JP2000143264A

JP2000143264A - 光学デバイスの製造方法

Info

Publication number: JP2000143264A
Application number: JP10311506A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Suga; 克己菅; Nobuyoshi Mishima; 信芳三島; Masayuki Nakamizu; 政幸中水
Original assignee: Toyo Communication Equipment Co Ltd
Current assignee: Toyo Communication Equipment Co Ltd
Priority date: 1998-10-30
Filing date: 1998-10-30
Publication date: 2000-05-23
Anticipated expiration: 2018-10-30
Also published as: JP4006855B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】分割した後の煩雑な鏡面加工を行わずに、鏡
面加工が施された光学デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】２つの直角三角柱形状プリズムの傾斜面
同士を接合一体化した光学デバイス製造方法において、
複数枚の矩形平板状光学部材５０を接着剤を介して積層
すると共に、各平板状光学部材の端縁を結ぶ平面と平板
状光学部材の板面との形成角度が４５度となるよう平板
状光学部材の面方向位置を順次ずらして階段状に積層す
る積層体形成工程と、積層体形成工程において一体化さ
れた積層体６１を４５度の傾斜角度に沿った所定ピッチ
の複数の平行な切断面にて複数の積層分割体６５に切断
する切断工程と、複数の積層分割体を整合状態で積層し
て仮止めする仮止め工程と、仮止め積層体７１を形成す
る分断工程と、光学デバイス連結体７５を形成する工程
と、光学デバイス連結体を構成する仮止め材を溶解除去
して個々の光学デバイスに分離する分離工程とから成
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は光学デバイスの製造
方法に関し、特に製造工数の削減と、材料の無駄をなく
して製造歩留を大幅に高めて低コスト化を実現すること
ができるビームスプリッタ等の光学デバイスの製造方法
に関する。

【０００２】

【従来の技術】周知のように光学デバイスとしてのビー
ムスプリッタは、図５(a) に示すように２つの三角柱状
のガラスプリズム２、３をビームスプリッタ膜（偏光分
離膜）４を介して接合することにより立方体に構成した
ものであり、同図(b) に示すようにビームスプリッタ１
は光源５からの光のうちの所定の偏光成分を透過する一
方で、それ以外の偏光成分を反射する機能を備えてい
る。この例では、光源５から出射された光のうちの所定
の偏光成分はビームスプリッタ膜４を透過して光ディス
ク６面に照射され、ディスク面で反射した光は偏波面が
回転した状態となっている為ビームスプリッタ膜４にて
反射して受光素子７にて受光される。図６は従来のビー
ムスプリッタの製造方法の一例を示す工程図であり、
(a) に示した如き断面形状が直角三角形状の三角柱のガ
ラスブロック１０の傾斜面Ａ、両端面Ｂ、Ｃを予め鏡面
加工した後で、傾斜面Ａにビームスプリッタ膜４を形成
し、更に他の面には反射防止膜（ＡＲ膜）を形成する。
このようなガラスブロック１０を２個用意し、傾斜面Ａ
同士を接着剤にて接合することにより(b) に示した直方
体状のガラスブロック１１を得る。このガラスブロック
１１を(c) に示すように長手方向に沿って所定のピッチ
で切断、分割することにより、立方体状のビームスプリ
ッタを得る。

【０００３】しかし、この製造方法は、工数が極めて多
く、煩雑であり、生産性が悪いという欠点を有してい
る。即ち、三角柱状のブロックの３つの面を夫々個別に
鏡面加工するためには、研磨しない面を台座等の上に接
着固定した上で研磨面に対してロータリー研磨、洗浄、
ラップ研磨、洗浄、ポリッシュ研磨を夫々施す必要があ
り、一つの面に対する鏡面加工が終了した後に、基台か
ら剥離した上で他の面を鏡面加工するために再度基台に
接着固定し、鏡面加工後に基台から剥離するという煩雑
な工程を繰り返す必要がある。また、特許第２６３９３
１２号公報にはプリズムアッセンブリの製造方法が開示
されている。この製造方法により製造されるプリズムア
ッセンブリ２０は、図７(a) に示した如く２つのガラス
三角柱２１、２２の間にガラス平行四辺形柱２３を挟ん
だ形状であり、一方の境界には反射膜２４を、他方の境
界には偏光膜（分離膜）２５を設けている。この偏光膜
２５は、Ｐ偏光を透過し、Ｓ偏光を反射する。このプリ
ズムアッセンブリ２０は、図７(b) に示した如き方向か
ら光源２６からの光を入射したときに、Ｐ偏光が偏光膜
２５を透過して直進し、Ｓ偏光が偏光膜２５と反射膜２
４にて夫々反射して外部に出射する。

【０００４】この公報記載の製造手順は、プリズムの角
度が４５度であることに着目したものであり、まず、同
形状のガラス平板を複数用意して全てのガラス平板の両
面に鏡面加工を施す。続いて、半数のガラス板の上面に
は偏光膜を形成すると共にその下面には反射膜を夫々形
成し、他の半数のガラス板には膜を形成しない。こうし
て得られた成膜光学ガラス板３０と非成膜光学ガラス板
３１を図８(a) のように治具３２を用いて交互に積層し
て板間にＵＶ硬化型接着剤３３を塗布する。治具３２は
水平なベース３２ａ上に４５度の傾斜角度を備えた側壁
３２ｂを備えており、成膜光学ガラス板３０と非成膜光
学ガラス板３１の積層体３５をこの側壁３２ｂに沿って
積層することにより、各ガラス板３０、３１は面方向に
等距離づつずれを起こし、各ガラス板は端縁が４５度の
傾斜を有した階段状の積層体５となる。各ガラス板間に
は予めＵＶ硬化型接着剤３３を塗布してある為、加圧し
て接着剤を展開させた後に、積層体３５の上面から紫外
線を照射することによりガラス板相互間を固着すること
ができる。続いて、図８(b) に示すように４５度に傾斜
して位置ずれした積層体３５を、積層体３５の傾斜方向
と平行な切断線（面）３６に沿って複数に切断する。

【０００５】次に、積層体３５を切断することにより得
られた複数の積層分割体４０を図８(c) のように切断線
４１に沿って所定サイズに切断することにより図８(d)
のように個々のプリズムアッセンブリ２０を得る。この
製造方法によって得られるプリズムアッセンブリ２０
は、図７(b) に示すように上下２面を光が透過するた
め、この２面を鏡面加工する。しかし、図５(b) に示し
たようにビームスプリッタ１にあっては、左右の両面
と、下面を光が透過するため、これら３面を鏡面加工す
る必要がある。従って、特許第２６３９３１２号公報に
記載の製造方法をそのまま用いてビームスプリッタを製
造しようとする場合には、最終的に個片に切り分けてか
ら所要面を鏡面加工するしか方法が無いが、個片は一辺
が数ｍｍ程度の立方体であるため、このような個別の鏡
面加工は極めて困難であり、生産性が著しく低下する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、所定の成膜を施した複数のガラス平板を、
各ガラス平板の端縁が４５度の傾斜角度をもって位置ず
れするように階段状に積層、接着した後で、この積層体
を上記４５度の傾斜に沿って複数個に切断分割するとい
う工程を経るビームスプリッタ等の光学デバイスの製造
工程において、個片に分割した後の煩雑な鏡面加工を行
わずに、所要面に鏡面加工が施されたビームスプリッタ
を得ることができるビームスプリッタ等の光学デバイス
の製造方法を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決する為、
請求項１の発明は、２つの直角三角柱形状のプリズムの
傾斜面同士を接合一体化した光学デバイスの製造方法に
おいて、複数枚の矩形の平板状光学部材を接着剤を介し
て積層すると共に、各平板状光学部材の端縁を結ぶ平面
と平板状光学部材の板面との間の形成角度が４５度の傾
斜角度となるように平板状光学部材の面方向位置を順次
ずらして階段状に積層する積層体形成工程と、上記積層
体形成工程において一体化された積層体を、上記４５度
の傾斜角度に沿った所定ピッチの複数の平行な切断面に
て複数の積層分割体に切断する切断工程と、上記切断工
程により形成された各積層分割体の切断面を鏡面加工す
る鏡面加工工程と、上記切断工程により分割された複数
の積層分割体の鏡面同士が対向するように整合状態で積
層して、各積層分割体間を仮止め材にて仮止めする仮止
め材にて仮止めされた複数の積層分割体を、上記切断工
程における切断面と直交する切断面にて切断して仮止め
積層体を形成する分断工程と、上記分断工程により得ら
れた仮止め積層体の切断面を鏡面加工する鏡面加工工程
と、上記仮止め積層体を上記切断面と直交する方向に所
定の間隔にて切断することにより、複数の光学デバイス
が仮止め材を介して直列に連結された光学デバイス連結
体を形成する工程と、上記光学デバイス連結体を構成す
る仮止め材を溶解除去して個々の光学デバイスに分離す
る分離工程とから成ることを特徴とする。

【０００８】請求項２の発明は、２つの直角三角柱形状
のガラスプリズムの傾斜面同士を、ビームスプリッタ膜
を挟んで接合一体化した立方体形状のビームスプリッタ
の製造方法において、上面に偏光分離膜を有した複数枚
の矩形ガラス平板を接着剤を介して積層すると共に、各
ガラス平板の端縁を結ぶ平面とガラス板面との間の形成
角度が４５度の傾斜角度となるように各ガラス平板の面
方向位置を順次ずらして階段状に積層する積層体形成工
程と、上記積層体形成工程において一体化された積層体
を、上記４５度の傾斜角度に沿った所定ピッチの複数の
平行な切断面にて複数の積層分割体に切断する切断工程
と、上記切断工程により形成された各積層分割体の切断
面を鏡面加工する鏡面加工工程と、上記切断工程により
分割された複数の積層分割体の鏡面同士が対向するよう
に整合状態で積層して、各積層分割体間を仮止め材にて
仮止めする仮止め工程と、仮止め材にて仮止めされた複
数の積層分割体を、上記切断工程における切断面と直交
する切断面にて切断して仮止め積層体を形成する分断工
程と、上記分断工程により得られた仮止め積層体の切断
面を鏡面加工する鏡面加工工程と、上記仮止め積層体を
上記切断面と直交する方向に等間隔に切断することによ
り、複数のビームスプリッタが仮止め材を介して直列に
連結されたビームスプリッタ連結体を形成する工程と、
上記ビームスプリッタ連結体を構成する仮止め材を溶解
除去して個々の立方体状のビームスプリッタに分離する
分離工程とから成ることを特徴とする。請求項３の発明
は、上記仮止め工程の前に、各積層分割体の両端縁に位
置する鋭角部を所要量切断除去する工程を介在させたこ
とを特徴とする。請求項４の発明は、上記矩形ガラス平
板は下面にマッチング膜を備えていることを特徴とす
る。請求項５の発明は、上記接着剤としてＵＶ接着剤を
用いたことを特徴とする。請求項６の発明は、上記仮止
め材としてパラフィンを用いたことを特徴とする。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示した形態
例により詳細に説明する。図１(a) 乃至(d) 、及び図２
(a) 乃至(g) は光学デバイスの一例としてのビームスプ
リッタの製造方法を説明する為の工程図であり、各分図
の左図は正面縦断面図、右図は右側面図である。また、
図３は図１、図２に対応する製造工程のフロー図であ
る。本発明は、図５に示した如く、２つの直角三角柱形
状のガラスプリズムの傾斜面同士を、ビームスプリッタ
膜を挟んで接合一体化した立方体形状のビームスプリッ
タの製造方法に関するものである。図１(a) は本発明の
製造方法に使用するガラス平板の構成を示す正面図、及
び右側面図であり、このガラス平板（平板状光学部材）
５０は均一厚みの矩形状の板ガラス５１の上面に偏光分
離膜（ＢＳ膜）５２を形成するとともに、下面にマッチ
ング膜（ＭＬ膜）５３を形成した構成を備えている。本
発明方法では、このように全く同一の構成を備えたガラ
ス平板５０を複数枚使用する。図３の(1)、(2)は図１
(a) に対応しており、上下両面をポリッシュにより鏡面
加工した板ガラス５１の上下両面に対して夫々図３(2)
に示すように偏光分離膜５２とマッチング膜５３を形成
する工程を示している。なお、偏光分離膜５２とは、高
屈折材料と低屈折材料、例えばＴｉＯ₂とＳｉＯ₂の各薄
膜を交互に複数層積層することにより形成される膜であ
り、マッチング膜５３とは、複数のガラス平板５０を接
着剤を用いて接着する際に、接着剤の存在に起因してガ
ラス平板を透過する光の屈折率が変動することを防止す
る為の膜である。

【００１０】図１(b) は積層体形成工程を示す図であ
り、治具６０を用いて４５度の傾斜角度でガラス平板を
積層する状態を示している。即ち、治具６０は、水平な
板状のベース６０ａと、このベース６０ａから４５度の
傾斜角度で上方に傾斜して固定された傾斜側壁６０ｂ等
とから成り、偏光分離膜５２を上向きにしたガラス平板
５０をベース６０ａに順次積層する。この際に、各ガラ
ス平板５０の一端縁を傾斜側壁６０ｂに沿って整列させ
ることにより、各ガラス平板５０が面方向に等距離づつ
ずれた階段状の積層体６１となる。換言すれば、正面形
状が略平行四辺形の積層体となる。なお、積層前に各ガ
ラス平板間にはＵＶ硬化型接着剤６２を塗布しておき、
積層体を加圧して接着剤を均一に展開させた状態で図示
しない紫外線光源から紫外線を積層体に照射し、接着剤
６２を硬化させて積層体を貼り合わせる。図３の(3)
は、積層体形成及び接着工程を示している。このように
積層体形成工程は、同一構成の複数枚の矩形ガラス平板
５０をＵＶ接着剤６２を介して積層すると共に、各ガラ
ス平板の端縁を結ぶ平面とガラス平板面との間の形成角
度が４５度の傾斜角度となるように各ガラス平板の面方
向位置を順次ずらして階段状に積層する工程であり、接
着工程は各ガラス平板間を接着固定する工程である。

【００１１】次に、図１(c) は上記接着工程において一
体化された積層体６１を、上記４５度の傾斜角度に沿っ
た所定ピッチの複数の平行な切断面にて複数の積層分割
体６５に切断する切断工程を示しており、図３(4)、(5)
に対応している。図１(b) において作成された積層体６
１を治具６０から取り出して図１(c) の固定板６２に積
層体の背面側の側面を剥離可能な接着剤等により仮固定
し、この仮固定状態で点線で示す切断ライン６３に沿っ
てワイヤーソーにより積層体６１を等間隔で切断する。
図１(d) は積層体６１を切断することにより得られた積
層分割体６５を示している。各切断ライン６３は、積層
体を構成する各ガラス平板５０の位置ずれ角度である４
５度と平行な線（或は面）であり、各切断ライン間の間
隔は最終的に製造しようとするビームスプリッタの寸
法、形状に応じて設定する。

【００１２】次に、図２(a) に示すように個々の積層分
割体６５の上下両面（切断面）を鏡面加工するととも
に、鏡面加工後の各面に反射膜をコーティングする。図
２(a) に示した積層分割体６５は、両端部が鋭角状に突
出しているため、上記鏡面加工時にこの部分が破損して
ガラス屑が発生し、このガラス屑が研磨装置の研磨部材
に入り込み、研磨対象である積層分割体を損傷させる虞
れがある。そのため、予め鏡面加工前に切断線５５に沿
って切除しておいてもよい。切断に際しては、図３(5)
に示した如く固定治具６６の固定部６６ａに重ねた積層
分割体６５を固定した上で、各積層分割体６５の鋭角状
の端部を一括して切断する。その後、図３(6)に示した
ように両面を鏡面加工した後で、図３(7)に示した如く
両面に反射防止膜を形成する。なお、積層分割体６５
は、ガラス平板５０を接着剤６２を用いて接合した積層
体を切断したものであるため、偏光分離膜５２、板ガラ
ス板５１，マッチング膜５３、接着剤６２、・・・・の
順番で積層された構造を有する。続いて、図２(b) の仮
止め工程に示すように各積層分割体６５を整合状態で積
層し、積層分割体間に予めパラフィン６６を塗布してお
くことにより仮止めする。なお、必要に応じて、積層分
割体６５を積層したものの前後両面に平板状のガラス板
から成る補強板をＵＶ硬化型接着剤により固定して積層
分割体６５が分離しないようにする。

【００１３】図２(c) はパラフィン６６にて仮止めされ
た複数の積層分割体６５を、上記切断工程における切断
面６３と直交する切断面７０に沿ってワイヤソーにより
切断して仮止め積層体７１を形成する分断工程であり、
図２(d) は切断による分断後の状態を示している。図３
(8)、(9)はこの工程に対応した図である。この図に示す
ように切断に際しては補助板６７も同時に切断されるの
で、各仮止め積層体７１の両端部には補助板６７の一部
が固定されている。つまり、分断工程は、パラフィン６
６にて仮止めされた複数の積層分割体６５を、上記切断
工程における切断面と直交する切断面７０にて切断して
仮止め積層体７１を形成する工程であり、切断ライン７
０に沿った切断後に形成された各仮止め積層体７１はパ
ラフィン６６を介して複数の完成されたビームスプリッ
タ１を棒状に連結した構成となっている。図２(e) は上
記分断工程により得られた仮止め積層体７１の切断面を
鏡面加工する鏡面加工工程であり、鏡面加工後に反射防
止膜を加工面に蒸着形成する。反射防止膜の塗布を受け
た各仮止め積層体７１は点線で示す切断ライン７２から
ワイヤーソーにより切断される。この切断ライン７２
は、切断ライン７０により形成された切断面と直交する
方向の切断ラインである。図２(f) は切断ライン７２に
沿って切断分離した後のビームスプリッタ連結体（光学
デバイス連結体）７５を示している。このビームスプリ
ッタ連結体７５の状態では、依然としてパラフィン６６
によって個々のビームスプリッタ１が接続された状態に
ある。図３(10)、(11)、(12)はこの工程を示している。

【００１４】次に、図２(g) は(f) の状態となった個々
の仮止め積層体７１をホットプレート上に載置して加熱
することによってパラフィンを溶解させて、個々のビー
ムスプリッタ１（図３(13)）に分離する分離工程であ
る。このように本発明によれば、平板状のガラスを複数
枚使用してビームスプリッタを製造する際に、個片に分
割されたビームスプリッタに対して鏡面加工を行う必要
がなくなるため、生産性が高く、実用性の高いビームス
プリッタの製造方法を提供することができる。なお、上
記形態例では光学デバイスの製造方法の一例としてビー
ムスプリッタの製造方法を例示したが、本発明は上記以
外の光学デバイスであって類似の構成を備えたものに対
しても適用することができる。例えば、本発明の製造方
法は図４(a) (b) に夫々示したハーフミラー、及びウォ
ラストンプリズムに対しても適用することができる。即
ち、図４(a) に示したハーフミラーは直角三角柱形状の
ガラス８０の傾斜面同士をハーフミラー膜８１を介して
接合一体化した構成を備えており、このハーフミラーと
しての光学デバイスは、光量ａの入射光の内の光量ａ／
２を透過し、光量ａ／２を反射する。このハーフミラー
は、上記ビームスプリッタのビームスプリッタ膜の代わ
りにハーフミラー膜８１を用いた点が異なっているのみ
であるため、上記製造方法によって同様に製造すること
ができる。また、図４(b) に示したウォラストンプリズ
ムは、水晶等の異方性結晶の光学軸を有する直角三角柱
形状のガラス８５を、所定の光学軸に沿って張り合せた
ものであり、偏光面に応じて光を分離出力するデバイス
である。この光学デバイスも上記製造方法によって製造
することが可能である。

【００１５】

【発明の効果】本発明によれば、所定の成膜を施した複
数のガラス平板を、各ガラス平板の端縁が４５度の傾斜
角度をもって位置ずれするように階段状に積層、接着し
た後で、この積層体を上記４５度の傾斜に沿って複数個
に切断分割するという工程を経るビームスプリッタの製
造工程において、個片に分割した後の煩雑な鏡面加工を
行わずに、所要面に鏡面加工が施されたビームスプリッ
タを得ることができるビームスプリッタの製造方法を提
供することができる。即ち、平板状のガラスを複数枚使
用してビームスプリッタを製造する際には、個片に分割
されたビームスプリッタに対して鏡面加工を行う必要が
あったが、本発明によれば、個片に分割する以前の段
階、即ち個片が板状に連結された状態で鏡面加工を行う
ので、鏡面加工が容易となり、生産性と実用性を高める
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】(a) 乃至(d) は本発明の光学デバイスの製造方
法を説明する為の工程図。

【図２】(a) 乃至(g) は本発明の光学デバイスの製造方
法を説明する為の工程図。

【図３】図１、図２に対応する製造工程のフロー図。

【図４】(a) 及び(b) は本発明の適用例を説明する図で
ある。

【図５】(a) 及び(b) は従来の（本発明の製造対象物と
しての）ビームスプリッタの構成図及び使用方法の説明
図。

【図６】(a) (b) 及び(c) は従来の製造方法の一例を示
す図。

【図７】(a) 及び(b) は従来のプリズムアッセンブリの
構成及び使用方法説明図。

【図８】(a) (b) (c) 及び(d) は図７のプリズムアッセ
ンブリを製造する手順を説明する図。

【符号の説明】１ビームスプリッタ、２、３ガラスプリズム、４
ビームスプリッタ膜（偏光分離膜）、５光源、５０
ガラス平板（平板状光学部材）、５１板ガラス、５２
偏光分離膜（ＢＳ膜）、５３マッチング膜（ＭＬ
膜）、５５切断線、６０治具、６１積層体、６２
ＵＶ硬化型接着剤、６３切断ライン、６５積層分
割体、６６固定治具、６７補助板、７０切断面、
７１仮止め積層体、７２切断ライン、７５ビーム
スプリッタ連結体（光学デバイス連結体）。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者中水政幸神奈川県高座郡寒川町小谷二丁目１番１号東洋通信機株式会社内Ｆターム(参考） 2H042 AA02 AA06 AA16 AA32 CA06 CA14 CA15 2H049 BA05 BC13 BC14 BC22 4G015 FA02 FB01 4G061 AA14 BA12 CA02 CB04 CB16 CD02 DA36

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】２つの直角三角柱形状のプリズムの傾斜
面同士を接合一体化した光学デバイスの製造方法におい
て、複数枚の矩形の平板状光学部材を接着剤を介して積層す
ると共に、各平板状光学部材の端縁を結ぶ平面と平板状
光学部材の板面との間の形成角度が４５度の傾斜角度と
なるように平板状光学部材の面方向位置を順次ずらして
階段状に積層する積層体形成工程と、上記積層体形成工程において一体化された積層体を、上
記４５度の傾斜角度に沿った所定ピッチの複数の平行な
切断面にて複数の積層分割体に切断する切断工程と、上記切断工程により形成された各積層分割体の切断面を
鏡面加工する鏡面加工工程と、上記切断工程により分割された複数の積層分割体の鏡面
同士が対向するように整合状態で積層して、各積層分割
体間を仮止め材にて仮止めする仮止め工程と、仮止め材にて仮止めされた複数の積層分割体を、上記切
断工程における切断面と直交する切断面にて切断して仮
止め積層体を形成する分断工程と、上記分断工程により得られた仮止め積層体の切断面を鏡
面加工する鏡面加工工程と、上記仮止め積層体を上記切断面と直交する方向に所定の
間隔にて切断することにより、複数の光学デバイスが仮
止め材を介して直列に連結された光学デバイス連結体を
形成する工程と、上記光学デバイス連結体を構成する仮止め材を溶解除去
して個々の光学デバイスに分離する分離工程とから成る
ことを特徴とする光学デバイスの製造方法。
【請求項２】２つの直角三角柱形状のガラスプリズム
の傾斜面同士を、ビームスプリッタ膜を挟んで接合一体
化した立方体形状のビームスプリッタの製造方法におい
て、上面に偏光分離膜を有した複数枚の矩形ガラス平板を接
着剤を介して積層すると共に、各ガラス平板の端縁を結
ぶ平面とガラス板面との間の形成角度が４５度の傾斜角
度となるように各ガラス平板の面方向位置を順次ずらし
て階段状に積層する積層体形成工程と、上記積層体形成工程において一体化された積層体を、上
記４５度の傾斜角度に沿った所定ピッチの複数の平行な
切断面にて複数の積層分割体に切断する切断工程と、上記切断工程により形成された各積層分割体の切断面を
鏡面加工する鏡面加工工程と、上記切断工程により分割された複数の積層分割体の鏡面
同士が対向するように整合状態で積層して、各積層分割
体間を仮止め材にて仮止めする仮止め工程と、仮止め材にて仮止めされた複数の積層分割体を、上記切
断工程における切断面と直交する切断面にて切断して仮
止め積層体を形成する分断工程と、上記分断工程により得られた仮止め積層体の切断面を鏡
面加工する鏡面加工工程と、上記仮止め積層体を上記切断面と直交する方向に等間隔
に切断することにより、複数のビームスプリッタが仮止
め材を介して直列に連結されたビームスプリッタ連結体
を形成する工程と、上記ビームスプリッタ連結体を構成する仮止め材を溶解
除去して個々の立方体状のビームスプリッタに分離する
分離工程とから成ることを特徴とする光学デバイスの製
造方法。
【請求項３】上記仮止め工程の前に、各積層分割体の
両端縁に位置する鋭角部を所要量切断除去する工程を介
在させたことを特徴とする請求項１記載の光学デバイス
の製造方法。
【請求項４】上記矩形ガラス平板は下面にマッチング
膜を備えていることを特徴とする請求項１又は２記載の
光学デバイスの製造方法。
【請求項５】上記接着剤としてＵＶ接着剤を用いたこ
とを特徴とする請求項１、２又は３記載の光学デバイス
の製造方法。
【請求項６】上記仮止め材としてパラフィンを用いた
ことを特徴とする請求項１、２、３又は４記載の光学デ
バイスの製造方法。