JP2000117083A - 粉体処理装置 - Google Patents

粉体処理装置

Info

Publication number
JP2000117083A
JP2000117083A JP10295362A JP29536298A JP2000117083A JP 2000117083 A JP2000117083 A JP 2000117083A JP 10295362 A JP10295362 A JP 10295362A JP 29536298 A JP29536298 A JP 29536298A JP 2000117083 A JP2000117083 A JP 2000117083A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
receiving surface
rotating body
processed
processing
powder processing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP10295362A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3877450B2 (ja
Inventor
Hisato Naganori
久登 永徳
Kenji Takebayashi
賢治 竹林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hosokawa Micron Corp
Original Assignee
Hosokawa Micron Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hosokawa Micron Corp filed Critical Hosokawa Micron Corp
Priority to JP29536298A priority Critical patent/JP3877450B2/ja
Publication of JP2000117083A publication Critical patent/JP2000117083A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3877450B2 publication Critical patent/JP3877450B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Crushing And Grinding (AREA)
  • Mixers With Rotating Receptacles And Mixers With Vibration Mechanisms (AREA)
  • Accessories For Mixers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 被処理物の処理能力および操作性に優れた
粉体処理装置を提供する。 【解決手段】 鉛直方向に沿った回転軸心Xの回りに回
転自在であり、被処理物4が押し付けられる受け面6を
内周部に有する筒状回転体3と、受け面6に近接するよ
う筒状回転体3の内部に配置したインナーピース5とを
備えた粉体処理装置であって、受け面6とインナーピー
ス5との間に形成する押圧部7に被処理物4を保持する
ための被処理物保持手段S1を有すると共に、押圧部7
に保持された被処理物4の一部を、前記筒状回転体3が
駆動回転している際に前記筒状回転体3の内包空間3a
の外部に排除するための被処理物排除手段S2を有して
いる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、鉛直方向に沿った
回転軸心の回りに回転自在であり、被処理物が押し付け
られる受け面を内周部に有する筒状回転体と、前記受け
面に近接するよう前記筒状回転体の内部に配置したイン
ナーピースとを備えた粉体処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の粉体処理装置としては、
例えば、被処理物を処理するための処理空間を形成する
筒状回転体を設けておき、当該筒状回転体を回転駆動し
て被処理物を前記筒状回転体の内周部に形成した受け面
に押し付けつつ、前記筒状回転体の内部に設けたインナ
ーピースを用いて、前記受け面と前記インナーピースと
の協働によって粉粒体に押圧力あるいはせん断力を付与
するものがあった。当該従来の装置によって、被処理物
である例えば粉粒体どうしの粗混合や複合化の他、精密
混合あるいは粉粒体の形状制御等の各種処理を行ってい
た。このうち特に、複合化とは、複数の原料を混ぜ合わ
せたものに加圧力およびせん断力を加えて特定の原料の
表面に他の原料を融合し、一体化することをいう。ま
た、精密混合とは、異種の原料を単一粒子レベルで均一
に分散させた状態に混合することをいう。さらに、形状
制御とは、例えば、複数の原料に加圧力あるいはせん断
力を作用させて、球状を有しない特定の原料の表面に他
の原料を付着させ、当該特定の原料を球状に整形するこ
と等をいう他、球状を有しない原料に加圧力等を作用さ
せてその一部を破砕し、当該原料を球状に整形すること
等をいう。尚、これらの処理を総称してメカノフュージ
ョン処理という場合もある。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の装置では、
粉体を処理する毎に筒状回転体の内部に被処理物である
粉体を所定量だけ投入する所謂バッチ処理を行ってい
た。よって、被処理物の処理能力に一定の制限があっ
た。また、被処理物は前記筒状回転体の受け面に固着し
て完全に処理されないものが残存する等、品質が安定し
た製品を得ることが困難であった。さらに、上記のごと
くバッチ処理を行うものであったから、被処理物の投入
・取出し操作あるいは装置の洗浄が煩雑であり、処理空
間内部の雰囲気制御も困難である等多くの改良すべき点
を有していた。
【0004】本発明の目的は、上記従来の問題点を解消
し、被処理物の処理能力および操作性に優れた粉体処理
装置を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】〔構成1〕本発明の粉体
処理装置は、請求項1に示すごとく、受け面6とインナ
ーピース5との間に形成する押圧部7に被処理物4を保
持するための被処理物保持手段S1を有すると共に、前
記押圧部7に保持された前記被処理物4の一部を、前記
筒状回転体3が駆動回転している際に前記筒状回転体3
の内包空間3aの外部に排除するための被処理物排除手
段S2を有している点に特徴を有する。 〔作用効果〕本構成のごとく、受け面とインナーピース
との間に被処理物保持手段を設けておけば、押圧部に被
処理物を確実に保持して被処理物に押圧力を付与するか
ら、被処理物の処理効率を向上させることができる。ま
た、前記押圧部に保持された被処理物の一部は、筒状回
転体が駆動回転している最中に、被処理物排除手段によ
って筒状回転体の内包空間の外部に排除される。つま
り、押圧部の被処理物が順次入れ替えられ、装置の内部
に投入した被処理物の全体が均等に処理される結果、得
られる製品の品質が極めて安定したものとなる。さら
に、本発明の装置では、筒状回転体の内包空間でけでな
く筒状回転体の外部にも被処理物を貯溜することができ
る。このため、一回のバッチ処理に際して従来の粉体処
理装置よりも多量の被処理物を装置の内部に投入するこ
とができ、被処理物の処理効率をさらに向上させること
ができる。
【0006】〔構成2〕本発明の粉体処理装置は、請求
項2に示すごとく、前記被処理物保持手段S1を、前記
筒状回転体3の上下縁のうち少なくとも何れか一方に設
け、かつ、前記回転軸心Xの側に折れ曲がった折曲り部
21によって構成することができる。 〔作用効果〕インナーピースによって受け面の側に押圧
された被処理物は、例えば受け面の上方側あるいは下方
側に移動して押圧部の外部に逃げようとする。被処理物
のこのような動きを上記折曲り部により拘束すること
で、被処理物が押圧部に滞在する時間を増大させ、粉体
処理の効率をより向上させることができる。
【0007】〔構成3〕本発明の粉体処理装置は、請求
項3に示すごとく、前記被処理物排除手段S2を、前記
折曲り部21に形成した切欠部24で構成することがで
きる。 〔作用効果〕上述したごとく、インナーピースによって
押圧された被処理物は受け面の上方側あるいは下方側に
移動しようとする。よって、前記折曲り部に切欠部を形
成しておき、被処理物の上記移動を一部許容すること
で、押圧部に存在する被処理物を順次入れ替えることが
でき、被処理物の全体を均等に処理することができる。
【0008】〔構成4〕本発明の粉体処理装置は、請求
項4に示すごとく、前記被処理物排除手段S2を、前記
受け面6に貫通形成した孔部20で構成することができ
る。 〔作用効果〕筒状回転体は高速で回転するから、押圧部
に存在する被処理物には強い遠心力が作用する。同時
に、押圧部の被処理物にはインナーピースによる外方へ
の押圧力も作用する。よって、本構成のごとく前記受け
面に孔部を貫通形成しておけば、被処理物は筒状回転体
の外方に容易に移動して被処理物の排除が非常に円滑に
行われる。この結果、押圧部に存在する被処理物の入れ
替えが速やかに且つ確実に行われて、被処理物の処理速
度が向上し、製品の品質がさらに安定する。
【0009】〔構成5〕本発明の粉体処理装置は、請求
項5に示すごとく、前記孔部20を略半円形状に構成す
ると共に、前記受け面6の最下部に設けておくことがで
きる。 〔作用効果〕押圧部に存在する被処理物には前述のごと
く遠心力とインナーピースによる押圧力とが作用する
が、その他に重力も作用する。よって、例えば被処理物
が非常に流動性に富んでいる場合には、押圧部のうちで
も特に下方側に流動し易い。そこで、本構成のごとく前
記孔部を略半円形状に構成し、前記受け面の最下部に設
けておけば、押圧部の下方側に存在する被処理物をより
多く排除することができる。しかも、本構成であれば、
受け面に直に接触している被処理物ほど先に筒状回転体
の外部に排除されるから、従来装置のごとく、一旦受け
面に固着した被処理物は最後まで未処理のままで残存す
るという不都合は生じない。よって、押圧部に存在する
被処理物の入れ替え効果がさらに向上して、粉体処理の
処理効率が改善されるのである。
【0010】〔構成6〕本発明の粉体処理装置は、請求
項6に示すごとく、前記孔部20をスリット状に構成す
ると共に、鉛直方向に沿った当該孔部20の長さを、同
方向における前記受け面6の高さと略同じに形成するこ
とができる。 〔作用効果〕本構成のごとく、鉛直方向に沿って受け面
の高さと略同等の長さを有するスリットを設けておけ
ば、押圧部のうち鉛直方向に沿った何れの位置において
も、略同じ量の被処理物を排除することが可能となる。
よって、例えば、被処理物の流動性が非常に乏しく、前
記受け面の略全体に被処理物が付着するような場合で
も、被処理物の入れ替えを確実に行うことができ、粉体
処理の処理効率を向上させることができる。
【0011】〔構成7〕本発明の粉体処理装置は、請求
項7に示すごとく、前記孔部20を、前記回転軸心Xを
中心とした周方向に複数形成しておくことができる。 〔作用効果〕本構成のごとく、前記孔部の数を任意に設
定することで、押圧部に存在する被処理物の排除量を適
宜設定することができる。例えば、孔部の数を多くする
ほど被処理物は容易に排除されるから、インナーピース
によって付与する押圧力が結果的に弱まることとなる。
即ち、粉体処理が速やかに進行する被処理物を扱う場
合、あるいは、過大な押圧力を与えたくない被処理物を
処理する場合等には、前記孔部を多く設けるのが好まし
い。このように、本構成であれば、被処理物の特性に応
じた粉体処理を行うことができる。
【0012】尚、上述のように、図面との対照を便利に
するために符号を記したが該記入により本発明は添付図
面の構成に限定されるものではない。
【0013】
【発明の実施の形態】以下に本発明の実施の形態を図面
に基づいて説明する。尚、図面において従来例と同一の
符号で表示した部分は、同一又は相当の部分を示してい
る。
【0014】(概要)本発明の粉体処理装置を図1に示
す。本発明の装置は、主に、基台1に設置した略円筒形
状のケーシング2、および、当該ケーシング2の内部に
設けた同じく略円筒形状の筒状回転体3、当該筒状回転
体3との間に押圧力を発生させて被処理物4を処理すべ
く前記筒状回転体3の内部に配設したインナーピース5
とからなる。前記被処理物4は、通常、粉体状の原料を
用いるが、スラリー原料や懸濁液状の原料を用いること
も可能である。前記筒状回転体3を回転させることで、
当該筒状回転体3の内周面に形成した受け面6と前記イ
ンナーピース5とを相対回転させ、前記受け面6と前記
インナーピース5との間の押圧部7に存在する被処理物
4に押圧力を付与して粉体処理を行うものである。
【0015】本発明の装置においては、被処理物4の処
理効率を向上させるための被処理物保持手段S1を備え
ており、当該被処理物保持手段S1によって被処理物4
をできるだけ前記押圧部7に保持する構成となってい
る。また、その一方で、前記押圧部7に対して被処理物
4を積極的に循環させるための被処理物排除手段S2を
有している。この被処理物排除手段S2は、前記押圧部
7に保持された被処理物4の一部を、筒状回転体3が駆
動回転されている最中に筒状回転体の内包空間3aの外
部に排除するものであり、これにより、全ての被処理物
4が前記押圧部7に対して順次循環供給されるのであ
る。
【0016】(ケーシング)本装置を構成するケーシン
グ2は、基台1に載置固定した支持部材8によって支持
されている。当該ケーシング2の内部には、被処理物4
を処理するための処理空間9が形成される。当該ケーシ
ング2はケーシング本体2aと蓋部材2bとからなる。
前記蓋部材2bは、ケーシング本体2aに対して着脱自
在であり、被処理物投入口10及びフィルター付き排気
口11を有している。前記ケーシング本体2aの底部周
縁の一部には処理が終了した被処理物4を取り出すため
の被処理物取出口12を形成してある。これらの構成に
より、被処理物4の連続処理が可能である。尚、ケーシ
ング2の底部2cは、外周部ほど下方に位置するように
略円錐状に傾斜させてある。これは、ケーシング2の底
部2cに移行した被処理物4が、後述する筒状回転体3
の回転軸部14と当該底部2cとの隙間に侵入して筒状
回転体3の回転が阻害されるのを防止するためである。
【0017】前記ケーシング2の内部、即ち、前記処理
空間9の雰囲気は、被処理物4の種類等に応じて適宜変
更することができる。例えば、不活性ガスや加熱ガス等
の各種のガスを前記被処理物投入口10からケーシング
2の内部に投入することができるし、加圧・真空ポンプ
等を用いてケーシング2の内部を加減圧することも可能
である。そのため、本発明に係る粉体処理装置では、例
えば、ケーシング2と筒状回転体3の回転軸部14との
間、あるいは、ケーシング2とインナーピース5の縦向
き固定軸22との間にシール部材27a,27bを設け
てある。
【0018】前記ケーシング2の周囲には、主に前記処
理空間9の温度を調節するためのジャケット13を設け
てある。当該ジャケット13へは、別に設けたタンク
(図外)からの加熱媒体又は冷却媒体が必要に応じて循
環供給される。勿論、前記ケーシング2の内部温度を積
極的に調節する必要がない場合には、加熱媒体などの供
給は行わない。
【0019】(筒状回転体)図1に示すごとく、前記ケ
ーシング2の内部には、略円筒形状であって鉛直方向の
回転軸心Xの回りに回転自在な筒状回転体3を備えてい
る。当該筒状回転体3は、例えば、回転軸部14と当該
回転軸部14に連接した底部15、及び、当該底部15
に連接した円筒壁部16とで構成してある。
【0020】前記回転軸部14は軸受17を介して回転
自在に基台1に取り付けられている。基台1に取り付け
られたモータ18および当該モータ18に連結された駆
動ベルト19aによって、前記回転軸部14のプーリー
19bに駆動力が伝達され、前記筒状回転体3が回転駆
動される。筒状回転体3を回転駆動することで被処理物
4には遠心力が作用し、被処理物4は筒状回転体3の受
け面6に押し付けられるのである。
【0021】前記底部15は、前記回転軸部14と前記
円筒壁部16とを連結する機能、および、前記被処理物
保持手段S1としての機能を有する。即ち、当該底部1
5は、後述する円筒壁部16との関係において互いの面
が折れ曲がった関係にあり、筒状回転体3が回転する際
に、被処理物4が充分に処理されずに押圧部7から下方
に逃げてしまうのを防止する。
【0022】前記円筒壁部16の内周面は、遠心力を受
けて外向きに移動しようとする被処理物4の受け面6と
なる。即ち、被処理物4を前記押圧部7に留めておき、
前記受け面6と前記インナーピース5との協働によって
被処理物4に押圧力を付与して粉体処理を行う。
【0023】この円筒壁部16には、図1あるいは図2
に示すごとく孔部20を設けてある。この孔部20は、
前記受け面6、つまりは前記円筒壁部16を貫通してお
り、円筒壁部16の回転軸心Xを挟んで対称の位置に合
計二個所設けてある。前記孔部20は、前記押圧部7に
保持された被処理物4の一部を押圧部7の外部に排除す
るためのものであり、前記被処理物排除手段S2として
機能する。当該孔部20は、例えば受け面6の下方側に
保持された被処理物4ほど多く排出するように下方側の
開口面積の比率が大きくなるように形成してある。本実
施形態では、例えば、前記孔部20を半円形状に形成す
る。被処理物4は、遠心力によって前記受け面6に押し
付けられつつ、同時に重力の影響を受ける。このため、
図1に示す円筒壁部16の場合、被処理物4は鉛直方向
下方へ移動して前記受け面6と前記底部15との境界近
傍に堆積しがちとなる。この部分に堆積する被処理物4
は、筒状回転体3の回転負荷を増大させると共に、前記
押圧部7への被処理物4の循環を阻害する。よって、当
該部分に堆積した被処理物4を積極的に排除することで
上記不都合を解消し、粉体処理の効率を向上させるので
ある。
【0024】尚、通常、被処理物4は上記のごとく下方
に移動するが、インナーピース5の押圧力が強い場合に
は、前記押圧部7に存在する被処理物4が前記受け面6
の上方に押し上げられることとなる。この場合に、上方
への被処理物4の移動を一切制限しないとすると、被処
理物4に与える押圧力が一定以上に高まらず、粉体処理
の効率が制限される。そこで、本実施形態においては、
前記筒状回転体3の上縁にも前記被処理物保持手段S1
としての折曲り部21を設ける例を示した。本構成によ
れば、前記押圧部7に存在する被処理物4の殆どが前記
孔部20を介して押圧部7の外に排除される。よって、
被処理物4は一定時間のあいだ押圧部7に保持されて押
圧力を付加され粉体処理が確実に行われる。
【0025】(インナーピース)前記筒状回転体3の内
部には、前記受け面6に所定の間隔を有して配置するイ
ンナーピース5を設けている。当該インナーピース5
は、例えば、前記筒状回転体3の回転軸心Xと同軸心上
となるように設けた縦向き固定軸22に固設してある。
当該インナーピース5は、前記受け面6と協働して被処
理物4に押圧力を付与する。そのため、インナーピース
5の水平断面形状は、図3に示すごとく例えば半円形状
に構成してある。本構成であれば、当該インナーピース
5と前記受け面6との間に侵入しようとする被処理物4
を圧密する効果が期待できるため、粉体粒子の複合化や
球状化処理には有利である。このインナーピース5はケ
ーシング2と同様に固定した構成としてもよいし、前記
縦向き固定軸22を何らかの駆動手段を用いて回転駆動
し、前記受け面6に対して積極的に相対回転させる構成
にしてもよい。即ち、インナーピース5の回転方向ある
いは回転速度を適宜設定することで、当該インナーピー
ス5と前記受け面6との相対回転速度をより細かく設定
できて、被処理物4に応じた最適な処理条件を設定する
ことが可能となる。
【0026】図示は省略するが、前記縦向き固定軸22
が固定してある場合あるいは回転駆動できる場合の如何
に拘わらず、前記縦向き固定軸22を介して前記インナ
ーピース5の温度を制御する構成とすることもできる。
例えば図示は省略するが、縦向き固定軸22およびイン
ナーピース5の内部に熱媒体通路を確保しておけば、被
処理物4の熱特性に応じて最適な処理条件を設定するこ
とが容易となる。
【0027】(羽根部材)前記ケーシング2の外周下方
部には羽根部材23を設けてある。当該羽根は、筒状回
転体3の周方向に沿って復数枚設けるが、その枚数は任
意である。当該羽根部材23は、前記孔部20から筒状
回転体3の外方に排除された被処理物4を再び前記押圧
部7に循環させるためのものである。この羽根部材23
は、前記被処理物4を前記押圧部7に円滑かつ確実に搬
送するために、前記ケーシング2の内面形状に適合させ
て形成してある。
【0028】(粉体処理)本発明に係る装置を用いた場
合、被処理物4が遠心力によって筒状回転体3の受け面
6に押し付けられ、集合作用を受けて、受け面6におい
て圧密状態の被処理物4層が生成する。その一方で、当
該圧密された被処理物4の一部は、前記孔部20等で構
成した被処理物排除手段S2を介して筒状回転体3の外
側に排除されるし、筒状回転体3の内部に存在する被処
理物4は、前記インナーピース5によってある程度の攪
拌作用を受ける。即ち、本発明の装置によれば、被処理
物4の複合化および混合化を速やかに進行させることが
できる。
【0029】(効果)以上のごとく、本発明の粉体処理
装置によれば、前記押圧部7と筒状回転体3の外部空間
とを被処理物4が循環し、押圧部7には被処理物4が順
次入れ替わって供給されるから、被処理物4の全体を確
実に粉体処理して品質が極めて安定した製品を得ること
ができ、しかも、従来の装置に比べて被処理物4の処理
能力が大幅に向上する。また、本発明の装置では、筒状
回転体の内包空間だけでなく筒状回転体の外部にも被処
理物を貯溜することができるため、一回のバッチ処理に
際して従来の粉体処理装置よりも多量の被処理物を装置
の内部に投入することができ、被処理物の処理効率をさ
らに向上させることができる。さらには、本発明の装置
によれば、受け面6に対する被処理物4の付着量は被処
理物排除手段S2の働きによって大幅に低減されるか
ら、当該装置の動作不良が発生し難く、清掃等の手間も
軽減される。
【0030】(実施例)本発明の装置を用いた粉体処理
の一例を以下に示す。実験試料として、珪砂と酸化チタ
ンとを重量比で10:1に配合したものを用いた。これ
らの試料の物性を表1に示す。
【0031】
【表1】
【0032】ここでBET比表面積とは、吸着法の一種
であるBET法によって測定した試料の比表面積をい
う。即ち、試料粉体の表面に吸着占有面積が既知である
分子を吸着させ、その吸着量から試料の比表面積を求め
るものである。当該実施例の運転条件を表2に示す。
【0033】
【表2】
【0034】尚、本実施例においては、回転筒体の内周
径は150mmφであり、受け面6とインナーピース5
とのクリアランスは5mmとした。受け面6の高さは1
00mmであり、インナーピース5の高さは80mmで
ある。筒状回転体3には被処理物排除手段S2として、
前記受け面6の最下部に略半円形状の孔部20を設け
た。当該孔部20の高さは10mmとし、底辺部の幅は4
5mmとした。
【0035】本実施例の結果を図4に示す。本図は、処
理時間とBET比表面積との関係を示すものであり、筒
状回転体3の回転数は2000rpmに固定して試料の
投入量を変化させた結果を整理した。図4により処理時
間の経過と共にBET比表面積が減少していることがわ
かる。これは、珪砂の表面に酸化チタンが融合して粉体
粒子の複合化が生じていることを示すものである。この
結果では、試料の投入量を1.38kgから5.54k
gまで増加させても粉体どうしの融合の進行程度は安定
していることがわかる。即ち、試料の投入量の多少に拘
わらず、安定的に複合化処理が進行することがわかる。
図5には、筒状回転体3の回転数が処理速度に与える影
響を示した。ここでは、従来の標準型装置に係る処理量
の20倍の試料を投入している。筒状回転体3の回転数
が多いほど処理速度も向上することがわかる。例えば、
筒状回転体3の回転数が3500rpmの場合には、従
来の標準型装置の処理量に対して処理時間を約2倍に延
長することで従来の約20倍の試料を処理できることが
わかる。
【0036】〔別実施形態〕以下に他の実施の形態を説
明する。 〈1〉 上記実施形態では、被処理物排除手段S2を半
円形状の孔部20で構成したが、当該構成に限られるも
のではなく、図6に示すごとくスリット状の孔部20a
を構成することとしても良い。例えば、本別実施形態の
場合には鉛直方向に沿って受け面6の高さと略同等の長
さを有する孔部20aを設けておく。本構成であれば、
押圧部7のうち鉛直方向に沿った何れの位置において
も、略同じ量の被処理物4を回転中の筒状回転体3の外
部に排除することが可能となる。よって、例えば、被処
理物4の流動性が比較的乏しく、前記受け面6の略全体
に被処理物が付着するような場合でも、被処理物4の入
れ替えを確実に行うことができ、当該粉体処理の効率を
向上させることができる。
【0037】〈2〉 上記実施形態では、被処理物排除
手段S2を孔部20で構成したが、当該構成に限られる
ものではなく図7に示すごとく、前記折曲り部21に切
欠部24を形成するものとしても良い。当該切欠部24
は、例えば、図7(イ)に示すごとく筒状回転体3の上
下に鍔状に設けた折曲り部21に対して設けるものと
し、上側の折曲り部21および下側の折曲り部21の夫
々において前記回転軸心Xの周方向に分散させて複数箇
所に設けるものとする。本構成であれば、筒状回転体3
の回転に際して重力によって下方に移動しようとする被
処理物4の動きを利用して被処理物4を循環させること
が可能であり、全ての被処理物4を効率的に粉体処理す
ることができる。尚、図7(ロ)に示すごとく、筒状回
転体3の底部15の周縁部に対し、複数箇所に孔部24
aを設けることで上記切欠部24と同様の効果を発揮さ
せることもできる。
【0038】〈3〉 上記実施形態では、断面形状が略
円筒状の外周面を有するインナーピース5を用いたが、
この他にも、図8(イ)に示すごとく略矩形状の断面形
状を有するものや、図8(ロ)に示すごとく台形状の断
面形状を有するもの、さらには、図8(ハ)に示すごと
く完全な円筒状の外面を有するものなど各種の形状のも
のを用いることが可能である。これらのうち、外面が略
円筒状に形成されているものでは、被処理物4を受け面
6との間で押圧するので、所謂粉体処理を行うのに好都
合である。これに対して、断面が矩形状あるいは台形状
のものでは、被処理物4を押圧するというよりも受け面
6に付着した被処理物4を剥離させる効果が高まるた
め、被処理物4を精密混合したりする場合に有利であ
る。
【0039】〈4〉 前記筒状回転体3の形状としては
種々のものが考えられる。例えば、図9(イ)に示すご
とく前記受け面6の上側を縮径させるものであってもよ
い。この場合には、被処理物4に作用する遠心力の分力
によって被処理物4をより積極的に下方に移動させるこ
とができるので、例えば、粘性の高い被処理物4あるい
は比重の小さい被処理物4等を処理するのに適してい
る。また、図9(ロ)に示すごとく前記受け面6の下側
を縮径させるものとしてもよい。この場合には、被処理
物4に作用する遠心力の分力によって被処理物4の落下
を抑制することができるので、比重の大きい被処理物4
を処理するのに適している。さらに、図9(ハ)に示す
ごとく前記受け面6の上下双方の縁部を縮径させた樽形
状とするものであってもよい。本構成であれば、筒状回
転体3の回転速度が大きくなっても被処理物4を前記押
圧部7に確実に保持することができる。尚、何れの場合
においても、インナーピース5の形状は、前記受け面6
の形状に適合させ、両者の間隔が平行となるように構成
するのが望ましい。
【0040】〈5〉 上記実施形態では、筒状回転体3
の内部にはインナーピース5のみを設ける例を示した
が、図10に示すごとくインナーピース5に加えて掻取
部材25を設けることもできる。当該掻取部材25は、
前記受け面6に付着した被処理物4層を掻き取るための
ものであり、前記受け面6に対して相対回転自在に設け
る。例えばこの掻取部材25は前記縦向き固定軸22に
連結杆26を介して取り付けるものとする。当該掻取部
材25は前記インナーピース5の回転方向下手に設けて
おき、インナーピース5で押しつけられた後の被処理物
4を掻き取って、受け面6への被処理物4の固着を防止
するのである。これにより、前記押圧部7には常に新し
い被処理物4が循環供給されて、被処理物4の粉体処理
が促進される。この掻取部材25と受け面6とのクリア
ランスは通常1mm程度に設定する。尚、掻取部材25
はインナーピース5の直後に設けてもよいし、前記筒状
回転体3の回転軸心Xを中心に30度〜45度程度後方
に設置してもよく、設置位置は任意である。ただし、掻
取部材25をインナーピース5の直前に設けると、被処
理物4が飛散して前記押圧部7に被処理物4がうまく供
給されないので好ましくない。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の粉体処理装置を示す縦断面図
【図2】孔部を示す説明図
【図3】インナーピースの形状を示す説明図
【図4】被処理物の複合化処理結果を示す説明図
【図5】被処理物の複合化処理結果を示す説明図
【図6】被処理物排除手段の一例を示す説明図
【図7】被処理物排除手段の一例を示す説明図
【図8】別実施形態に係るインナーピースを示す説明図
【図9】別実施形態に係る筒状回転体を示す説明図
【図10】掻取部材を設けた例を示す説明図
【符号の説明】
3 筒状回転体 3a 筒状回転体の内包空間 4 被処理物 5 インナーピース 6 受け面 7 押圧部 20 孔部 21 折曲り部 24 切欠部 S1 被処理物保持手段 S2 被処理物排除手段 X 回転軸心

Claims (7)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 鉛直方向に沿った回転軸心の回りに回転
    自在であり、被処理物が押し付けられる受け面を内周部
    に有する筒状回転体と、前記受け面に近接するよう前記
    筒状回転体の内部に配置したインナーピースとを備えた
    粉体処理装置であって、 前記受け面と前記インナーピースとの間に形成する押圧
    部に前記被処理物を保持するための被処理物保持手段を
    有すると共に、前記押圧部に保持された前記被処理物の
    一部を、前記筒状回転体が駆動回転している際に前記筒
    状回転体の内包空間の外部に排除するための被処理物排
    除手段を有している粉体処理装置。
  2. 【請求項2】 前記被処理物保持手段を、前記筒状回転
    体の上下縁のうち少なくとも何れか一方に設け、かつ、
    前記回転軸心の側に折れ曲がった折曲り部によって構成
    してある請求項1に記載の粉体処理装置。
  3. 【請求項3】 前記被処理物排除手段を、前記折曲り部
    に形成した切欠部で構成してある請求項2に記載の粉体
    処理装置。
  4. 【請求項4】 前記被処理物排除手段を、前記受け面に
    貫通形成した孔部で構成してある請求項1に記載の粉体
    処理装置。
  5. 【請求項5】 前記孔部を略半円形状に構成すると共
    に、前記受け面の最下部に設けてある請求項4に記載の
    粉体処理装置。
  6. 【請求項6】 前記孔部をスリット状に構成すると共
    に、鉛直方向に沿った当該孔部の長さを、同方向におけ
    る前記受け面の高さと略同じに形成してある請求項4に
    記載の粉体処理装置。
  7. 【請求項7】 前記孔部を、前記回転軸心を中心とした
    周方向に複数形成してある請求項4〜6の何れかに記載
    の粉体処理装置。
JP29536298A 1998-10-16 1998-10-16 粉体処理装置 Expired - Fee Related JP3877450B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29536298A JP3877450B2 (ja) 1998-10-16 1998-10-16 粉体処理装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP29536298A JP3877450B2 (ja) 1998-10-16 1998-10-16 粉体処理装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000117083A true JP2000117083A (ja) 2000-04-25
JP3877450B2 JP3877450B2 (ja) 2007-02-07

Family

ID=17819649

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP29536298A Expired - Fee Related JP3877450B2 (ja) 1998-10-16 1998-10-16 粉体処理装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3877450B2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005028356A (ja) * 2003-06-17 2005-02-03 Hosokawa Funtai Gijutsu Kenkyusho:Kk 複合粒子の製造方法、並びにその方法により製造された複合粒子
JP2005199124A (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Mitsui Mining Co Ltd メディア攪拌型粉砕機
JP2006021966A (ja) * 2004-07-08 2006-01-26 Hosokawa Funtai Gijutsu Kenkyusho:Kk 合成粉体製造方法、及び、粉体処理装置
JP2006210198A (ja) * 2005-01-28 2006-08-10 Hosokawa Funtai Gijutsu Kenkyusho:Kk 固体電解質用原料粉体、固体電解質、固体酸化物型燃料電池、並びに、固体電解質用原料粉体の製造方法
JP2009189935A (ja) * 2008-02-13 2009-08-27 Ricoh Co Ltd 粉体処理装置
JP2014111999A (ja) * 2012-12-05 2014-06-19 Hitachi Zosen Corp 粉体管理装置
WO2018012790A1 (ko) * 2016-07-12 2018-01-18 삼성에스디아이(주) 슬러리 제조용 믹서 냉각장치
KR102375745B1 (ko) 2021-08-26 2022-03-18 대진첨단소재 주식회사 고분자 나노 복합소재용 기계화학적 제조장치 및 방법

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4398514B2 (ja) 2008-03-03 2010-01-13 エナックス株式会社 粉体処理装置

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005028356A (ja) * 2003-06-17 2005-02-03 Hosokawa Funtai Gijutsu Kenkyusho:Kk 複合粒子の製造方法、並びにその方法により製造された複合粒子
JP2005199124A (ja) * 2004-01-13 2005-07-28 Mitsui Mining Co Ltd メディア攪拌型粉砕機
JP2006021966A (ja) * 2004-07-08 2006-01-26 Hosokawa Funtai Gijutsu Kenkyusho:Kk 合成粉体製造方法、及び、粉体処理装置
JP2006210198A (ja) * 2005-01-28 2006-08-10 Hosokawa Funtai Gijutsu Kenkyusho:Kk 固体電解質用原料粉体、固体電解質、固体酸化物型燃料電池、並びに、固体電解質用原料粉体の製造方法
JP2009189935A (ja) * 2008-02-13 2009-08-27 Ricoh Co Ltd 粉体処理装置
JP2014111999A (ja) * 2012-12-05 2014-06-19 Hitachi Zosen Corp 粉体管理装置
WO2018012790A1 (ko) * 2016-07-12 2018-01-18 삼성에스디아이(주) 슬러리 제조용 믹서 냉각장치
US11198104B2 (en) 2016-07-12 2021-12-14 Samsung Sdi Co., Ltd. Device for cooling slurry manufacturing mixer
KR102375745B1 (ko) 2021-08-26 2022-03-18 대진첨단소재 주식회사 고분자 나노 복합소재용 기계화학적 제조장치 및 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP3877450B2 (ja) 2007-02-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6029915A (en) Grinding and dispersing method and apparatus
US7708257B2 (en) Apparatus for treating solids
US4717540A (en) Method and apparatus for dissolving nickel in molten zinc
JP2000117083A (ja) 粉体処理装置
JP5730533B2 (ja) 製鉄スラッジ等を主原料とする造粒物の製造方法
CN106660130B (zh) 产生粉末产品的方法
JP2003154249A (ja) 混合乾燥機およびスラリー状被処理物の処理方法
US7972520B2 (en) Process for operating a centrifuge
JP6332863B2 (ja) 造粒機
JP3217671U (ja) ビーズミル
JP2001038184A (ja) 浸漬型分散機
JPH06134274A (ja) 混合装置
JP2002528258A (ja) 分散装置
JP2000167370A (ja) 粉粒体処理装置
JP4028121B2 (ja) 整粒機
JP3841949B2 (ja) コロを用いた分散機
US3912233A (en) Apparatus for continuous treatment and processing of solid and/or liquid materials
JP4413271B1 (ja) 浮游拡散型乾燥装置
JPH0663691A (ja) 鋳物砂の再生方法及び装置
JPS5922146B2 (ja) 加熱回転炉
JP2000167371A (ja) 粉粒体処理装置
JP2005125226A (ja) 粉粒体処理装置
JP2000126573A (ja) 粉体処理装置
JP2003062475A (ja) 固形物の粉砕方法および酸化粉砕品の製造方法とその設備
JPH0417348B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20051031

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060727

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060922

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20061019

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20061031

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101110

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111110

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111110

Year of fee payment: 5

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121110

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121110

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131110

Year of fee payment: 7

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees