JP2000198916A - 芳香族ポリカ―ボネ―ト樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 芳香族ポリカーボネート樹脂が本来有する特
性を生かし、且つ酸化チタンを加えることで白色度等の
光学的特性を向上させた上、熱安定性および衝撃強度に
優れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を提供する。 【解決手段】 （Ａ）残存触媒活性指数が２％以下であ
り、且つ二価フェノールとカーボネート前駆体とを溶融
法で反応させて得られた芳香族ポリカーボネート樹脂１
００重量部および（Ｂ）酸化チタン０．１〜１００重量
部からなる芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は良好な白色度を有す
る芳香族ポリカーボネート樹脂組成物に関する。更に詳
しくは、機械的特性、熱安定性に優れるとともに、優れ
た白色度を有する芳香族ポリカーボネート樹脂組成物に
関する。

【０００２】

【従来の技術】芳香族ポリカーボネート樹脂は、耐衝撃
性などの機械的特性に優れ、しかも耐熱性、透明性など
にも優れており、広く用いられている。このような芳香
族ポリカーボネート樹脂の製造方法としては、ビスフェ
ノールＡなどの二価フェノールにホスゲンを直接反応さ
せる方法（界面重合法）、あるいはビスフェノールなど
の二価フェノールとジフェニルカーボネートなどのジア
リルカーボネートとを溶融状態でエステル交換反応させ
重合する方法（以下、溶融法と称することがある。）な
どが知られている。このような製造方法のなかで、二価
フェノールとジアリルカーボネートとのエステル交換反
応させる方法は、界面重合法による製造に比べて、ホス
ゲンやメチレンクロライド等のハロゲン化合物を使用す
る問題がなく、環境に対する負荷が少なく且つ安価に製
造できる利点があり、有望な技術である。

【０００３】また、芳香族ポリカーボネート樹脂は、耐
衝撃性等の機械的特性や、透明性、耐熱性、電気的特
性、寸法安定性等に優れることから機械、電気・電子機
器、自動車等の幅広い用途にて使用されているが、それ
ら用途によっては未塗装のため、成形材料自体に着色を
施すことが要求される場合がある。熱可塑性樹脂を白色
に着色したり光線遮蔽性や光線反射性を付与するため
に、一般的に酸化チタンが用いられている。

【０００４】芳香族ポリカーボネート樹脂とガラスフィ
ラーを用いた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物が、特
許２６８３６６２号公報に記載されている。この芳香族
ポリカーボネート樹脂は実質的に溶融法で製造された芳
香族ポリカーボネート樹脂である。更にこの特許公報に
は、その物性を阻害しない範囲で酸化チタンを添加して
もよいとの記載がある。この組成物は溶液法の芳香族ポ
リカーボネート樹脂組成物よりアイゾット耐衝撃性に優
れていることが開示されている。しかしながら、かかる
組成物に使用されている溶融法芳香族ポリカーボネート
樹脂は触媒の失活処理がなされておらず、酸化チタンを
添加した際、十分な白色度が得られず、衝撃強度や熱安
定性に劣る欠点を有していた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、機械
的特性、熱安定性に優れるとともに、優れた白色度を有
する芳香族ポリカーボネート樹脂組成物およびそれから
の成形品を提供することにある。我々はかかる樹脂組成
物を鋭意検討した結果、溶融法の芳香族ポリカーボネー
ト樹脂に残存する重合触媒を失活処理し、この芳香族ポ
リカーボネート樹脂を用いることで、本発明を完成する
に至った。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、（Ａ）残存触
媒活性指数が２％以下であり、且つ二価フェノールとカ
ーボネート前駆体とを溶融法で反応させて得られた芳香
族ポリカーボネート樹脂１００重量部および（Ｂ）酸化
チタン０．１〜１００重量部からなる芳香族ポリカーボ
ネート樹脂組成物に関するものである。

【０００７】本発明で使用される芳香族ポリカーボネー
ト樹脂は、通常二価フェノールとカーボネート前駆体と
を溶融法で反応させて得られるものである。ここで使用
される二価フェノールの代表的な例としては、ハイドロ
キノン、レゾルシノール、１，６−ジヒドロキシナフタ
リン、２，６−ジヒドロキシナフタリン、４，４’−ジ
ヒドロキシジフェニル、ビス（４−ヒドロキシフェニ
ル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
−１−フェニルメタン、ビス｛（４−ヒドロキシ−３，
５−ジメチル）フェニル｝メタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、１，１−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ジフェニルメタン、ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−１−ナフチルメタン、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン（通称ビスフェノール
Ａ）、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（３−ヒ
ドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス｛（４−ヒ
ドロキシ−３−メチル）フェニル｝プロパン、２，２−
ビス｛（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチル）フェニ
ル｝プロパン、２，２−ビス｛（３，５−ジブロモ−４
−ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス
｛（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシ）フェニル｝プ
ロパン、２，２−ビス｛（３−ブロモ−４−ヒドロキ
シ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（３−クロロ
−４−ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、４−ブロモレ
ゾルシノール、２，２−ビス｛（３−イソプロピル−４
−ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス
｛（３−フェニル−４−ヒドロキシ）フェニル｝プロパ
ン、２，２−ビス｛（３−エチル−４−ヒドロキシ）フ
ェニル｝プロパン、２，２−ビス｛（３−ｎ−プロピル
−４−ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス
｛（３−ｓｅｃ−ブチル−４−ヒドロキシ）フェニル｝
プロパン、２，２−ビス｛（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４
−ヒドロキシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス
｛（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシ）フェニル｝
プロパン、２，２−ビス｛（３−メトキシ−４−ヒドロ
キシ）フェニル｝プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１，１−ジブ
ロモ−２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチレ
ン、１，１−ジクロロ−２，２−ビス｛（３−フェノキ
シ−４−ヒドロキシ）フェニル｝エチレン、エチレング
リコールビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，
２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３−メチルブタ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３
−ジメチルブタン、２，４−ビス（４−ヒドロキシフェ
ニル）−２−メチルブタン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）イソブタン、２，２−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）ペンタン、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）−４−メチルペンタン、３，３−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）ペンタン、１，１−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）−４−イソプロピルシクロ
ヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス
（４−ヒドロキシフェニル）シクロドデカン、９，９−
ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−
ビス｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝フル
オレン、α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−
ｏ−ジイソプロピルベンゼン、α，α’−ビス（４−ヒ
ドロキシフェニル）−ｍ−ジイソプロピルベンゼン、
α，α’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−ｐ−ジイ
ソプロピルベンゼン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）−５，７−ジメチルアダマンタン、４，４’−
ジヒドロキシジフェニルスルホン、ビス｛（３，５−ジ
メチル−４−ヒドロキシ）フェニル｝スルホン、４，
４’−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４’
−ジヒドロキシジフェニルスルフィド、４，４’−ジヒ
ドロキシジフェニルケトン、４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルエーテルおよび４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルエステルなどがあげられ、これらは単独または２種
以上を混合して使用できる。

【０００８】なかでもビスフェノールＡ、２，２−ビス
｛（４−ヒドロキシ−３−メチル）フェニル｝プロパ
ン、２，２−ビス｛（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキ
シ）フェニル｝プロパン、エチレングリコールビス（４
−ヒドロキシフェニル）エーテル、２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１，１−ビ
ス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、１，１
−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−３，３，５−トリ
メチルシクロヘキサン、４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルホン、ビス｛（３，５−ジメチル−４−ヒドロ
キシ）フェニル｝スルホン、４，４’−ジヒドロキシジ
フェニルスルホキシド、４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルスルフィド、および４，４’−ジヒドロキシジフェ
ニルケトンからなる群より選ばれた少なくとも１種のビ
スフェノールより得られる単独重合体または共重合体が
好ましく、特に、ビスフェノールＡの単独重合体が好ま
しく使用される。

【０００９】カーボネート前駆体としては、カーボネー
トエステルまたはハロホルメート等が使用される。具体
的には、ジフェニルカーボネート、ジトリルカーボネー
ト、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ―クレジ
ルカーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス（ジフ
ェニル）カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチ
ルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキ
シルカーボネートなどが挙げられるが、これらに限定さ
れない。好ましくは、ジフェニルカーボネートまたは二
価フェノールのジハロホルメートなどを使用し、より好
ましくは、ジフェニルカーボネートを使用する。これら
炭酸エステルもまた、単独で用いても良く、また二種以
上を組み合わせて用いても良い。

【００１０】上記二価フェノールとカーボネート前駆体
を溶融法によって反応させてポリカーボネート樹脂を製
造するに当っては、必要に応じて触媒、末端停止剤、二
価フェノールの酸化防止剤等を使用してもよい。またポ
リカーボネート樹脂は三官能以上の多官能性芳香族化合
物を共重合した分岐ポリカーボネート樹脂であっても、
芳香族または脂肪族の二官能性カルボン酸を共重合した
ポリエステルカーボネート樹脂であってもよく、また、
得られたポリカーボネート樹脂の２種以上を混合した混
合物であってもよい。

【００１１】三官能以上の多官能性芳香族化合物として
は、フロログルシン、フロログルシド、または４，６−
ジメチル−２，４，６−トリス（４−ヒドロキジフェニ
ル）ヘプテン−２，２，４，６−トリメチル−２，４，
６−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，
３，５−トリス（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼン、
１，１，１−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エタ
ン、１，１，１−トリス（３，５−ジメチル−４−ヒド
ロキシフェニル）エタン、２，６−ビス（２−ヒドロキ
シ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェノール、４
−｛４−［１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エ
チル］ベンゼン｝−α，α−ジメチルベンジルフェノー
ル等のトリスフェノール、テトラ（４−ヒドロキシフェ
ニル）メタン、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）
ケトン、１，４−ビス（４，４−ジヒドロキシトリフェ
ニルメチル）ベンゼン、又はトリメリット酸、ピロメリ
ット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸及びこれらの
酸クロライド、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−
（３’−フェノキシカルボニル−４’−ヒドロキシフェ
ニル）プロパン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２
−（３’−カルボキシ−４’−ヒドロキシフェニル）プ
ロパン等が挙げられ、中でも１，１，１−トリス（４−
ヒドロキシフェニル）エタン、１，１，１−トリス
（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）エタン
が好ましく、特に１，１，１−トリス（４−ヒドロキシ
フェニル）エタンが好ましい。

【００１２】溶融法による反応は、通常二価フェノール
とカーボネートエステルとのエステル交換反応であり、
不活性ガスの存在下に二価フェノールとカーボネートエ
ステルとを加熱しながら混合して、生成するアルコール
またはフェノールを留出させる方法により行われる。反
応温度は生成するアルコールまたはフェノールの沸点等
により異なるが、通常１２０〜３５０℃の範囲である。
反応後期には系を１０〜０．１Ｔｏｒｒ程度に減圧して
生成するアルコールまたはフェノールの留出を容易にさ
せる。反応時間は通常１〜４時間程度である。

【００１３】また、溶融法において重合速度を速めるた
めに重合触媒を用いることができ、かかる重合触媒とし
ては、例えば（ｉ）アルカリ金属又はアルカリ土類金属
化合物および／または（ｉｉ）含窒素塩基性化合物より
なる触媒を用いて縮合される。

【００１４】触媒として用いられるアルカリ金属化合物
としては、例えばアルカリ金属の水酸化物、炭化水素化
物、炭酸塩、酢酸塩、硝酸塩、亜硝酸塩、亜流酸塩、シ
アン酸塩、チオシアン酸塩、ステアリン酸塩、水素化ホ
ウ素塩、安息香酸塩、リン酸水素化物、ビスフェノー
ル、フェノールの塩等が挙げられる。

【００１５】具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭
酸水素カリウム、炭酸水素リチウム、炭酸ナトリウム、
炭酸カリウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カ
リウム、酢酸リチウム、硝酸ナトリウム、硝酸カリウ
ム、硝酸リチウム、亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウ
ム、亜硝酸リチウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウ
ム、亜硫酸リチウム、シアン酸ナトリウム、シアン酸カ
リウム、シアン酸リチウム、チオシアン酸ナトリウム、
チオシアン酸カリウム、チオシアン酸リチウム、ステア
リン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン
酸リチウム、水酸化ホウ素ナトリウム、水酸化ホウ素リ
チウム、水素化ホウ素カリウム、フェニル化ホウ素ナト
リウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息
香酸リチウム、リン酸水素ジナトリウム、リン酸水素ジ
カリウム、リン酸水素ジリチウム、ビスフェノールＡの
ジナトリウム塩、ジカリウム塩、ジリチウム塩、フェノ
ールのナトリウム塩、カリウム塩、リチウム塩などが挙
げられる。

【００１６】触媒としてのアルカリ（土類）金属化合物
は、二価フェノール１モルに対し１０^-8〜１０^-5モルの
範囲で使用しうる。上記使用範囲を逸脱すると、得られ
るポリカーボネートの諸物性に悪影響を及ぼしたり、ま
た、エステル交換反応が充分に進行せず高分子量のポリ
カーボネートが得られない等の問題があり好ましくな
い。

【００１７】また、触媒としての含窒素塩基性化合物と
しては、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド
（Ｍｅ₄ＮＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキ
シド（Ｅｔ₄ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒド
ロキシド（Ｂｕ₄ＮＯＨ）、ベンジルトリメチルアンモ
ニウムヒドロキシド（φ―ＣＨ₂（Ｍｅ）₃ＮＯＨ）、ヘ
キサデシルトリメチルアンモニウムヒドロキシドなどの
アルキル、アリール、アルキルアリール基などを有する
アンモニウムヒドロオキシド類、トリエチルアミン、ト
リブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、ヘキサデシ
ルジメチルアミンなどの３級アミン類、あるいはテトラ
メチルアンモニウムボロハイドライド（Ｍｅ₄ＮＢ
Ｈ₄）、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド
（Ｂｕ₄ＮＢＨ₄）、テトラブチルアンモニウムテトラフ
ェニルボレート（Ｂｕ₄ＮＢＰｈ₄）、テトラメチルアン
モニウムテトラフェニルボレート（Ｍｅ₄ＮＢＰｈ₄）な
どの塩基性塩などを挙げることができる。これらの中
で、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｍｅ₄Ｎ
ＯＨ）、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド（Ｅｔ
₄ＮＯＨ）、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
（Ｂｕ₄ＮＯＨ）が好ましく、特にテトラメチルアンモ
ニウムヒドロキシド（Ｍｅ₄ＮＯＨ）が好ましい。

【００１８】上記含窒素塩基性化合物は、含窒素塩基性
化合物中のアンモニウム窒素原子が二価フェノール１モ
ル当り１×１０^-5〜１×１０^-3当量となる割合で用いる
のが好ましい。より好ましい割合は同じ基準に対し２×
１０^-5〜７×１０^-4当量となる割合である。特に好まし
い割合は同じ基準に対し５×１０^-5〜５×１０^-4当量と
なる割合である。本発明においては所望により、アルカ
リ金属やアルカリ土類金属のアルコキシド類、アルカリ
金属やアルカリ土類金属の有機酸塩類、亜鉛化合物類、
ホウ素化合物類、アルミニウム化合物類、珪素化合物
類、ゲルマニウム化合物類、有機スズ化合物類、鉛化合
物類、オスミウム化合物類、アンチモン化合物類、マン
ガン化合物類、チタン化合物類、ジルコニウム化合物類
などの通常エステル化反応、エステル交換反応に使用さ
れる触媒を用いることができる。触媒は単独で使用して
もよいし、２種以上組み合わせ使用してもよい。これら
の重合触媒の使用量は、原料の二価フェノール１モルに
対し、好ましくは１×１０^-9〜１×１０^-5当量、より好
ましくは１×１０^-8〜５×１０^-6当量の範囲で選ばれ
る。

【００１９】また、かかる重合反応において、フェノー
ル性の末端基を減少するために、重縮反応の後期あるい
は終了後に、例えばフェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノ
ール、ｐ−ｔ−ブチルフェニルフェニルカーボネート、
ｐ−ｔ−ブチルフェニルカーボネート、ｐ−クミルフェ
ノール、ｐ−クミルフェニルフェニルカーボネート、ｐ
−クミルフェニルカーボネート、ビス（クロロフェニ
ル）カーボネート、ビス（ブロモフェニル）カーボネー
ト、ビス（ニトロフェニル）カーボネート、ビス（フェ
ニルフェニル）カーボネート、クロロフェニルフェニル
カーボネート、ブロモフェニルフェニルカーボネート、
ニトロフェニルフェニルカーボネート、ジフェニルカー
ボネート、メトキシカルボニルフェニルフェニルカーボ
ネート、２，２，４−トリメチル−４−（４−ヒドロキ
シフェニル）クロマン２，４，４−トリメチル−２−
（４−ヒドロキシフェニル）クロマンおよびエトキシカ
ルボニルフェニルフェニルカーボネート等の化合物を加
えることが好ましい。なかでも２−クロロフェニルフェ
ニルカーボネート、２−メトキシカルボニルフェニルフ
ェニルカーボネートおよび２−エトキシカルボニルフェ
ニルフェニルカーボネートが好ましく、特に２−メトキ
シカルボニルフェニルフェニルカーボネートが好ましく
使用される。

【００２０】本発明において末端封鎖剤を用いて芳香族
ポリカーボネート樹脂の末端を封鎖することが好まし
い。また、末端封鎖剤を添加する前の芳香族ポリカーボ
ネート樹脂の水酸基末端を全末端に対して２０モル％以
上、好ましくは３０モル％以上、さらに好ましくは４０
モル％以上に制御することが好ましい。かくすることに
より、特定の末端基を高い割合で導入でき、芳香族ポリ
カーボネート樹脂の改質効果を高めることができる。通
常は、芳香族ポリカーボネート樹脂の水酸基末端の割合
が、全末端のうち水酸基が３０〜９５モル％の範囲の芳
香族ポリカーボネート樹脂に末端封鎖剤を用いることが
有利である。また、末端封鎖剤を添加する前の芳香族ポ
リカーボネート樹脂水酸基の末端割合は、原料である二
価フェノールとジフェニルカーボネートの仕込み比によ
ってコントロールすることができる。ここで芳香族ポリ
カーボネート樹脂の一定量における末端水酸基のモル数
は、常法により¹Ｈ―ＮＭＲにより決定できる。

【００２１】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂の水
酸基末端は、全末端に対して０〜４０モル％、好ましく
は０〜１８モル％、さらに好ましくは０〜９モル％、最
も好ましくは０〜７モル％に制御することが好ましい。
ここで０モル％とは¹Ｈ―ＮＭＲ法で測定した時、検出
不可能を表す。水酸基末端がかかる範囲にあると、白色
度および衝撃強度が更に向上する。

【００２２】本発明では、芳香族ポリカーボネート樹脂
中の触媒の活性を中和する失活剤を用いることが好まし
い。この失活剤の具体例としては、例えばベンゼンスル
ホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸
メチル、ベンゼンスルホン酸エチル、ベンゼンスルホン
酸ブチル、ベンゼンスルホン酸オクチル、ベンゼンスル
ホン酸フェニル、ｐ−トルエンスルホン酸メチル、ｐ−
トルエンスルホン酸エチル、ｐ−トルエンスルホン酸ブ
チル、ｐ−トルエンスルホン酸オクチル、ｐ−トルエン
スルホン酸フェニルなどのスルホン酸エステル；さら
に、トリフルオロメタンスルホン酸、ナフタレンスルホ
ン酸、スルホン化ポリスチレン、アクリル酸メチル‐ス
ルホン化スチレン共重合体、ドデシルベンゼンスルホン
酸−２−フェニル−２−プロピル、ドデシルベンゼンス
ルホン酸−２−フェニル−２−ブチル、オクチルスルホ
ン酸テトラブチルホスホニウム塩、デシルスルホン酸テ
トラブチルホスホニウム塩、ベンゼンスルホン酸テトラ
ブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸テ
トラエチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン
酸テトラブチルホスホニウム塩、ドデシルベンゼンスル
ホン酸テトラヘキシルホスホニウム塩、ドデシルベンゼ
ンスルホン酸テトラオクチルホスホニウム塩、デシルア
ンモニウムブチルサルフェート、デシルアンモニウムデ
シルサルフェート、ドデシルアンモニウムメチルサルフ
ェート、ドデシルアンモニウムエチルサルフェート、ド
デシルメチルアンモニウムメチルサルフェート、ドデシ
ルジメチルアンモニウムテトラデシルサルフェート、テ
トラデシルジメチルアンモニウムメチルサルフェート、
テトラメチルアンモニウムヘキシルサルフェート、デシ
ルトリメチルアンモニウムヘキサデシルサルフェート、
テトラブチルアンモニウムドデシルベンジルサルフェー
ト、テトラエチルアンモニウムドデシルベンジルサルフ
ェート、テトラメチルアンモニウムドデシルベンジルサ
ルフェート等の化合物を挙げることができるが、これら
に限定されない。これらの化合物を二種以上併用するこ
ともできる。

【００２３】失活剤の中でホスホニウムもしくはアンモ
ニウム塩型の失活剤はそれ自身２００℃以上でも特に安
定である。そしてその失活剤を芳香族ポリカーボネート
樹脂に添加した場合すみやかに重縮合反応触媒を中和
し、目的とする芳香族ポリカーボネート樹脂を得ること
ができる。即ち、重合封鎖反応後に生成するポリカーボ
ネートに対し、失活剤を好ましくは０．０１〜５００ｐ
ｐｍの割合で、より好ましくは０．０１〜３００ｐｐ
ｍ、特に好ましくは０．０１〜１００ｐｐｍの割合で使
用される。

【００２４】また、かかる失活剤は、重縮合反応触媒に
対する割合では、重縮合反応触媒１モル当り０．５〜５
０モルの割合で用いるのが好ましい。失活剤を末端封鎖
後の芳香族ポリカーボネート樹脂に添加する方法には特
に限定されない。例えば、反応生成物である芳香族ポリ
カーボネート樹脂が溶融状態にある間にこれらを添加し
てもよいし、一旦芳香族ポリカーボネート樹脂をペレタ
イズした後再溶融して添加してもよい。前者において
は、末端封鎖反応が終了して得られる溶融状態にある反
応器内または押出機内の反応生成物である芳香族ポリカ
ーボネート樹脂が溶融状態にある間に、これらを添加し
て芳香族ポリカーボネート樹脂を形成した後、押出機を
通してペレタイズしてもよいし、また、重合封鎖反応で
得られた芳香族ポリカーボネート樹脂が反応器から押出
機を通ってペレタイズされる間に、失活剤を添加して混
練することによって芳香族ポリカーボネート樹脂を得る
ことができる。

【００２５】本発明の溶融重合された芳香族ポリカーボ
ネート樹脂では、その反応を促進するために重合触媒を
用いるため、重合反応後にも重合触媒が残存することが
多い。この残存した触媒を重合反応終了後、そのまま放
置すると重合触媒の触媒活性により芳香族ポリカーボネ
ート樹脂の分解や再反応が起こる弊害がある。更にかか
る残存触媒活性のある芳香族ポリカーボネート樹脂と酸
化チタンとの芳香族ポリカーボネート樹脂組成物ではそ
の影響が拡大される上に、白色度の低下や衝撃強度の低
下等の新たな問題が発生する。

【００２６】本発明ではかかる残存触媒活性を抑制する
必要がある。残存触媒活性を抑制する指標として残存触
媒活性指数を用いて、以下の要領で測定する。測定機器
として、測定対象となるサンプルの溶融粘度範囲の測定
が可能な回転型のレオメーターを使用し、サンプルが外
部の酸素により酸化しないよう、十分な窒素気流中、測
定する樹脂が溶融する一定温度の条件下で、サンプルを
一定方向かつ一定の角速度で回転させ、その際の溶融粘
度変化を観察する。サンプルを測定する際の粘弾性測定
器の治具は、サンプル全体の歪みが一定となるよう、す
なわち剪断速度が一定となるよう円錐円板形のものを使
用する。即ち、下記式（ｉ）により計算した１分間当た
りの溶融粘度変化を残存触媒活性指数とした。

【００２７】

【数１】

【００２８】この残存触媒活性指数は、２％以下であ
り、好ましくは１％以下、更に好ましくは０．５％以
下、最も好ましくは０．２％以下である。残存触媒活性
指数がこの範囲を越えると芳香族ポリカーボネート樹脂
が経時変化して好ましくない。

【００２９】芳香族ポリカーボネート樹脂の分子量は、
粘度平均分子量（Ｍｖ）で１２，０００〜３０，０００
が好ましく、１４，０００〜２７，０００がより好まし
く、１５，０００〜２５，０００が特に好ましい。かか
る粘度平均分子量を有する芳香族ポリカーボネート樹脂
は、組成物として十分な強度が得られ、また、成形時の
溶融流動性も良好であり成形歪みが発生せず好ましい。
本発明でいう粘度平均分子量は塩化メチレン１００ｍＬ
にポリカーボネート樹脂０．７ｇを２０℃で溶解した溶
液から求めた比粘度（ηsp）を次式に挿入して求めたも
のである。 ηsp／ｃ＝［η］＋０．４５×［η］²ｃ（但し［η］
は極限粘度） ［η］＝１．２３×１０^-4Ｍｖ^0.83 ｃ＝０．７

【００３０】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物に用いる酸化チタンとしては、製造方法および結晶構
造によって特に限定されるものではないが、塩素法によ
り製造され、ルチル形の結晶構造をとる酸化チタンが好
ましい。また、使用される酸化チタンの平均粒子径とし
ては、特に限定されるものではないが、０．０１〜０．
５μｍのものが好ましく、０．１〜０．３μｍのものが
特に好ましい。また、本発明の目的を損なわない範囲
で、通常酸化チタンの表面処理剤として使用される処理
剤であらかじめ処理されていても構わない。かかる処理
剤としては、例えばアルミナおよびシリカが挙げられ、
各々単独で使用しても、併用して使用しても構わない。
またそれら表面処理剤中には、本発明を阻害しない程度
の量で有機分散剤や安定剤等が含まれていてもよい。

【００３１】また本発明に使用する酸化チタンは、シリ
コン系化合物により表面処理されたものが好ましい。シ
リコン系化合物としては、アルキルポリシロキサン、ア
ルキルアリールポリシロキサン、アルキルハイドロジェ
ンポリシロキサンなどのシロキサン類及びアルキルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ンなどのシランカップリング剤などが挙げられる。特に
好ましい表面処理剤として、アルキルハイドロジェンポ
リシロキサン、アルキルハイドロジェンポリシクロシロ
キサンなどのポリオルガノ水素シロキサンが挙げられ
る。

【００３２】上記酸化チタンとポリオルガノ水素シロキ
サンは、そのままの状態でポリカーボネート樹脂に配合
することができるが、本発明の効果の面から、予めポリ
オルガノ水素シロキサンで酸化チタンの表面処理を行っ
た後、該表面処理酸化チタンをポリカーボネート樹脂に
混合することが好ましい。

【００３３】表面処理の方法としては一般的に、湿式法
と乾式法が挙げられ、湿式法の場合、ポリオルガノ水素
シロキサンと低沸点溶剤の混合溶液に、酸化チタンを加
え、攪拌後、脱溶媒を行う。その後、更に１００〜３０
０℃で熱処理してもよい。また、乾式法の場合は、酸化
チタンとポリオルガノ水素シロキサンをヘンシェルミキ
サー、スーパーミキサー、Ｖ型タンブラーなどの混合機
中で混合するか、ポリオルガノ水素シロキサン有機溶液
を酸化チタンに噴霧して付着させ、更に１００〜３００
℃で熱処理してもよい。

【００３４】また、該ポリオルガノ水素シロキサン表面
処理酸化チタンのポリオルガノ水素シロキサン反応付加
率は、３５％以上である事が好ましい。ポリオルガノ水
素シロキサン反応付加率は、ポリオルガノ水素シロキサ
ンにて表面処理された酸化チタンのＦＴ−ＩＲを測定す
る事により、Ｓｉ−Ｈピーク（２，２００ｃｍ^-1付近）
の吸光度を求め、ブランク（該表面処理に用いたポリオ
ルガノ水素シロキサン）との対比により反応率を算出し
た値のことである。

【００３５】また、好ましい表面処理剤としてトリメチ
ルシロキシシリケートが挙げられる。トリメチルシロキ
シシリケートは、ガラス中のナトリウムをトリメチルシ
リル基で置換したもので、下記一般式（１）に示す化学
構造を有するものである。

【００３６】

【化１】

【００３７】［ここで、Ｘ＝１〜３、Ｙ＝０．５〜８］
上記酸化チタンを前記トリメチルシロキシシリケートで
表面処理を施すに際し、トリメチルシロキシシリケート
はそのものが固形物であるため、また酸化チタン表面へ
の被覆をより均一にするために、このトリメチルシロキ
シシリケートを適当な溶媒、例えば比較的低分子量のメ
チルポリシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサ
ン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、ｎ−ヘキサ
ン、イソプロピルアルコール、塩化メチレン、１，１，
１−トリクロロエタン、あるいはこれらの溶媒の混合物
等に溶解させた溶液を使用することが好ましい。溶媒に
より溶解希釈された溶液は市場より容易に入手すること
ができる、例えば信越化学工業（株）より市販されてい
るＫＦ７３１２Ｊ（溶媒：デカメチルシクロペンタシロ
キサン）、ＫＦ７３１２Ｆ（溶媒：オクタメチルシクロ
テトラシロキサン）、ＫＦ７３１２Ｋ（溶媒：低粘度メ
チルポリシロキサン）、また東レ・ダウコーニング・シ
リコーン（株）より市販されているＢＹ１１−０１８
（溶媒：デカメチルシクロペンタシロキサン）、ＤＣ５
９３（溶媒：低粘度メチルポリシロキサン）等が挙げら
れる。

【００３８】上記酸化チタンを前記トリメチルシロキシ
シリケートで表面処理する方法として、トリメチルシロ
キシシリケートが溶解している前記溶液中に酸化チタン
を添加混合した後に、加熱あるいは減圧することによっ
て溶媒のみを蒸発除去して表面処理を施す方法、また
は、酸化チタンを高速攪拌装置（ヘンシェルミキサー
等）で強攪拌中に、トリメチルシロキシシリケートが溶
解する前記溶液を滴下あるいはスプレー噴霧し、加熱あ
るいは減圧することによって溶媒のみを蒸発除去して表
面処理を施す方法等がある。いずれの方法に際しても、
酸化チタン表面に存在する活性点と前記トリメチルシロ
キシシリケートを反応させ、またトリメチルシロキシシ
リケート同士を架橋重合させ酸化チタン表面を被覆する
ために、２〜１５時間、１００〜２５０℃にて高温加熱
処理を行って十分に酸化チタンの活性点を失活させると
ともに、前記トリメチルシロキシシリケートの低分子量
物を除去することによって、より表面処理を安定化させ
ることは非常に有効である。

【００３９】また、好ましい表面処理剤として下記一般
式（２）で示されるポリシロキサンが使用される。

【００４０】

【化２】

【００４１】［式中、Ｒ¹はアルキル基好ましくは炭素
原子数１〜１５のアルキル基、アリール基好ましくは炭
素原子数６〜１５のアリール基、アルコキシル基好まし
くは炭素原子数１〜１５のアルコキシル基または−Ｒ²
−Ｒ³もしくは−Ｒ²−ＣＨ（ＣＨ₃）Ｒ³（但し、Ｒ²は
アルキレン基好ましくはメチレン基、エチレン基または
プロピレン基、Ｒ³はアリール基好ましくはフェニル基
を示す。）、ｎおよびｍは正の整数であり、１０≦ｍ＋
ｎ≦１０００好ましくは２０≦ｍ＋ｎ≦８００であ
る。］上記一般式（２）で表されるポリシロキサンの中
で、特に好ましいものとしては、下記一般式（３）〜
（６）に示すポリシロキサンが挙げられる。

【００４２】

【化３】

【００４３】

【化４】

【００４４】

【化５】

【００４５】

【化６】

【００４６】上記酸化チタンを前記ポリシロキサンで表
面処理を施すに際し、ポリシロキサンの酸化チタン表面
への被覆をより均一にするために、このポリシロキサン
を適当な溶媒、例えば比較的低分子量のメチルポリシロ
キサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、オクタメ
チルシクロテトラシロキサン、ｎ−ヘキサン、イソプロ
ピルアルコール、塩化メチレン、１，１，１−トリクロ
ロエタン、あるいはこれらの溶媒の混合物等に溶解させ
た溶液を使用することができる。

【００４７】かかる酸化チタンをポリシロキサンで表面
処理する方法として、前記ポリシロキサンが溶解してい
る溶液中に酸化チタンを添加混合した後に溶媒のみを蒸
発除去して表面処理を施す方法、または酸化チタンを高
速攪拌装置（ヘンシェルミキサー等）で強攪拌中に、ポ
リシロキサンの溶液あるいはポリシロキサンそのものを
滴下あるいはスプレー噴霧し、加熱あるいは減圧するこ
とによって溶媒のみを蒸発除去して表面処理を施す方法
等がある。いずれの方法に際しても、酸化チタン表面に
存在する活性点と前記ポリシロキサンを反応させ、また
ポリシロキサン同士を架橋させ酸化チタン表面を被覆す
るために、１５０〜３００℃、好ましくは２００〜２８
０℃にて２〜１５時間程度高温加熱処理を行って十分に
酸化チタンの活性点を失活させるとともに、前記ポリシ
ロキサンの低分子量物を除去することによって、表面処
理を安定化させることが必要である。

【００４８】前記シリコン化合物の表面処理量は、酸化
チタン１００重量部に対して、０．０１〜３０重量部が
好ましく、０．１〜２０重量部がより好ましく、１〜１
０重量部が特に好ましい。

【００４９】本発明における酸化チタンの配合割合は、
芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、
０．１〜１００重量部、好ましくは１〜５０重量部であ
る。酸化チタンの配合量が、０．１重量部未満では、十
分な白色度を有する樹脂組成物が得られず、１００重量
部を越えると芳香族ポリカーボネート樹脂の分子量の低
下や物性特に衝撃強度の低下が起こり、更に白色度も低
下する。

【００５０】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物には、成形時における分子量の低下や色相の悪化を防
止するために熱安定剤を配合することができる。かかる
熱安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、
ホスホン酸およびこれらのエステル等が挙げられ、具体
的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフ
ェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファ
イト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホ
スファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオ
クチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノ
フェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファ
イト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチ
ルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトー
ルジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、
ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスフ
ァイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ
ル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリ
ルペンタエリスリトールジホスファイト、トリブチルホ
スフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホス
フェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノ
オルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、
ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェー
ト、４，４’−ビフェニレンジホスホスフィン酸テトラ
キス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）、ベン
ゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチ
ル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル等が挙げられる。な
かでも、トリスノニルフェニルホスファイト、トリメチ
ルホスフェート、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルフェニル）ホスファイトおよびベンゼンホスホン酸ジ
メチルが好ましく使用される。これらの熱安定剤は、単
独でもしくは２種以上混合して用いてもよい。かかる熱
安定剤の配合量は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００
重量部に対して０．０００１〜１重量部が好ましく、
０．０００５〜０．５重量部がより好ましく、０．００
１〜０．１重量部が更に好ましい。

【００５１】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物には、酸化防止の目的で通常知られた酸化防止剤を配
合することもできる。かかる酸化防止剤としては、例え
ばペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプ
ロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３
−ラウリルチオプロピオネート）、グリセロール−３−
ステアリルチオプロピオネート、トリエチレングリコー
ル−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−
４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−
ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー
ト］、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，
５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−
ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベン
ジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシン
ナマイド）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒド
ロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、ト
リス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
ベンジル）イソシアヌレート、４，４’−ビフェニレン
ジホスホスフィン酸テトラキス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル）、３，９−ビス｛１，１−ジメチル
−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝
−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウ
ンデカン等が挙げられる。これら酸化防止剤の配合量
は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して
０．０００１〜０．０５重量部が好ましい。

【００５２】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物には、溶融成形時の金型からの離型性をより向上させ
るために、本発明の目的を損なわない範囲で離型剤を配
合することも可能である。かかる離型剤としては、オレ
フィン系ワックス、シリコーンオイル、オルガノポリシ
ロキサン、一価又は多価アルコールの高級脂肪酸エステ
ル、パラフィンワックス、蜜蝋等が挙げられる。かかる
離型剤の配合量は、Ａ成分の芳香族ポリカーボネート樹
脂１００重量部に対し、０．０１〜２重量部が好まし
い。

【００５３】オレフィン系ワックスとしては、特にポリ
エチレンワックスおよび／または１−アルケン重合体の
使用が好ましくきわめて良好な離型効果が得られる。ポ
リエチレンワックスとしては現在一般に広く知られてい
るものが使用でき、エチレンを高温高圧下で重合したも
の、ポリエチレンを熱分解したもの、ポリエチレン重合
物より低分子量成分を分離精製したもの等が挙げられ
る。また分子量、分岐度等は特に制限されるものではな
いが、分子量としては数平均分子量で１，０００以上が
好ましい。更にポリエチレンワックスをマレイン酸およ
び／または無水マレイン酸で変性したタイプも使用でき
る。１−アルケン重合体としては炭素数５〜４０の１−
アルケンを重合したものが使用でき、更にマレイン酸お
よび／または無水マレイン酸を同時に共重合したタイプ
も使用できる。マレイン酸および／または無水マレイン
酸を同時に共重合したタイプでは摺動性向上効果と共
に、衝撃強度が向上する特徴がある。１−アルケン重合
体の分子量としては数平均分子量で１，０００以上が好
ましい。かかる場合には強度を維持しながら良好な離型
性が得られる。

【００５４】高級脂肪酸エステルとしては、炭素原子数
１〜２０の一価又は多価アルコールと炭素原子数１０〜
３０の飽和脂肪酸との部分エステル又は全エステルであ
るのが好ましい。かかる一価又は多価アルコールと飽和
脂肪酸との部分エステル又は全エステルとしては、ステ
アリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、
ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モノソルビ
テート、ベヘニン酸モノグリセリド、ペンタエリスリト
ールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラス
テアレート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネー
ト、プロピレングリコールモノステアレート、ステアリ
ルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステ
アレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテー
ト、ビフェニルビフェネ−ト、ソルビタンモノステアレ
ート、２−エチルヘキシルステアレート等が挙げられ、
なかでも、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸
トリグリセリド、ペンタエリスリトールテトラステアレ
ートが好ましく用いられる。

【００５５】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物には、本発明の目的を損なわない範囲で、光安定剤を
配合することができる。かかる光安定剤としては、例え
ば２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−オクチル
フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３−ｔｅｒｔ−
ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−
クロロベンゾトリアゾール、２−（５−メチル−２−ヒ
ドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒ
ドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）
フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２，２’−メ
チレンビス（４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェ
ニル）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベン
ゾオキサジン−４−オン）等が挙げられる。かかる光安
定剤の配合量は、芳香族ポリカーボネート樹脂１００重
量部に対して０．０１〜２重量部が好ましい。

【００５６】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物には、本発明の目的を損なわない範囲で、帯電防止剤
を配合することができる。かかる帯電防止剤としては、
例えばポリエーテルエステルアミド、グリセリンモノス
テアレート、ドデシルベンゼンスルホン酸アンモニウム
塩、ドデシルベンゼンスルホン酸ホスホニウム塩、無水
マレイン酸モノグリセライド、無水マレイン酸ジグリセ
ライド等が挙げられる。

【００５７】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物には、本発明の目的が損なわれない量の難燃剤を配合
することができる。難燃剤としては、ハロゲン化ビスフ
ェノールＡのポリカーボネート型難燃剤、有機塩系難燃
剤、芳香族リン酸エステル系難燃剤、あるいは、ハロゲ
ン化芳香族リン酸エステル型難燃剤等があげられ、それ
らを一種以上配合することができる。具体的にハロゲン
化ビスフェノールＡのポリカーボネート型難燃剤は、テ
トラクロロビスフェノールＡのポリカーボネート型難燃
剤、テトラクロロビスフェノールＡとビスフェノールＡ
との共重合ポリカーボネート型難燃剤テトラブロモビス
フェノールＡのポリカーボネート型難燃剤、テトラブロ
モビスフェノールＡとビスフェノールＡとの共重合ポリ
カーボネート型難燃剤等である。具体的に有機塩系難燃
剤は、ジフェニルスルホン−３，３’−ジスルホン酸ジ
カリウム、ジフェニルスルホン−３−スルホン酸カリウ
ム、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホン酸ナトリ
ウム、２，４，５−トリクロロベンゼンスルホン酸カリ
ウム、ビス（２，６−ジブロモ−４−クミルフェニル）
リン酸カリウム、ビス（４−クミルフェニル）リン酸ナ
トリウム、ビス（ｐ−トルエンスルホン）イミドカリウ
ム、ビス（ジフェニルリン酸）イミドカリウム、ビス
（２，４，６−トリブロモフェニル）リン酸カリウム、
ビス（２，４−ジブロモフェニル）リン酸カリウム、ビ
ス（４−ブロモフェニル）リン酸カリウム、ジフェニル
リン酸カリウム、ジフェニルリン酸ナトリウム、パーフ
ルオロブタンスルホン酸カリウム、ラウリル硫酸ナトリ
ウムあるいはカリウム、ヘキサデシル硫酸ナトリウムあ
るいはカリウム等である。具体的にハロゲン化芳香族リ
ン酸エステル型難燃剤は、トリス（２，４，６−トリブ
ロモフェニル）ホスフェート、トリス（２，４−ジブロ
モフェニル）ホスフェート、トリス（４−ブロモフェニ
ル）ホスフェート等である。具体的に芳香族リン酸エス
テル系難燃剤は、トリフェニルホスフェート、トリス
（２，６−キシリル）ホスフェート、テトラキス（２，
６−キシリル）レゾルシンジホスフェート、テトラキス
（２，６−キシリル）ヒドロキノンジホスフェート、テ
トラキス（２，６−キシリル）−４，４’−ビフェノー
ルジホスフェート、テトラフェニルレゾルシンジホスフ
ェート、テトラフェニルヒドロキノンジホスフェート、
テトラフェニル−４，４’−ビフェノールジホスフェー
ト、芳香環ソースがレゾルシンとフェノールでありフェ
ノール性ＯＨ基を含まない芳香族ポリホスフェート、芳
香環ソースがレゾルシンとフェノールでありフェノール
性ＯＨ基を含む芳香族ポリホスフェート、芳香環ソース
がヒドロキノンとフェノールでありフェノール性ＯＨ基
を含まない芳香族ポリホスフェート、同様のフェノール
性ＯＨ基を含む芳香族ポリホスフェート、（以下に示す
「芳香族ポリホスフェート」は、フェノール性ＯＨ基を
含む芳香族ポリホスフェートと含まない芳香族ポリホス
フェートの両方を意味するものとする）芳香環ソースが
ビスフェノールＡとフェノールである芳香族ポリホスフ
ェート、芳香環ソースがテトラブロモビスフェノールＡ
とフェノールである芳香族ポリホスフェート、芳香環ソ
ースがレゾルシンと２，６−キシレノールである芳香族
ポリホスフェート、芳香環ソースがヒドロキノンと２，
６−キシレノールである芳香族ポリホスフェート、芳香
環ソースがビスフェノールＡと２，６−キシレノールで
ある芳香族ポリホスフェート、芳香環ソースがテトラブ
ロモビスフェノールＡと２，６−キシレノールである芳
香族ポリホスフェート等である。

【００５８】これらの難燃剤の中で、ハロゲン化ビスフ
ェノールＡのポリカーボネート型難燃剤として、テトラ
ブロモビスフェノールＡのポリカーボネート型難燃剤、
テトラブロモビスフェノールＡとビスフェノールＡとの
共重合ポリカーボネートが好ましく、更にテトラブロモ
ビスフェノールＡのポリカーボネート型難燃剤が好まし
い。有機塩系難燃剤としてはジフェニルスルホン−３，
３’−ジスルホン酸ジカリウム、ジフェニルスルホン−
３−スルホン酸カリウム、２，４，５−トリクロロベン
ゼンスルホン酸ナトリウムが好ましい。芳香族リン酸エ
ステル系難燃剤としては、トリフェニルホスフェート、
トリクレジルフスフェート、クレジルジフェニルホスフ
ェート、レズルシノールビス（ジキシレニルホスフェー
ト）、ビス（２，３ジブロモプロピル）ホスフェート、
トリス（２，３ジブロモプロピル）ホスフェートが好ま
しい。これらの中でも、オゾン層破壊しない芳香族リン
酸エステル系難燃剤であるトリフェニルホスフェート、
トリクレジルフスフェート、レズルシノールビス（ジキ
シレニルホスフェート）が最も好ましい。

【００５９】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物には、他の樹脂やエラストマーを本発明の目的が損な
われない範囲で、すなわち極めて少割合であれば配合す
ることもできる。

【００６０】かかる他の樹脂としては、例えばポリエチ
レンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等の
ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、
ポリエーテルイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリフェ
ニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、
ポリスルホン樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン等の
ポリオレフィン樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニト
リル／スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）、アクリロニトリ
ル／ブタジエン／スチレン共重合体（ＡＢＳ樹脂）、ポ
リメタクリレート樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂
等の樹脂が挙げられる。

【００６１】また、エラストマーとしては、例えばイソ
ブチレン／イソプレンゴム、スチレン／ブタジエンゴ
ム、エチレン／プロピレンゴム、アクリル系エラストマ
ー、シリコーンゴム、ポリエステル系エラストマー、ポ
リアミド系エラストマー、コアシェル型のエラストマー
であるＭＢＳ（メタクリル酸メチル／スチレン／ブタジ
エン）ゴム、ＭＡＳ（メタクリル酸メチル／アクリロニ
トリル／スチレン）ゴム等が挙げられる。

【００６２】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組成
物を製造するには、任意の方法が採用される。例えばタ
ンブラー、Ｖ型ブレンダー、スーパーミキサー、ナウタ
ーミキサー、バンバリーミキサー、混練ロール、押出機
等で混合する方法が適宜用いられる。こうして得られる
芳香族ポリカーボネート樹脂組成物は、そのまま又は溶
融押出機で一旦ペレット状にしてから、射出成形法、押
出成形法、圧縮成形法等の通常知られている方法で成形
品にすることができる。なお、芳香族ポリカーボネート
樹脂への配合成分の分散を高めて安定した離型性や各物
性を得るためには、溶融押出において二軸押出機を使用
するのが好ましい。更に本発明の酸化チタンは直接押出
機ホッパー口あるいは押出機途中から投入する方法、芳
香族ポリカーボネート樹脂と予め混合する方法、一部の
芳香族ポリカーボネート樹脂と予め混合してマスターを
作成し投入する方法、かかるマスターを押出機途中から
投入する方法のいずれの方法も取ることができる。

【００６３】かくして得られた本発明の芳香族ポリカー
ボネート樹脂組成物は、機械的特性、寸法安定性、耐熱
性等に優れ、且つ白色度および光反射特性に優れている
ので液晶表示盤やＬＥＤ（発光ダイオード）の表示盤等
の反射板に有用である。

【００６４】

【実施例】以下に実施例をあげて更に説明する。実施例
中の「部」または「％」は重量部または重量％を示し、
また評価項目および組成物中の各成分の記号は下記の内
容を意味する。

【００６５】（Ｉ）評価項目 （１）残存触媒活性指数 残存触媒活性量は以下のように測定した。サンプルは測
定前に１２０℃、４時間の減圧乾燥を行い測定に供し
た。測定機としてレオメトリックス（株）製ＲＤＡ−Ｉ
Ｉ型粘弾性測定器を使用し、直径２５ｍｍの円錐円板型
の治具を装着し、測定中サンプルの本機器の適正条件を
満足した窒素気流中、測定温度である２７０℃に設定し
た。測定温度はオーブン内の温度を測定することにより
設定した。その後乾燥した測定用サンプルをセットし、
サンプル全体が十分に測定温度となるよう静置の後、そ
の後角速度１ｒａｄ／秒の回転をすることで測定を開始
し、これを３０分間続け、その間の溶融粘度の変化を観
察した。この測定より回転開始後５分後及び３０分後の
溶融粘度を求め、それらの値を下記式（ｉ）より計算す
ることにより、１分間当たりの溶融粘度変化を残存触媒
活性指数として表した。

【００６６】

【数２】

【００６７】（２）末端水酸基濃度 サンプル０．０２ｇを０．４ｍｌのクロロホルムに溶解
し、２０℃で１Ｈ−ＮＭＲ（日本電子社製ＥＸ−２７
０）を用いて末端水酸基および末端フェニル基を測定
し、下記式（ii）により末端水酸基濃度を測定した。 末端水酸基濃度（モル％）＝（末端水酸基数／全末端数）×１００ …（ii）

【００６８】（３）粘度平均分子量 粘度平均分子量（Ｍｖ）は、塩化メチレンに２０℃で
０.７ｇ／ｄｌの濃度で溶解した溶液から求めた比粘度
ηｓｐを前述の式に挿入して求めた。

【００６９】（４）ノッチ付衝撃強度 ＡＳＴＭ Ｄ２５６により厚み１／８”の試験片を用い
ノッチ側からおもりを衝撃させ衝撃値を測定した（ｋｇ
ｆ・ｃｍ／ｃｍ）。

【００７０】（５）色相 カラーマシン［東京電色（株）製カラーコンピュター
ＴＣ−１８００ＭＫII］により厚さ２ｍｍの見本板のＬ
値、ａ値、ｂ値を測定し、下記式（iii）より白色度を
求めた。 白色度（Ｗ）＝１００−［（１００−Ｌ）²＋ａ²＋ｂ²］^1/2 …（iii）

【００７１】（II）組成物中の各成分の記号 （ａ）芳香族ポリカーボネート樹脂 ＥＸ−ＰＣ ［参照例１］本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂の製
造 撹拌機及び蒸留塔を備えた反応器に２，２−ビス（４−
ヒドロキシフェニル）プロパン２２８部（約１モル）、
ジフェニルカーボネート（バイエル社製）２２０部（約
１．０３モル）及び触媒として水酸化ナトリウム０．０
０００２４部（約６×１０^-7モル／ビスフェノールＡ１
モル）とテトラメチルアンモニウムヒドロキシド０．０
０７３部（約８×１０^-5モル／ビスフェノールＡ１モ
ル）を仕込み、窒素置換した。この混合物を２００℃ま
で加熱して撹拌しながら溶解させた。次いで、減圧度を
３０Ｔｏｒｒとして加熱しながら１時間で大半のフェノ
ールを留去し、更に２７０℃まで温度を上げ、減圧度を
１Ｔｏｒｒとして２時間重合反応を行ったところで、末
端停止剤として２−メトキシカルボニルフェニルフェニ
ルカーボネート３．１部を添加した。その後２７０℃、
１Ｔｏｒｒ以下で５分間末端封鎖反応を行った。次に溶
融状態のままで、触媒中和剤としてドデシルベンゼンス
ルホン酸テトラブチルホスホニウム塩０．００３５部
（約６×１０^-6モル／ビスフェノールＡ１モル）添加し
て２７０℃、１０Ｔｏｒｒ以下で反応を継続し、粘度平
均分子量２３３００、末端水酸基濃度５モル％、残存触
媒活性指数０．０１％の芳香族ポリカーボネート樹脂を
得た。この芳香族ポリカーボネート樹脂をギアポンプで
エクストルーダーに送った。エクストルーダー途中でト
リスノニルフェニルホスファイトを０．００３重量％、
トリメチルホスフェートを０．０５重量％加え、芳香族
ポリカーボネート樹脂ペレットを得た。

【００７２】ＣＥＸ−ＰＣ ［参照例２］比較のための芳香族ポリカーボネート樹脂
の製造 末端停止剤として２−メトキシカルボニルフェニルフェ
ニルカーボネート及び触媒失活剤としてドデシルベンゼ
ンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩を用いない以
外は参照例１と同様な条件で芳香族ポリカーボネート樹
脂を製造した。尚、この芳香族ポリカーボネート樹脂の
粘度平均分子量２３０００、末端水酸基濃度５２モル
％、残存触媒活性指数２．５であった。

【００７３】（ｂ）酸化チタン ［参照例３］酸化チタンの表面処理（１） 表２記載のメチルハイドロジェンポリシロキサン（Ｓｉ
−１）２重量部と塩化メチレン１８重量部を混合し、該
メチルハイドロジェンポリシロキサンの塩化メチレンに
よる１０％希釈溶液を調整した。この希釈溶液中に表１
記載の酸化チタン（ＴｉＯ₂Ａ）を１００重量部添加し
て、２時間にわたって混合した後、塩化メチレンを蒸発
除去し、その後２００℃に加熱し約６時間放置し、該メ
チルハイドロジェンポリシロキサン（Ｓｉ−１）で表面
処理が施された酸化チタンＴｉ−１を得た。また、得ら
れた該表面処理酸化チタンのメチルハイドロジェンポリ
シロキサン反応付加率は４５％であった。

【００７４】［参照例４］酸化チタンの表面処理（２） 表２記載のポリシロキサン（Ｓｉ−２）１０重量部と塩
化メチレン１０重量部を混合し、該ポリシロキサンの塩
化メチレンによる５０％希釈溶液を調整した。この希釈
溶液中に表１記載の酸化チタン（ＴｉＯ₂Ａ）を１００
重量部添加して、２時間にわたって混合した後、塩化メ
チレンを蒸発除去し、その後２３０℃に加熱し約６時間
放置し、該ポリシロキサン（Ｓｉ−２）で表面処理が施
された酸化チタンＴｉ−２を得た。

【００７５】［参照例５］酸化チタンの表面処理（３） 表３記載のトリメチルシロキシシリケート溶液（Ｓｉ溶
液）４重量部と塩化メチレン３６重量部を混合し、トリ
メチルシロキシシリケートを２重量部含有する希釈溶液
を調整する。この希釈溶液中に表１記載の酸化チタン
（ＴｉＯ₂Ａ）を１００重量部添加して、２時間にわた
って混合した後、塩化メチレンおよびデカメチルシクロ
ペンタシロキサンを蒸発除去し、その後１５０℃に加熱
し約６時間放置し、トリメチルシロキシシリケートで表
面処理が施された酸化チタンＴｉ−３を得た。

【００７６】［実施例１〜５、比較例１〜５］上述の参
照例で得られた芳香族ポリカーボネート樹脂及び表４記
載の各成分を、タンブラーを使用して均一に混合した
後、径３０ｍｍφベント式二軸押出機［神戸製鋼（株）
製ＫＴＸ−３０］により、シリンダー温度２７０℃、１
０ｍｍＨｇの真空度で脱気しながらペレット化した。得
られたペレットを１２０℃の熱風循環式乾燥機により５
時間乾燥した後、射出成形機［住友重機械工業（株）製
ＳＧ１５０Ｕ］を使用して、シリンダー温度２８０℃、
金型温度８０℃の条件で試験片および見本板を作成し、
成形品の粘度平均分子量、衝撃強度、色相を測定した。
その結果を表４に示した。

【００７７】表４から明らかな如く本発明の実施例であ
る残存触媒活性指数を有する芳香族ポリカーボネート樹
脂と酸化チタンからなる芳香族ポリカーボネート樹脂組
成物は、比較例の残存触媒活性が残っている芳香族ポリ
カーボネート樹脂を用いたものに比較して、酸化チタン
を含有した樹脂組成物が本来期待される白色度が優る上
に、更に熱安定性、衝撃強度に優れている。

【００７８】

【表１】

【００７９】

【表２】

【００８０】

【表３】

【００８１】

【表４】

【００８２】

【発明の効果】本発明の芳香族ポリカーボネート樹脂組
成物は、芳香族ポリカーボネート樹脂が本来有する特性
を生かし、且つ酸化チタンを加えることで白色度等の光
学的特性を向上させた上、熱安定性および衝撃強度に優
れた芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を提供すること
が可能である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 4J002 CG011 CG021 CG031 DE136 4J029 AA09 AB01 AB07 AC01 AC02 AD10 AE01 BB05A BB06A BB10A BB12A BB12B BB13A BB13B BC05A BC06A BD09A BD09B BE05A BE07 BF14A BF19 BG05X BG08X BG08Y BH02 DB07 DB10 DB13 HC02 HC03 HC04A HC05A HC05B JA093 KE05

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 （Ａ）残存触媒活性指数が２％以下であ
   り、且つ二価フェノールとカーボネート前駆体とを溶融
   法で反応させて得られた芳香族ポリカーボネート樹脂１
   ００重量部および（Ｂ）酸化チタン０．１〜１００重量
   部からなる芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。
2. 【請求項２】 カーボネート前駆体がジフェニルカーボ
   ネートである請求項１記載の芳香族ポリカーボネート樹
   脂組成物。
3. 【請求項３】 酸化チタンがシリコン系化合物で表面処
   理された酸化チタンである請求項１又は２のいずれか１
   項記載の芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。