KR20000035648A - 방사선 경화성 조성물 - Google Patents

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맥켈러 로버트 루이스
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Abstract

본 발명은 규소원자를 함유하지 않은 비닐 에테르 화합물, 양이온성 광개시제, 유리 라디칼 광개시제 및 도데실페놀을 포함하는 방사선 경화성 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 방사선 경화성 조성물은 피복 산업에서 다수로 적용될 가능성이 있는 박층 필름을 피복하는데 유용하다.

Description

방사선 경화성 조성물{Radiation curable compositions}
본 발명은 규소원자를 함유하지 않은 비닐 에테르 화합물, 양이온성 광개시제, 유리 라디칼 광개시제 및 도데실페놀을 포함하는 방사선 경화성 조성물을 제공하는 것이다. 당해 방사선 경화성 조성물은 피복 산업에서 다수로 적용될 가능성이 있는 박층 필름을 피복하는데 유용하다.
피복 용도 또는 접착제 용도를 위한 방사선 경화성 조성물의 경화 속도는 조성물의 유효성을 결정하는데 있어서 매우 중요한 인자이다. 유리 라디칼 경화 시스템에 수반되는 문제는 산소의 존재하에 시스템이 억제된다는 것이므로, 이러한 시스템에는 만족스러운 경화 속도를 보장하는 고가의 불활성 기체 설비가 필요하다. 다른 한편으로, 양이온성 경화 시스템에는 산소 억제 문제는 전혀 없지만 수분 민감성의 문제가 존재하는데, 즉 경화 속도가 공기의 상대 습도의 증가에 따라 감소한다.
오늄 염 개시제의 존재하에 비닐 에테르를 양이온성 자외선 개시된 광중합시키는 것은 문헌에 익히 공지되어 있다. 미국 특허 제5,010,118호에는 폴리아릴요오도늄 염, 에폭시실리콘 및 알칸디올과 함께 유기 페놀을 사용하여 경화성 혼합물을 형성하는 것이 기재되어 있다. 구체적으로, 에폭시실리콘, 폴리아릴요오도늄헥사플루오로금속, 또는 디아릴요오도늄 및 트리아릴설포늄 염으로부터 선택된 탄소수 8 이상의 핵 결합된 알콕시 라디칼 하나 이상으로 치환된 메탈로이드 염, 탄소수 8 내지 20의 알킬 페놀과 탄소수 4 내지 12의 알칸디올의 혼합물인 혼화제를 사용하여 UV 방사선에 노출되는 경우 경화성 혼합물을 형성하는 것이 교시되어 있다.
미국 특허 제4,108,747호에는 양이온 중합성 그룹(예: 에폭사이드, 비닐 에테르 또는 N-비닐 화합물)과 혼합한 아릴 오늄 염이 자외선 방사선하에 중합성이라는 것이 기재되어 있다. 다양한 양이온 중합성 물질에 대한 광개시제로서 유기 강산으로부터 유도된 음이온을 갖는 특정 트리페닐 설포늄 또는 디페닐 요오도늄 염의 용도가 기재되어 있다. 양이온 중합성 유기 물질은 화학식 ((Ra)(R1)b(R2)cS)+(XSO3)-또는 ((R3)d(R4)3I)+(XSO3)-의 트리아릴 오늄 염의 유효량과 혼합한, 에폭시 수지, 비닐 유기 단량체, 비닐 유기 예비중합체, 사이클릭 유기 에테르, 사이클릭 유기 에스테르, 사이클릭 유기 설파이드, 사이클릭 아민 및 유기규소 사이클릭으로부터 선택할 수 있다.
문헌[참조: Nelson, Carter and Scranton, in the Journal of Polymer Science: Part A: Polymer Chemistry, Vol. 33, 247-256 (1995)]에는 일반적으로 DVE-3이라고 칭하는 디비닐 에테르, 3,6,9,12-테트라옥사테트라데카-1,13-디엔의 광중합에서 안트라센을 사용하여 요오도늄 염, 비스(4-도데실페닐) 요오도늄 헥사플루오로안티모네이트를 광증감시키는 공정이 기재되어 있다.
시바-기가 코포레이션(Ciba-Giga Corporation)은 UV 경화용 광개시제의 포뮬레이터 가이드(A Formulator's Guide)(p.13)에서, 이의 양이온성 광개시제 이그라큐어(Igracure)261(η5-2,4-사이클로펜타디엔-1-일)[(1,2,3,4,5,6-η)-(1-메틸 에틸)벤젠]-철(+)-헥사플루오로포스페이트(-1)를 사용하는 경우 증감제를 사용할 것을 추천하고 있다.
EP 제0522703호에서 엑크베르그(Eckberg)는 4-도데실페놀과 같은 반응성 페놀을 단독으로 또는 에폭시 관능성 유기 화합물, 바람직하게는 1,2-에폭시도데칸 과 혼합하여 사용하고, 추가로 요오도늄 광촉매용 희석제로서 벤조페논 또는 디아릴 케톤 유도체인 광증감제를 함유하는 용도를 교시하고 있다. 이러한 조성물은 릴리스 도료(release coatings)로서 유용한 광중합 에폭시 관능성 실리콘으로 유용하다.
상기 기술된 조성물과는 대조적으로, 본 발명의 방사선 경화성 조성물은 불활성 기체의 보호를 필요로 하지 않으면서 습한 공기중에서도 경화 속도가 우수하다.
본 발명은 규소원자를 함유하지 않은 비닐 에테르 화합물, 양이온성 광개시제, 유리 라디칼 광개시제 및 도데실페놀을 포함하는 방사선 경화성 조성물을 제공한다.
본 발명의 방사선 경화성 조성물은 도료 조성물로서 유용하다.
본 발명의 방사선 경화성 조성물은, (A) 규소원자를 함유하지 않은 비닐 에테르 화합물, (B) 양이온성 광개시제, (C) 유리 라디칼 광개시제 및 (D) 도데실페놀을 포함한다.
본원에서 사용된 바와 같은 비닐 에테르 화합물은 화학식 -ROCH=CH2(여기서, R은 탄소수 2 내지 20의 2가 탄화수소 라디칼이다)의, 규소원자를 전혀 함유하지 않은 비닐 에테르 그룹 하나 이상을 함유하는 임의의 화합물을 의미한다.
따라서, 성분(A)는 에틸 비닐 에테르, 프로필 비닐 에테르, 부틸 비닐 에테르, 이소부틸 비닐 에테르, 도데실 비닐 에테르, 옥타데실 비닐 에테르, 에틸렌 글리콜 모노비닐 에테르, 디에틸렌 글리콜 디비닐 에테르, 부탄디올 모노비닐 에테르, 부탄디올 디비닐 에테르, 헥산디올 디비닐 에테르, 에틸렌 글리콜 부틸 비닐 에테르, 트리에틸렌 글리콜 메틸 비닐 에테르, 사이클로헥산디메탄올 디비닐 에테르, 2-에틸헥실 비닐 에테르, 폴리-THF-디비닐 에테르 290, 플루리올-E-200-디비닐 에테르, 사이클로헥실 비닐 에테르, 3급 부틸 비닐 에테르, 3급 아밀 비닐 에테르, 에틸렌 글리콜 디비닐 에테르, 디에틸렌 글리콜 모노비닐 에테르, 헥산디올 모노비닐 에테르, 테트라에틸렌 글리콜 디비닐 에테르, 트리메틸올 프로판 트리비닐 에테르, 아미노프로필 비닐 에테르 또는 2-디에틸아미노에틸 비닐 에테르로부터 선택된다.
바람직하게는 성분(A)는 화학식 1의 비닐 에테르 화합물이다.
상기식에서,
R은 탄소수 1 내지 20의 2가 탄화수소 라디칼이고,
R2는 수소, 및 탄소수 1 내지 20의 1가 탄화수소 라디칼로부터 선택되며,
a는 1 내지 3의 수이다.
R로서 적합한 2가 탄화수소 라디칼은, 알킬렌 라디칼[예: 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 트리메틸렌, 2-메틸트리메틸렌, 펜타메틸렌, 헥사메틸렌, 3-에틸헥사메틸렌, 옥타메틸렌, -CH2(CH3)CH-, -CH2CH(CH3)-CH2-, -(CH2)18- 및 사이클로알킬렌 라디칼(예: 사이클로헥실렌)], 아릴렌 라디칼(예: 페닐렌), 2가 탄화수소 라디칼(예: 벤질렌)의 혼합물을 예로 들 수 있다. 적합한 2가 할로탄화수소 라디칼의 예는 또한 하나 이상의 수소원자가 할로겐(예: 불소, 염소 또는 브롬)에 의해 치환된 임의의 2가 탄화수소 라디칼(예: CH2CH2CF2CF2CH2CH2-)을 포함한다. 각각의 R은 필요에 따라 동일하거나 상이할 수 있다.
R2로서 적합한 1가 탄화수소 라디칼은, 알킬 라디칼(예: 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 헥실, 옥틸, 데실, 도데실, 테트라데실, 헥사데실 및 옥타데실), 지환족 라디칼(예: 사이클로헥실), 아릴 라디칼(예: 페닐, 톨릴 및 크실릴), 아르알킬 라디칼(예: 벤질 및 페닐에틸) 및 올레핀계 탄화수소 라디칼(예: 비닐, 알릴, 메트알릴, 부테닐 및 헥세닐, 옥테닐, 사이클로헥세닐 및 스티릴)을 예로 들 수 있다. 알케닐 라디칼은 바람직하게는 말단 불포화된 것이다. 1가 탄화수소 라디칼은 또한 이의 수소원자중 하나 이상이 할로겐(예: 불소, 염소 또는 브롬)으로 치환된 위에서 주지된 임의의 1가 탄화수소 라디칼일 수 있으며, 이들 1가 탄화수소 라디칼로는 CF3CH2CH2- 및 C4F9CH2CH2-를 예로 들 수 있다. 각각의 R2라디칼은 필요에 따라 동일하거나 상이할 수 있다.
바람직하게는 R은 화학식 -(CH2)b-[여기서, b는 1 내지 20의 수이고, d는 1이며, R2는 수소이다)의 알킬렌 그룹이다.
바람직하게는, 위에서 기술된 비닐 에테르 화합물 20 내지 99중량%(wt%)를 사용하고, 가장 바람직하게는 당해 화합물 85 내지 99중량%를 사용하며, 당해 중량%는 방사선 경화성 조성물의 총 중량을 기준으로 한다.
본 발명의 조성물중의 성분(B)은 양이온성 광개시제이다. 적합한 양이온성 광개시제는 오늄 염, 설폰산의 디아릴요오도늄 염, 설폰산의 트리아릴설포늄 염, 붕산의 디아릴요오도늄 염 또는 붕산의 트리아릴설포늄 염으로부터 선택된다.
오늄 염은 바람직하게는 R3 2I+MXn -, R3 3S+MXn -, R3 3Se+MXn -, R3 4P+MXn -또는 R3 4N+MXn -(여기서, 각각의 R3은 탄소수 1 내지 30의 유기 라디칼, 예를 들면, 탄소수 6 내지 20의 방향족 카복실릭 라디칼이다)으로부터 선택된다. 각각의 R3은 1 내지 4가 탄화수소 라디칼, 예를 들면, 탄소수 1 내지 8의 알콕시 라디칼, 탄소수 1 내지 8의 알킬 라디칼, 니트로, 클로로, 브로모, 시아노, 카복실, 메르캅토 및 방향족 헤테로사이클릭 라디칼(예: 피리딜, 티오페닐 및 피라닐)로 치환될 수 있다. 상기 화학식에서의 기호 M은 전이금속(예: Sb, Fe, Sn, Bi, Al, Ga, In, Ti, Zr, Sc, V, Cr, Mn, Cs), 희토류 금속(예: 란탄계 금속, 예를 들면, Cd, Pr 및 Nd) 및 메탈로이드(예: B, P 및 As)를 포함하는 금속 또는 메탈로이드이다. MXn -은 비염기성, 비친핵성 음이온(예: BF4 -, PF6 -, AsF6 -, SbF6 -, SbCl6 -, HSO4 -, ClO4 -, FeCl4 =, SnCl6 -및 BiCl5 =)이다.
바람직한 오늄 염은 비스-디아릴 요오도늄 염[예: 비스(도데실 페닐)요오도늄 헥사플루오로아르세네이트, 비스(도데실페닐) 요오도늄 헥사플루오로안티모네이트 및 디알킬페닐 요오도늄 헥사플루오로안티모네이트]을 예로 들 수 있다.
설폰산의 디아릴요오도늄 염, 설폰산의 트리아릴설포늄 염, 붕산의 디아릴요오도늄 염 및 붕산의 트리아릴설포늄 염이 또한 양이온성 광개시제(B)로서 적합하다. 바람직한 설폰산의 디아릴요오도늄 염은 퍼플루오로알킬설폰산의 디아릴요오도늄 염 및 아릴 설폰산의 디아릴요오도늄 염이다. 바람직한 퍼플루오로알킬설폰산의 디아릴요오도늄 염은 퍼플루오로부탄설폰산의 디아릴요오도늄 염, 퍼플루오로에탄설폰산의 디아릴요오도늄 염, 퍼플루오로옥탄설폰산의 디아릴요오도늄 염 및 트리플루오로메탄 설폰산의 디아릴요오도늄 염을 예로 들 수 있다. 바람직한 아릴 설폰산의 디아릴요오도늄 염은 파라-톨루엔 설폰산의 디아릴요오도늄 염, 도데실벤젠 설폰산의 디아릴요오도늄 염, 벤젠 설폰산의 디아릴요오도늄 염 및 3-니트로벤젠 설폰산의 디아릴요오도늄 염을 예로 들 수 있다.
설폰산의 바람직한 트리아릴설포늄 염은 퍼플루오로알킬설폰산의 트리아릴설포늄 염 및 아릴 설폰산의 트리아릴설포늄 염이다. 바람직한 퍼플루오로알킬설폰산의 트리아릴설포늄 염은 퍼플루오로부탄설폰산의 트리아릴설포늄 염, 퍼플루오로에탄설폰산의 트리아릴설포늄 염, 퍼플루오로-옥탄설폰산의 트리아릴설포늄 염 및 트리플루오로메탄 설폰산의 트리아릴설포늄 염을 예로 들 수 있다. 바람직한 아릴 설폰산의 트리아릴설포늄 염은 파라-톨루엔 설폰산의 트리아릴설포늄 염, 도데실벤젠 설폰산의 트리아릴설포늄 염, 벤젠 설폰산의 트리아릴설포늄 염 및 3-니트로벤젠 설폰산의 트리아릴설포늄 염을 예로 들 수 있다.
바람직한 붕산의 디아릴요오도늄 염 및 붕산의 트리아릴설포늄 염은 유럽 특허원 제0562922호에 기재되어 있다. 바람직한 붕산의 디아릴요오도늄 염은 퍼할로아릴붕산의 디아릴요오도늄 염을 포함하고, 바람직한 붕산의 트리아릴설포늄 염은 퍼할로아릴붕산의 트리아릴설포늄 염이다.
바람직하게는, 양이온성 광개시제(B)의 양은 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0.1 내지 5중량%이고, 방사선 경화성 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 1 내지 3중량%를 사용하는 것이 매우 바람직하다.
본 발명의 조성물중의 성분(C)는 유리 라디칼 광개시제이다. 본 발명의 유리 라디칼 광개시제는 임의의 벤조인(예: 벤조인 알킬 에테르), 아세토페논(예: 디알콕시아세토페논, 디클로로아세토페논 및 트리클로로아세토페논), 벤질(예: 벤질 케탈), 퀴논 및 O-아실화-α-옥시미노케톤일 수 있다. 바람직하게는 유리 라디칼 광개시제는 화학식 2의 화합물이다.
상기식에서,
R'은 -H, 알콕시 그룹 및 할로겐 원자로부터 선택되고,
R"은 -OH, 알콕시 그룹 및 할로겐 원자로부터 선택되며,
R'''은 -H, 알킬 그룹 및 할로겐 원자로부터 선택된다.
당해 화합물의 바람직한 양태는 (i) R'이 -H이고, R"이 -OH이며, R'''이 메틸 또는 페닐인 화합물, (ii) R'이 -H이고, R"이 알콕시 그룹이며, R'''이 페닐인 화합물(벤조인 알킬 에테르), (iii) R'과 R"이 둘다 알콕시 그룹이고, R'''이 페닐인 화합물(벤질 케탈), (iv) R'과 R"이 둘다 알콕시 그룹이고, R'''이 -H인 화합물(디알콕시아세토-페논) 및 (v) R'과 R"이 둘다 -Cl이고, R'''이 -Cl 또는 -Cl 또는 -H인 화합물(디- 및 트리-클로로아세토페논)이다. 성분(C)가 대러큐어(Darocare)1173(2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온)인 것이 조성물에 특히 바람직하다.
바람직하게는 유리 라디칼 광개시제(C)의 양은 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0.5 내지 5중량%이고, 방사선 경화성 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 1 내지 3중량%를 사용하는 것이 매우 바람직하다.
본 발명의 조성물중의 성분(D)는 도데실페놀이다. 본원에서 사용되는 바와 같은 "도데실페놀"은 화학식 C12H25C6H4OH의 화합물 또는 화학식 C12H25C6H4OH의 화합물의 이성체를 포함하는 혼합물을 나타낸다.
바람직하게는 도데실페놀(D)의 양은 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 0.5 내지 10중량%이고, 방사선 경화성 조성물의 총 중량을 기준으로 하여 1 내지 5중량%를 사용하는 것이 매우 바람직하다.
본 발명의 방사선 경화성 조성물은 또한 성분, 예를 들면, 강화 및 증량 충전제, 탄화수소 및 할로탄화수소, 색소, 염료, 보존제, 향료, 안정화제, 접착 개질제 또는 희석제를 함유할 수 있다.
본 발명의 방사선 경화성 조성물은 위에서 기술된 물질과 임의의 성분을 임의의 적합한 혼합 수단[예: 스파튤라(spatula), 드럼 롤러(drum rollor), 기계식 교반기, 3롤 밀(three-roll mill), 시그마 블레이드 혼합기(sigma blade mixer), 빵 반죽 혼합기(bread dough mixer) 또는 2롤 밀]을 사용하여 임의의 순서로 혼합함으로써 제조할 수 있다.
본 발명은 추가로 (I) 위에서 기술된 혼합 성분(A) 내지 (D)를 혼합함을 포함하는 방사선 경화성 조성물의 제조방법에 관한 것이다. 성분(A) 내지 (D)는 이의 바람직한 양태 및 양을 포함하여 위에서 기술한 바와 같다.
본 발명은 추가로 (I) 위에서 기술된 성분(A) 내지 (D)를 포함한 방사선 경화성 조성물을 고형 지지체에 도포하여 피복물을 형성하고, (II) 이 피복물을 (i) 화학 방사선 또는 (ii) 피복물을 경화시키기에 충분한 양의 열과 결합한 화학 방사선으로부터 선택된 에너지원에 노출시킴을 포함하는 제품의 제조방법에 관한 것이다. 성분(A) 내지 (D)는 이의 바람직한 양태 및 양을 포함하여, 위에서 기술된 바와 같다.
도료(피복물)는 스프레딩(spreading), 브러싱(brushing), 압출, 분무, 그래비어(gravure), 키스-롤(kiss-roll) 및 에어-나이프(air-knife)에 의해서와 같이, 당해 기술분야에 공지된 임의의 적합한 방법에 의해서 도포할 수 있다.
고형 지지체는 가요성 시트 물질(예: 종이, 폴리올레핀 필름, 폴리올레핀 피복된 종이, 포일), 셀룰로스 물질(예: 목재, 카드보드 및 면), 금속성 물질(예: 알루미늄 구리, 철 및 은), 규산질 물질(예: 유리 및 석재) 및 합성 중합체(예: 폴리올레핀, 폴리아미드, 폴리에스테르 및 폴리아크릴레이트)일 수 있다. 형성하기 위하여, 고형 지지체는 실질적으로 시트형, 예를 들면, 갑압 접착제용 박리성 릴리스 라이너; 직물 또는 포일; 또는 실질적으로 형태상 3차원이어야 한다.
화학 방사선은 자외선; 전자 빔 방사선; 또는 알파-, 베타-, 감마- 또는 X-선을 의미한다. 열은 적외선, 열기, 마이크로파 방사선 등을 의미한다. 화학 방사선은 종종 열을 동반하고 이 둘을 함께 사용하는 것은 본 발명의 영역 내에 속한다. 본원에서 용어 "경화"는 본 발명의 조성물 및 방법에 적용되는 바와 같이, 조성물의 상태를 액체로부터 고체로 변화시키는 화학 변화를 나타낸다. 경화는 피복된 지지체를 목적하는 방사선 원(예: UV 램프)하에서 소정의 속도로 통과시키고 소정 시간 동안 필요한 에너지원 위에서 교환함으로써 완전히 피복된 지지체를 방사선에 노출시킴을 포함하여, 공지된 방법중 어느 것으로도 달성될 수 있다.
본 발명의 방사선 경화성 조성물은 조성물중의 중합체 구조에 따라 접착성, 내마모성, 내화학성 또는 릴리스 특성과 같은, 피복 산업에서 다수의 용도에 대한 잠재성을 갖는 박층 필름을 피복하는데 유용하다.
하기의 실시예에서, 모든 양(부 및 %)은 달리 지시되지 않는 한 중량 기준이다.
실시예 1 내지 8
다음 조성물을 다음 일반 공정을 사용하여 제조한다. 적합한 용기에, 도데실 비닐 에테르(하기 표 1에서 DDVE로 나타냄) 일정량 및 양이온성 광촉매인 도데실페놀에 희석된 톨릴 (도데실페닐) 요오도늄 트리플루오로메탄설포네이트의 60/40 중량 대 중량 혼합물(하기 표 1에 "트리플레이트"로 나타냄)을 가하고, 완전히 혼합한다. 도데실페놀(하기 표 1에 DDP로 나타냄)을 명시된 수준으로 가하고 완전히 혼합한다. 그 다음 유리 라디칼 광개시제인 대러큐어1173(2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-프로판-1-온)(제조원: Ciba Geigy, Terrytown, N.Y., 하기 표 1에 1173으로 나타냄)을 가하고, 완전히 혼합한다. 상기 성분 각각의 그램량을 하기 표 1에 열거하였다. 샘플 약 1.1mg을 알루미늄 시차 주사 열량계 팬으로 옮긴다. 샘플을 고강도 수은 아크 램프를 갖춘 시차 주사 광열량계(이하, DPC로 나타냄)로 삽입한다. 100cc/min의 속도로 건조 압축 공기 또는 습한 공기(실온(22 내지 23℃)에서 물을 통하여 버블링된 건조 공기)를 DPC 챔버로 도입한다. 샘플을 35mW/㎠의 강도로 조사시킨다. 경화 속도 및 경화 범위를 경사도 및 발열 피크의 최대 피크 높이로부터 각각 측정한다. 그 결과를 하기 표 1에 열거하였다. 경사도(W/g/min)는 경화 속도의 크기를 제공하는 반면, 피크 높이(W/g)는 경화 범위의 크기를 제공하며, 즉 더 큰 값이 더 신속한 경화 속도 및 더 큰 경화 범위를 각각 나타낸다.
대기
건조 습윤
실시예 DDV(gms) 트리플레이트(gms) DDP(gms) 1173(gms) 경사도 피크 높이 경사도 피크 높이
1 0.99 0.01 0 0 362 14 6 1
2 0.98 0.01 0.01 0 312 12 12.5 1.2
3 0.96 0.01 0.03 0 400 16 14.4 1.1
4 0.94 0.01 0.05 0 399 17 66 3.5
5 0.98 0.01 0 0.01 987 29 762 24
6 0.97 0.01 0.01 0.01 1223 26 796 20
7 0.95 0.01 0.03 0.01 1016 24 529 18
8 0.93 0.01 0.05 0.01 941 24 304 14
실시예 5 내지 8을 실시예 1 내지 4와 비교해 보면 습윤 및 건조 경화 조건하에서 경화 속도 및 경화 범위에 대한 대러큐어1173의 극적인 효과가 명확하게 나타난다. 이러한 효과는 DDP의 농도에 따라, 경화 속도 및 경화 범위가 각각 5 내지 60배 및 4 내지 24배인 습윤 경화 조건하에서 가장 현저하다. 경화 속도의 이러한 극적인 향상의 이점은 상대 습도가 높은 여름철 동안에 매우 명확해질 것이다.

Claims (6)

  1. (A) 규소원자를 함유하지 않은 화학식 1의 비닐 에테르 화합물,
    (B) 양이온성 광개시제,
    (C) 유리 라디칼 광개시제 및
    (D) 도데실페놀을 포함하는 방사선 경화성 조성물.
    화학식 1
    상기식에서,
    R은 탄소수 1 내지 20의 2가 탄화수소 라디칼이고,
    R2는 수소, 및 탄소수 1 내지 20의 1가 탄화수소 라디칼로부터 선택되며,
    a는 1 내지 3의 수이다.
  2. 제1항에 있어서, (B)가 오늄 염, 설폰산의 디아릴요오도늄 염, 설폰산의 트리아릴설포늄 염, 붕산의 디아릴요오도늄 염 및 붕산의 트리아릴설포늄 염으로부터 선택되는 조성물.
  3. 제1항에 있어서, (C)가 화학식 2의 화합물인 조성물.
    화학식 2
    상기식에서,
    R'은 -H, 알콕시 그룹 및 할로겐 원자로부터 선택되고,
    R"은 -OH, 알콕시 그룹 및 할로겐 원자로부터 선택되며,
    R'''은 -H, 알킬 그룹 및 할로겐 원자로부터 선택된다.
  4. (I) (A) 규소원자를 함유하지 않은 화학식 1의 비닐 에테르 화합물,
    (B) 양이온성 광개시제,
    (C) 유리 라디칼 광개시제 및
    (D) 도데실페놀을 혼합함을 포함하는 방사선 경화성 조성물의 제조방법.
    화학식 1
    상기식에서,
    R은 탄소수 1 내지 20의 2가 탄화수소 라디칼이고,
    R2는 수소, 및 탄소수 1 내지 20의 1가 탄화수소 라디칼로부터 선택되며,
    a는 1 내지 3의 수이다.
  5. (I) 제1항에 따르는 방사선 경화성 조성물을 고형 지지체에 도포하여 피복물을 형성하고,
    (II) 이 피복물을 (i) 화학 방사선 및 (ii) 피복물을 경화시키기에 충분한 양의 열과 결합한 화학 방사선으로부터 선택된 에너지원에 노출시킴을 포함하는 제품의 제조방법.
  6. 제5항의 방법에 따라 제조되는 제품.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150073978A (ko) * 2012-10-29 2015-07-01 시크파 홀딩 에스에이 보안 문서용 보호 코팅

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6538044B2 (en) * 1997-06-11 2003-03-25 Ledniczky Maria Palfi Nee Fragranced lacquer coating and process for preparation thereof to be screen printed
US6308001B1 (en) * 1998-12-22 2001-10-23 Alliedsignal Inc. Radiation curable fluorinated vinyl ethers derived from hexafluoropropene
US6174933B1 (en) * 1999-04-08 2001-01-16 Isp Investments Inc. Radiation polymerizable vinylether-based compositions
US7700151B2 (en) * 2003-04-11 2010-04-20 Henkel Ag & Co. Kgaa Process for making pressure sensitive adhesive tapes from cationic cure adhesives
US20050129875A1 (en) * 2003-12-15 2005-06-16 Eastman Kodak Company Aligned liquid crystal layer containing onium salts and process for increasing the tilt
US20090186988A1 (en) * 2008-01-22 2009-07-23 Ppg Industries Ohio, Inc. Modified aminoplast crosslinkers and coating compositions containing such crosslinkers
JP6095964B2 (ja) * 2012-12-10 2017-03-15 三洋化成工業株式会社 感光性組成物及び硬化物

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3855052A (en) * 1971-07-27 1974-12-17 Gaf Corp Adhesive tape coated with a controlled release coating composition
US4057672A (en) * 1973-05-29 1977-11-08 The Goodyear Tire & Rubber Company Compounded polyvinyl chloride
US4108747A (en) * 1976-07-14 1978-08-22 General Electric Company Curable compositions and method for curing such compositions
US4954364A (en) * 1989-06-22 1990-09-04 General Electric Company Method for coating substrates with UV curable epoxysilicone compositions
US5010118A (en) * 1989-06-22 1991-04-23 General Electric Company UV curable non-toxic epoxysilicone release coating compositions
US5082686A (en) * 1989-06-22 1992-01-21 General Electric Company UV curable non-toxic epoxysilicone release coating compositions and method
EP0522703A3 (en) * 1991-06-04 1994-06-15 Gen Electric Diluent for iodonium photocatalysts
FR2688790B1 (fr) * 1992-03-23 1994-05-13 Rhone Poulenc Chimie Compositions a base de polyorganosiloxanes a groupements fonctionnels reticulables et leur utilisation pour la realisation de revetements anti-adhesifs.
JPH07196947A (ja) * 1993-12-28 1995-08-01 Nippon Kayaku Co Ltd コーティング組成物及びその硬化物
US5491178A (en) * 1994-07-13 1996-02-13 Alliedsignal Inc. Hydrogen stabilizers for vinyl ether-based coating systems
IT1274039B (it) * 1994-09-02 1997-07-14 Atohaas C V Ora Atohaas Holdin Processo per la preparazione di articoli formati a base di polimeri acrilici rivestiti con un film antigraffio e antiabrasione

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150073978A (ko) * 2012-10-29 2015-07-01 시크파 홀딩 에스에이 보안 문서용 보호 코팅

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