JP2000114221A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 装置の小型化が可能で、かつ、処理液の無駄
な消費をなくすことができる基板処理装置を提供するこ
とを目的とする。 【解決手段】 基板処理装置は、基板１を傾斜姿勢で搬
送するための複数の搬送ローラ３と、この搬送ローラ３
により搬送される基板１の表裏両面に配設された複数の
第１、第２の扇形ノズル２１、２２と、基板１の裏面側
に２列に配設された複数の裏面扇形ノズル２４とを備え
る。第１扇形ノズル２１は、基板１の搬送方向と平行な
方向を向く扁平領域に向けて処理液を供給し得るように
その角度位置が決定されている。また、第２扇形ノズル
２２は、基板１の搬送方向と直交する方向を向く扁平領
域に向けて供給し得るようにその角度位置が決定されて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、液晶表示パネル
用のガラス基板やフォトマスク用のガラス基板等の基板
の表面に処理液を供給することにより、その処理を行う
基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】基板の処理工程の一種として、例えば、
フォトレジスト塗布液、感光性ポリイミド樹脂、カラー
フィルター用の染色材等からなる薄膜がその表面に形成
された液晶表示パネル用のガラス基板の表面を、アルカ
リ洗浄液、現像液、エッチング液、剥離液等の薬液によ
り処理した後、純水等の洗浄液により洗浄処理する工程
がある。このような工程においては、基板の表面に薬液
や純水から成る処理液を供給する処理液供給機構を備え
た基板処理装置が使用される。

【０００３】このような基板処理装置としては、基板を
その主面が水平方向を向く状態で搬送する複数の基板搬
送ローラにより、処理チャンバー内における所定領域で
基板を往復移動させると共に、基板表面側および裏面側
に配置され往復移動領域全域に処理液を供給する多数の
ノズルにより、基板の両面に処理液を吹きつけて処理す
る構成のものが使用されている。そして、基板の両面に
吹きつけられた処理液は、一旦回収され、再度ノズルに
供給されることにより循環使用される。

【０００４】なお、上述したノズルとしては、充円錐
（Ｆｕｌｌ Ｃｏｎｅ）ノズルと呼称されるノズルが採
用されている。この充円錐ノズル２０１は、図１５に示
すように、円錐形の領域２０２に向けて処理液を噴出す
ることにより、基板表面における円形状の広い領域に処
理液を供給しうるものである。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の基板処
理装置においては、基板の往復移動領域全域に向けて処
理液を供給するために多数のノズルを配設する必要があ
ることから、極めて容量の大きなポンプを使用する必要
が生じ、ポンプの大型化に伴って装置全体が大型化す
る。

【０００６】また、多数のノズルを使用した場合には、
ノズルから処理液を噴出する際に生ずる処理液のミスト
も多量となる。また、特に上述した充円錐型のノズルを
使用した場合には、多量のミストが生じやすい。

【０００７】ところで、一般に、この種の基板処理装置
においては、処理液から発生するガスの外部への拡散を
防止するため、処理チャンバー内部の気体を排気して処
理チャンバー内を減圧する構成が採用されている。この
ため、処理液のミストが多量に発生した場合には、大量
のミストが処理槽内部の気体と共に処理チャンバーから
排出されることになり、処理液が無駄に消費されるとい
う問題が生ずる。

【０００８】また、基板をその主面が水平面に対して傾
斜した傾斜姿勢で搬送するとともに、スリット状の吐出
口が形成されたスリットノズルを使用して、傾斜姿勢で
搬送される基板の上端部付近に処理液を吐出するように
構成された基板処理装置も提案されている（特開平９−
３２３０６０号公報）。

【０００９】この基板処理装置によれば、上述した問題
は発生しないが、基板を処理チャンバー内における所定
領域で往復移動させる構成とした場合には、基板におけ
る処理液が供給されていない部分で基板の乾燥が生ずる
可能性があり、また、基板の往復ストロークを大きくす
る必要があることから装置全体が大型化するという問題
が生ずる。

【００１０】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、装置の小型化が可能で、かつ、処理液
の無駄な消費をなくすことができる基板処理装置を提供
することを目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、基板を当該基板主面が水平面に対して傾斜した傾斜
姿勢で搬送する搬送手段と、前記搬送手段により搬送さ
れる基板の上側端縁より基板の主面に対して上方に配設
され、処理液を前記搬送手段による基板の搬送方向と平
行な方向を向く扁平領域に向けて供給する複数の第１扇
形ノズルと、前記搬送手段により搬送される基板の上側
端縁より基板の主面に対して上方に配設され、処理液を
前記搬送手段による基板の搬送方向と直交する方向を向
く扁平領域に向けて供給する複数の第２扇形ノズルとを
備えたことを特徴とする。

【００１２】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、前記第１、第２扇形ノズルから基板に
供給された処理液を再度第１、第２扇形ノズルに循環さ
せる処理液の循環路を備えている。

【００１３】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
の発明において、前記第１扇形ノズルと前記第２扇形ノ
ズルとは、前記基板の搬送方向に沿って交互に配設され
ている。

【００１４】請求項４に記載の発明は、請求項２または
請求項３いずれかに記載の発明において、前記搬送手段
により搬送される基板の上側端縁と下側端縁との間の位
置において、処理液を前記搬送手段による基板の搬送方
向と平行な方向を向く扁平領域に向けて供給する複数の
第３扇形ノズルをさらに備えている。

【００１５】請求項５に記載の発明は、請求項２または
請求項３いずれかに記載の発明において、前記搬送手段
による基板の搬送方向に対し前記第１、第２の扇形ノズ
ルの上流側と下流側とに、前記搬送手段により搬送され
る基板の裏面と所定の隙間を隔てて配設された補助板
と、前記搬送手段により搬送される基板の上側からこの
基板の表面および前記隙間に向けて処理液を供給するス
リットノズルとを各々配設している。

【００１６】請求項６に記載の発明は、基板を当該基板
主面が水平面に対して傾斜した傾斜姿勢で搬送する搬送
手段と、前記搬送手段により搬送される基板の裏面と所
定の隙間を隔てた位置に配置され、前記搬送手段による
基板の搬送方向に沿って列設された複数の補助板と、前
記複数の補助板と対応する位置に配設され、前記搬送手
段により搬送される基板の上側からこの基板の表面およ
び前記隙間に向けて処理液を供給する複数のスリットノ
ズルとを備えたことを特徴とする。

【００１７】請求項７に記載の発明は、請求項６に記載
の発明において、前記複数のスリットノズルの間の位置
に、処理液を前記搬送手段による基板の搬送方向と直交
する方向を向く扁平領域に向けて供給する扇形ノズルを
配設している。

【００１８】請求項８に記載の発明は、請求項１乃至請
求項７いずれかに記載の発明において、前記搬送手段は
基板をその搬送方向に沿って往復移動させるものであ
る。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。

【００２０】先ず、この発明を適用する基板処理装置の
概要について説明する。図１は、この発明を適用する基
板処理装置を概念的に示す概要図である。

【００２１】この基板処理装置は、処理チャンバー４
と、基板１を傾斜姿勢で搬送する複数の搬送ローラ３
と、複数の搬送ローラ３により処理チャンバー４内にお
いて往復移動する基板１に処理液を供給するための後述
する複数のノズルより構成されるノズル部２と、処理液
を貯留する貯留槽５と、処理液を貯留槽５からノズル部
２に圧送するポンプ６とを備える。

【００２２】貯留槽５内の処理液は、ポンプ６により供
給路７を介してノズル部２に供給され、処理チャンバー
４内を往復移動する基板１に供給される。そして、基板
１から滴下した処理液は、処理チャンバー４の底部から
回収路８を介して貯留槽５に回収され、再使用される。

【００２３】なお、処理チャンバー４には、処理チャン
バー内を排気する図示しない排気機構が付設されてい
る。また、処理チャンバー４内において処理液を供給さ
れて処理される基板１は、処理の完了を検出するための
図示しないエンドポイントセンサにより常に監視されて
いる。

【００２４】次に、この発明の特徴部分の構成について
説明する。図２はこの発明の第１実施形態に係る基板処
理装置の要部を示す概要図であり、図３はそのＡＡ断面
図、また、図４はそのＢＢ断面図である。

【００２５】この基板処理装置は、基板１をこの基板１
の主面が水平面に対して傾斜した傾斜姿勢で搬送するた
めのその両端部に鍔部が形成された複数の搬送ローラ３
と、この搬送ローラ３により搬送される基板１の表裏両
面において基板１の上側端縁より基板の主面に対して上
方に配設された複数の第１扇形ノズル２１と、基板１の
表裏両面においてこの第１扇形ノズル２１の間に配設さ
れた複数の第２扇形ノズル２２と、基板１の裏面側に２
列に配設された複数の裏面扇形ノズル２４とを備える。

【００２６】この第１、第２扇形ノズル２１、２２およ
び裏面扇形ノズル２４は、図１４に示すように、その吐
出口から処理液を扇形に広げて噴出することにより、こ
の処理液を楕円形の扁平領域２９に向けて供給しうるも
のである。なお、図１５に示す充円錐型のノズルを使用
した場合には、処理液が水滴状になって基板１に供給さ
れるが、この扇形ノズル２１、２２および裏面扇形ノズ
ル２４においては、処理液は扁平方向に広がり液カーテ
ン状になって基板１に供給される。このため、この扇形
ノズル２１、２２および裏面扇形ノズル２４を使用した
場合においては、処理液のミストが発生しにくいという
特質がある。

【００２７】第１扇形ノズル２１は、図２および図３に
示すように、基板１の搬送方向と平行な方向を向く扁平
領域に向けて処理液を供給し得るようにその角度位置が
決定されている。そして、この第１扇形ノズル２１によ
る処理液の供給位置は、基板１の上側端縁から、基板１
の主面に対して若干下方となる位置となっている。

【００２８】一方、第２扇形ノズル２２は、図２および
図４に示すように、基板１の搬送方向と直交する方向を
向く扁平領域に向けて処理液を供給し得るようにその角
度位置が決定されている。そして、この第２扇形ノズル
２２による処理液の供給位置は、基板１の上側端縁を中
心とする位置となっている。

【００２９】さらに、裏面扇形ノズル２４は、第１扇形
ノズル２１と同様、基板１の搬送方向と平行な方向を向
く扁平領域に向けて処理液を供給し得るようにその角度
位置が決定されている。

【００３０】この基板処理装置により基板１を処理する
場合においては、互いに同期して回転する複数の搬送ロ
ーラ３により、基板１を図２において一点鎖線で示す往
復移動領域内で往復移動させる。そして、上述した第
１、第２扇形ノズル２１、２２および裏面扇形ノズル２
４から基板１に向けて処理液を噴出する。

【００３１】このとき、基板１の表面側に配置された第
１扇形ノズル２１から基板１の表面に向けて噴出された
処理液は、基板１の搬送方向と平行な方向を向く扁平領
域に供給されることにより基板１の搬送方向全域に広が
った後、基板１の表面を流下する。また、基板１の裏面
側に配置された第１の扇形ノズル２１および裏面扇形ノ
ズル２４から基板１の裏面に向けて噴出された処理液
は、基板１の搬送方向と平行な方向を向く扁平領域に供
給されることにより基板１の搬送方向全域に広がり、基
板１の裏面に沿って流下した後、基板１の裏面を離れて
滴下する。さらに、基板１の表裏面側に配置された第２
扇形ノズル２２から基板１の両面に向けて噴出された処
理液は、基板１の上側端縁と第１扇形ノズル２１による
処理液の供給領域との間に供給される。

【００３２】このため、第１、第２扇形ノズル２１、２
２および裏面扇形ノズル２４を使用することにより、傾
斜姿勢で搬送される基板１の両面全域に確実に処理液を
供給することが可能となる。

【００３３】このとき、従来のように、基板１の往復移
動領域全域に向けて処理液を吐出する必要がないので、
図１に示すポンプ６として、容量の小さなものを採用す
ることが可能となる。また、第１、第２扇形ノズル２
１、２２および裏面扇形ノズル２４の使用により処理液
のミストの発生を最小に抑えることができるので、ミス
トが処理チャンバー４から排出されることによる処理液
の無駄な消費を防止することが可能となる。

【００３４】また、この実施形態においては、第１扇形
ノズル２１と第２扇形ノズル２２とを、基板１の往復移
動方向に対して交互に配置しているため、基板１の全域
における処理液の供給状態がほぼ均一となり、基板１を
より均一に処理することが可能となる。

【００３５】次に、この発明の第２実施形態について説
明する。図５はこの発明の第２実施形態に係る基板処理
装置の要部を示す概要図であり、図６はそのＡＡ断面
図、また、図７はそのＢＢ断面図である。なお、図２乃
至図４に示す第１実施形態と同一の部材については、同
一の符号を付して詳細な説明を省略する。

【００３６】この第２実施形態に係る基板処理装置は、
第１実施形態に係る基板処理装置に対し、搬送ローラ３
により搬送される基板１の上側端縁と下側端縁との間の
位置において、処理液を搬送ローラ３による基板の往復
移動方向と平行な方向を向く扁平領域に向けて供給する
複数の第３扇形ノズル２３を、基板１の表面側にさらに
配設した構成を有する。

【００３７】例えば、その表面のぬれ性が低い基板１を
処理する場合や表面張力が大きい基板１を処理する場合
等においては、基板１の表面を流下する処理液が互いに
集まることにより、基板１の下端部付近においては、基
板１の表面に処理液が流下しない領域が発生する場合が
ある。

【００３８】しかしながら、この第２実施形態に係る基
板処理装置によれば、このような場合においても、第３
扇形ノズル２３から供給される処理液により、このよう
な現象の発生を有効に防止し、基板１の表面全域に処理
液を確実に供給することが可能となる。

【００３９】次に、この発明の第３実施形態について説
明する。図８はこの発明の第３実施形態に係る基板処理
装置の要部を示す概要図であり、図９はその側断面図で
ある。なお、上述した第１、第２実施形態と同一の部材
については、同一の符号を付して詳細な説明を省略す
る。

【００４０】この第３実施形態に係る基板処理装置は、
第１実施形態に係る基板処理装置に対し、基板１の往復
移動領域の両端部付近、すなわち、搬送ローラ３による
基板１の搬送方向に対し第１、第２の扇形ノズル２１、
２２の上流側と下流側との位置に、補助板３１とスリッ
トノズル２５とを各々配置している。

【００４１】上記補助板３１は、搬送ローラ３により搬
送される基板１と実質的に同角度傾斜して配置されてお
り、また、この基板１の裏面に対し数ミリメートル程度
の隙間を隔てた位置に配置されている。そして、この補
助板３１には、基板１の裏面と当接して回転することに
より基板１を案内する複数のガイドローラ３２が付設さ
れている。

【００４２】一方、上記スリットノズル２５は、基板１
の往復移動方向に延びる２本のスリットを備え、その一
方のスリットからは基板１の表面に向けて処理液を供給
し、また、他方のスリットからは基板１の裏面と補助板
３１の表面との間に形成された隙間に向けて処理液を供
給する構成となっている。このため、図９に示すよう
に、このスリットノズル２５から吐出された処理液は、
基板１の表面と、基板１の裏面と補助板３１の表面との
間とを層状に流下することになる。

【００４３】上述したように、例えば、その表面のぬれ
性が低い基板１を処理する場合や表面張力が大きい基板
１を処理する場合等においては、基板１の表面を流下す
る処理液が互いに集まることにより、基板１の往復移動
方向の先端部および後端部における下端部付近におい
て、特に基板１の表面に処理液が流下しない領域が発生
しやすい。

【００４４】しかしながら、この第３実施形態に係る基
板処理装置によれば、このような場合においても、スリ
ットノズル２５から供給される処理液により、このよう
な現象の発生を有効に防止し、基板１の表面全域に処理
液を確実に供給することが可能となる。

【００４５】次に、この発明の第４実施形態について説
明する。図１０はこの発明の第４実施形態に係る基板処
理装置の要部を示す概要図であり、図１１はその側断面
図である。なお、上述した第３実施形態と同一の部材に
ついては、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。

【００４６】この第４実施形態においては、第１実施形
態における第１、第２扇形ノズル２１、２２および裏面
扇形ノズル２４を省略すると共に、図８および図９に示
す第３実施形態における補助板３１およびスリットノズ
ル２５と同様の補助板３３およびスリットノズル２６
を、基板１の往復移動方向に沿って複数個列設した構成
を有する。また、補助板３３には、基板１の案内用のガ
イドローラ３４が付設されている。

【００４７】この第４実施形態に係る基板処理装置にお
いては、スリットノズル２６から吐出された処理液は、
基板１の表面と、基板１の裏面と補助板３３の表面との
間とを層状に流下する。このため、基板１の往復移動と
相俟って、傾斜姿勢で搬送される基板１の両面全域に確
実に処理液を供給することが可能となる。

【００４８】このとき、従来のように、基板１の往復移
動領域全域に向けて処理液を吐出する必要がないので、
図１に示すポンプ６として、容量の小さなものを採用す
ることが可能となる。また、スリットノズル２６からは
処理液のミストが発生することはないので、ミストが処
理チャンバー４から排出されることによる処理液の無駄
な消費を防止することが可能となる。

【００４９】次に、この発明の第５実施形態について説
明する。図１２はこの発明の第５実施形態に係る基板処
理装置の要部を示す概要図であり、図１３はその側断面
図である。なお、上述した第１または第４実施形態と同
一の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を
省略する。

【００５０】この第５実施形態に係る基板処理装置にお
いては、上述した第４実施形態に係る基板処理装置に対
し、複数のスリットノズル２６の間の位置に、処理液を
基板１の搬送方向と直交する方向を向く扁平領域に向け
て供給する扇形ノズル２２をさらに配設した構成を有す
る。

【００５１】この第５実施形態に係る基板処理装置によ
れば、基板１の上側端縁に対して扇形ノズル２２から処
理液を供給する構成であることから、基板１の両面全域
により確実に処理液を供給することが可能となる。

【００５２】なお、上述した実施の形態においては、搬
送ローラ３により基板１を往復移動させながら処理液を
供給して基板を処理する場合について説明したが、基板
１を一方向に走行させた状態で処理液を供給して基板１
を処理する基板処理装置にこの発明を適用することも可
能である。但し、基板１を往復移動ながら処理する場合
においては、エンドポイントセンサ等の検出手段により
基板１の処理が終了したことを検出した時点で、基板１
を処理チャンバー４から排出する構成とすることによ
り、処理液による基板１の処理時間を容易に変更するこ
とが可能となるという利点を有する。

【００５３】

【発明の効果】請求項１または請求項２に記載の発明に
よれば、傾斜姿勢で搬送される基板の搬送方向と平行な
方向を向く扁平領域に向けて処理液を供給する複数の第
１扇形ノズルと、基板の搬送方向と直交する方向を向く
扁平領域に向けて処理液を供給する複数の第２扇形ノズ
ルとを備えたことから、大きなポンプ等を使用しない場
合においても、基板の両面全域に確実に処理液を供給す
ることが可能となる。また、処理液のミストの発生を最
小に抑えることができるので、ミストの排出による処理
液の無駄な消費を防止することが可能となる。

【００５４】請求項３に記載の発明によれば、第１扇形
ノズルと第２扇形ノズルとが基板の搬送方向に沿って交
互に配設されることから、基板の全域における処理液の
供給状態がほぼ均一となり、基板をより均一に処理する
ことが可能となる。

【００５５】請求項４に記載の発明によれば、搬送手段
により搬送される基板の上側端縁と下側端縁との間の位
置において、処理液を搬送手段による基板の搬送方向と
平行な方向を向く扁平領域に向けて供給する複数の第３
扇形ノズルをさらに備えることから、基板の下端部を含
む全域に処理液をより確実に供給することが可能とな
る。

【００５６】請求項５に記載の発明によれば、搬送手段
による基板の搬送方向に対し第１、第２の扇形ノズルの
上流側と下流側とに、搬送手段により搬送される基板の
裏面と所定の隙間を隔てて配設された補助板と、搬送手
段により搬送される基板の上側からこの基板の表面およ
び隙間に向けて処理液を供給するスリットノズルとを各
々配設したことから、基板の先端部および後端部を含む
全域に処理液をより確実に供給することが可能となる。

【００５７】請求項６に記載の発明によれば、傾斜姿勢
で搬送される基板の裏面と所定の隙間を隔てた位置に配
置され、搬送手段による基板の搬送方向に沿って列設さ
れた複数の補助板と、複数の補助板と対応する位置に配
設され、搬送手段により搬送される基板の上側からこの
基板の表面および隙間に向けて処理液を供給する複数の
スリットノズルとを備えたことから、大きなポンプ等を
使用しない場合においても、基板の両面全域に確実に処
理液を供給することが可能となる。また、処理液のミス
トの発生を防止することができるので、ミストの排出に
よる処理液の無駄な消費を防止することが可能となる。

【００５８】請求項７に記載の発明によれば、複数のス
リットノズルの間の位置に、処理液を搬送手段による基
板の搬送方向と直交する方向を向く扁平領域に向けて供
給する扇形ノズルを配設したことから、基板の全域によ
り確実に処理液を供給することが可能となる。

【００５９】請求項８に記載の発明によれば、搬送手段
は基板をその搬送方向に沿って往復移動させることか
ら、処理液による基板の処理時間を容易に変更すること
が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明を適用する基板処理装置を概念的に示
す概要図である。

【図２】この発明の第１実施形態に係る基板処理装置の
要部を示す概要図である。

【図３】図２のＡＡ断面図である。

【図４】図２のＢＢ断面図である。

【図５】この発明の第２実施形態に係る基板処理装置の
要部を示す概要図である。

【図６】図５のＡＡ断面図である。

【図７】図５のＢＢ断面図である。

【図８】この発明の第３実施形態に係る基板処理装置の
要部を示す概要図である。

【図９】図８の側断面図である。

【図１０】この発明の第４実施形態に係る基板処理装置
の要部を示す概要図である。

【図１１】図１０の側断面図である。

【図１２】この発明の第４実施形態に係る基板処理装置
の要部を示す概要図である。

【図１３】図１０の側断面図である。

【図１４】第１、第２、第３扇形ノズル２１、２２、２
３および裏面扇形ノズル２４による処理液噴出状態を示
す説明図である。

【図１５】充円錐ノズル２０１による処理液噴出状態を
示す説明図である。

【符号の説明】

１ 基板 ２ ノズル部 ３ 搬送ローラ ４ 処理チャンバー ５ 貯留槽 ６ ポンプ ７ 供給路 ８ 回収路 ２１ 第１扇形ノズル ２２ 第２扇形ノズル ２３ 第３扇形ノズル ２４ 裏面扇形ノズル ２５、２６ スリットノズル ３１、３３ 補助板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６９Ｄ (72)発明者 小笠原 光雄 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 (72)発明者 谷口 竹志 京都市上京区堀川通寺之内上る４丁目天神 北町１番地の１ 大日本スクリーン製造株 式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AB08 AB16 AB17 EA04 FA15 FA40 FA48 2H096 AA24 AA27 CA12 DA04 GA01 GA17 HA17 LA02 4F035 AA04 BC06 CA02 CA05 CB03 CB11 CC01 4G068 AA03 AB15 AC05 AD16 AF19 5F046 HA03 JA02 LA11 LA14 MA10

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を当該基板主面が水平面に対して傾
   斜した傾斜姿勢で搬送する搬送手段と、 前記搬送手段により搬送される基板の上側端縁より基板
   の主面に対して上方に配設され、処理液を前記搬送手段
   による基板の搬送方向と平行な方向を向く扁平領域に向
   けて供給する複数の第１扇形ノズルと、 前記搬送手段により搬送される基板の上側端縁より基板
   の主面に対して上方に配設され、処理液を前記搬送手段
   による基板の搬送方向と直交する方向を向く扁平領域に
   向けて供給する複数の第２扇形ノズルと、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の基板処理装置におい
   て、 前記第１、第２扇形ノズルから基板に供給された処理液
   を再度第１、第２扇形ノズルに循環させる処理液の循環
   路を備えた基板処理装置。
3. 【請求項３】 請求項２に記載の基板処理装置におい
   て、 前記第１扇形ノズルと前記第２扇形ノズルとは、前記基
   板の搬送方向に沿って交互に配設されている基板処理装
   置。
4. 【請求項４】 請求項２または請求項３いずれかに記載
   の基板処理装置において、 前記搬送手段により搬送される基板の上側端縁と下側端
   縁との間の位置において、処理液を前記搬送手段による
   基板の搬送方向と平行な方向を向く扁平領域に向けて供
   給する複数の第３扇形ノズルをさらに備える基板処理装
   置。
5. 【請求項５】 請求項２または請求項３いずれかに記載
   の基板処理装置において、 前記搬送手段による基板の搬送方向に対し前記第１、第
   ２の扇形ノズルの上流側と下流側とに、前記搬送手段に
   より搬送される基板の裏面と所定の隙間を隔てて配設さ
   れた補助板と、前記搬送手段により搬送される基板の上
   側からこの基板の表面および前記隙間に向けて処理液を
   供給するスリットノズルとを各々配設した基板処理装
   置。
6. 【請求項６】 基板を当該基板主面が水平面に対して傾
   斜した傾斜姿勢で搬送する搬送手段と、 前記搬送手段により搬送される基板の裏面と所定の隙間
   を隔てた位置に配置され、前記搬送手段による基板の搬
   送方向に沿って列設された複数の補助板と、 前記複数の補助板と対応する位置に配設され、前記搬送
   手段により搬送される基板の上側からこの基板の表面お
   よび前記隙間に向けて処理液を供給する複数のスリット
   ノズルと、 を備えたことを特徴とする基板処理装置。
7. 【請求項７】 請求項６に記載の基板処理装置におい
   て、 前記複数のスリットノズルの間の位置に、処理液を前記
   搬送手段による基板の搬送方向と直交する方向を向く扁
   平領域に向けて供給する扇形ノズルを配設した基板処理
   装置。
8. 【請求項８】 請求項１乃至請求項７いずれかに記載の
   基板処理装置において、 前記搬送手段は基板をその搬送方向に沿って往復移動さ
   せる基板処理装置。