くすために、ガラス基板
１１ａ・１１ｂの面取りが施される辺が、吸着ステージ
１２より外側に突出（オーバーハング）して配置される
必要がある。また、面取りの精度を高めるためには、ガ
ラス基板１１ａ・１１ｂの吸着ステージ１２からのオー
バーハング量を一定にする必要がある。従って、面取り
を施すべき液晶セル１１のサイズ（ガラス基板１１ａ・
１１ｂのサイズ）を変更すれば、使用される吸着ステー
ジ１２のサイズも変更する必要がある。尚、適切なオー
バーハング量は、面取りが施されるガラス基板１１ａ・
１１ｂの設計や、サイズ等に応じて異なるが、おおよ
そ、５〜１５ｍｍ程度である。

【００５０】使用される吸着ステージ１２のサイズの変
更作業、すなわち、使用される吸着ステージ１２の交換
作業には、高い取り付け再現性が要求されるが、近年の
要求精度に対し、取り付け再現性の精度を満たすことが
厳しくなってきている。この原因の一つとして、例え
ば、吸着ステージ１２の交換時に、吸着ステージ取り付
け面と吸着ステージ１２との間にゴミ等の異物を挟み込
んでしまい、吸着ステージ１２の傾きが発生してしまう
ということ等が挙げられる。図９に示すように、吸着ス
テージ取り付け面と吸着ステージ１２との間にゴミ等の
異物を挟み込んだために、面取りが施されるべき上側の
辺が複雑な傾斜を持つ場合には、該辺が水平であるとし
て面取り動作を行うと、その面取り量は一定とはならな
い。すなわち、面取りラインが、ガラス基板１１ａ、お
よび、ガラス基板１１ｂにおいて互いに逆方向に傾き、
該辺の水平精度に応じた面取り加工しかできない。

【００５１】しかしながら、本発明の実施の一形態にか
かる基板面取装置を用いれば、吸着ステージ１２交換後
に、新しい吸着ステージ上に吸着・固定された異なるサ
イズの液晶セルの上側の辺の高さを、高さ検出器１５で
測定し、得られた高さ情報に基づいて（すなわち、測定
結果をフィードバックしながら）面取りを実施すること
により、精度の高い面取りを実施することができる。ま
た、吸着ステージ１２交換後の調整も簡単となるため、
吸着ステージ１２の取り換え時間の短縮を実現すること
が可能となる。

【００５２】また、上記の吸着ステージ１２の交換作業
は、作業者が直接行うものであるために、誤って、不適
切なサイズの吸着ステージに交換されるおそれがある。
不適切なサイズの吸着ステージに交換されると、上面用
砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂと吸着ステージとの接触
・緩衝により、例えば、上面用砥石１４ａ、および、下
面用砥石１４ｂのそれぞれを回転させている図示しない
高精度なモータや、吸着ステージそのものに大きなダメ
ージを与えてしまうこととなる。また、適切なオーバー
ハング量を確保できないため、面取りの精度を低下させ
ることにもなる。

【００５３】上記の問題を防止するために、新たに取り
付けられた吸着ステージの外周より数ｍｍ外側の位置、
例えば、必要とされるオーバーハング量分外側の位置、
の高さを、上記高さ検出器１５を用いて計測することに
よって、該吸着ステージのサイズの適否をチェックする
ことができる。すなわち、高さ検出器１５は、新たに取
り付けられた吸着ステージの外周より数ｍｍ外側と想定
される位置に移動された後に、高さの検出動作を行う。
ここで、新たに取り付けられた吸着ステージが想定され
たサイズ以下であれば、高さ検出器１５に備えられた触
針１５ａは、該吸着ステージと当接することがない。し
たがって、高さ検出器１５は、吸着ステージの高さ付近
では、高さを検出することがない。また、新たに取り付
けられた吸着ステージが想定されたサイズを超えるが、
その超過量が該オーバーハング量未満であれば、高さ検
出器１５はやはり、吸着ステージの高さ付近では、高さ
を検出することがない。一方、新たに取り付けられた吸
着ステージが、想定されたサイズを該オーバーハング量
以上超えるものであれば、触針１５ａは、該吸着ステー
ジと当接する。したがって、高さ検出器１５は、吸着ス
テージの高さ付近で、高さを検出する。そして、高さ検
出器１５が、吸着ステージの高さ付近で高さを検出する
場合には、上面用砥石１４ａ・下面用砥石１４ｂと吸着
ステージとの接触・緩衝が生じることとなる。

【００５４】このようなサイズの適否のチェックを吸着
ステージ１２交換時に、常に実施することにより、本実
施の形態にかかる基板面取装置においては、不適切なサ
イズの吸着ステージに交換されることに起因する上記問
題を簡単に回避することができる。尚、吸着ステージの
外周より数ｍｍ外側の位置、とは、必ずしも、吸着ステ
ージの外周よりオーバーハング量分外側の位置、を意味
するものではなく、固定面と平行で、かつ、該吸着ステ
ージの送り方向にのびる一辺と垂直な直線上にあり、さ
らに、該吸着ステージの外周より外側の位置であればよ
い。

【００５５】吸着ステージのサイズの適否のチェック方
法は、特に上記の方法に限られるものではない。例え
ば、具体的には、高さ検出器１５により、固定面の幅方
向の高さの変化量の測定を行うことで該固定面の幅方向
両端部の位置を検出し、続いて、その検出結果に基づい
て、該固定面の幅寸法を決定し、新たに取り付けられた
吸着ステージのサイズの適否を決定するようにしてもよ
い。即ち、高さ検出器１５は、高さ測定手段としての機
能に加えて、長さ測定手段としての機能も有する。

【００５６】尚、長さ測定手段の種類は、吸着ステージ
の幅方向の長さを直接的、または、間接的に測定できる
ものであれば特に限定されるものではない。例えば、従
来公知のイメージセンサ、フォトセンサ等であってもよ
い。

【００５７】また、液晶セル１１の幅方向にのびるいず
れかの辺に対して面取りを施す場合には、吸着ステージ
１２を水平方向に９０°旋回させるとよい。この旋回に
より、該辺を送り方向に平行とすることができる。

【００５８】上記実施の形態では、面取りが行われるべ
き液晶セル１１のエッジとは、上面用砥石１４ａと当接
するガラス基板１１ａ上面の辺、および、下面用砥石１
４ｂと当接するガラス基板１１ｂ下面の辺、をさすもの
としたが、特にこれらの辺に限定されるものではない。
例えば、具体的には、液晶セル１１をなすガラス基板１
１ａ上下面の辺であってもよく、また、ガラス基板１１
ｂ上下面の辺であってもよい。また、場合によっては、
液晶セル１１として組み立てられる以前の、ガラス基板
１１ａ上下面の辺、または、ガラス基板１１ｂ上下面の
辺の面取りを行うものであってもよい。尚、ガラス基板
１１ａまたはガラス基板１１ｂのような一枚のガラス基
板を扱う場合、該ガラス基板の下面は、真空吸着により
固定台１２の固定面１２ｃとなじみ、該固定面１２ｃと
同じ傾きとなっているので、ガラス基板の厚みのばらつ
きが少ない限りにおいては、固定面１２ｃの長さ方向の
高さの変化量の測定結果にもとづいて、該ガラス基板の
上下両面の辺の面取りを精度よく行うことが可能であ
る。

【００５９】また、上記実施の形態では、一つの高さ情
報、すなわち、面取りが施されるガラス基板１１ａ上面
の一辺の近傍の高さの変動を測定することにより得られ
た高さ情報、に基づいて、一対の研磨器１４・１４（上
面用砥石１４ａ、および、下面用砥石１４ｂ）の高さを
同様に補正する構成であったが、特にこれに限定される
ものではなく、場合によっては、固定面１２ｃの高さの
変動に基づいて、一対の研磨器１４・１４の高さを同様
に補正する構成としてもよい。該構成とすれば、吸着ス
テージ１２の交換を行わない限りにおいて、同一の高さ
情報に基づき一対の研磨器１４・１４の高さを補正する
ことができるので、例えば、液晶セル１１の面取りを効
率的に行うことができる。

【００６０】また、例えば、面取りが施されるガラス基
板１１ａ上面の一辺の高さの変動に基づいて上面用砥石
１４ａの高さを補正し、一方、固定面１２ｃの高さの変
動に基づいて下面用砥石１４ｂの高さを補正を行う構成
とすることもできる。このような構成とすれば、上面用
砥石１４ａによって面取りが施されるガラス基板１１ａ
上面の一辺と、下面用砥石１４ｂによって面取りが施さ
れるガラス基板１１ｂ下面の一辺とが平行でない場合で
あっても、精度の高い面取りを行うことができる。尚、
該構成とする場合には、必要に応じて、高さ検出器１５
を複数設けてもよい。さらに、固定面１２ｃの高さ情報
を、吸着・固定されるガラス基板１１ｂ下面の形状に応
じて変換する変換手段を設けてもよい。

【００６１】さらにまた、上記実施の形態では、高さ検
出器１５と研磨器１４とが、同一の固定板２３ａ上に固
定された構成であったが、特にこれに限定されるもので
はない。例えば、具体的には、高さ検出器１５を、固定
板２３ｂに対して送り方向前方に配された別の固定板上
に独立に設置する構成とすることもできる。該構成によ
れば、高さ検出器１５が先行してガラス基板１１ａ上面
の高さの変動を検出し、その結果導かれた高さ情報に基
づいて研磨器１４・１４を動かすことができる。すなわ
ち、高さの変動の検出と面取り動作とを同時進行で行う
ことができる。

【００６２】

【発明の効果】本発明の請求項１記載の基板面取装置
は、以上のように、基板を、その固定面上に固定する固
定台と、基板の辺の研磨を行う研磨手段とを備え、研磨
手段と固定台とを送り方向に相対運動させることで、該
辺の面取りを行う基板面取装置において、上記研磨手段
を、基板に対して垂直方向に移動させる移動手段と、固
定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相対
運動が可能な、高さ測定手段とを有し、さらに、上記高
さ測定手段による、固定面の送り方向における高さの変
動量の測定結果に基づいて、移動手段の移動量を制御す
る制御手段を備えている構成である。

【００６３】上記の構成によれば、固定面の凹凸、固定
台の取り付け精度、固定台下面とその取り付け台との間
への異物の入り込み等の、固定面以下の位置における要
因により、面取りが施される基板の辺に、該基板に対し
て垂直方向の傾きが生じている場合であっても、該傾き
に応じて研磨手段を移動させることができるため、精度
の高い面取りを行うことができる。また、固定台の交換
を行わない限りにおいては、高さ測定手段による測定は
一度でよい。したがって、基板の辺に対する高精度な面
取りを効率的に行うことができる基板面取装置を提供す
ることができるという効果を奏する。

【００６４】本発明の請求項２記載の基板面取装置は、
以上のように、基板を、その固定面に固定する固定台
と、基板の辺の研磨を行う研磨手段とを備え、研磨手段
と固定台とを送り方向に相対運動させることで、該辺の
面取りを行う基板面取装置において、上記研磨手段を、
基板に対して垂直方向に移動させる移動手段と、固定面
に対向して設けられ、送り方向への固定台との相対運動
が可能な、高さ測定手段とを有し、さらに、上記高さ測
定手段による、基板上面の送り方向における高さの変動
量の測定結果に基づいて、移動手段の移動量を制御する
制御手段を備えている構成である。

【００６５】上記の構成によれば、基板厚のムラ、基板
上面の凹凸、基板下面の凹凸、固定面と基板の下面との
間への異物の入り込み、固定面の凹凸、固定台の取り付
け精度、固定台下面とその取り付け台との間への異物の
入り込み等の、基板上面以下の位置における要因によ
り、面取りが施される基板の辺に、該基板に対して垂直
方向の傾きが生じている場合であっても、該傾きに応じ
て研磨手段を移動させることができる。また、面取りが
行われる基板ごとに、高さ測定手段による測定を行うた
め、各基板ごとの上面の傾きに応じた、精度の高い面取
りを行うことができる。さらに、必要に応じて、面取り
が行われる基板上面の辺ごとに、該辺の近傍の送り方向
における高さの変動量を測定することもできる。したが
って、基板の辺に対する高精度な面取りを効率的に行う
ことができる基板面取装置を提供することができるとい
う効果を奏する。

【００６６】本発明の請求項３記載の基板面取装置は、
以上のように、基板を、その固定面に固定する固定台
と、基板の辺の研磨を行う複数の研磨手段とを備え、研
磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させることで、
該辺の面取りを行う基板面取装置において、上記複数の
研磨手段のそれぞれを独立に、基板に対して垂直方向に
移動させる複数の移動手段と、固定面に対向して設けら
れ、送り方向への固定台との相対運動が可能な、高さ測
定手段とを有し、さらに、上記高さ測定手段による、基
板上面の送り方向における高さの変動量、および、固定
面の送り方向における高さの変動量の、測定結果に基づ
いて複数の移動手段の移動量を独立に制御する制御手段
を備えている構成である。

【００６７】上記の構成によれば、高さ測定手段が、固
定面の送り方向における高さの変動量を測定し、さら
に、基板上面の送り方向における高さの変動量を測定す
る。そして、制御手段が、固定面の送り方向における高
さの変動量の測定結果に基づいて、ある移動手段の移動
量を制御する。また同時に、制御手段が、基板上面の送
り方向における高さの変動量の測定結果に基づいて、他
の移動手段の移動量を制御する。

【００６８】すなわち、研磨手段のあるものは、ある移
動手段により、固定面の送り方向における高さの変動量
に応じて、基板に対して垂直方向に移動させられ、ま
た、研磨手段の他のものは、他の移動手段により、基板
上面の送り方向における高さの変動量に応じて、該基板
に対して垂直方向に移動させられる。したがって、面取
りが施される辺ごとに応じて、研磨手段の位置補正を細
かく行うことができ、基板の辺に対する高精度な面取り
を効率的に行うことができる基板面取装置を提供するこ
とができるという効果を奏する。

【００６９】本発明の請求項４記載の基板面取装置は、
以上のように、請求項２または３に記載の構成におい
て、上記高さ測定手段が、研磨手段に対して送り方向前
方に設けられており、高さ測定手段による、基板上面の
送り方向における高さの変動量の測定と並行して、制御
手段による移動手段の移動量の制御が行われる構成であ
る。

【００７０】上記の構成によれば、高さ測定手段によ
る、基板上面の送り方向における高さの変動量の測定
と、制御手段による移動手段の移動量の制御とを同時進
行で行うことができる。したがって、面取り動作にかか
る時間を短縮することができるため、基板の辺に対する
高精度な面取りを効率的に行うことができる基板面取装
置を提供することができるという効果を、請求項２また
は請求項３に記載の構成による効果に加えて奏する。

【００７１】本発明の請求項５記載の基板面取装置は、
以上のように、請求項１ないし４のいずれか一項に記載
の構成において、固定面の幅方向の長さを測定する長さ
測定手段をさらに備えている構成である。

【００７２】上記の構成によれば、長さ測定手段によ
り、固定面の幅寸法を測定することができるので、誤っ
て異なる幅寸法を持つ固定台を取り付けた場合でも、そ
の誤りを簡単・迅速に検出することができるという効果
を、請求項１ないし４のいずれか一項に記載の構成によ
る効果に加えて奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態にかかる基板面取装置の
構成を示す概略の斜視図である。

【図２】図１に示す基板面取装置に備えられた高さ検出
器の構成を示す概略の側面図である。

【図３】液晶セル上面の面取りが行われる付近の、送り
方向に沿った高さ情報、すなわち、高さの測定位置と該
測定位置における液晶セル上面の相対的な高さとの、送
り方向における連続的な関係、の一例を示すグラフであ
る。

【図４】液晶セル上面の面取りが行われる付近の、送り
方向に沿った高さ情報の他の例を示すグラフである。

【図５】図４に示す高さ情報を有する液晶セルの、上面
上の一辺の面取りと下面上の一辺の面取りとを、該高さ
情報に基づいた補正を行わずに実施した場合の、面取り
ラインを示す概略の平面図である。

【図６】図４に示す高さ情報に基づいて砥石位置の補正
を行った場合の、砥石高さと面取り加工位置との、送り
方向における連続的な関係を示すグラフである。

【図７】図４に示す高さ情報を有する液晶セルにおい
て、図６に示す補正を行った場合の、面取りラインを示
す概略の平面図である。

【図８】液晶セルの上面と下面とで、面取りラインが同
一の方向に傾く一例を示す概略の平面図である。

【図９】液晶セル上面の面取りが行われる付近の、送り
方向に沿った高さ情報のさらに他の例を示すグラフであ
る。

【図１０】従来の基板面取装置の構成を示す概略の斜視
図である。

【図１１】従来の基板面取装置の面取り動作を説明する
ための説明図である。

【図１２】図１０に示す従来の基板面取装置を用いて、
ガラス基板の、上面上の一辺の面取りと下面上の一辺の
面取りとを実施した場合の、面取りラインの一例を示す
概略の斜視図である。

【図１３】図１２に示すガラス基板の概略の平面図であ
る。

【図１４】水平方向に旋回させることで、図１２に示す
ガラス基板の位置補正を行った後に、図１０に示す従来
の基板面取装置を用いて、該ガラス基板の、上面上の一
辺の面取りと下面上の一辺の面取りとを実施した場合
の、面取りラインの一例を示す概略の斜視図である。

【図１５】図１４に示すガラス基板の概略の平面図であ
る。

【符号の説明】

１１ａ ガラス基板（基板） １１ｂ ガラス基板（基板） １２ 吸着ステージ（固定台） １２ｃ 固定面 １４ 研磨器（研磨手段） １５ 高さ検出器（高さ測定手段、長さ測定手段） １６ａ 制御軸（移動手段） １７ａ 制御軸（移動手段） ２０ 主制御部（制御手段）

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板を、その固定面上に固定する固定台
   と、 基板の辺の研磨を行う研磨手段とを備え、 研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させること
   で、該辺の面取りを行う基板面取装置において、 上記研磨手段を、基板に対して垂直方向に移動させる移
   動手段と、 固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相
   対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、 さらに、上記高さ測定手段による、固定面の送り方向に
   おける高さの変動量の測定結果に基づいて、移動手段の
   移動量を制御する制御手段を備えていることを特徴とす
   る基板面取装置。
2. 【請求項２】基板を、その固定面に固定する固定台と、 基板の辺の研磨を行う研磨手段とを備え、 研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させること
   で、該辺の面取りを行う基板面取装置において、 上記研磨手段を、基板に対して垂直方向に移動させる移
   動手段と、 固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相
   対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、 さらに、上記高さ測定手段による、基板上面の送り方向
   における高さの変動量の測定結果に基づいて、移動手段
   の移動量を制御する制御手段を備えていることを特徴と
   する基板面取装置。
3. 【請求項３】基板を、その固定面に固定する固定台と、 基板の辺の研磨を行う複数の研磨手段とを備え、 研磨手段と固定台とを送り方向に相対運動させること
   で、該辺の面取りを行う基板面取装置において、 上記複数の研磨手段のそれぞれを独立に、基板に対して
   垂直方向に移動させる複数の移動手段と、 固定面に対向して設けられ、送り方向への固定台との相
   対運動が可能な、高さ測定手段とを有し、 さらに、上記高さ測定手段による、基板上面の送り方向
   における高さの変動量、および、固定面の送り方向にお
   ける高さの変動量の、測定結果に基づいて複数の移動手
   段の移動量を独立に制御する制御手段を備えていること
   を特徴とする基板面取装置。
4. 【請求項４】上記高さ測定手段が、研磨手段に対して送
   り方向前方に設けられており、 高さ測定手段による、基板上面の送り方向における高さ
   の変動量の測定と並行して、制御手段による移動手段の
   移動量の制御が行われることを特徴とする請求項２また
   は３に記載の基板面取装置。
5. 【請求項５】固定面の幅方向の長さを測定する長さ測定
   手段をさらに備えていることを特徴とする請求項１ない
   し４のいずれか一項に記載の基板面取装置。