JP2000144089A - 接着剤組成物 - Google Patents
接着剤組成物Info
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Abstract
する。 【解決手段】 高屈折率樹脂成分として下記一般式
(1)で示されるポリチオール化合物と1成分中に2個
以上のエポキシ基を有する化合物を少なくとも含有する
ことを特徴とする接着剤組成物。 [式中、Xは−(CH2CH2S)n−Hであり、Yは
−(CH2)m−であり、mは1〜5の整数で、nは0
〜2の整数である]
Description
スチック等からなる光学材料や電子材料等の材料の貼り
合わせや結合に用いられる接着剤組成物に関する。特に
光学設計上高い屈折率を必要とされる用途に使用される
接着剤組成物に関する。
せや光ファイバと光導波路等の各種光部品との結合には
接着剤が使用されることが多い。また光学材料と電子材
料等の材料同士、及びこれらの材料と他の材料とを接着
剤により接着させることも多くなってきた。これらの接
着剤の中で光が通過する部分の接着剤は、光学透明性の
他に光学設計上最適な屈折率を有するものでなければな
らない。従来これらの用途の接着剤として、熱可塑性天
然樹脂であるカナダバルサムやエポキシ樹脂接着剤、ア
クリル樹脂接着剤等が知られている。
ら光学設計上屈折率として1.60以上の高屈折率を有
する接着剤が望まれている。しかしながら、カナダバル
サムの屈折率は1.52であり、またエポキシ樹脂接着
剤やアクリル樹脂接着剤の屈折率は1.50〜1.59
の範囲であり、十分な接着力と1.60以上の高い屈折
率を両立して有する接着剤はほとんど知られていなかっ
た。なお、屈折率のみに着目して屈折率1.60以上の
材料を用いた接着剤が、例えば特開平−111189号
等において提案されているが、これらの接着剤では、屈
折率制御に力点が置かれて、接着力が不十分であった
り、光学透明性が劣ったり、更に、作業環境上有害な溶
剤や揮発性の高いモノマー類を含有する等の問題を有す
るものであった。このような状況から、透明で高屈折率
でありながら、優れた接着力を有し、揮発性の溶剤を含
有しない接着剤が求められていた。
問題を解決した、光学用途で使用できる良好な透明性を
有し、高屈折率で高い接着力を有する接着剤組成物を提
供することにある。特に、硬化後の屈折率として1.6
0以上を有する接着剤組成物を提供するものである。
解決を鋭意検討した結果、特定構造のポリチオール化合
物とエポキシ化合物との組み合わせにより高屈折率で高
接着性を示す接着剤組成物が得られることを見出し、本
発明に至ったものである。すなわち、本発明の第一の接
着剤組成物は、下記一般式(1)で示されるポリチオー
ル化合物(A)と、1分子中に2個以上のエポキシ基を
有する化合物(B)を少なくとも含有することを特徴と
する接着剤組成物である。第二の接着剤組成物は、下記
一般式(1)で示されるポリチオール化合物(A)と、
1分子中に2個以上のエポキシ基を有する化合物(B)
と、1分子中に2個以上のビニル基を有する化合物
(C)を少なくとも含有することを特徴とする。また、
好ましい形態としての第三の接着剤組成物は、上述の第
1又は第2の接着剤組成物において1分子中に2個以上
のエポキシ基を有する化合物(B)が硫黄原子を1個以
上含有するものを使用するものであり、更に第四の接着
剤組成物は、上述の第2の接着剤組成物において1分子
中に2個以上のビニル基を有する化合物(C)が硫黄原
子を1個以上含有するものを用いることを特徴とするも
のである。
(CH2)m−であり、mは1〜5の整数であり、nは
0〜2の整数である]
に説明する。本発明の接着剤組成物に使用されるポリチ
オール化合物(A)は、屈折率を高める主材料であり、
下記一般式(1)で示される構造のものが使用される。
(CH2)m−であり、mは1〜5の整数であり、nは
0〜2の整数である]
られるが、これに限定されるものではない。
えば次の方法により合成される。すなわち、ジアリルジ
スルフィドに臭素を反応させ、環化二量化した臭素化物
にチオ尿素を反応させイソチウロニウム塩を生成させ
る。これを水酸化ナトリウム水溶液で加水分解した後、
塩酸酸性にすることにより目的のポリチオール化合物を
得ることが出来る。また(A−2)(A−3)は(A−
1)を原料として合成することが出来る。
化合物(B)としては、エポキシ基を2個以上有する分
子構造を有する化合物を適宜用いることができる。具体
的には、ビフェノール、ビスフェノールA、水添ビスフ
ェノ−ルA、ビスフェノールF、ビスフェノールAD、
ビスフェノールS、テトラメチルビスフェノールA、テ
トラメチルビスフェノールF、テトラクロロビスフェノ
ールA、テトラブロモビスフェノールA等のビスフェノ
ール類のジグリシジルエーテル類、フェノールノボラッ
ク、クレゾールノボラック、ブロム化フェノールノボラ
ック、オルトクレゾールノボラック等のノボラック樹脂
のポリグリシジルエーテル類、エチレングリコール、ポ
リエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブ
タンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチ
ルグリコール、トリメチロールプロパン、1,4−シク
ロヘキサンジメタノール、ビスフェノールAのエチレン
オサイド付加物、ビスフェノールAのプロピレンオキサ
イド付加物等のアルキレングリコール類のジグリシジル
エーテル類、ヘキサヒドロフタル酸のグリシジルエステ
ルやダイマー酸のジグリシジルエステル等のグリシジル
エステル類が挙げられる。
チル―3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシ
レート、3,4―エポキシシクロヘキシルエチル―
3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレー
ト、3,4―エポキシ―6―メチルシクロヘキシル―
3’,4’―エポキシ―6’―メチルシクロヘキサンカ
ルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、
3,4−エポキシ−4−メチルシクロヘキシル−2−プ
ロピレンオキサイド、2―(3,4―エポキシシクロヘ
キシル―5,5―スピロ―3,4−エポキシ)シクロヘ
キサン―m―ジオキサン、ビス(3,4―エポキシシク
ロヘキシル)アジペート、ビス(3,4―エポキシシク
ロヘキシルメチル)アジペート、ラクトン変性3,4―
エポキシシクロヘキシルメチル―3’,4’−エポキシ
シクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,
4―エポキシシクロヘキサン)、エチレンビス(3,4
―エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、ジシク
ロペンタジエンジエポキシド、ビス(3,4―エポキシ
シクロヘキシル)エーテル、ビス(3,4―エポキシシ
クロヘキシルメチル)エーテル、テトラ(3,4―エポ
キシシクロヘキシルメチル)ブタンテトラカルボキシレ
ート、ビス(3,4―エポキシシクロヘキシルメチル)
―4,5―エポキシテトラヒドロフタレート、ビス
(3,4―エポキシシクロヘキシル)ジエチルシロキサ
ン等の脂環式エポキシ化合物も挙げられる。
には、これらのエポキシ基を有する化合物の中でも比較
的屈折率の高いビスフェノールAやハロゲン含有のテト
ラクロロビスフェノールA、テトラブロモビスフェノー
ルA等のジグリシジルエーテル類を使用することが好ま
しい。また、ビスフェノールSのグリシジルエーテルの
ような硫黄原子を1個以上含有するエポキシ基を有する
化合物を使用することも好ましい。
含有のエポキシ基を有する化合物が特に好ましい。
く、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜6のアルキ
ル基を表し、nは0〜10の整数を表す) 具体的には、ビス[4−(2,3−エポキシプロピルチ
オ)フェニル]スルフィド、ビス[4−(2,3−エポキシ
プロピルチオ)−3−メチルフェニル]スルフィド、ビス
[4−(2,3−エポキシプロピルチオ)―3,5−ジメ
チルフェニル]スルフィド、ビス[4−(2,3−エポキ
シプロピルチオ)−2,3,5,6−テトラメチルフェ
ニル]スルフィド、ビス[4−(2,3−エポキシプロピ
ルチオ)−3,5−ジブロモフェニル]スルフィド、ビス
[4−(2,3−エポキシプロピルチオ)−2,3,5,
6−テトラブロモフェニル]スルフィド、ビス[4−
(2,3−エポキシプロピルチオ)−2,3,5,6−テ
トラクロロフェニル]スルフィド等が好適に使用される
が、これらに限定されるものではない。なお上記(2)
式のエポキシ化合物の製造方法は、例えばビス(4−メ
ルカプトフェニル)スルフィドにエピクロルヒドリンを
付加反応させた後、閉環反応を行う方法が挙げられる
が、これに限定されるものではない。
ビニル基を有する化合物(C)としては、(メタ)アク
リレート化合物、ビニルエーテル化合物等が使用可能で
ある。(メタ)アクリレート化合物としては、トリエチ
レングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレン
グリコールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリ
コールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコ
ールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコー
ルジ(メタ)アクリレート、1,3−ブタンジオールジ
(メタ)アクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メ
タ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メ
タ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジ(メタ)
アクリレート、ジメチロールトリシクロデカンジ(メ
タ)アクリレート、ビスフェノールAのエチレンオキサ
イド付加物ジ(メタ)アクリレート、ビスフェノールA
のプロピレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリレート
等のジ(メタ)アクリレート化合物、トリメチロールプ
ロパントリ(メタ)アクリレート、エチレンオキサイド
変成トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、
ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジ
トリメチロールプロパンテトラ(メタ)アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート等
の3官能以上の(メタ)アクリレート化合物等のモノマ
ー類と、エポキシ(メタ)アクリレート、ウレタン(メ
タ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレー
ト、ポリエーテル(メタ)アクリレート、ポリブタジエ
ン(メタ)アクリレート、シリコーン(メタ)アクリレ
ート等の名称で呼ばれる(メタ)アクリルオリゴマーが
挙げられるが、これらに限定されるものではない。
ばジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレ
ングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニ
ルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シク
ロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロ
ールプロパントリビニルエーテル等が挙げられる。また
アライド・シグナル社から市販されているベクトマー4
010、4020、4030等のジビニルエーテルのエ
ステル化合物も使用可能であるが、これらに限定される
ものではない。
には、これらのビニル基を有する化合物の中でも比較的
屈折率の高いものを選択することが好ましい。すなわち
上記の(メタ)アクリレート化合物の中では、ビスフェ
ノールAのエチレンオキサイド付加物ジ(メタ)アクリ
レート、ビスフェノールAのプロピレンオキサイド付加
物ジ(メタ)アクリレート等のジ(メタ)アクリレート
化合物等が好ましい。
る化合物が硫黄原子を1個以上含有するものであること
が高屈折率とする上でより好ましい。具体的には下記構
造式(3)及び(4)に示される化合物が挙げられる。
く、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜6のアルキ
ル基を表し、nは0〜10の整数を表す)
く、水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜6のアルキ
ル基を表す)
物の具体例としては、ビス(4−ビニルチオフェニル)
スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラクロロ−4
−ビニルチオフェニル)スルフィド、ビス(2,3,
5,6−テトラブロモ−4−ビニルチオフェニル)スル
フィド、また、構造式(4)で表わされる化合物の具体
例としては、ビス(4−メタクリロイルチオフェニル)
スルフィド、ビス(2,3,5,6−テトラクロロ−4
−メタクリロイルチオフェニル)スルフィド、ビス
(2,3,5,6−テトラブロモ−4−メタクリロイル
チオフェニル)スルフィド等が挙げられる。なお上記構
造式(3)で表わされるビニルスルフィド化合物の製造
方法は、例えば、アルカリの存在下、ビス(4−メルカ
プトフェニル)スルフィドとジクロロエタンとを反応さ
せた後、アルカリで脱塩化水素処理する方法が挙げられ
る。また構造式(4)で表わされるメタクリレート化合
物については、アルカリの存在下、ビス(4−メルカプ
トフェニル)スルフィドとメタクリル酸クロライドとを
反応させる方法が挙げられるが、これらに限定されるも
のではない。
整、硬化条件の制御、接着力制御、硬化物の熱的、力学
的特性制御等のために以下に示す反応性希釈剤や重合開
始剤、硬化促進剤、接着力向上剤等の各種材料を添加す
ることが可能である。反応性希釈剤は、接着剤としての
粘度調整、硬化条件の制御や接着力の制御のために添加
されるもので、本発明の接着剤組成物が重合硬化する際
に関与する官能基を少なくとも一つ以上含有する化合物
で、本発明の接着剤組成物の必須成分を混合したものよ
りも粘度が低いものが用いられる。具体的にはチオール
基、エポキシ基または、ビニル基を有する化合物等が使
用可能である。
ばプロピルメルカプタン、ブチルメルカプタン、ペンチ
ルメルカプタン、オクチルメルカプタン、3−メルカプ
トブタノール、1,2−エタンジチオール、1,3−プ
ロパンジチオール、1,4−ブタンジチオール、1,6
−ヘキサンジチオール、1,8−オクタンジチオール、
1,2−シクロヘキサンジチオール、エチレングリコー
ルビスチオグリコレート、エチレングリコールビスチオ
プロピオネート、ブタンジオールビスチオグリコレー
ト、ビス(2−メルカプトエチル)スルフィド、ビス
(3−メルカプトプロピル)スルフィド、1,2−ビス
[(2−メルカプトエチル)チオ]−3−メルカプトプロ
パン、1,3−キシリレンジチオール、1,2−ベンゼ
ンジチオール等を挙げることが出来る。また東レチオコ
ール社のチオコールLP−3のようなオリゴマーも使用
可能である。
ルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、フ
ェニルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシ
ジルエーテル、2−エチルヘキシルジグリコールグリシ
ジルエーテル、sec−ブチルフェニルグリシジルエー
テル、tert−ブチルフェニルグリシジルエーテル、
2−メチルオクチルグリシジルエーテル、高級アルコー
ルのグリシジルエーテル等が挙げられる。
(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、
n−ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)
アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレー
ト、イソデシル(メタ)アクリレート、n−ラウリル
(メタ)アクリレート、トリデシル(メタ)アクリレー
ト、メトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレー
ト、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、テトラヒド
ロフルフリル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)
アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレー
ト、イソボルニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキ
シエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピ
ル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メ
タ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アク
リレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレー
ト、(メタ)アクリル酸、2−(メタ)アクリロイロキ
シエチルコハク酸、2−(メタ)アクリロイロキシエチ
ルヘキサヒドロフタル酸、グリシジル(メタ)アクリレ
ート、2−(メタ)アクリロイロキシエチルアシッドホ
スフェート等の(メタ)アクリレート化合物、スチレ
ン、α−メチルスチレン、α−メチルスチレンダイマ
ー、ビニルトルエン、クロロスチレン、ブロモスチレ
ン、クロロメチルスチレン、メトキシスチレン、ジビニ
ルベンゼン等の芳香族ビニル化合物、シクロヘキセン、
4−ビニルシクロヘキサン、1,5−シクロオクタジエ
ン、5−ビニルシクロ[2,2,1]ヘプト−2−エン等
の脂環式ビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテ
ル、n−プロピルビニルエーテル、n−ブチルビニルエ
ーテル、イソブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエ
ーテル、tert−アミルビニルエーテル、n−オクタデシ
ルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、
エチレングリコールモノビニルエーテル、ブタンジオー
ルモノビニルエーテル、ヘキサンジオールモノビニルエ
ーテル、エチレングリコールブチルビニルエーテル、ト
リエチレングリコールメチルビニルエーテル、シクロヘ
キサンジメタノールモノビニルエーテル、2−エチルヘ
キシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテ
ル、プロペニルエーテルプロピレンカーボネート、アミ
ノプロピルビニルエーテル、2−ジエチルアミノエチル
ビニルエーテル等のビニルエーテル化合物が挙げられ
る。
ロヘキサン、3−シクロヘキセニルメチル(メタ)アク
リレート、メチルグリシジル(メタ)アクリレート、ア
リル(メタ)アクリレート、3,4−エポキシシクロヘ
キシルメチル(メタ)アクリレート、メタクリル酸ビニ
ル、2−イソシアナトエチル(メタ)アクリレート等の
同一分子内に複数の異なる反応性官能基を有する化合物
も使用できる。
分の重合・硬化を促進するためにラジカル重合開始剤を
使用することが出来る。すなわち、ベンゾフェノン、ベ
ンジル、ミヒラーズケトン、2−クロロチオキサント
ン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンゾインエチ
ルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾ
インイソブチルエーテル、2,2−ジエトキシアセトフ
ェノン、ベンジルジメチルケタール、2,2−ジメトキ
シ−1,2−ジフェニルエタン−1−オン、2−ヒドロ
キシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、
1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メ
チル−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モル
フォリノプロパノン−1、1−〔4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)−フェニル〕−2−ヒドロキシ−2−メチル
−1−プロパン−1−オン、ビス(シクロペンタジエニ
ル)−ビス(2,6−ジフルオロ−3−(ピル−1−イ
ル)チタニウム、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−
1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ
ィンオキサイド等の光重合開始剤、2,2’−アゾビス
イソブチロニトリル、2,2’−アゾビスイソバレロニ
トリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロ
ニトリル)、ジメチル−2,2’−アゾビスイソブチレ
ート、(1−フェニルエチル)アゾジフェニルメタン、
1,1−アゾビス(1−シクロヘキサンカルボニトリ
ル)、2−(カルバモイルアゾ)−イソブチロニトリ
ル、2,2’−アゾビス(2,4,4−トリメチルペン
タン)、2−フェニルアゾ−2,4−ジメチル−4−メ
トキシバレロニトリル、2,2’−アゾビス(2−メチ
ルプロパン)等のアゾ化合物、メチルエチルケトンパー
オキサイド、メチルイソブチルケトンパーオキサイド、
シクロヘキサンパーオキサイド等のケトンパーオキサイ
ド類、ベンゾイルパーオキサイド、2,4−ジクロロベ
ンゾイルパーオキサイド、p−クロロベンゾイルパーオ
キサイド等のジアシルパーオキサイド類、tert−ブチル
パーベンゾエート、tert−ブチルパーオキシ−2−エチ
ルヘキソエート等のパーエステル類、tert−ブチルハイ
ドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド等
のハイドロパーオキサイド類、ジ―tert―ブチルパーオ
キサイド、ジ―sec―ブチルパーオキサイド、ジクミル
パーオキサイド等のジアルキルパーオキサイド類、ジア
リールパーオキサイド類等の熱重合開始剤が使用でき
る。
ミン類、イミダゾール類等の化合物を使用して、接着後
の熱的・力学的特性を調整することが出来る。アミン類
としては、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラ
ミン、テトラエチレンペンタミン、ペンタエチレンヘキ
サミン、ジプロピレンジアミン、ジメチルアミノプロピ
ルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、イミノビス
プロピルアミン、ビス(ヘキサメチレン)トリアミン、
1,3,6−トリスアミノメチルヘキサン、トリメチル
ヘキサメチレンジアミン、アミノエチルエタノールアミ
ン、ジエチレングリコール・ビスプロピレンジアミン、
メンセンジアミン、イソホロンジアミン、1,3−ジア
ミノシクロヘキサン、ビス(4−アミノ−3−メチルシ
クロヘキシル)メタン、N−アミノエチルピペラジン、
m−キシリレンジアミン、テトラクロロ−p−キシリレ
ンジアミン、メタフェニレンジアミン、メチレンジアニ
リン、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニル
スルホン、3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,
4,8,10−テトラスピロ[5,5]ウンデカン等の第
一アミン類、これらのポリアミンのエポキシ樹脂、エチ
レンオキサイド、プロピレンオキサイドとの付加物、シ
アノエチル化ポリアミン、ケチミン等の変成アミン類、
ピロリジン、モルホリン、ピペリジン、ヒドロキシエチ
ルピペラジン、N−メチルピペラジン等の第2アミン
類、テトラメチルグアニジン、トリエタノールアミン、
ジメチルヘキシルアミン、ジメチルシクロヘキシルアミ
ン、ジメチルラウリルアミン、ジメチルベンジルアミ
ン、N,N‘−ジメチルピペラジン、N−メチルモルホ
リン、ヘキサメチレンテトラミン、トリエチレンジアミ
ン、N,N’−ビス[(2−ヒドロキシ)プロピル]ピペ
ラジン、1−ヒドロキシエチル−2−ヘプタデシルグリ
オキサリジン、ピリジン、ピラジン、ピコリン、α−メ
チルベンジルジメチルアミン、2−(ジメチルアミノメ
チル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミ
ノメチル)フェノール、1,8−ジアザビスシクロ
[5,4,0]ウンデ−1−セン等の第三アミン類が使用
可能であるが、これらに限定されるものではない。
ダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデ
シルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2
−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミ
ダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1
−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチ
ル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−
エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−
2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−
フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル
−4−メチルイミダゾリウムトリメリテ−ト、1−シア
ノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテ−
ト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムト
リメリテ−ト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチル
イミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、
2,4−ジアミノ−6−(2’−ウンデシルイミダゾリ
ル)−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6
−[2’−エチル−4−メチルイミダゾリル−(1’)]
−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−
[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−
トリアジン・イソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミ
ダゾール・イソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾ
ール・イソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−
ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−
メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、1−シア
ノエチル−2−フェニル−4,5−ジ(2−シアノエト
キシ)メチルイミダゾール等が使用可能であるが、これ
らに限定されるものではない。
トラ−n−ブチルホスホニウムブロマイド、テトラ−n
−ブチルホスホニウムベンゾトリアゾレート等の有機リ
ン化合物、ジラウリン酸ジブチル錫、オクチル酸第一錫
等の有機錫化合物等を挙げることができるが、これらに
限定されるものではない。
プリング剤を配合することが可能である。具体的には、
ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、
ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メトキ
シエトキシ)シラン、ビニルトリアセトキシシラン、β
−(3,4エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、
N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピルトリメト
キシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリ
メトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラ
ン、N−フェニル―γ―アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ
−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロ
ピルメチルジメトキシシラン、γ−クロロプロピルメチ
ルジクロロシラン等が挙げられる。
を使用することも可能である。例えば、イソプロピルイ
ソステアロイルチタネート、イソプロピルトリス(ジオ
クチルピロホスフェート)チタネート、テトラオクチル
ビス(ジトリデシルホスフェート)チタネート、テトラ
(2,2−ジアルキルオキシメチル−1−ブチル)ビス
(ジトリデシル)ホスフェートチタネート、ビス(ジオ
クチルピロホスフェート)オキシアセテートチタネー
ト、イソプロピルトリ(N−アミノエチル−アミノエチ
ル)チタネートが挙げられる。
性や接着特性を損なわない範囲で、各種界面活性剤、染
料、フィラー等を添加することもできる。本発明の接着
剤組成物の調製は、以上の各成分を適当な比率で混合す
ることにより行われる。この場合混合により必要以上に
昇温しないよう注意する必要がある。また接着剤のポッ
トライフが極端に短い場合は、2液以上に分けて保管
し、使用直前に混合することが好ましい。
成分の配合割合は、特に限定されるものではなく、各成
分の分子量や官能基数、官能基の反応性の違いを考慮し
て、目的とする接着特性に応じて各成分の混合比を適宜
決定すればよい。ここで好ましい配合割合としては、本
発明の第1の接着剤組成物の場合、ポリチオール化合物
(A)100重量部に対して1分子中に2個以上のエポ
キシ基を有する化合物(B)を30〜500重量部、特
に50〜300重量部であり、また第2の接着剤組成物
の場合は上記に加えて、1分子中に2個以上のビニル基
を有する化合物(C)を10〜500重量部、特に30
〜300重量部である。また、重合開始剤、硬化促進剤
は前記の化合物(A)、(B)又は(C)の種類により
必要に応じて添加すればよいが、より優れた接着特性を
達成するためには、重合開始剤は化合物(C)に対して
0.1〜10重量部程度、硬化促進剤は化合物(B)に
対して0.1〜100重量部程度用いることが好適であ
る。
方法として熱重合または光重合と熱重合を併用する方法
がある。硬化条件については、本発明の接着剤の用途、
組成、使用する重合開始剤、硬化促進剤の種類およびそ
の使用量によって異なるので一概に規定することはでき
ないが、光重合の際は、0.05から30J/cm2の
光量を照射し、熱重合の際は、硬化温度は0〜200℃
で、硬化時間は、0.5〜72時間である。
するが、本発明はこれらのみに限定されない。なお、表
における配合割合を示す数値は、重量部を表す。 実施例1〜13及び比較例1〜7 表1〜表4に示した配合成分を用いた処方で混合して接
着剤組成物を調整した。
化促進剤は下記のものを使用した。 ・ホ゜リチオール化合物(A)−a:構造式(A−1)のポリチ
オール化合物 ・ホ゜リチオール化合物(A)−b:構造式(A−2)のポリチ
オール化合物 ・エホ゜キシ基を有する化合物(B)−a:ビスフェノールF
のジグリシジルエーテル(商品名:エピコート806
油化シェルエポキシ社製) ・エホ゜キシ基を有する化合物(B)−b:ビスフェノールAの
ジグリシジルエーテル(商品名:エピコート828 油
化シェルエポキシ社製) ・エホ゜キシ基を有する化合物(B)−c:ビス[4−(2,3
−エポキシプロピルチオ)フェニル]スルフィド(商品
名:MPG 住友精化社製) ・エホ゜キシ基を有する化合物(B)−d:3,4−エポキシ
シクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘ
キサンカルボキシレート(商品名:UVR−6110
ユニオンカーバイド社製) ・ヒ゛ニル基を有する化合物(C)−a:ビスフェノールAの
エチレンオキサイド付加物のメタクリレート(商品名:
NKエステルBPE−200 新中村化学工業社製) ・ヒ゛ニル基を有する化合物(C)−b:ビス(4−メタクリ
ロイルチオフェニル)スルフィド(商品名:MPSMA
住友精化社製) ・ヒ゛ニル基を有する化合物(C)−c:トリエチレングリコ
ールジビニルエーテル(商品名:DVE−3 ISP社
製) ・硬化促進剤a:1−シアノエチル−2−エチル−4−
メチルイミダゾール(商品名:キュアゾール2E4MZ
−CN 四国化成工業社製) ・硬化促進剤b:2,4,6−トリス(ジメチルアミノ
メチル)フェノール(商品名:TAP 化薬アクゾ社
製) ・硬化促進剤c:ジメチルラウリルアミン(商品名:ワ
ンダミン2P−TA 新日本理化社製) ・硬化促進剤d:2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フ
ェニルプロパン−1−オン(商品名:ダロキュア117
3 メルク社製) ・硬化促進剤e:2,2’−アゾビスイソブチロニトリ
ル(和光純薬工業社製)
性、接着強度を評価した。 (1)屈折率の評価法:上記接着剤を表1〜表4に示し
た硬化条件にて硬化した後、アッベ屈折率計(1T型;
アタゴ社製)を用い、20℃における接着剤硬化物の屈
折率を測定した。 (2)光透過性:厚さ1mmのスライドガラスに接着剤
を塗布し、表1〜表4に示した硬化条件で硬化させた
後、分光光度計(UV−3100型;島津製作所製)を
用いて、波長550nmにて測定した。
のスライドガラスに接着剤を塗布し、これに11×13
mmのスライドガラスを貼り合わせ(接着面積:約0.
1cm 2)、表1〜表4に示した硬化条件によって接着
剤を硬化させて試験片を作成した。接着強度の測定は、
試料ホルダーに試験片をセットし、引張り試験機を用い
て、速度10mm/minで引張り、剪断接着強度を測
定した。なお、表1〜表4の接着強度のデータに「>」
の記号がついている場合は接着部が剥離する前にスライ
ドガラスが破損した場合を表わす。
接着剤組成物は光透過性が良好で、屈折率が1.60以
上と高く、かつ接着強度が高いものが得られた。一方、
比較例のものはいずれも屈折率は1.60未満、もしく
は接着強度、光透過性が悪く、これらの特性を満足する
ものは得られなかった。
を有し、光学的透明性も高く高い屈折率を有するので、
光学材料、電子材料等に対する高屈折率接着剤として極
めて好適である。また本接着剤は溶剤を含有しないた
め、作業環境の面からも優れるものである。
Claims (4)
- 【請求項1】 下記一般式(1)で示されるポリチオー
ル化合物(A)と、1分子中に2個以上のエポキシ基を
有する化合物(B)を少なくとも含有することを特徴と
する接着剤組成物。 【化1】 [式中、Xは−(CH2CH2S)n−Hであり、Yは−
(CH2)m−であり、mは1〜5の整数で、nは0〜
2の整数である] - 【請求項2】 下記一般式(1)で示されるポリチオー
ル化合物(A)と、1分子中に2個以上のエポキシ基を
有する化合物(B)と、1分子中に2個以上のビニル基
を有する化合物(C)を少なくとも含有することを特徴
とする接着剤組成物。 【化2】 [式中、Xは−(CH2CH2S)n−Hであり、Yは−
(CH2)m−であり、mは1〜5の整数であり、nは
0〜2の整数である] - 【請求項3】 1分子中に2個以上のエポキシ基を有す
る化合物(B)が硫黄原子を1個以上含有することを特
徴とする請求項1又は2記載の接着剤組成物。 - 【請求項4】 1分子中に2個以上のビニル基を有する
化合物(C)が硫黄原子を1個以上含有することを特徴
とする請求項2記載の接着剤組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32270698A JP4206158B2 (ja) | 1998-11-12 | 1998-11-12 | 接着剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32270698A JP4206158B2 (ja) | 1998-11-12 | 1998-11-12 | 接着剤組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000144089A true JP2000144089A (ja) | 2000-05-26 |
JP4206158B2 JP4206158B2 (ja) | 2009-01-07 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4206158B2 (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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-
1998
- 1998-11-12 JP JP32270698A patent/JP4206158B2/ja not_active Expired - Fee Related
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