JP2000148254A - 真空圧力制御装置 - Google Patents
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- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K1/00—Lift valves or globe valves, i.e. cut-off apparatus with closure members having at least a component of their opening and closing motion perpendicular to the closing faces
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- F16K1/46—Attachment of sealing rings
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- Y10T137/7722—Line condition change responsive valves
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 大気圧に近い低真空圧力を正確に保持できる
真空圧力制御装置を提供すること。 【解決手段】 真空容器と真空ポンプとを接続する配管
上にあって開度を変化させることにより真空容器内の真
空圧力を変化させる真空比例開閉弁と、真空容器内の真
空圧力を計測する圧力センサとを有し、圧力センサの出
力に基づいて真空比例開閉弁の開度を制御する真空圧力
制御装置であって、（ａ）真空比例開閉弁が、水平弁座
部３６ａと、水平弁座部３６ａと当接または離間するＯ
リング３５を備える弁体とを有すること、（ｂ）真空圧
力制御装置が、圧力センサの出力に基づいて、Ｏリング
３５の弾性変形量を変化させ、Ｏリング３５からの漏れ
量を変化させることにより、真空容器内の圧力を制御し
ている
真空圧力制御装置を提供すること。 【解決手段】 真空容器と真空ポンプとを接続する配管
上にあって開度を変化させることにより真空容器内の真
空圧力を変化させる真空比例開閉弁と、真空容器内の真
空圧力を計測する圧力センサとを有し、圧力センサの出
力に基づいて真空比例開閉弁の開度を制御する真空圧力
制御装置であって、（ａ）真空比例開閉弁が、水平弁座
部３６ａと、水平弁座部３６ａと当接または離間するＯ
リング３５を備える弁体とを有すること、（ｂ）真空圧
力制御装置が、圧力センサの出力に基づいて、Ｏリング
３５の弾性変形量を変化させ、Ｏリング３５からの漏れ
量を変化させることにより、真空容器内の圧力を制御し
ている
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程で
使用される真空容器内の真空圧力を所定値に正確かつ迅
速に保持するための真空圧力制御装置に関し、さらに詳
細には、大気圧に近い低真空圧力を所定値に正確かつ迅
速に保持するための真空圧力制御装置に関するものであ
る。
使用される真空容器内の真空圧力を所定値に正確かつ迅
速に保持するための真空圧力制御装置に関し、さらに詳
細には、大気圧に近い低真空圧力を所定値に正確かつ迅
速に保持するための真空圧力制御装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】従来使用されていた真空圧力制御システ
ムとしては、例えば、本出願人が出願したものである特
開平９−７２４５８号公報がある。そこで使用されてい
る真空比例開閉弁の主要部であるポペット弁体の構造を
図８に示し、それを参照して内容を説明する。図８は、
真空比例開閉弁が閉じた状態を示し、図８は、真空比例
開閉弁が中真空領域で使用されている状態を示してい
る。ポペット弁体１３３は、図示しないピストンロッド
と連結する弁本体１３３ａ、Ｏリング１３５を固定する
ためのＯリング取付部１３３ｂ、及びステンレス弁体１
３４を取り付けるためのステンレス弁体取付部１３３ｃ
より構成されている。Ｏリング１３５は、ポペット弁体
１３３のステンレス弁体１３４の外周に形成された先細
りのテーパ面１３４ａが弁本体１４５に形成された弁座
１３６に当接して押圧されたときに、流体の漏れをなく
すためのものである。テーパ面１３４ａは特開平９−７
２４５８号公報では、θ＝３度とされている。テーパ面
１３４ａの上部にはストレート部１３４ｂが形成されて
いる。
ムとしては、例えば、本出願人が出願したものである特
開平９−７２４５８号公報がある。そこで使用されてい
る真空比例開閉弁の主要部であるポペット弁体の構造を
図８に示し、それを参照して内容を説明する。図８は、
真空比例開閉弁が閉じた状態を示し、図８は、真空比例
開閉弁が中真空領域で使用されている状態を示してい
る。ポペット弁体１３３は、図示しないピストンロッド
と連結する弁本体１３３ａ、Ｏリング１３５を固定する
ためのＯリング取付部１３３ｂ、及びステンレス弁体１
３４を取り付けるためのステンレス弁体取付部１３３ｃ
より構成されている。Ｏリング１３５は、ポペット弁体
１３３のステンレス弁体１３４の外周に形成された先細
りのテーパ面１３４ａが弁本体１４５に形成された弁座
１３６に当接して押圧されたときに、流体の漏れをなく
すためのものである。テーパ面１３４ａは特開平９−７
２４５８号公報では、θ＝３度とされている。テーパ面
１３４ａの上部にはストレート部１３４ｂが形成されて
いる。
【０００３】弁座１３６は、弁本体１４５の下部中央に
形成された中空円筒の内面として形成されている。そし
て、図９に示すように、ステンレス弁体１３４のテーパ
面１３４ａが弁座１３６の中心線に沿って移動すること
により、テーパ面１３４ａと弁座１３６とで構成される
隙間の面積が変化し、真空比例開閉弁の弁開度が変化さ
れる。また、図８に示すように、ポペット弁体１３３が
弁座１３６の上面に当接されたときは、Ｏリング１３５
が押圧されることにより、流体の漏れが完全に遮断され
る。
形成された中空円筒の内面として形成されている。そし
て、図９に示すように、ステンレス弁体１３４のテーパ
面１３４ａが弁座１３６の中心線に沿って移動すること
により、テーパ面１３４ａと弁座１３６とで構成される
隙間の面積が変化し、真空比例開閉弁の弁開度が変化さ
れる。また、図８に示すように、ポペット弁体１３３が
弁座１３６の上面に当接されたときは、Ｏリング１３５
が押圧されることにより、流体の漏れが完全に遮断され
る。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
真空圧力制御システム・制御装置には、次のような問題
があった。すなわち、弁体に形成されたテーパ面１３４
ａと弁座１３６とで構成される隙間の面積を変化させる
ことにより、真空ポンプへの流量を変化させているの
で、真空により近い高真空圧力や中真空圧力に対応する
流量を確保することは比較的容易であった。しかし、テ
ーパ面１３４ａと弁座１３６とで構成される隙間は、比
較的大きいため、大気圧に近い低真空圧力、特に大気圧
にきわめて近い低真空圧力に制御することが困難である
という問題があった。この問題は、ゴム製のＯリングが
弁座の平面部と密着し易いため、特に問題であった。さ
らにプロセスガスが析出したときには密着の度合いが大
きくなり、弁体が移動したときに静摩擦から動摩擦へ移
行する摩擦係数の変化により弁体の移動距離が急速に変
化し、Ｏリングが瞬間的に弁座平面部から離脱するた
め、テーパ面１３４ａと弁座１３６とで構成される隙間
をきわめて狭い状態で正確に制御することが困難とな
り、大きな問題であった。
真空圧力制御システム・制御装置には、次のような問題
があった。すなわち、弁体に形成されたテーパ面１３４
ａと弁座１３６とで構成される隙間の面積を変化させる
ことにより、真空ポンプへの流量を変化させているの
で、真空により近い高真空圧力や中真空圧力に対応する
流量を確保することは比較的容易であった。しかし、テ
ーパ面１３４ａと弁座１３６とで構成される隙間は、比
較的大きいため、大気圧に近い低真空圧力、特に大気圧
にきわめて近い低真空圧力に制御することが困難である
という問題があった。この問題は、ゴム製のＯリングが
弁座の平面部と密着し易いため、特に問題であった。さ
らにプロセスガスが析出したときには密着の度合いが大
きくなり、弁体が移動したときに静摩擦から動摩擦へ移
行する摩擦係数の変化により弁体の移動距離が急速に変
化し、Ｏリングが瞬間的に弁座平面部から離脱するた
め、テーパ面１３４ａと弁座１３６とで構成される隙間
をきわめて狭い状態で正確に制御することが困難とな
り、大きな問題であった。
【０００５】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、大気圧に近い低真空圧力を正確
に保持できる真空圧力制御装置を提供することを目的と
する。
になされたものであり、大気圧に近い低真空圧力を正確
に保持できる真空圧力制御装置を提供することを目的と
する。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明の真空圧力制御装
置は、次に示す構成を有している。 （１）真空容器と真空ポンプとを接続する配管上にあっ
て開度を変化させることにより真空容器内の真空圧力を
変化させる真空比例開閉弁と、真空容器内の真空圧力を
計測する圧力センサとを有し、圧力センサの出力に基づ
いて真空比例開閉弁の開度を制御する真空圧力制御装置
であって、（ａ）真空比例開閉弁が、弁座と、弁座と当
接または離間する弾性シール部材を備える弁体とを有す
ること、（ｂ）真空圧力制御装置が、圧力センサの出力
に基づいて、弾性シール部材の弾性変形量を変化させ、
弾性シール部材からの漏れ量を変化させることにより、
真空容器内の圧力を制御すること、を特徴とする。
置は、次に示す構成を有している。 （１）真空容器と真空ポンプとを接続する配管上にあっ
て開度を変化させることにより真空容器内の真空圧力を
変化させる真空比例開閉弁と、真空容器内の真空圧力を
計測する圧力センサとを有し、圧力センサの出力に基づ
いて真空比例開閉弁の開度を制御する真空圧力制御装置
であって、（ａ）真空比例開閉弁が、弁座と、弁座と当
接または離間する弾性シール部材を備える弁体とを有す
ること、（ｂ）真空圧力制御装置が、圧力センサの出力
に基づいて、弾性シール部材の弾性変形量を変化させ、
弾性シール部材からの漏れ量を変化させることにより、
真空容器内の圧力を制御すること、を特徴とする。
【０００７】（２）（１）に記載する真空圧力制御装置
において、前記弾性シール部材に加える力を変化させる
ことにより、前記弾性シール部材の弾性変形量を変化さ
せることを特徴とする。 （３）（２）に記載する真空圧力制御装置において、前
記真空比例開閉弁が、前記弁体を移動するためのパイロ
ット弁を有し、前記真空圧力制御装置が、前記パイロッ
ト弁に供給する空気圧を変化させることにより、前記弾
性シール部材の弾性変形量を変化させることを特徴とす
る。
において、前記弾性シール部材に加える力を変化させる
ことにより、前記弾性シール部材の弾性変形量を変化さ
せることを特徴とする。 （３）（２）に記載する真空圧力制御装置において、前
記真空比例開閉弁が、前記弁体を移動するためのパイロ
ット弁を有し、前記真空圧力制御装置が、前記パイロッ
ト弁に供給する空気圧を変化させることにより、前記弾
性シール部材の弾性変形量を変化させることを特徴とす
る。
【０００８】（４）（１）乃至（３）のいずれか１つに
記載する真空圧力制御装置において、前記弾性シール部
材が、Ｏリングであることを特徴とする。 （５）（１）乃至（４）のいずれか１つに記載する真空
圧力制御装置において、前記弾性シール部材の弾性変形
量を所定値以上とすることにより、前記漏れを無くして
前記真空比例開閉弁を遮断することを特徴とする。
記載する真空圧力制御装置において、前記弾性シール部
材が、Ｏリングであることを特徴とする。 （５）（１）乃至（４）のいずれか１つに記載する真空
圧力制御装置において、前記弾性シール部材の弾性変形
量を所定値以上とすることにより、前記漏れを無くして
前記真空比例開閉弁を遮断することを特徴とする。
【０００９】次ぎに、上記構成を有する真空圧力制御装
置の作用を説明する。真空ポンプは、真空容器内のガス
を吸引して、真空容器内を真空にする。ここで、真空ポ
ンプは一定の吸引を行っており、真空比例開閉弁が、開
度を変化させることにより真空容器内から真空ポンプが
吸引するガス量を調整し、真空容器内の真空圧力を変化
させている。また、圧力センサは、真空容器内の真空圧
力を計測する。真空圧力制御装置は、中央制御装置から
の真空圧力指示値を受けて、真空圧力指示値と圧力セン
サの出力が一致するように真空比例開閉弁の開度を制御
する。ここで、真空比例開閉弁の開度は、高真空圧力ま
たは中真空圧力の場合には、弁座に対して、パイロット
弁により、弁体を弁座の中心線に沿って移動させ、弁座
と弁体とで構成する隙間の面積を変化させることにより
調整される。そして、大気圧に近い低真空圧力の場合に
は、真空圧力制御装置が、圧力センサの出力に基づい
て、弾性シール部材の弾性変形量を変化させ、弾性シー
ル部材からの漏れ量を変化させることにより、真空容器
内の圧力を制御する。
置の作用を説明する。真空ポンプは、真空容器内のガス
を吸引して、真空容器内を真空にする。ここで、真空ポ
ンプは一定の吸引を行っており、真空比例開閉弁が、開
度を変化させることにより真空容器内から真空ポンプが
吸引するガス量を調整し、真空容器内の真空圧力を変化
させている。また、圧力センサは、真空容器内の真空圧
力を計測する。真空圧力制御装置は、中央制御装置から
の真空圧力指示値を受けて、真空圧力指示値と圧力セン
サの出力が一致するように真空比例開閉弁の開度を制御
する。ここで、真空比例開閉弁の開度は、高真空圧力ま
たは中真空圧力の場合には、弁座に対して、パイロット
弁により、弁体を弁座の中心線に沿って移動させ、弁座
と弁体とで構成する隙間の面積を変化させることにより
調整される。そして、大気圧に近い低真空圧力の場合に
は、真空圧力制御装置が、圧力センサの出力に基づい
て、弾性シール部材の弾性変形量を変化させ、弾性シー
ル部材からの漏れ量を変化させることにより、真空容器
内の圧力を制御する。
【００１０】特に、パイロット弁に供給する空気圧を変
化させることにより、弾性シール部材であるＯリングに
加える力を変化させ、Ｏリングの弾性変化量を変化させ
て、漏れ量を変化させる方法によると、安いコストでシ
ステムを構築することができる。弁体を移動させるパイ
ロット弁に供給される空気圧は、圧力センサの出力に基
づいて真空圧力制御装置がサーボ弁を介して制御する。
例えば、サーボ弁を構成するエア供給電磁弁は、真空圧
力制御装置よりパルス信号を受けて、パルス信号に応じ
て時間開閉動作することにより、パイロット弁に対して
駆動エアを供給する。また、電磁弁を構成するエア排気
電磁弁は、真空圧力制御装置よりパルス信号を受けて、
パイロット弁の供給エアを排気管に排気することで、パ
イロット弁に供給される駆動エアの圧力を調整する。
化させることにより、弾性シール部材であるＯリングに
加える力を変化させ、Ｏリングの弾性変化量を変化させ
て、漏れ量を変化させる方法によると、安いコストでシ
ステムを構築することができる。弁体を移動させるパイ
ロット弁に供給される空気圧は、圧力センサの出力に基
づいて真空圧力制御装置がサーボ弁を介して制御する。
例えば、サーボ弁を構成するエア供給電磁弁は、真空圧
力制御装置よりパルス信号を受けて、パルス信号に応じ
て時間開閉動作することにより、パイロット弁に対して
駆動エアを供給する。また、電磁弁を構成するエア排気
電磁弁は、真空圧力制御装置よりパルス信号を受けて、
パイロット弁の供給エアを排気管に排気することで、パ
イロット弁に供給される駆動エアの圧力を調整する。
【００１１】パイロット弁は、ベロフラムによりピスト
ン両側を隔離しているので、ピストンが移動するとき
に、摺動抵抗がきわめて僅かなためピストンの停止位置
を微妙に制御することが可能である。また、パイロット
弁は、ノーマルクローズタイプのシリンダなので、停電
等のトラブルが発生したときに、パイロット弁は、迅速
に緊急遮断される。
ン両側を隔離しているので、ピストンが移動するとき
に、摺動抵抗がきわめて僅かなためピストンの停止位置
を微妙に制御することが可能である。また、パイロット
弁は、ノーマルクローズタイプのシリンダなので、停電
等のトラブルが発生したときに、パイロット弁は、迅速
に緊急遮断される。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明の真空圧力制御装置を具体
化した実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。真
空圧力制御装置が利用される真空圧力制御システムの一
実施の形態の全体構成を図５に示す。真空容器である真
空チャンバ１１の内部に、ウエハ１５が段状に配置され
る。真空チャンバ１１には、入口１３と出口１４が形成
され、入口１３には、プロセスガスの供給源及び真空チ
ャンバ１１内をパージするための窒素ガスの供給源が接
続している。出口１４には、弁開度比例弁である真空比
例開閉弁１８の入口ポートが接続されている。真空比例
開閉弁１８の出口ポートは、真空ポンプ１９に接続して
いる。また、出口１４には、遮断弁１６を介して圧力セ
ンサ１７が接続されている。本実施の形態では、圧力セ
ンサ１７として、キャパシタンス・マノメータを使用し
ている。
化した実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。真
空圧力制御装置が利用される真空圧力制御システムの一
実施の形態の全体構成を図５に示す。真空容器である真
空チャンバ１１の内部に、ウエハ１５が段状に配置され
る。真空チャンバ１１には、入口１３と出口１４が形成
され、入口１３には、プロセスガスの供給源及び真空チ
ャンバ１１内をパージするための窒素ガスの供給源が接
続している。出口１４には、弁開度比例弁である真空比
例開閉弁１８の入口ポートが接続されている。真空比例
開閉弁１８の出口ポートは、真空ポンプ１９に接続して
いる。また、出口１４には、遮断弁１６を介して圧力セ
ンサ１７が接続されている。本実施の形態では、圧力セ
ンサ１７として、キャパシタンス・マノメータを使用し
ている。
【００１３】次に、真空比例開閉弁１８の構造を図１及
び図２に基づいて詳細に説明する。図１は、真空比例開
閉弁１８が閉じられた状態を示している。真空比例開閉
弁１８は、大きく上部のパイロットシリンダ３２と下部
のベローズ式ポペット弁３１に別れている。パイロット
シリンダ３２は、次のような構成を有する。単動空気圧
シリンダ４３に対して、摺動可能にピストン４１が嵌合
されている。ピストン４１は、復帰バネ４２により下向
きに付勢されている。
び図２に基づいて詳細に説明する。図１は、真空比例開
閉弁１８が閉じられた状態を示している。真空比例開閉
弁１８は、大きく上部のパイロットシリンダ３２と下部
のベローズ式ポペット弁３１に別れている。パイロット
シリンダ３２は、次のような構成を有する。単動空気圧
シリンダ４３に対して、摺動可能にピストン４１が嵌合
されている。ピストン４１は、復帰バネ４２により下向
きに付勢されている。
【００１４】ピストン４１の上端にスライドレバー４８
の一端が連結されている。スライドレバー４８は、単動
空気圧シリンダ４３の外部に出てポテンショメータ５０
の図示しないロッドと連結している。ロッドは、ポテン
ショメータ５０内の可変抵抗に接続しており、このポテ
ンショメータ５０によりピストン４１の位置を正確に計
測している。また、ピストン４１の下面には、ベロフラ
ム５１の内周端部が固定されている。ベロフラム５１の
外周端部は、単動空気圧シリンダ４３の室壁に固定され
ている。ベロフラム５１は、極めて薄く設計され、構造
的には、強力なポリエステル、テトロン布等の上にゴム
を被覆したものである。ベロフラム５１とは、長いスト
ロークと深い折り返し部を持ち、作動中にその有効受圧
面積が一定不変に保たれる円筒形のダイヤフラムであ
る。本実施の形態では、パイロットシリンダ３２のピス
トン４１両側の隔離にベロフラム５１を使用しているの
で、ピストン４１のスティックスリップの発生がなく、
ピストン４１を高い応答性と正確な位置精度で移動させ
ることが可能である。
の一端が連結されている。スライドレバー４８は、単動
空気圧シリンダ４３の外部に出てポテンショメータ５０
の図示しないロッドと連結している。ロッドは、ポテン
ショメータ５０内の可変抵抗に接続しており、このポテ
ンショメータ５０によりピストン４１の位置を正確に計
測している。また、ピストン４１の下面には、ベロフラ
ム５１の内周端部が固定されている。ベロフラム５１の
外周端部は、単動空気圧シリンダ４３の室壁に固定され
ている。ベロフラム５１は、極めて薄く設計され、構造
的には、強力なポリエステル、テトロン布等の上にゴム
を被覆したものである。ベロフラム５１とは、長いスト
ロークと深い折り返し部を持ち、作動中にその有効受圧
面積が一定不変に保たれる円筒形のダイヤフラムであ
る。本実施の形態では、パイロットシリンダ３２のピス
トン４１両側の隔離にベロフラム５１を使用しているの
で、ピストン４１のスティックスリップの発生がなく、
ピストン４１を高い応答性と正確な位置精度で移動させ
ることが可能である。
【００１５】ピストン４１の中央には、ピストンロッド
３７が固設され、ピストン４１の移動に応じて上下に摺
動する。ピストンロッド３７の下端には、ポペット弁体
３３が付設されている。また、ポペット弁体３３の上面
には、ベローズ３８の一端が周回して取り付けられてい
る。ポペット弁体３３の詳細な構造を図２に示す。図２
は、真空比例開閉弁１８が閉じた状態を示している。ポ
ペット弁体３３は、ピストンロッド３７と連結する弁本
体３３ａ、Ｏリング３５を固定するためのＯリング取付
部３３ｂ、及びステンレス弁体３４を取り付けるための
ステンレス弁体取付部３３ｃより構成されている。本実
施の形態では、ステンレス弁体３４の材料としてＳＵＳ
３１６Ｌを使用している。Ｏリング３５は、ポペット弁
体３３のステンレス弁体３４の外周に形成された先細り
のテーパ面３４ａが弁本体４５に形成された弁座３６の
水平弁座部３６ａに当接して押圧されたときに、流体の
漏れをなくすためのものであり、同時に本発明の主要部
である弾性シール部材である。サイズはＰ＝８０を用い
ている。テーパ面３４ａは本実施の形態では、θ＝３度
としている。テーパ面３４ａの上部にはストレート部３
４ｂが形成されている。
３７が固設され、ピストン４１の移動に応じて上下に摺
動する。ピストンロッド３７の下端には、ポペット弁体
３３が付設されている。また、ポペット弁体３３の上面
には、ベローズ３８の一端が周回して取り付けられてい
る。ポペット弁体３３の詳細な構造を図２に示す。図２
は、真空比例開閉弁１８が閉じた状態を示している。ポ
ペット弁体３３は、ピストンロッド３７と連結する弁本
体３３ａ、Ｏリング３５を固定するためのＯリング取付
部３３ｂ、及びステンレス弁体３４を取り付けるための
ステンレス弁体取付部３３ｃより構成されている。本実
施の形態では、ステンレス弁体３４の材料としてＳＵＳ
３１６Ｌを使用している。Ｏリング３５は、ポペット弁
体３３のステンレス弁体３４の外周に形成された先細り
のテーパ面３４ａが弁本体４５に形成された弁座３６の
水平弁座部３６ａに当接して押圧されたときに、流体の
漏れをなくすためのものであり、同時に本発明の主要部
である弾性シール部材である。サイズはＰ＝８０を用い
ている。テーパ面３４ａは本実施の形態では、θ＝３度
としている。テーパ面３４ａの上部にはストレート部３
４ｂが形成されている。
【００１６】弁座３６は、弁本体４５の下部中央に形成
された中空円筒の内面として形成されている。また、弁
座３６の上部のの段差部には、水平弁座部３６ａが形成
されている。そして、ステンレス弁体３４のテーパ面３
４ａが弁座３６の中心線に沿って移動することにより、
テーパ面３４ａと弁座３６とで構成される隙間の面積が
変化し、真空比例開閉弁１８の弁開度が変化される。ま
た、ポペット弁体３３が弁座３６の水平弁座部３６ａに
当接されたときは、Ｏリング３５が押圧されることによ
り、流体の漏れが完全に遮断される。従来、Ｏリング３
５は、完全遮断を目的としてのみ使用されていた。従っ
て、Ｏリング３５からの漏れは無い方が良いものとして
認識されていた。しかし、本発明者は、Ｏリング３５に
加える力を変化させることにより、Ｏリング３５からの
漏れ量をコントロールできることを発見した。すなわ
ち、従来無くそうと努力してきたものを逆に利用するこ
とに成功したのである。詳細な説明は後述する。
された中空円筒の内面として形成されている。また、弁
座３６の上部のの段差部には、水平弁座部３６ａが形成
されている。そして、ステンレス弁体３４のテーパ面３
４ａが弁座３６の中心線に沿って移動することにより、
テーパ面３４ａと弁座３６とで構成される隙間の面積が
変化し、真空比例開閉弁１８の弁開度が変化される。ま
た、ポペット弁体３３が弁座３６の水平弁座部３６ａに
当接されたときは、Ｏリング３５が押圧されることによ
り、流体の漏れが完全に遮断される。従来、Ｏリング３
５は、完全遮断を目的としてのみ使用されていた。従っ
て、Ｏリング３５からの漏れは無い方が良いものとして
認識されていた。しかし、本発明者は、Ｏリング３５に
加える力を変化させることにより、Ｏリング３５からの
漏れ量をコントロールできることを発見した。すなわ
ち、従来無くそうと努力してきたものを逆に利用するこ
とに成功したのである。詳細な説明は後述する。
【００１７】次に、本実施の形態の真空圧力制御装置に
ついて説明する。図３にシステム全体の制御装置の構成
を示し、図４に時間開閉動作弁６２の詳細な構成を示
す。始めに空気系統の構成を説明する。真空比例開閉弁
１８には、第１電磁弁６０の出力ポートが接続してい
る。第１電磁弁６０の第１入力ポート６０１には、時間
開閉動作弁６２が接続している。第１電磁弁６０の第２
入力ポート６０２には、第２電磁弁６１が接続してい
る。時間開閉動作弁６２は、図４に示すように、給気側
比例弁７４と排気側比例弁７５とで構成されている。給
気側比例弁７４の入力ポート７４ａは、供給エアに接続
している。排気側比例弁７５の出力ポート７５ａは、排
気配管に接続している。また、給気側比例弁７４の出力
ポート７４ｂと排気側比例弁７５の入力ポート７５ｂと
は共に、第１電磁弁６０の第１入力ポート６０１に接続
している。
ついて説明する。図３にシステム全体の制御装置の構成
を示し、図４に時間開閉動作弁６２の詳細な構成を示
す。始めに空気系統の構成を説明する。真空比例開閉弁
１８には、第１電磁弁６０の出力ポートが接続してい
る。第１電磁弁６０の第１入力ポート６０１には、時間
開閉動作弁６２が接続している。第１電磁弁６０の第２
入力ポート６０２には、第２電磁弁６１が接続してい
る。時間開閉動作弁６２は、図４に示すように、給気側
比例弁７４と排気側比例弁７５とで構成されている。給
気側比例弁７４の入力ポート７４ａは、供給エアに接続
している。排気側比例弁７５の出力ポート７５ａは、排
気配管に接続している。また、給気側比例弁７４の出力
ポート７４ｂと排気側比例弁７５の入力ポート７５ｂと
は共に、第１電磁弁６０の第１入力ポート６０１に接続
している。
【００１８】次に、電気系統の構成を説明する。時間開
閉動作弁６２には、パルスドライブ回路６８が接続して
いる。パルスドライブ回路６８には、位置制御回路６４
が接続している。また、位置制御回路６４には、ポテン
ショメータ５０の位置信号がアンプ６３を介して接続し
ている。また、位置制御回路６４には、真空圧力制御回
路６７が接続している。真空圧力制御回路６７には、イ
ンターフェース回路６６が接続している。また、真空圧
力制御回路６７には、圧力センサ１７が接続されてい
る。インターフェース回路６６には、シーケンス回路６
５が接続している。シーケンス回路６５は、第１電磁弁
６０の駆動コイルＳＶ１、第２電磁弁６１の駆動コイル
ＳＶ２に接続している。
閉動作弁６２には、パルスドライブ回路６８が接続して
いる。パルスドライブ回路６８には、位置制御回路６４
が接続している。また、位置制御回路６４には、ポテン
ショメータ５０の位置信号がアンプ６３を介して接続し
ている。また、位置制御回路６４には、真空圧力制御回
路６７が接続している。真空圧力制御回路６７には、イ
ンターフェース回路６６が接続している。また、真空圧
力制御回路６７には、圧力センサ１７が接続されてい
る。インターフェース回路６６には、シーケンス回路６
５が接続している。シーケンス回路６５は、第１電磁弁
６０の駆動コイルＳＶ１、第２電磁弁６１の駆動コイル
ＳＶ２に接続している。
【００１９】次に、上記構成を有する真空圧力制御制御
装置の作用を説明する。始めに、急速給排気動作につい
て説明する。全開にするときは、第１電磁弁６０をＯＦ
Ｆ状態にし、第２電磁弁６１をＯＮ状態とする。これに
より、第２電磁弁６１の第１入力ポート６１１が出力ポ
ート６１３と接続し、第１電磁弁６０の第２入力ポート
６０２が出力ポート６０３と接続し、真空比例開閉弁１
８に駆動エアが供給される。ポペット弁体３３のステン
レス弁体３４は、弁座３６から遠く離間しており、真空
ポンプ１９が真空チャンバ１１内の気体を大量に吸引
し、急速に排気することができる。
装置の作用を説明する。始めに、急速給排気動作につい
て説明する。全開にするときは、第１電磁弁６０をＯＦ
Ｆ状態にし、第２電磁弁６１をＯＮ状態とする。これに
より、第２電磁弁６１の第１入力ポート６１１が出力ポ
ート６１３と接続し、第１電磁弁６０の第２入力ポート
６０２が出力ポート６０３と接続し、真空比例開閉弁１
８に駆動エアが供給される。ポペット弁体３３のステン
レス弁体３４は、弁座３６から遠く離間しており、真空
ポンプ１９が真空チャンバ１１内の気体を大量に吸引
し、急速に排気することができる。
【００２０】次に、全閉状態について説明する。第１電
磁弁６０をＯＦＦ状態にし、第２電磁弁６１もＯＦＦ状
態とする。これにより、第２電磁弁６１の第２入力ポー
ト６１２が出力ポート６１３と接続し、第１電磁弁６０
の第２入力ポート６０２が出力ポート６０３と接続し、
真空比例開閉弁１８が排気配管に接続される。そして、
真空比例開閉弁１８に駆動エアが供給されず、パイロッ
ト弁内部の空気が排気され、ピストン４１は、復帰バネ
４２により下向きに付勢され図１に示すように、ポペッ
ト弁体３３は弁座３６の上面に当接される。このとき、
Ｏリング３５が、ポペット弁体３３と弁座３６の水平弁
座部３６ａに押圧されて変形するため、流体の漏れがな
く真空比例開閉弁１８は完全に遮断される。一方、停電
等が発生した場合にも、第１電磁弁６０及び第２電磁弁
６１は、復帰バネにより出力ポート６０３と第２入力ポ
ート６０２が連通し、かつ出力ポート６１３と第２入力
ポート６１２が連通し、同様に、真空比例開閉弁１８
は、復帰バネ４２により遮断される。これにより、緊急
時の遮断機能が実現されている。
磁弁６０をＯＦＦ状態にし、第２電磁弁６１もＯＦＦ状
態とする。これにより、第２電磁弁６１の第２入力ポー
ト６１２が出力ポート６１３と接続し、第１電磁弁６０
の第２入力ポート６０２が出力ポート６０３と接続し、
真空比例開閉弁１８が排気配管に接続される。そして、
真空比例開閉弁１８に駆動エアが供給されず、パイロッ
ト弁内部の空気が排気され、ピストン４１は、復帰バネ
４２により下向きに付勢され図１に示すように、ポペッ
ト弁体３３は弁座３６の上面に当接される。このとき、
Ｏリング３５が、ポペット弁体３３と弁座３６の水平弁
座部３６ａに押圧されて変形するため、流体の漏れがな
く真空比例開閉弁１８は完全に遮断される。一方、停電
等が発生した場合にも、第１電磁弁６０及び第２電磁弁
６１は、復帰バネにより出力ポート６０３と第２入力ポ
ート６０２が連通し、かつ出力ポート６１３と第２入力
ポート６１２が連通し、同様に、真空比例開閉弁１８
は、復帰バネ４２により遮断される。これにより、緊急
時の遮断機能が実現されている。
【００２１】次に、低真空領域、中真空領域、及び高真
空領域におけるポペット弁体３３の位置制御動作につい
て説明する。ステンレス弁体３４がテーパ面３４ａを有
しているので、ポペット弁体３３の停止する位置によ
り、弁座３６とテーパ面３４ａが形成する隙間の断面積
が僅かづつ変化する。そのため、ポペット弁体３３の停
止位置を制御することにより、弁の開度を微小量変化さ
せる制御を行うことができる。中真空領域では、テーパ
面３４ａが弁座３６に対抗する位置に停止するよう制御
し、高真空領域では、テーパ面３４ａが弁座３６から少
し離れた位置に停止するように制御している。そして、
低真空領域及びより大気圧に近い低々真空領域では、完
全遮断している状態のＯリング３５の弾性変形量を、パ
イロット弁に加えている空気圧を徐々に低減させること
により減少させることにより、Ｏリング３５からの漏れ
を発生させ、その微小の漏れ量により低真空圧力を実現
している。
空領域におけるポペット弁体３３の位置制御動作につい
て説明する。ステンレス弁体３４がテーパ面３４ａを有
しているので、ポペット弁体３３の停止する位置によ
り、弁座３６とテーパ面３４ａが形成する隙間の断面積
が僅かづつ変化する。そのため、ポペット弁体３３の停
止位置を制御することにより、弁の開度を微小量変化さ
せる制御を行うことができる。中真空領域では、テーパ
面３４ａが弁座３６に対抗する位置に停止するよう制御
し、高真空領域では、テーパ面３４ａが弁座３６から少
し離れた位置に停止するように制御している。そして、
低真空領域及びより大気圧に近い低々真空領域では、完
全遮断している状態のＯリング３５の弾性変形量を、パ
イロット弁に加えている空気圧を徐々に低減させること
により減少させることにより、Ｏリング３５からの漏れ
を発生させ、その微小の漏れ量により低真空圧力を実現
している。
【００２２】シーケンス回路６５は、インターフェース
回路６６を介して中央制御装置より、真空チャンバ１１
の真空圧力値の指示をコマンド信号として受け、第１電
磁弁６０を開き、第２電磁弁６１を閉じると共に、真空
圧力制御回路６７にその真空圧力値の指示を与える。真
空圧力制御回路６７は、インターフェース回路６６によ
り与えられた目標真空圧力値と、圧力センサ１７が計測
した真空チャンバ１１内の現在の真空圧力値を比較し
て、両者が一致するように、真空比例開閉弁１８の弁開
度を制御するため、パルスドライブ回路６８を介して時
間開閉動作弁６２の給気側比例弁７４及び排気側比例弁
７５を制御する。すなわち、真空チャンバ１１内の真空
圧力値がコマンド信号より大気圧に近い場合は、ピスト
ン４１の位置を上に移動させて真空比例開閉弁１８の弁
開度大きくし、真空チャンバ１１内の真空圧力値がコマ
ンド信号より絶対真空に近い場合は、ピストン４１の位
置を下に移動させて真空比例開閉弁１８の弁開度を小さ
くする。ここで、パルスドライブ回路６８は、真空圧力
制御回路６７からの信号を受けて、その信号をパルス信
号に変換し、開閉信号として給気側比例弁７４及び排気
側比例弁７５に供給する。給気側比例弁７４及び排気側
比例弁７５は、パルス信号に応じた時間開閉動作するこ
とで真空比例開閉弁１８への供給圧力を調節する。
回路６６を介して中央制御装置より、真空チャンバ１１
の真空圧力値の指示をコマンド信号として受け、第１電
磁弁６０を開き、第２電磁弁６１を閉じると共に、真空
圧力制御回路６７にその真空圧力値の指示を与える。真
空圧力制御回路６７は、インターフェース回路６６によ
り与えられた目標真空圧力値と、圧力センサ１７が計測
した真空チャンバ１１内の現在の真空圧力値を比較し
て、両者が一致するように、真空比例開閉弁１８の弁開
度を制御するため、パルスドライブ回路６８を介して時
間開閉動作弁６２の給気側比例弁７４及び排気側比例弁
７５を制御する。すなわち、真空チャンバ１１内の真空
圧力値がコマンド信号より大気圧に近い場合は、ピスト
ン４１の位置を上に移動させて真空比例開閉弁１８の弁
開度大きくし、真空チャンバ１１内の真空圧力値がコマ
ンド信号より絶対真空に近い場合は、ピストン４１の位
置を下に移動させて真空比例開閉弁１８の弁開度を小さ
くする。ここで、パルスドライブ回路６８は、真空圧力
制御回路６７からの信号を受けて、その信号をパルス信
号に変換し、開閉信号として給気側比例弁７４及び排気
側比例弁７５に供給する。給気側比例弁７４及び排気側
比例弁７５は、パルス信号に応じた時間開閉動作するこ
とで真空比例開閉弁１８への供給圧力を調節する。
【００２３】ここで、給気側比例弁７４及び排気側比例
弁７５は共に、パルス入力電圧に応じて弁体を弁座から
所定距離離すための機能を有する電磁弁である。パルス
ドライブ回路６８は、給気側比例弁７４を駆動すること
により、真空比例開閉弁１８に駆動エアを供給する。同
時にパルスドライブ回路６８は、排気側比例弁７５を駆
動することにより、真空比例開閉弁１８に供給される駆
動エアを排気配管に接続して駆動エアの供給圧力を調整
する。真空比例開閉弁１８に供給される駆動エアの圧力
が給気配管に接続する給気側比例弁７４と、排気配管に
接続する排気側比例弁７５とを同時に、パルスドライブ
回路６８によりパルス電圧で駆動しているので、高い応
答速度でピストン４１を所定の位置に正確に停止させる
ことができる。
弁７５は共に、パルス入力電圧に応じて弁体を弁座から
所定距離離すための機能を有する電磁弁である。パルス
ドライブ回路６８は、給気側比例弁７４を駆動すること
により、真空比例開閉弁１８に駆動エアを供給する。同
時にパルスドライブ回路６８は、排気側比例弁７５を駆
動することにより、真空比例開閉弁１８に供給される駆
動エアを排気配管に接続して駆動エアの供給圧力を調整
する。真空比例開閉弁１８に供給される駆動エアの圧力
が給気配管に接続する給気側比例弁７４と、排気配管に
接続する排気側比例弁７５とを同時に、パルスドライブ
回路６８によりパルス電圧で駆動しているので、高い応
答速度でピストン４１を所定の位置に正確に停止させる
ことができる。
【００２４】すなわち、給気側比例弁７４及び排気側比
例弁７５とが、同じ一定周期の電気パルス信号により駆
動され、その一定パルスの間で電磁弁のオン時間とオフ
時間の時間比率を換えることにより、給気側比例弁７４
と排気側比例弁７５とを通過する空気量を変化させてい
る。ここで、給気側比例弁７４と排気側比例弁７５との
デューティ比は、位置制御回路６４により次のように定
められる。弁開度指令値より弁開度を開く方向に動作さ
せるときは、給気側比例弁７４のデューティを大きくす
る。これにより、真空比例開閉弁１８に給気される空気
流量は増加し、真空比例開閉弁１８内部の空気圧力は増
加し、弁は開く方向に動作する。この結果は、ポテンシ
ョメータ５０によりフィードバックされて位置制御回路
６４に入力される。ポテンショメータ５０の計測値と弁
開度指令値とが近づくと、給気側比例弁７４のデューテ
ィ比は小さくなり、完全に一致するとデューティ比はバ
イアス値となる。
例弁７５とが、同じ一定周期の電気パルス信号により駆
動され、その一定パルスの間で電磁弁のオン時間とオフ
時間の時間比率を換えることにより、給気側比例弁７４
と排気側比例弁７５とを通過する空気量を変化させてい
る。ここで、給気側比例弁７４と排気側比例弁７５との
デューティ比は、位置制御回路６４により次のように定
められる。弁開度指令値より弁開度を開く方向に動作さ
せるときは、給気側比例弁７４のデューティを大きくす
る。これにより、真空比例開閉弁１８に給気される空気
流量は増加し、真空比例開閉弁１８内部の空気圧力は増
加し、弁は開く方向に動作する。この結果は、ポテンシ
ョメータ５０によりフィードバックされて位置制御回路
６４に入力される。ポテンショメータ５０の計測値と弁
開度指令値とが近づくと、給気側比例弁７４のデューテ
ィ比は小さくなり、完全に一致するとデューティ比はバ
イアス値となる。
【００２５】弁開度指令値より弁開度を閉じる方向に動
作させるときは、排気側比例弁７５のデューティ比を大
きくする。これにより、真空比例開閉弁１８より排気さ
れる空気流量は増加し、真空比例開閉弁１８内部の空気
圧力は減少し、弁は閉じる方向に動作する。この結果
は、ポテンショメータ５０によりフィードバックされて
位置制御回路６４に入力される。ポテンショメータ５０
の計測値と弁開度指令値とが近づくと、排気側比例弁７
５のデューティ比は小さくなり、完全に一致するとデュ
ーティ比はバイアス値となる。バイアスは、パルス信号
に対する電磁弁動作の不感帯をなくすために与えてい
る。電磁弁に不感帯があるのは、電磁弁に働く空気圧力
の面圧荷重と、電磁弁内部にある復帰バネのためであ
る。
作させるときは、排気側比例弁７５のデューティ比を大
きくする。これにより、真空比例開閉弁１８より排気さ
れる空気流量は増加し、真空比例開閉弁１８内部の空気
圧力は減少し、弁は閉じる方向に動作する。この結果
は、ポテンショメータ５０によりフィードバックされて
位置制御回路６４に入力される。ポテンショメータ５０
の計測値と弁開度指令値とが近づくと、排気側比例弁７
５のデューティ比は小さくなり、完全に一致するとデュ
ーティ比はバイアス値となる。バイアスは、パルス信号
に対する電磁弁動作の不感帯をなくすために与えてい
る。電磁弁に不感帯があるのは、電磁弁に働く空気圧力
の面圧荷重と、電磁弁内部にある復帰バネのためであ
る。
【００２６】例えば、真空チャンバ１１内の真空圧力が
コマンド信号より大気圧に近い場合、ポペット弁体３３
を少し上に移動させて弁開度を大きくし、真空ポンプ１
９により吸引するプロセスガスの量を多くすることによ
り、真空チャンバ１１内の真空圧力値をコマンド信号で
指示された真空圧力値に一致させることができる。すな
わち、真空圧力制御回路６７がパルスドライブ回路６８
を介して、給気側比例弁７４にパルス電圧を与えること
により、給気側比例弁７４の弁体を弁座から離間させ、
真空比例開閉弁１８に対して駆動エアを多く供給するこ
とができ、ピストン４１が上に移動され、ポペット弁体
３３が上に移動され、テーパ面３４ａと弁座３６とが構
成する隙間の断面積が大きくなる。ここで、給気側比例
弁７４を駆動させるだけでは、所定の位置でピストン４
１を停止させることは困難である。ピストン４１の行き
過ぎ等が発生するためである。本実施の形態の真空圧力
制御システムでは、ピストン４１が行き過ぎたとき、排
気側比例弁７５により、真空比例開閉弁１８に供給する
駆動エア圧力を下げているので、迅速かつ正確にピスト
ン４１を所定の位置で停止させることができる。
コマンド信号より大気圧に近い場合、ポペット弁体３３
を少し上に移動させて弁開度を大きくし、真空ポンプ１
９により吸引するプロセスガスの量を多くすることによ
り、真空チャンバ１１内の真空圧力値をコマンド信号で
指示された真空圧力値に一致させることができる。すな
わち、真空圧力制御回路６７がパルスドライブ回路６８
を介して、給気側比例弁７４にパルス電圧を与えること
により、給気側比例弁７４の弁体を弁座から離間させ、
真空比例開閉弁１８に対して駆動エアを多く供給するこ
とができ、ピストン４１が上に移動され、ポペット弁体
３３が上に移動され、テーパ面３４ａと弁座３６とが構
成する隙間の断面積が大きくなる。ここで、給気側比例
弁７４を駆動させるだけでは、所定の位置でピストン４
１を停止させることは困難である。ピストン４１の行き
過ぎ等が発生するためである。本実施の形態の真空圧力
制御システムでは、ピストン４１が行き過ぎたとき、排
気側比例弁７５により、真空比例開閉弁１８に供給する
駆動エア圧力を下げているので、迅速かつ正確にピスト
ン４１を所定の位置で停止させることができる。
【００２７】また、例えば、真空チャンバ１１内の真空
圧力がコマンド信号より絶対真空に近い場合、ポペット
弁体３３を少し下に移動させて弁開度を小さくし、真空
ポンプ１９により吸引するプロセスガスの量を少なくす
ることにより、真空チャンバ１１内の真空圧力値をコマ
ンド信号で指示された真空圧力値に一致させることがで
きる。すなわち、真空圧力制御回路６７がパルスドライ
ブ回路６８を介して、排気側比例弁７５にパルス電圧を
与えることにより、排気側比例弁７５の弁体を弁座から
離間させ、真空比例開閉弁１８に対して駆動エアの供給
を停止し排気を増やすことができ、ピストン４１が下に
移動され、ポペット弁体３３が下に移動され、テーパ面
３４ａと弁座３６とが構成する隙間の断面積が小さくな
る。ここで、排気側比例弁７５を駆動させるだけでは、
所定の位置でピストン４１を停止させることは困難であ
る。ピストン４１の行き過ぎ等が発生するためである。
本実施の形態の真空圧力制御システムでは、ピストン４
１が行き過ぎたとき、給気側比例弁７４により、真空比
例開閉弁１８に供給する駆動エア圧力を上げているの
で、迅速かつ正確にピストン４１を所定の位置で停止さ
せることができる。
圧力がコマンド信号より絶対真空に近い場合、ポペット
弁体３３を少し下に移動させて弁開度を小さくし、真空
ポンプ１９により吸引するプロセスガスの量を少なくす
ることにより、真空チャンバ１１内の真空圧力値をコマ
ンド信号で指示された真空圧力値に一致させることがで
きる。すなわち、真空圧力制御回路６７がパルスドライ
ブ回路６８を介して、排気側比例弁７５にパルス電圧を
与えることにより、排気側比例弁７５の弁体を弁座から
離間させ、真空比例開閉弁１８に対して駆動エアの供給
を停止し排気を増やすことができ、ピストン４１が下に
移動され、ポペット弁体３３が下に移動され、テーパ面
３４ａと弁座３６とが構成する隙間の断面積が小さくな
る。ここで、排気側比例弁７５を駆動させるだけでは、
所定の位置でピストン４１を停止させることは困難であ
る。ピストン４１の行き過ぎ等が発生するためである。
本実施の形態の真空圧力制御システムでは、ピストン４
１が行き過ぎたとき、給気側比例弁７４により、真空比
例開閉弁１８に供給する駆動エア圧力を上げているの
で、迅速かつ正確にピストン４１を所定の位置で停止さ
せることができる。
【００２８】本実施の形態の真空圧力制御装置の効果を
実験データとして、図６、図７に示す。使用しているＯ
リング３５は、サイズＪＩＳ Ｐ８０、材質はフッ素ゴ
ム、ゴム硬度７５Ｈｓ（ショアＡ）、内径７９．６ｍ
ｍ、外径９１ｍｍ、中心径８５．７ｍｍ、外周長さ２
６．９２ｍｍである。図６では、横軸にＯリング３５の
１ｃｍ当たりに加える荷重、単位Ｋｇｆ／ｃｍ、を採
り、縦軸にＯリング３５のつぶれる量を示す弾性体変形
量、単位μｍを採っている。ここで、荷重は、Ｏリング
３５に加えられた力をＯリング３５の外周長さで除した
ものである。図６に示すように、Ｏリング３５に加える
荷重と弾性変形量とはリニアな関係にあり、Ｏリング３
５に加える荷重をコントロールすることにより、任意の
弾性変形量を実現できることがわかる。
実験データとして、図６、図７に示す。使用しているＯ
リング３５は、サイズＪＩＳ Ｐ８０、材質はフッ素ゴ
ム、ゴム硬度７５Ｈｓ（ショアＡ）、内径７９．６ｍ
ｍ、外径９１ｍｍ、中心径８５．７ｍｍ、外周長さ２
６．９２ｍｍである。図６では、横軸にＯリング３５の
１ｃｍ当たりに加える荷重、単位Ｋｇｆ／ｃｍ、を採
り、縦軸にＯリング３５のつぶれる量を示す弾性体変形
量、単位μｍを採っている。ここで、荷重は、Ｏリング
３５に加えられた力をＯリング３５の外周長さで除した
ものである。図６に示すように、Ｏリング３５に加える
荷重と弾性変形量とはリニアな関係にあり、Ｏリング３
５に加える荷重をコントロールすることにより、任意の
弾性変形量を実現できることがわかる。
【００２９】図７では、横軸にＯリング３５のつぶれる
量を示す弾性体変形量、単位μｍを採り、縦軸に真空比
例開閉弁１８における流量、単位ＳＬＭ（スタンダード
リットル／分）を採っている。図７に示すデータは特定
の容量の真空比例開閉弁１８における実験値である。実
験値は、真空容器１１内を大気圧に近い低真空圧力とし
たときの真空比例制開閉弁の流量を計測している。各線
は、低真空圧力Ｐ20＝２０ＫＰａ（１５０Ｔｏｒｒ）、
Ｐ40＝４０ＫＰａ（３００Ｔｏｒｒ）、Ｐ60＝６０ＫＰ
ａ（４５０Ｔｏｒｒ）、Ｐ70＝７０ＫＰａ（５３０Ｔｏ
ｒｒ）、Ｐ93＝９３ＫＰａ（７００Ｔｏｒｒ）における
データを示している。図７に示すように、Ｏリング３５
の弾性変形量と流量とは、流量が１ＳＬＭ以上の領域で
ほぼリニアな関係にあることがわかる。従って、大気圧
に近い低真空圧力領域では、真空比例開閉弁１８を１Ｓ
ＬＭ〜１０ＳＬＭ程度の範囲で使用することが多いの
で、パイロット弁に加える空気圧と流量がほぼリニアな
関係となり、パイロット弁に加える空気圧をコントロー
ルすることにより、真空比例開閉弁１８の流量を正確に
制御でき、これにより、大気圧に近い低真空圧力領域で
真空圧を正確に制御することができる。本実施の形態に
おいては、真空容器１１内の圧力を圧力センサ１７の計
測値によりフィードバック制御しているが、目標真空圧
力または計測した真空圧力に応じて、図７における流量
を選択してフィードバックするときの係数を変化させ
て、真空圧力に最適な応答性の高い制御を行っている。
量を示す弾性体変形量、単位μｍを採り、縦軸に真空比
例開閉弁１８における流量、単位ＳＬＭ（スタンダード
リットル／分）を採っている。図７に示すデータは特定
の容量の真空比例開閉弁１８における実験値である。実
験値は、真空容器１１内を大気圧に近い低真空圧力とし
たときの真空比例制開閉弁の流量を計測している。各線
は、低真空圧力Ｐ20＝２０ＫＰａ（１５０Ｔｏｒｒ）、
Ｐ40＝４０ＫＰａ（３００Ｔｏｒｒ）、Ｐ60＝６０ＫＰ
ａ（４５０Ｔｏｒｒ）、Ｐ70＝７０ＫＰａ（５３０Ｔｏ
ｒｒ）、Ｐ93＝９３ＫＰａ（７００Ｔｏｒｒ）における
データを示している。図７に示すように、Ｏリング３５
の弾性変形量と流量とは、流量が１ＳＬＭ以上の領域で
ほぼリニアな関係にあることがわかる。従って、大気圧
に近い低真空圧力領域では、真空比例開閉弁１８を１Ｓ
ＬＭ〜１０ＳＬＭ程度の範囲で使用することが多いの
で、パイロット弁に加える空気圧と流量がほぼリニアな
関係となり、パイロット弁に加える空気圧をコントロー
ルすることにより、真空比例開閉弁１８の流量を正確に
制御でき、これにより、大気圧に近い低真空圧力領域で
真空圧を正確に制御することができる。本実施の形態に
おいては、真空容器１１内の圧力を圧力センサ１７の計
測値によりフィードバック制御しているが、目標真空圧
力または計測した真空圧力に応じて、図７における流量
を選択してフィードバックするときの係数を変化させ
て、真空圧力に最適な応答性の高い制御を行っている。
【００３０】さらに、流量１ＳＬＭ以下の領域において
も、弾性変形量と流量との関係をマップ等のデータとし
て記憶させておけば、Ｏリング３５のつぶし量を所定値
とすることにより、１ＳＬＭ以下の流量をコントロール
することも可能である。この問題は、本実施の形態のよ
うにフィードバック制御していれば生じない。また、図
７からわかるように、真空比例開閉弁１８の流量は、弾
性体変形量であるＯリング３５のつぶれ量と１対１の関
係にあるので、Ｏリング３５のつぶし量を本実施の形態
のように、パイロット弁にかける空気圧で制御せずに、
サーボモータ等を利用した直線送り装置によりＯリング
３５のつぶし量を制御しても同様である。
も、弾性変形量と流量との関係をマップ等のデータとし
て記憶させておけば、Ｏリング３５のつぶし量を所定値
とすることにより、１ＳＬＭ以下の流量をコントロール
することも可能である。この問題は、本実施の形態のよ
うにフィードバック制御していれば生じない。また、図
７からわかるように、真空比例開閉弁１８の流量は、弾
性体変形量であるＯリング３５のつぶれ量と１対１の関
係にあるので、Ｏリング３５のつぶし量を本実施の形態
のように、パイロット弁にかける空気圧で制御せずに、
サーボモータ等を利用した直線送り装置によりＯリング
３５のつぶし量を制御しても同様である。
【００３１】以上詳細に説明したように、本実施の形態
の真空圧力制御装置によれば、真空容器１１と真空ポン
プ１９とを接続する配管上にあって開度を変化させるこ
とにより真空容器内の真空圧力を変化させる真空比例開
閉弁１８と、真空容器１１内の真空圧力を計測する圧力
センサ１７とを有し、圧力センサ１７の出力に基づいて
真空比例開閉弁１８の開度を制御する真空圧力制御装置
であって、（ａ）真空比例開閉弁１８が、水平弁座部３
６ａと、水平弁座部３６ａと当接または離間するＯリン
グ３５を備える弁体とを有すること、（ｂ）真空圧力制
御装置が、圧力センサ１７の出力に基づいて、Ｏリング
３５の弾性変形量を変化させ、Ｏリング３５からの漏れ
量を変化させることにより、真空容器内１１の圧力を制
御しているので、真空容器１１内を大気圧に近い低真空
圧力領域に正確にコントロールすることができる。
の真空圧力制御装置によれば、真空容器１１と真空ポン
プ１９とを接続する配管上にあって開度を変化させるこ
とにより真空容器内の真空圧力を変化させる真空比例開
閉弁１８と、真空容器１１内の真空圧力を計測する圧力
センサ１７とを有し、圧力センサ１７の出力に基づいて
真空比例開閉弁１８の開度を制御する真空圧力制御装置
であって、（ａ）真空比例開閉弁１８が、水平弁座部３
６ａと、水平弁座部３６ａと当接または離間するＯリン
グ３５を備える弁体とを有すること、（ｂ）真空圧力制
御装置が、圧力センサ１７の出力に基づいて、Ｏリング
３５の弾性変形量を変化させ、Ｏリング３５からの漏れ
量を変化させることにより、真空容器内１１の圧力を制
御しているので、真空容器１１内を大気圧に近い低真空
圧力領域に正確にコントロールすることができる。
【００３２】また、Ｏリング３５に加える力がＯリング
３５の弾性変形量とリニアな関係にあることを利用して
いるので、制御が単純であり、制御装置を低コスト化で
きる。ここで、弾性シール部材としては、Ｏリングの他
に、例えば、断面が三角形のゴム部材を弁体下面水平部
に接着、焼き付け等しても良い。Ｏリング３５を利用す
ると、品質の安定性等を確保できる利点がある。また、
真空比例開閉弁１８が、弁体を移動するためのパイロッ
ト弁を有し、真空圧力制御装置が、パイロット弁に供給
する空気圧を変化させることにより、Ｏリング３５の弾
性変形量を変化させているので、従来の真空圧力制御シ
ステムをそのまま利用することも可能であり、コストダ
ウンできる。また、Ｏリング３５の弾性変形量を所定値
以上とすることにより、漏れを無くして真空比例開閉弁
１８を完全遮断することができる。
３５の弾性変形量とリニアな関係にあることを利用して
いるので、制御が単純であり、制御装置を低コスト化で
きる。ここで、弾性シール部材としては、Ｏリングの他
に、例えば、断面が三角形のゴム部材を弁体下面水平部
に接着、焼き付け等しても良い。Ｏリング３５を利用す
ると、品質の安定性等を確保できる利点がある。また、
真空比例開閉弁１８が、弁体を移動するためのパイロッ
ト弁を有し、真空圧力制御装置が、パイロット弁に供給
する空気圧を変化させることにより、Ｏリング３５の弾
性変形量を変化させているので、従来の真空圧力制御シ
ステムをそのまま利用することも可能であり、コストダ
ウンできる。また、Ｏリング３５の弾性変形量を所定値
以上とすることにより、漏れを無くして真空比例開閉弁
１８を完全遮断することができる。
【００３３】以上、本発明の真空圧力制御システムの実
施の形態について説明したが、本発明は上記実施の形態
に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
例えば、Ｏリングに所定の荷重を加える制御を行うので
はなく、Ｏリングを所定量弾性変形させるために、ステ
ッピングモータやサーボモータ等を用いた直線送り装置
を用いても良い。弾性シール部材としては、断面が円形
のものでなくとも良いし、断面が三角形状等のゴム部材
を接着等しても良い。
施の形態について説明したが、本発明は上記実施の形態
に限定されるものではなく、様々な変更が可能である。
例えば、Ｏリングに所定の荷重を加える制御を行うので
はなく、Ｏリングを所定量弾性変形させるために、ステ
ッピングモータやサーボモータ等を用いた直線送り装置
を用いても良い。弾性シール部材としては、断面が円形
のものでなくとも良いし、断面が三角形状等のゴム部材
を接着等しても良い。
【００３４】
【発明の効果】本発明の真空圧力制御装置によれば、真
空容器と真空ポンプとを接続する配管上にあって開度を
変化させることにより真空容器内の真空圧力を変化させ
る真空比例開閉弁と、真空容器内の真空圧力を計測する
圧力センサとを有し、圧力センサの出力に基づいて真空
比例開閉弁の開度を制御する真空圧力制御装置であっ
て、（ａ）真空比例開閉弁が、弁座と、弁座と当接また
は離間する弾性シール部材を備える弁体とを有するこ
と、（ｂ）真空圧力制御装置が、圧力センサの出力に基
づいて、弾性シール部材の弾性変形量を変化させ、弾性
シール部材からの漏れ量を変化させることにより、真空
容器内の圧力を制御しているので、真空容器内を大気圧
に近い低真空圧力領域に正確にコントロールすることが
できる。
空容器と真空ポンプとを接続する配管上にあって開度を
変化させることにより真空容器内の真空圧力を変化させ
る真空比例開閉弁と、真空容器内の真空圧力を計測する
圧力センサとを有し、圧力センサの出力に基づいて真空
比例開閉弁の開度を制御する真空圧力制御装置であっ
て、（ａ）真空比例開閉弁が、弁座と、弁座と当接また
は離間する弾性シール部材を備える弁体とを有するこ
と、（ｂ）真空圧力制御装置が、圧力センサの出力に基
づいて、弾性シール部材の弾性変形量を変化させ、弾性
シール部材からの漏れ量を変化させることにより、真空
容器内の圧力を制御しているので、真空容器内を大気圧
に近い低真空圧力領域に正確にコントロールすることが
できる。
【図１】本発明で使用する真空比例開閉弁の構成を示す
断面図である。
断面図である。
【図２】本発明で使用する真空比例開閉弁の弁座付近の
構成を示す断面図である。
構成を示す断面図である。
【図３】本発明の真空圧力制御装置のハードウェアを示
すブロック図である。
すブロック図である。
【図４】時間開閉動作弁の構成を示すブロック図であ
る。
る。
【図５】本発明の真空圧力制御装置が使用される真空圧
力制御システムの全体構成を示すブロック図である。
力制御システムの全体構成を示すブロック図である。
【図６】本発明の効果を示す第１データ図である。
【図７】本発明の効果を示す第２データ図である。
【図８】従来の弁座付近の構成を示す第１図である。
【図９】従来の弁座付近の構成を示す第２図である。
１１ 真空チャンバ １７ 圧力センサ １８ 真空比例開閉弁 １９ 真空ポンプ ３１ ベローズ式ポペット弁 ３２ パイロットシリンダ ３３ ポペット弁体 ３４ ステンレス弁体 ３４ａ テーパ面 ３５ Ｏリング ３６ 弁座 ３６ａ 水平弁座部 ５０ ポテンショメータ ６２ 時間開閉動作弁 ６４ 位置制御回路 ７４ 給気側比例弁 ７５ 排気側比例弁
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3H052 AA01 BA03 CA24 DA06 EA01 EA09 3H066 AA01 BA38 5H316 AA20 BB01 DD12 DD20 EE09 EE12 FF01 FF37 GG12 HH02 HH11 JJ08 KK10
Claims (5)
- 【請求項１】 真空容器と真空ポンプとを接続する配管
上にあって開度を変化させることにより真空容器内の真
空圧力を変化させる真空比例開閉弁と、真空容器内の真
空圧力を計測する圧力センサとを有し、圧力センサの出
力に基づいて真空比例開閉弁の開度を制御する真空圧力
制御装置において、 （１）前記真空比例開閉弁が、弁座と、前記弁座と当接
または離間する弾性シール部材を備える弁体とを有する
こと、 （２）前記真空圧力制御装置が、前記圧力センサの出力
に基づいて、前記弾性シール部材の弾性変形量を変化さ
せ、前記弾性シール部材からの漏れ量を変化させること
により、前記真空容器内の圧力を制御すること、を特徴
とする真空圧力制御装置。 - 【請求項２】 請求項１に記載する真空圧力制御装置に
おいて、 前記弾性シール部材に加える力を変化させることによ
り、前記弾性シール部材の弾性変形量を変化させること
を特徴とする真空圧力制御装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載する真空圧力制御装置に
おいて、 前記真空比例開閉弁が、前記弁体を移動するためのパイ
ロット弁を有し、 前記真空圧力制御装置が、前記パイロット弁に供給する
空気圧を変化させることにより、前記弾性シール部材の
弾性変形量を変化させることを特徴とする真空圧力制御
装置。 - 【請求項４】 請求項１乃至請求項３のいずれか１つに
記載する真空圧力制御装置において、 前記弾性シール部材が、Ｏリングであることを特徴とす
る真空圧力制御装置。 - 【請求項５】 請求項１乃至請求項４のいずれか１つに
記載する真空圧力制御装置において、 前記弾性シール部材の弾性変形量を所定値以上とするこ
とにより、前記漏れを無くして前記真空比例開閉弁を遮
断することを特徴とする真空圧力制御装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32369098A JP3619032B2 (ja) | 1998-11-13 | 1998-11-13 | 真空圧力制御弁 |
| TW088118436A TW468016B (en) | 1998-11-13 | 1999-10-26 | Vacuum pressure controller |
| KR1019990047011A KR100548731B1 (ko) | 1998-11-13 | 1999-10-28 | 진공 압력 제어 장치 |
| US09/438,956 US6508268B1 (en) | 1998-11-13 | 1999-11-12 | Vacuum pressure control apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32369098A JP3619032B2 (ja) | 1998-11-13 | 1998-11-13 | 真空圧力制御弁 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001225688A Division JP3777311B2 (ja) | 2001-07-26 | 2001-07-26 | 真空圧力制御弁 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000148254A true JP2000148254A (ja) | 2000-05-26 |
| JP3619032B2 JP3619032B2 (ja) | 2005-02-09 |
Family
ID=18157519
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32369098A Expired - Lifetime JP3619032B2 (ja) | 1998-11-13 | 1998-11-13 | 真空圧力制御弁 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6508268B1 (ja) |
| JP (1) | JP3619032B2 (ja) |
| KR (1) | KR100548731B1 (ja) |
| TW (1) | TW468016B (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004079243A1 (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-16 | Ckd Corporation | 流量制御弁 |
| US6877715B2 (en) | 2002-04-18 | 2005-04-12 | Smc Kabushiki Kaisha | Vacuum regulating valve |
| KR100624039B1 (ko) * | 2001-09-19 | 2006-09-18 | 에스엠시 가부시키가이샤 | 포핏형 밸브 밀봉기구 |
| JP2011134183A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-07 | Ckd Corp | スロー排気機能付き真空制御バルブ |
| CN103912720A (zh) * | 2010-01-15 | 2014-07-09 | Ckd株式会社 | 真空控制阀以及真空控制系统 |
| CN105074305A (zh) * | 2013-03-21 | 2015-11-18 | Vat控股公司 | 真空阀 |
| CN105240587A (zh) * | 2015-11-13 | 2016-01-13 | 天津智源工贸有限公司 | 抽真空联接阀 |
| KR20170094761A (ko) | 2016-02-11 | 2017-08-21 | 시케이디 가부시키가이샤 | 진공 압력 제어 장치 |
| US10167958B2 (en) | 2016-02-11 | 2019-01-01 | Ckd Corporation | Vacuum pressure control apparatus |
| JP2020065019A (ja) * | 2018-10-19 | 2020-04-23 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
| CN116092768A (zh) * | 2023-04-12 | 2023-05-09 | 江西联创光电超导应用有限公司 | 一种低温磁体杜瓦装置及真空度控制方法 |
Families Citing this family (43)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6779541B2 (en) * | 2001-10-12 | 2004-08-24 | Smc Kabushiki Kaisha | Fluid pressure regulator |
| US6821347B2 (en) * | 2002-07-08 | 2004-11-23 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and method for depositing materials onto microelectronic workpieces |
| US6955725B2 (en) * | 2002-08-15 | 2005-10-18 | Micron Technology, Inc. | Reactors with isolated gas connectors and methods for depositing materials onto micro-device workpieces |
| US7040596B2 (en) * | 2002-11-29 | 2006-05-09 | Keihin Corporation | Solenoid valve for fuel cell |
| US6926775B2 (en) * | 2003-02-11 | 2005-08-09 | Micron Technology, Inc. | Reactors with isolated gas connectors and methods for depositing materials onto micro-device workpieces |
| US7331949B2 (en) * | 2003-02-27 | 2008-02-19 | Margaret Grahn Marisi | Urinary catheter with check valve |
| US7335396B2 (en) * | 2003-04-24 | 2008-02-26 | Micron Technology, Inc. | Methods for controlling mass flow rates and pressures in passageways coupled to reaction chambers and systems for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers |
| US7344755B2 (en) * | 2003-08-21 | 2008-03-18 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for processing microfeature workpieces; methods for conditioning ALD reaction chambers |
| US7235138B2 (en) * | 2003-08-21 | 2007-06-26 | Micron Technology, Inc. | Microfeature workpiece processing apparatus and methods for batch deposition of materials on microfeature workpieces |
| US7422635B2 (en) * | 2003-08-28 | 2008-09-09 | Micron Technology, Inc. | Methods and apparatus for processing microfeature workpieces, e.g., for depositing materials on microfeature workpieces |
| US7056806B2 (en) * | 2003-09-17 | 2006-06-06 | Micron Technology, Inc. | Microfeature workpiece processing apparatus and methods for controlling deposition of materials on microfeature workpieces |
| US7581511B2 (en) * | 2003-10-10 | 2009-09-01 | Micron Technology, Inc. | Apparatus and methods for manufacturing microfeatures on workpieces using plasma vapor processes |
| US7258892B2 (en) * | 2003-12-10 | 2007-08-21 | Micron Technology, Inc. | Methods and systems for controlling temperature during microfeature workpiece processing, e.g., CVD deposition |
| US20050249873A1 (en) * | 2004-05-05 | 2005-11-10 | Demetrius Sarigiannis | Apparatuses and methods for producing chemically reactive vapors used in manufacturing microelectronic devices |
| US8133554B2 (en) | 2004-05-06 | 2012-03-13 | Micron Technology, Inc. | Methods for depositing material onto microfeature workpieces in reaction chambers and systems for depositing materials onto microfeature workpieces |
| US7699932B2 (en) * | 2004-06-02 | 2010-04-20 | Micron Technology, Inc. | Reactors, systems and methods for depositing thin films onto microfeature workpieces |
| US7253107B2 (en) * | 2004-06-17 | 2007-08-07 | Asm International N.V. | Pressure control system |
| JP4335085B2 (ja) * | 2004-07-05 | 2009-09-30 | シーケーディ株式会社 | 真空圧力制御システム |
| US9493936B2 (en) * | 2004-10-08 | 2016-11-15 | Sdb Ip Holdings, Llc | System, method, and apparatus for monitoring wear in a flush valve using pressure detection |
| US20060165873A1 (en) * | 2005-01-25 | 2006-07-27 | Micron Technology, Inc. | Plasma detection and associated systems and methods for controlling microfeature workpiece deposition processes |
| US20070131281A1 (en) * | 2005-12-13 | 2007-06-14 | Delaware Capital Formation, Inc. | Underground fuel tank vent valve |
| US7841578B2 (en) * | 2006-03-31 | 2010-11-30 | Smc Corporation | Vacuum valve |
| KR100916658B1 (ko) | 2007-05-08 | 2009-09-08 | 한국표준과학연구원 | 미세압력 발생 및 제어 장치 |
| TWI376581B (en) * | 2007-06-05 | 2012-11-11 | Ckd Corp | Vacuum pressure control system |
| US20090057600A1 (en) * | 2007-08-29 | 2009-03-05 | Ckd Corporation | Vacuum opening/closing valve |
| KR100929965B1 (ko) * | 2008-04-14 | 2009-12-04 | 서문원 | 물 공급량 조절장치 및 이를 구비한 진공펌프 |
| US20100051110A1 (en) * | 2008-09-04 | 2010-03-04 | Ch2M Hill, Inc. | Gas actuated valve |
| KR101302250B1 (ko) | 2008-09-30 | 2013-09-02 | 가와사키 쥬코교 가부시키가이샤 | 로봇용 모니터링 장치 |
| JP2010092406A (ja) * | 2008-10-10 | 2010-04-22 | Ckd Corp | 流量制御装置 |
| JP5243201B2 (ja) * | 2008-11-21 | 2013-07-24 | Ｃｋｄ株式会社 | 真空弁 |
| KR101281944B1 (ko) * | 2010-01-15 | 2013-07-03 | 시케이디 가부시키가이샤 | 진공 제어 시스템 및 진공 제어 방법 |
| PL2361598T3 (pl) | 2010-02-22 | 2017-06-30 | Mc Health Tech, S.L. | Urządzenie nośne do zespołu do zabiegów na skórze |
| US9464422B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-10-11 | Sdb Ip Holdings, Llc | System and method for a diaphragm valve controlled through measurement of water pressure and solenoid opening time |
| JP5909213B2 (ja) * | 2013-07-24 | 2016-04-26 | Ckd株式会社 | 真空弁の外部シール構造 |
| CN103708713A (zh) * | 2013-12-26 | 2014-04-09 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 夹持机构、液晶面板切割机以及液晶面板切割工艺 |
| WO2017066252A1 (en) * | 2015-10-13 | 2017-04-20 | Hyperloop Technologies, Inc. | Adjustable variable atmospheric condition testing apparatus and method |
| US10006564B2 (en) | 2016-08-10 | 2018-06-26 | Ckd Corporation | Corrosion resistant coating for process gas control valve |
| CN108825795B (zh) * | 2018-09-10 | 2024-02-23 | 陕西博菲特流体控制装备制造有限公司 | 三角型双密封笼式阀 |
| JP7238461B2 (ja) * | 2019-02-25 | 2023-03-14 | 株式会社島津製作所 | バルブ制御装置および真空バルブ |
| CN111677925B (zh) * | 2019-03-11 | 2022-09-09 | 台湾气立股份有限公司 | 一种真空电控比例阀 |
| US11466426B2 (en) | 2019-05-09 | 2022-10-11 | Caterpillar Trimble Control Technologies Llc | Material moving machines and pilot hydraulic switching systems for use therein |
| KR20220125866A (ko) | 2021-03-04 | 2022-09-15 | 삼성전자주식회사 | 진공 밸브 및 이를 구비한 반도체 제조 장치 |
| KR102612872B1 (ko) | 2021-08-25 | 2023-12-14 | (주)티티에스 | 밸브 및 기판 처리 설비 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5363872A (en) * | 1993-03-16 | 1994-11-15 | Applied Materials, Inc. | Low particulate slit valve system and method for controlling same |
| US5383648A (en) * | 1994-01-21 | 1995-01-24 | Milton Roy Company | Valve for controlling flow |
| JP2677536B2 (ja) * | 1995-09-01 | 1997-11-17 | シーケーディ株式会社 | 真空圧力制御システム |
| US6032419A (en) * | 1997-04-08 | 2000-03-07 | Tokyo Electron Limited | Vacuum processing apparatus with low particle generating vacuum seal |
-
1998
- 1998-11-13 JP JP32369098A patent/JP3619032B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1999
- 1999-10-26 TW TW088118436A patent/TW468016B/zh not_active IP Right Cessation
- 1999-10-28 KR KR1019990047011A patent/KR100548731B1/ko active IP Right Grant
- 1999-11-12 US US09/438,956 patent/US6508268B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100624039B1 (ko) * | 2001-09-19 | 2006-09-18 | 에스엠시 가부시키가이샤 | 포핏형 밸브 밀봉기구 |
| US6877715B2 (en) | 2002-04-18 | 2005-04-12 | Smc Kabushiki Kaisha | Vacuum regulating valve |
| WO2004079243A1 (ja) * | 2003-03-07 | 2004-09-16 | Ckd Corporation | 流量制御弁 |
| US7090190B2 (en) | 2003-03-07 | 2006-08-15 | Ckd Corporation | Flow control valve |
| JP2011134183A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-07 | Ckd Corp | スロー排気機能付き真空制御バルブ |
| CN103912720A (zh) * | 2010-01-15 | 2014-07-09 | Ckd株式会社 | 真空控制阀以及真空控制系统 |
| CN105074305A (zh) * | 2013-03-21 | 2015-11-18 | Vat控股公司 | 真空阀 |
| CN105240587A (zh) * | 2015-11-13 | 2016-01-13 | 天津智源工贸有限公司 | 抽真空联接阀 |
| KR20170094761A (ko) | 2016-02-11 | 2017-08-21 | 시케이디 가부시키가이샤 | 진공 압력 제어 장치 |
| US10167958B2 (en) | 2016-02-11 | 2019-01-01 | Ckd Corporation | Vacuum pressure control apparatus |
| JP2020065019A (ja) * | 2018-10-19 | 2020-04-23 | 株式会社Ｋｏｋｕｓａｉ Ｅｌｅｃｔｒｉｃ | 基板処理装置及び半導体装置の製造方法 |
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