JP2000159833A - 放射線硬化性組成物 - Google Patents

放射線硬化性組成物

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JP2000159833A JP11332998A JP33299899A JP2000159833A JP 2000159833 A JP2000159833 A JP 2000159833A JP 11332998 A JP11332998 A JP 11332998A JP 33299899 A JP33299899 A JP 33299899A JP 2000159833 A JP2000159833 A JP 2000159833A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 不活性ガスによる保護を必要とすることな
く、湿った空気中で良好な硬化速度を有する放射線硬化
性組成物を与える。 【解決手段】 (A) 式(CH2=CHOR)aCR2
4-a(式中、Rは1〜20個の炭素原子を有する二価の
炭化水素基であり、R2は、水素、又は1〜20個の炭
素原子を有する一価炭化水素基から選択され、aは1〜
3の値を有する)を有する、珪素原子を含まないビニル
エーテル化合物、(B)陽イオン性光開始剤、(C)遊
離基光開始剤、及び(D)ドデシルフェノール、を含む
放射線硬化性組成物。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、珪素原子を含まな
いビニルエーテル化合物、陽イオン性光開始剤、遊離基
光開始剤、及びドデシルフェノールを含む放射線硬化性
組成物を与える。本発明の放射線硬化性組成物は、被覆
工業で多くの用途に対する可能性を持つ薄層フイルムを
被覆するのに有用である。
【0002】
【従来の技術】被覆用途又は接着剤用途のための放射線
硬化性組成物の硬化速度は、その組成物の有効性を決定
する非常に重要な因子である。遊離基硬化系に伴う問題
は、酸素の存在下でそれらが阻止され、そのためこれら
の系は、充分な硬化速度を確実に与えるためには、コス
トがかかる不活性ガス設備を必要とすることである。一
方、陽イオン性硬化系は酸素による阻止問題を起こさな
いが、水分に敏感な問題を有し、即ち、硬化速度が空気
相対湿度の増大と共に低下する。
【0003】オニウム塩開始剤の存在下でビニルエーテ
ルが陽イオン性紫外線開始光重合することは文献でよく
知られている。米国特許第5,010,118号明細書
には、ポリアリールヨードニウム塩、エポキシシリコー
ン、及びアルカンジオールと組合せて有機フェノールを
用い、硬化性混合物を形成することが記載されている。
特に、紫外線に照射すると硬化する混合物を形成するた
めに、エポキシシリコーン、ジアリールヨードニウム又
はトリアリールスルホニウム塩から選択された少なくと
も8個の炭素原子を有する少なくとも一つの核結合アル
コキシ基で置換されたポリアリールヨードニウムヘキサ
フルオロ金属又はメタロイド塩、8〜20個の炭素原子
のアルキルフェノールと4〜12個の炭素原子のアルカ
ンジオールとの混合物である相容性化剤を用いることが
教示されている。
【0004】米国特許第4,108,747号明細書に
は、エポキシド、ビニルエーテル又はN−ビニル化合物
のような陽イオン性重合可能基と組合せたアリールオニ
ウム塩が紫外線照射により重合することができることが
記載されている。種々の陽イオン性重合可能材料のため
の光開始剤として強有機酸から誘導された陰イオンを有
する或るトリフェニルスルホニウム又はジフェニルヨー
ドニウム塩を使用することが記載されている。陽イオン
性重合可能有機材料は、効果的な量の一般式、[(Ra)
(R1)b(R2)cS]+(XSO3)-又は[(R3)d(R4)3
I]+(XSO3) -のトリアリールオニウム塩と組合せ
て、エポキシ樹脂、ビニル有機単量体、ビニル有機プレ
ポリマー、環式有機エーテル、環式有機エステル、環式
有機スルフィド、環式アミン、又は有機珪素環式化合物
から選択することができる。
【0005】ネルソン(Nelson)、カーター(Carter)及び
スクラントン(Scranton)は、The Journal of Polymer.
Ssience.: Part A: Polymer Chemistry, Vol. 33, 247-
256(1995)に、一般にDVE−3として言及されている
ジビニルエーテル、3,6,9,12−テトラオキサテ
トラデカ−1,13−ジエンの光重合で、ヨードニウム
塩、ヘキサフルオロアンチモン酸ビス(4−ドデシルフ
ェニル)ヨードニウムをアントラセンで感光性化するこ
とを記述している。
【0006】チバ・ギガ社(Ciba-Giga Corporation)
は、Photoinitiator for UV Curing,A Formulapor's Gu
ide (p. 13)で、陽イオン性光開始剤イグラキュアー(Ig
racure)(登録商標名)261、(η5−2,4−シクク
ペンタジエン−1−イル)[(1,2,3,4,5,6
−η)−(1−メチルエチル)ベンゼン]−鉄(+)−
ヘキサフルオロホスフェート(−1)を用いた場合、増
感剤を使用することを推奨している。
【0007】EP 0522703で、エックバーグ(E
ckberg)は、4−ドデシルフェノールのような反応性フ
ェノールを、単独で、又はエポキシ官能性有機化合物、
好ましくは1,2−エポキシドデカンと組合せ、更にヨ
ードニウム光触媒のための希釈剤としてベンゾフェノン
又はジアリールケトン誘導体である光増感剤を含有させ
て用いることを教示している。これらの組成物は、剥離
性被覆として有用なエポキシ官能性シリコーンを光重合
するのに有用である。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上に記載した組成物と
は対照的に、本発明は、不活性ガスによる保護を必要と
することなく、湿った空気中でも良好な硬化速度を有す
る放射線硬化性組成物を与える。
【0009】本発明は、珪素原子を含まないビニルエー
テル化合物、陽イオン性光開始剤、遊離基光開始剤、及
びドデシルフェノールを含む放射線硬化性組成物を与え
る。
【0010】また、本発明は、被覆組成物として有用な
放射線硬化性組成物を与える。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明の放射線硬化性組
成物は、(A)珪素原子を含まないビニルエーテル化合
物、(B)陽イオン性光開始剤、(C)遊離基光開始
剤、及び(D)ドデシルフェノールを含む。
【0012】
【発明の実施の形態】ここで用いるビニルエーテル化合
物とは、式−ROCH=CH2(式中、Rは2〜20個
の炭素原子を有する二価の炭化水素基である)を有する
少なくとも一つのビニルエーテル基を含むが、珪素原子
を含まない化合物を意味する。
【0013】従って、成分(A)は、エチルビニルエー
テル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、イソブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテ
ル、オクタデシルビニルエーテル、エチレングリコール
モノビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエ
ーテル、ブタンジオールモノビニルエーテル、ブタンジ
オールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエ
ーテル、エチレングリコールブチルビニルエーテル、ト
リエチレングリコールメチルビニルエーテル、シクロヘ
キサンジメタノールジビニルエーテル、2−エチルヘキ
シルビニルエーテル、ポリ−THF−ジビニルエーテル
290、プルリオール(Pluriol)−E−200−ジビニ
ルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、t−ブチ
ルビニルエーテル、t−アミルビニルエーテル、エチレ
ングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコール
モノビニルエーテル、ヘキサンジオールモノビニルエー
テル、テトラエチレングリコールジビニルエーテル、ト
リメチロールプロパントリビニルエーテル、アミノプロ
ピルビニルエーテル、又は2−ジエチルアミノエチルビ
ニルエーテルから選択される。
【0014】好ましくは成分(A)は、式(CH2=C
HOR)aCR2 4-a(式中、Rは、1〜20個の炭素原
子を有する二価の炭化水素基であり、R2は、水素又は
1〜20個の炭素原子を有する一価炭化水素基から選択
され、aは、1〜3の値を有する)を有するビニルエー
テル化合物である。
【0015】Rとして適切な二価の炭化水素基の例は、
エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、トリメ
チレン、2−メチルトリメチレン、ペンタメチレン、ヘ
キサメチレン、3−エチルヘキサメチレン、オクタメチ
レン、−CH2(CH3)CH−、−CH2CH(CH3)C
2−、−(CH2)18−のようなアルキレン基、及びシ
クロヘキシレンのようなシクロアルキレン基、フェニレ
ンのようなアリーレン基、ベンジレンのような二価の炭
化水素基の組合せである。二価の炭化水素基としては、
二価のハロ炭化水素基も含まれ、適切な二価のハロ炭化
水素基の例には、一つ以上の水素原子が、フッ素、塩
素、又は臭素のようなハロゲンにより置換されている二
価の炭化水素基、例えば、CH2CH2CF2CF2CH2
CH2−が挙げられる。各Rは希望に従い、同じでも異
なっていてもよい。
【0016】R2として適切な一価炭化水素基の例は、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ヘキシル、オクチ
ル、デシル、ドデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、
及びオクタデシルのようなアルキル基、シクロヘキシル
のような脂環式基、フェニル、トリル及びキシリルのよ
うなアリール基、ベンジル及びフェニルエチルのような
アラルキル基、及びビニル、アリル、メタリル、ブテニ
ル、ヘキセニル、オクテニル、シクロヘキセニル及びス
チリルのようなオレフィン系炭化水素基である。アルケ
ニル基は、末端が不飽和であるのが好ましい。一価炭化
水素基は、その水素原子の少なくとも一つが、フッ素、
塩素、又は臭素のようなハロゲンで置換されている上で
述べたどのような一価炭化水素基でもよく、これらの一
価炭化水素基の例は、CF3CH2CH2−及びC49
2CH2−である。各R2基は、希望に従い同じでも異
なっていてもよい。
【0017】好ましくは、Rは、式、−(CH2)b
(式中、bは1〜20の値を有する)を有するアルキレ
ン基であり、dは1の値を有し、R2は水素である。
【0018】上に記載したビニルエーテル化合物を、2
0〜99重量%用いるのが好ましく、この化合物の85
〜90重量%を用いるのが最も好ましい。前記重量%
は、放射線硬化性組成物の全重量に基づいている。
【0019】本発明の組成物中の成分(B)は、陽イオ
ン性光開始剤である。適当な陽イオン性光開始剤は、オ
ニウム塩、スルホン酸のジアリールヨードニウム塩、ス
ルホン酸のトリアリールスルホニウム塩、ボロン酸(bor
onic acid)のジアリールヨードニウム塩、又はボロン酸
のトリアリールスルホニウム塩から選択される。
【0020】オニウム塩は、R3 2+MXn -、R3 3+
n -、R3 3Se+MXn -、R3 4+MXn -、又はR3 4+
MXn -(式中、各R3は1〜30個の炭素原子を有する
有機基であり、例えば、6〜20個の炭素原子を有する
芳香族炭素環式基である)から選択されるのが好まし
い。各R3は、1〜4個の一価炭化水素基、例えば、1
〜8個の炭素原子を有するアルコキシ基、1〜8個の炭
素原子を有するアルキル基、ニトロ、クロロ、ブロモ、
シアノ、カルボキシル、メルカプト、又は芳香族複素環
式基(例えば、ピリジル、チオフェニル、及びピラニ
ル)で置換されていてもよい。上記式中の記号Mは金属
又はメタロイドであり、それには遷移金属が含まれ、例
えばSb、Fe、Sn、Bi、Al、Ga、In、T
i、Zr、Sc、V、Cr、Mn、Cs、稀土類金属、
例えば、ランタニド(例えばCd、Pr及びNd)及び
メタロイド(例えばB、P及びAs)が含まれる。MX
n-は非塩基性非求核性陰イオン、例えば、BF4 -、PF
6 -、AsF6 -、SbF6 -、SbCl 6 -、HSO4 -、Cl
4 -、FeCl4 =、SnCl6 -及びBiCl5 =である。
【0021】好ましいオニウム塩の例は、ビスジアリー
ルヨードニウム塩、例えば、ヘキサフルオロ砒酸ビス
(ドデシルフェニル)ヨードニウム、ヘキサフルオロア
ンチモン酸ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウム、及
びヘキサフルオロアンチモン酸ジアルキルフェニルヨー
ドニウムである。
【0022】スルホン酸のジアリールヨードニウム塩、
スルホン酸のトリアリールスルホニウム塩、ボロン酸の
ジアリールヨードニウム塩、及びボロン酸のトリアリー
ルスルホニウム塩は、陽イオン性光開始剤(B)として
も適切である。好ましいスルホン酸のジアリールヨード
ニウム塩は、ペルフルオロアルキルスルホン酸のジアリ
ールヨードニウム塩及びアリールスルホン酸のジアリー
ルヨードニウム塩である。好ましいペルフルオロアルキ
ルスルホン酸のジアリールヨードニウム塩の例は、ペル
フルオロブタンスルホン酸のジアリールヨードニウム
塩、ペルフルオロエタンスルホン酸のジアリールヨード
ニウム塩、ペルフルオロオクタンスルホン酸のジアリー
ルヨードニウム塩、及びトリフルオロメタンスルホン酸
のジアリールヨードニウム塩である。好ましいアリール
スルホン酸のジアリールヨードニウム塩の例は、p−ト
ルエンスルホン酸のジアリールヨードニウム塩、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸のジアリールヨードニウム塩、ベ
ンゼンスルホン酸のジアリールヨードニウム塩、及び3
−ニトロベンゼンスルホン酸のジアリールヨードニウム
塩である。
【0023】好ましいスルホン酸のトリアリールスルホ
ニウム塩は、ペルフルオロアルキルスルホン酸のトリア
リールスルホニウム塩及びアリールスルホン酸のトリア
リールスルホニウム塩である。好ましいペルフルオロア
ルキルスルホン酸のトリアリールスルホニウム塩の例
は、ペルフルオロブタンスルホン酸のトリアリールスル
ホニウム塩、ペルフルオロエタンスルホン酸のトリアリ
ールスルホニウム塩、ペルフルオロオクタンスルホン酸
のトリアリールスルホニウム塩、及びトリフルオロメタ
ンスルホン酸のトリアリールスルホニウム塩である。好
ましいアリールスルホン酸のトリアリールスルホニウム
塩の例は、p−トルエンスルホン酸のトリアリールスル
ホニウム塩、ドデシルベンゼンスルホン酸のトリアリー
ルスルホニウム塩、ベンゼンスルホン酸のトリアリール
スルホニウム塩、及び3−ニトロベンゼンスルホン酸の
トリアリールスルホニウム塩である。
【0024】好ましいボロン酸のジアリールヨードニウ
ム塩及びボロン酸のトリアリールスルホニウム塩は、欧
州特許出願0562922に記載されている。好ましい
ボロン酸のジアリールヨードニウム塩には、ペルハロア
リールボロン酸のジアリールヨードニウム塩が含まれ、
好ましいボロン酸のトリアリールスルホニウム塩は、ペ
ルハロアリールボロン酸のトリアリールスルホニウム塩
である。
【0025】陽イオン性光開始剤(B)の量は、好まし
くは組成物の全重量に基づき0.1〜5重量%であり、
放射線硬化性組成物の全重量に基づき1〜3重量%で用
いるのが極めて好ましい。
【0026】本発明の組成物の成分(C)は遊離基光開
始剤である。本発明の遊離基光開始剤は、ベンゾインア
ルキルエーテルを例とするどのようなベンゾインでもよ
く、ジアルコキシアセトフェノン、ジクロロアセトフェ
ノン、及びトリクロロアセトフェノンを例とするアセト
フェノン、ベンジルケタールを例とするベンジル、キノ
ン、及びO−アシル化−α−オキシミノケトンでもよ
い。好ましくは、遊離基光開始剤は、式:
【0027】
【化2】
【0028】(式中、R'は、−H、アルコキシ基、及
びハロゲン原子からなる群から選択され、R''は−O
H、アルコキシ基、及びハロゲン原子からなる群から選
択され、R'''は、−H、アルキル基、及びハロゲン原
子からなる群から選択される。)を有する化合物であ
る。この化合物の好ましい態様は、(i)R'が−Hで
あり、R''が−OHであり、R'''がメチル又はフェニ
ルである場合、(ii)R'が−Hであり、R''がアルコ
キシ基であり、R'''がフェニルである(例えば、ベン
ゾインアルキルエーテル)である場合、(iii)R'と
R''が両方共アルコキシ基であり、R'''がフェニルで
ある(例えば、ベンジルケタールである)場合、(iv)
R'とR''が両方共アルコキシ基であり、R'''が−Hで
ある(例えば、ジアルコキシアセトフェノンである)場
合、及び(v)R'及びR''が両方共−Clであり、
R'''が−Cl又は−Hである(例えば、ジ−及びトリ
−クロロアセトフェノンである)場合である。成分
(C)がダロキュワー(Darocure)(登録商標名)117
3(2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロ
パン−1−オン)であるのが組成物にとって特に好まし
い。
【0029】遊離基光開始剤(C)の量は、組成物の全
重量に基づき0.5〜5重量%であるのが好ましく、放
射線硬化性組成物の全重量に基づき1〜3重量%用いる
のが極めて好ましい。
【0030】本発明の組成物中の成分(D)は、ドデシ
ルフェノールである。ここで用いられる「ドデシルフェ
ノール」とは、式、C122564OHを有する化合物
であるか、又は式、C122564OHを有する化合物
の異性体からなる混合物を意味する。
【0031】ドデシルフェノール(D)の量は、組成物
の全重量に基づき0.5〜10重量%であるのが好まし
く、放射線硬化性組成物の全重量に基づき1〜5重量%
用いるのが極めて好ましい。
【0032】本発明の放射線硬化性組成物は、例えば、
補強用及び増量用充填剤、炭化水素及びハロ炭化水素、
着色剤、染料、保存剤、香料、安定化剤、接着変性剤、
又は希釈剤のような成分を含んでいてもよい。
【0033】本発明の放射線硬化性組成物は、上に記載
した材料及び任意成分を、ヘラ、ドラムローラー、機械
的撹拌器、3本ロールミル、シグマブレード混合機、パ
ン練り機、又は二軸ロールミルのような適当な混合手段
を用いて任意の順序で混合することにより調製すること
ができる。
【0034】本発明は、更に(I)上に記載した成分
(A)−(D)を混合することを含む放射線硬化性組成
物の製造方法にも関する。成分(A)−(D)は、それ
らの好ましい態様及び量を含めて上に記載した通りであ
る。
【0035】本発明は、更に(I)上に記載した成分
(A)−(D)を含む放射性硬化性組成物を固体基体に
適用して被覆を形成し、そして(II)前記被覆を、
(i)化学放射線又は(ii)熱と組合せた化学放射線か
ら選択されたエネルギー源により、前記被覆を硬化する
のに充分な量で照射する、ことを含む物品の製造方法に
も関する。成分(A)−(D)は、それらの好ましい態
様及び量を含めて上に記載した通りである。
【0036】被覆は、塗り広げ、刷毛塗り、押出し、噴
霧、グラビア印刷、キスロール(kiss-roll)及びエアー
ナイフ(air-knife)によるなど、当分野で知られている
どのようなやり方で適用してもよい。
【0037】固体基体は、紙、ポリオレフィンフイル
ム、ポリオレフィン被覆紙、箔のような可撓性シート材
料、木材、ボール紙及び木綿のようなセルロース材料、
アルミニウム、銅、鋼及び銀のような金属材料、ガラス
及び石のような珪酸質材料、及びポリオレフィン、ポリ
アミド、ポリエステル及びポリアクリレートのような合
成重合体材料にすることができる。形態に関し、固体基
体は、感圧性接着剤のための剥ぎ取り可能な剥離ライナ
ー;織物又は箔;又は実質的に三次元的な形態のような
実質的にシート状のものにすることができる。
【0038】化学放射線とは、紫外線;電子ビーム放射
線;又はα−、β−、γ−、又はX−線を意味する。熱
とは、赤外線、熱い空気、マイクロウエーブ放射線等を
意味する。化学放射線は、屡々熱を伴い、二種類の組合
せを使用することも本発明の範囲に入る。ここで本発明
の組成物及び方法に用いられる用語「硬化」とは、液体
から固体へ組成物の状態を変化させる化学的変化を意味
する。硬化は、被覆された基体を希望の放射線源、例え
ばUVランプの下に予め定められた速度で通し、予め定
められた時間必要なエネルギー源のスイッチを入れるこ
とにより、完全に被覆した基体を放射線に露出すること
を含めた、既知のやり方のいずれかにより達成すること
ができる。
【0039】本発明の放射線硬化性組成物は、組成物中
の重合体の構造に依存する、接着性、耐摩耗性、化学的
耐久性、又は剥離性のような、被覆工業における多くの
用途に対する潜在的な能力を有する薄層フイルムを被覆
するのに有用である。
【0040】
【実施例】下に記載する実施例では、全ての量(部及び
%)は、別に指示しない限り重量による。
【0041】例1〜8 次の一般的手順を用いて次の組成物を製造した。適当な
容器に、或る量のドデシルビニルエーテル(下の表1で
はDDVEとして示してある)、及びドデシルフェノー
ル中に希釈したトリフルオロメタンスルホン酸トリル
(ドデシルフェニル)ヨードニウムの60/40重量対
重量混合物、陽イオン性光触媒〔下の表1中「トリフレ
ート(triflate)」として示してある〕を入れ、完全に混
合した。ドデシルフェノール(下の表1中DDPとして
示してある)を特定した量で添加し、完全に混合した。
次にダロキュワー(登録商標)1173(ニューヨーク
州テリタウンのチバ・ガイギーから入手した2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン
であり、下の表1中、1173として示してある)、遊
離基光開始剤を添加し、完全に混合した。上記成分の各
々は下の表1中gでその量を示してある。約1.1mg
の試料を、示差走査熱量計のアルミニウム容器に移し
た。その試料を、高強度水銀アークランプを具えた示差
走査光熱量計(DPCとして今後言及する)中へ入れ
た。乾燥圧縮空気又は湿潤空気〔乾燥空気を室温(22
〜23℃)で水に気泡として通した空気〕を100cc
/分の速度でDPC室中に導入した。試料を35mW/
cm2の強度で照射した。発熱ピークの勾配及び最大ピ
ーク高さから、硬化速度及び硬化度を夫々決定した。そ
れらの結果を下の表1に列挙する。勾配(W/g/分)
は硬化速度の測定値を与えるのに対し、ピークの高さ
(W/g)は硬化度の測定値を与え、即ち、値が大きい
程速い硬化速度及び大きな硬化度を夫々表す。
【0042】
【表1】
【0043】例5〜8と例1〜4との比較は、湿潤及び
乾燥硬化条件の両方で硬化速度及び硬化度に対するダロ
キュワー(登録商標)1173の劇的な効果を明らかに
示している。そのような効果は、DDPの濃度により硬
化速度及び硬化度が、夫々5〜60倍及び4〜24倍に
増大する湿潤硬化条件下で最も顕著である。硬化速度の
そのような劇的な向上の利点は、比較的湿度が高い夏の
期間中に非常に明確になるであろう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 チ − ロン リー アメリカ合衆国 ミシガン、ミドランド、 クレアモント 5202 (72)発明者 ウェン − ホン トン アメリカ合衆国 ミシガン、ミドランド、 オークリッジ ドライブ 4508

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (A) 式(CH2=CHOR)aCR2
    4-a(式中、Rは1〜20個の炭素原子を有する二価の
    炭化水素基であり、R2は、水素、又は1〜20個の炭
    素原子を有する一価炭化水素基から選択され、aは1〜
    3の値を有する)を有する、珪素原子を含まないビニル
    エーテル化合物、 (B) 陽イオン性光開始剤、 (C) 遊離基光開始剤、及び (D) ドデシルフェノール、を含む放射線硬化性組成
    物。
  2. 【請求項2】 (B)が、オニウム塩、スルホン酸のジ
    アリールヨードニウム塩、スルホン酸のトリアリールス
    ルホニウム塩、ボロン酸のジアリールヨードニウム塩、
    及びボロン酸のトリアリールスルホニウム塩からなる群
    から選択される、請求項1に記載の組成物。
  3. 【請求項3】 (C)が、式: 【化1】 (式中、R'は、−H、アルコキシ基、及びハロゲン原
    子からなる群から選択され、R''は−OH、アルコキシ
    基、及びハロゲン原子からなる群から選択され、R'''
    は、−H、アルキル基、及びハロゲン原子からなる群か
    ら選択される。)を有する化合物である、請求項1に記
    載の組成物。
  4. 【請求項4】 (I)(A) 式(CH2=CHOR)a
    CR2 4-a(式中、Rは1〜20個の炭素原子を有する二
    価の炭化水素基であり、R2は、水素、又は1〜20個
    の炭素原子を有する一価炭化水素基から選択され、aは
    1〜3の値を有する)を有する、珪素原子を含まないビ
    ニルエーテル化合物、 (B) 陽イオン性光開始剤、 (C) 遊離基光開始剤、及び (D) ドデシルフェノール、を混合することを含む放
    射線硬化性組成物の製造方法。
  5. 【請求項5】 (I) 請求項1に記載の放射性硬化性
    組成物を固体基体に適用して被覆を形成し、そして(I
    I) 前記被覆を、(i)化学放射線及び(ii)熱と組
    合せた化学放射線からなる群から選択されたエネルギー
    源により、前記被覆を硬化するのに充分な量で照射す
    る、ことを含む製造物品の製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項5の方法により製造された物品。
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