JP2000113191A - パターン検査装置 - Google Patents
パターン検査装置Info
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- JP2000113191A JP2000113191A JP10285358A JP28535898A JP2000113191A JP 2000113191 A JP2000113191 A JP 2000113191A JP 10285358 A JP10285358 A JP 10285358A JP 28535898 A JP28535898 A JP 28535898A JP 2000113191 A JP2000113191 A JP 2000113191A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ベースフィルムの気泡をパターンの欠陥と誤
認識することのないパターン検査装置を提供する。 【解決手段】 検査ワーク１は、ベースフィルム上に導
体パターンが形成されたＦＰＣあるいはＴＡＢテープで
ある。光源５による直接照射と共に、反射板６ａ，６ｂ
による斜方照射によって検査ワーク１を照らす。斜方照
射により、検査ワーク１のベースフィルム中の気泡のエ
ッジ部をかすめてベースフィルムを透過する光量を増や
すことができ、気泡のエッジ部における陰の発生を減少
させることができる。
認識することのないパターン検査装置を提供する。 【解決手段】 検査ワーク１は、ベースフィルム上に導
体パターンが形成されたＦＰＣあるいはＴＡＢテープで
ある。光源５による直接照射と共に、反射板６ａ，６ｂ
による斜方照射によって検査ワーク１を照らす。斜方照
射により、検査ワーク１のベースフィルム中の気泡のエ
ッジ部をかすめてベースフィルムを透過する光量を増や
すことができ、気泡のエッジ部における陰の発生を減少
させることができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ベースフィルム上
に形成されたパターンを検査するパターン検査装置に関
するものである。
に形成されたパターンを検査するパターン検査装置に関
するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年、電子機器の小型化要求に適したプ
リント配線板として、フレキシブルプリント配線板（Fl
exible Printed Circuit、以下、ＦＰＣとする）が知ら
れている。ＦＰＣは、柔軟で薄いポリイミド製のベース
フィルム上に回路パターンを形成したものである。一
方、ＩＣ、ＬＳＩの多ピン化要求に適した実装技術とし
て、ＴＡＢ（Tape Automated Bonding）法が知られてい
る。ＴＡＢ法は、ポリイミド製のベースフィルム（ＴＡ
Ｂテープ）上に形成された銅箔パターンをＩＣチップの
電極に接合して外部リードとするものである。
リント配線板として、フレキシブルプリント配線板（Fl
exible Printed Circuit、以下、ＦＰＣとする）が知ら
れている。ＦＰＣは、柔軟で薄いポリイミド製のベース
フィルム上に回路パターンを形成したものである。一
方、ＩＣ、ＬＳＩの多ピン化要求に適した実装技術とし
て、ＴＡＢ（Tape Automated Bonding）法が知られてい
る。ＴＡＢ法は、ポリイミド製のベースフィルム（ＴＡ
Ｂテープ）上に形成された銅箔パターンをＩＣチップの
電極に接合して外部リードとするものである。
【０００３】このようなベースフィルムでは、パターン
形成後に顕微鏡を用いて人間により目視でパターンの検
査が行われる。ところが、微細なパターンを目視で検査
するには、熟練を要すると共に、目を酷使するという問
題点があった。そこで、目視検査に代わるものとして、
ベースフィルムに形成されたパターンをＴＶカメラで撮
像して自動的に検査するパターン検査装置が提案されて
いる（例えば、特開平６−３４１９６０号公報）。
形成後に顕微鏡を用いて人間により目視でパターンの検
査が行われる。ところが、微細なパターンを目視で検査
するには、熟練を要すると共に、目を酷使するという問
題点があった。そこで、目視検査に代わるものとして、
ベースフィルムに形成されたパターンをＴＶカメラで撮
像して自動的に検査するパターン検査装置が提案されて
いる（例えば、特開平６−３４１９６０号公報）。
【０００４】図４は従来のパターン検査装置のブロック
図である。カメラ３２によって撮像された検査ワーク１
の濃淡画像は、Ａ／Ｄ変換器３３でディジタル化され、
ディジタル化された画像データは、２値化処理回路３４
によって２値化処理されて２値画像のデータに変換され
る。そして、この２値画像データが図示しない判定手段
によって基準となるマスタパターンデータと比較される
ことにより、パターン検査が実施される。
図である。カメラ３２によって撮像された検査ワーク１
の濃淡画像は、Ａ／Ｄ変換器３３でディジタル化され、
ディジタル化された画像データは、２値化処理回路３４
によって２値化処理されて２値画像のデータに変換され
る。そして、この２値画像データが図示しない判定手段
によって基準となるマスタパターンデータと比較される
ことにより、パターン検査が実施される。
【０００５】図５は、図４の検査ワーク１の一部を拡大
した断面図である。図４のパターン検査装置では、検査
ワーク１の下方に光源３１を設置して検査ワーク１の裏
面を照らしている。これにより、下方からの照明光に対
して光透過性を有するベースフィルム２１が「明」、下
方からの照明光を遮断する導体パターン２２が「暗」と
なる図６の濃度ヒストグラムで示すような濃淡画像がカ
メラ３２で得られるので、２値化処理回路３４は、図６
の濃度ヒストグラムの２峰の谷点ａをしきい値として２
値化処理を実施する。
した断面図である。図４のパターン検査装置では、検査
ワーク１の下方に光源３１を設置して検査ワーク１の裏
面を照らしている。これにより、下方からの照明光に対
して光透過性を有するベースフィルム２１が「明」、下
方からの照明光を遮断する導体パターン２２が「暗」と
なる図６の濃度ヒストグラムで示すような濃淡画像がカ
メラ３２で得られるので、２値化処理回路３４は、図６
の濃度ヒストグラムの２峰の谷点ａをしきい値として２
値化処理を実施する。
【０００６】ところが、図５に示すように、ベースフィ
ルム２１に気泡２３が存在すると、気泡２３のエッジ部
において照明光の乱反射が発生する。このような乱反射
が発生した部分では、ベースフィルム２１を透過する光
量が低下するので、気泡２３のエッジ部が導体パターン
２２と同様に暗くなる。すなわち、気泡２３のエッジ部
は、図６の濃度ヒストグラム上で本来、パターンである
べき峰に含まれる。したがって、このような濃淡画像デ
ータを２値化処理すると、気泡２３のエッジ部がパター
ンとして認識される（つまり、ベースフィルムを示す値
に変換されるべき部分が導体パターンを示す値に変換さ
れる）。その結果、気泡２３のエッジ部は、パターンの
短絡や突起等の欠陥として検出される。
ルム２１に気泡２３が存在すると、気泡２３のエッジ部
において照明光の乱反射が発生する。このような乱反射
が発生した部分では、ベースフィルム２１を透過する光
量が低下するので、気泡２３のエッジ部が導体パターン
２２と同様に暗くなる。すなわち、気泡２３のエッジ部
は、図６の濃度ヒストグラム上で本来、パターンである
べき峰に含まれる。したがって、このような濃淡画像デ
ータを２値化処理すると、気泡２３のエッジ部がパター
ンとして認識される（つまり、ベースフィルムを示す値
に変換されるべき部分が導体パターンを示す値に変換さ
れる）。その結果、気泡２３のエッジ部は、パターンの
短絡や突起等の欠陥として検出される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】以上のように従来のパ
ターン検査装置では、ベースフィルムに気泡が存在する
と、この気泡をパターンの欠陥と誤認識してしまうとい
う問題点があった。本発明は、上記課題を解決するため
になされたもので、ベースフィルムの気泡をパターンの
欠陥と誤認識することのないパターン検査装置を提供す
ることを目的とする。
ターン検査装置では、ベースフィルムに気泡が存在する
と、この気泡をパターンの欠陥と誤認識してしまうとい
う問題点があった。本発明は、上記課題を解決するため
になされたもので、ベースフィルムの気泡をパターンの
欠陥と誤認識することのないパターン検査装置を提供す
ることを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、請求項１に記
載のように、検査ワークの裏面を照らす照明手段と、こ
の照明手段からの光を反射して、反射光を上記検査ワー
クの裏面に対して斜方照射する反射手段と、検査ワーク
を挟んで照明手段と対向するように配置された、検査ワ
ークのパターン形成面を撮像する撮像手段とを有し、上
記照明手段による直接照射と共に、上記反射手段による
斜方照射によって検査ワークを照らすようにしたもので
ある。このように、照明手段による直接照射と共に、反
射手段による斜方照射によって検査ワークを照らすこと
により、気泡のエッジ部をかすめてベースフィルムを透
過し撮像手段に入射する光量を増やすことができる。こ
れにより、気泡のエッジ部で乱反射が発生したとして
も、気泡のエッジ部における陰の発生を減少させること
ができるので、撮像手段で撮像した濃淡画像を２値化処
理する際に、気泡のエッジ部をパターンとして誤認識す
ることがなくなり、マスタパターンとの照合の際に、気
泡をパターンの欠陥として検出することがなくなる。
載のように、検査ワークの裏面を照らす照明手段と、こ
の照明手段からの光を反射して、反射光を上記検査ワー
クの裏面に対して斜方照射する反射手段と、検査ワーク
を挟んで照明手段と対向するように配置された、検査ワ
ークのパターン形成面を撮像する撮像手段とを有し、上
記照明手段による直接照射と共に、上記反射手段による
斜方照射によって検査ワークを照らすようにしたもので
ある。このように、照明手段による直接照射と共に、反
射手段による斜方照射によって検査ワークを照らすこと
により、気泡のエッジ部をかすめてベースフィルムを透
過し撮像手段に入射する光量を増やすことができる。こ
れにより、気泡のエッジ部で乱反射が発生したとして
も、気泡のエッジ部における陰の発生を減少させること
ができるので、撮像手段で撮像した濃淡画像を２値化処
理する際に、気泡のエッジ部をパターンとして誤認識す
ることがなくなり、マスタパターンとの照合の際に、気
泡をパターンの欠陥として検出することがなくなる。
【０００９】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態につい
て図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の実施
の形態となるパターン検査装置のブロック図である。本
実施の形態のパターン検査装置は、検査ワーク１を載せ
るためのベースガラス２と、検査ワーク１を上から押さ
えるワーク押さえガラス３と、ベースガラス２を支持す
るＸ−Ｙテーブル４と、検査ワーク１の裏面を照らす蛍
光灯などの光源５と、光源５からの光を反射して、反射
光を検査ワーク１の裏面に対して斜方照射する反射板６
ａ，６ｂと、検査ワーク１のパターン形成面を撮像する
カメラ７と、検査の基準となるマスタパターンとカメラ
７で撮像した被測定パターンとを比較することにより、
被測定パターンを検査する画像処理装置８と、検査結果
を表示するための表示装置９とから構成されている。
て図面を参照して詳細に説明する。図１は本発明の実施
の形態となるパターン検査装置のブロック図である。本
実施の形態のパターン検査装置は、検査ワーク１を載せ
るためのベースガラス２と、検査ワーク１を上から押さ
えるワーク押さえガラス３と、ベースガラス２を支持す
るＸ−Ｙテーブル４と、検査ワーク１の裏面を照らす蛍
光灯などの光源５と、光源５からの光を反射して、反射
光を検査ワーク１の裏面に対して斜方照射する反射板６
ａ，６ｂと、検査ワーク１のパターン形成面を撮像する
カメラ７と、検査の基準となるマスタパターンとカメラ
７で撮像した被測定パターンとを比較することにより、
被測定パターンを検査する画像処理装置８と、検査結果
を表示するための表示装置９とから構成されている。
【００１０】次に、本実施の形態のパターン検査装置の
動作を説明する。検査ワーク１としては、ポリイミド等
からなるベースフィルム上に導体パターンが形成された
ＦＰＣあるいはＴＡＢテープがある。このような柔軟構
造の検査ワーク１に対する透過照明を可能にするため
に、検査ワーク１を載せるベースガラス２を設けると共
に、ワーク押さえガラス３によって検査ワーク１を上か
ら押さえ、Ｘ−Ｙテーブル４によってベースガラス２を
支持する構成としている。Ｘ−Ｙテーブル４としては、
例えばベースガラス２の両端を支える２本のガイドレー
ル状のテーブルが使用されている。
動作を説明する。検査ワーク１としては、ポリイミド等
からなるベースフィルム上に導体パターンが形成された
ＦＰＣあるいはＴＡＢテープがある。このような柔軟構
造の検査ワーク１に対する透過照明を可能にするため
に、検査ワーク１を載せるベースガラス２を設けると共
に、ワーク押さえガラス３によって検査ワーク１を上か
ら押さえ、Ｘ−Ｙテーブル４によってベースガラス２を
支持する構成としている。Ｘ−Ｙテーブル４としては、
例えばベースガラス２の両端を支える２本のガイドレー
ル状のテーブルが使用されている。
【００１１】光源５から発せられた光は、検査ワーク１
に直接照射されると共に、反射板６ａ，６ｂによって反
射されて、この反射光が検査ワーク１に照射される。カ
メラ７は、上方から検査ワーク１のパターン形成面を撮
像する。
に直接照射されると共に、反射板６ａ，６ｂによって反
射されて、この反射光が検査ワーク１に照射される。カ
メラ７は、上方から検査ワーク１のパターン形成面を撮
像する。
【００１２】画像処理装置８内のＡ／Ｄ変換器１０は、
カメラ７によって撮像された検査ワーク１の濃淡画像を
ディジタル化する。ディジタル化された画像データは、
２値化処理回路１１によって２値化処理されて２値画像
のデータに変換される。そして、この２値画像データが
比較回路１２によって基準となるマスタパターンのデー
タと比較されることにより、検査が実施され、検査結果
が表示装置９の画面に表示される。
カメラ７によって撮像された検査ワーク１の濃淡画像を
ディジタル化する。ディジタル化された画像データは、
２値化処理回路１１によって２値化処理されて２値画像
のデータに変換される。そして、この２値画像データが
比較回路１２によって基準となるマスタパターンのデー
タと比較されることにより、検査が実施され、検査結果
が表示装置９の画面に表示される。
【００１３】図２は、図１の検査ワーク１の一部を拡大
した断面図である。検査ワーク１を光源５と反射板６
ａ，６ｂによって下方から照らすことにより、下方から
の照明光に対して光透過性を有するベースフィルム２１
が「明」、下方からの照明光を遮断する導体パターン２
２が「暗」となる図６の濃度ヒストグラムで示すような
濃淡画像がカメラ７で得られるので、図６の濃度ヒスト
グラムの２峰の谷点ａをしきい値として２値化処理を実
施すれば、２値画像を得ることができる。
した断面図である。検査ワーク１を光源５と反射板６
ａ，６ｂによって下方から照らすことにより、下方から
の照明光に対して光透過性を有するベースフィルム２１
が「明」、下方からの照明光を遮断する導体パターン２
２が「暗」となる図６の濃度ヒストグラムで示すような
濃淡画像がカメラ７で得られるので、図６の濃度ヒスト
グラムの２峰の谷点ａをしきい値として２値化処理を実
施すれば、２値画像を得ることができる。
【００１４】そして、本実施の形態では、検査ワーク１
と光源５の間に反射板６ａ，６ｂを設置し、ベースフィ
ルム２１に対して斜め方向から光を照射することによ
り、気泡２３のエッジ部をかすめて通る透過光量を増や
すことができる。これにより、気泡２３のエッジ部で乱
反射が発生したとしても、気泡２３のエッジ部における
陰の発生を減少させることができる。
と光源５の間に反射板６ａ，６ｂを設置し、ベースフィ
ルム２１に対して斜め方向から光を照射することによ
り、気泡２３のエッジ部をかすめて通る透過光量を増や
すことができる。これにより、気泡２３のエッジ部で乱
反射が発生したとしても、気泡２３のエッジ部における
陰の発生を減少させることができる。
【００１５】なお、本発明の最良の実施の形態として
は、図３に示すように、反射板６ａ，６ｂの反射面を凹
面とし、光源５からの光をベースフィルム２１に集光す
るように配置することが望ましい。
は、図３に示すように、反射板６ａ，６ｂの反射面を凹
面とし、光源５からの光をベースフィルム２１に集光す
るように配置することが望ましい。
【００１６】また、本実施の形態のパターン検査装置で
は、μｍオーダーの検査精度に対応した高分解能が必要
とされる。検査ワーク１上の所定の検査範囲を取り込む
には２次元のエリアカメラでは分解能が不足するので、
カメラ７にはラインセンサカメラが使用される。
は、μｍオーダーの検査精度に対応した高分解能が必要
とされる。検査ワーク１上の所定の検査範囲を取り込む
には２次元のエリアカメラでは分解能が不足するので、
カメラ７にはラインセンサカメラが使用される。
【００１７】よって、ラインセンサカメラ７の画素が例
えばＸ方向（図１の紙面と垂直な方向）に沿って並んで
いるとすれば、Ｘ−Ｙテーブル４あるいはカメラ７の何
れかをＹ方向に移動させることで、２次元の濃淡画像を
取り込むことができる。ここで、光源５と反射板６ａ，
６ｂによる照明の照射幅は、最大で１０ｍｍ程度であ
る。したがって、カメラ７をＹ方向に移動させる場合に
は、それに伴って光源５と反射板６ａ，６ｂもＹ方向に
移動させる必要がある。
えばＸ方向（図１の紙面と垂直な方向）に沿って並んで
いるとすれば、Ｘ−Ｙテーブル４あるいはカメラ７の何
れかをＹ方向に移動させることで、２次元の濃淡画像を
取り込むことができる。ここで、光源５と反射板６ａ，
６ｂによる照明の照射幅は、最大で１０ｍｍ程度であ
る。したがって、カメラ７をＹ方向に移動させる場合に
は、それに伴って光源５と反射板６ａ，６ｂもＹ方向に
移動させる必要がある。
【００１８】
【発明の効果】本発明によれば、照明手段による直接照
射と共に、反射手段による斜方照射によって検査ワーク
を照らすことにより、気泡のエッジ部をかすめてベース
フィルムを透過し撮像手段に入射する光量を増やすこと
ができる。これにより、気泡のエッジ部で乱反射が発生
したとしても、気泡のエッジ部における陰の発生を減少
させることができるので、撮像手段で撮像した濃淡画像
を２値化処理する際に、気泡のエッジ部をパターンとし
て誤認識することがなくなり、マスタパターンとの照合
の際に、気泡をパターンの欠陥として検出することがな
くなる。また、照明を複数台追加すれば、本発明と同様
の効果が得られるが、この場合には取り付けスペースが
増大する。本発明によれば、照明を複数台使用する場合
よりも省スペース化を図ることができる。
射と共に、反射手段による斜方照射によって検査ワーク
を照らすことにより、気泡のエッジ部をかすめてベース
フィルムを透過し撮像手段に入射する光量を増やすこと
ができる。これにより、気泡のエッジ部で乱反射が発生
したとしても、気泡のエッジ部における陰の発生を減少
させることができるので、撮像手段で撮像した濃淡画像
を２値化処理する際に、気泡のエッジ部をパターンとし
て誤認識することがなくなり、マスタパターンとの照合
の際に、気泡をパターンの欠陥として検出することがな
くなる。また、照明を複数台追加すれば、本発明と同様
の効果が得られるが、この場合には取り付けスペースが
増大する。本発明によれば、照明を複数台使用する場合
よりも省スペース化を図ることができる。
【図１】 本発明の実施の形態となるパターン検査装置
のブロック図である。
のブロック図である。
【図２】 図１の検査ワークの一部を拡大した断面図で
ある。
ある。
【図３】 反射板の構成を示す図である。
【図４】 従来のパターン検査装置のブロック図であ
る。
る。
【図５】 図４の検査ワークの一部を拡大した断面図で
ある。
ある。
【図６】 カメラによって撮像された濃淡画像の濃度ヒ
ストグラムの一例を示す図である。
ストグラムの一例を示す図である。
１…検査ワーク、２…ベースガラス、３…ワーク押さえ
ガラス、４…Ｘ−Ｙテーブル、５…光源、６ａ、６ｂ…
反射板、７…カメラ、８…画像処理装置、９…表示装
置、１０…Ａ／Ｄ変換器、１１…２値化処理回路、１２
…比較回路、２１…ベースフィルム、２２…導体パター
ン、２３…気泡。
ガラス、４…Ｘ−Ｙテーブル、５…光源、６ａ、６ｂ…
反射板、７…カメラ、８…画像処理装置、９…表示装
置、１０…Ａ／Ｄ変換器、１１…２値化処理回路、１２
…比較回路、２１…ベースフィルム、２２…導体パター
ン、２３…気泡。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2G051 AA65 AB11 AB14 AB20 BA20 CA03 CA04 DA07 EA11 EA12 EB01 EB02 EC02 FA10 5B047 AA12 AB02 BA02 BC11 DB06 DC04 5B057 AA03 BA02 BA19 CA02 CA08 CA12 CA16 CC01 CE12
Claims (1)
- 【請求項１】 ベースフィルム上にパターンが形成され
た検査ワークを撮像し、前記パターンを検査するパター
ン検査装置において、 検査ワークの裏面を照らす照明手段と、 この照明手段からの光を反射して、反射光を前記検査ワ
ークの裏面に対して斜方照射する反射手段と、 検査ワークを挟んで照明手段と対向するように配置され
た、検査ワークのパターン形成面を撮像する撮像手段と
を有し、 前記照明手段による直接照射と共に、前記反射手段によ
る斜方照射によって検査ワークを照らすことを特徴とす
るパターン検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10285358A JP2000113191A (ja) | 1998-10-07 | 1998-10-07 | パターン検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10285358A JP2000113191A (ja) | 1998-10-07 | 1998-10-07 | パターン検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000113191A true JP2000113191A (ja) | 2000-04-21 |
Family
ID=17690533
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10285358A Pending JP2000113191A (ja) | 1998-10-07 | 1998-10-07 | パターン検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000113191A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012505397A (ja) * | 2008-10-10 | 2012-03-01 | レニショウ パブリック リミテッド カンパニー | バックライトビジョンマシン |
| CN104007116A (zh) * | 2013-02-21 | 2014-08-27 | 欧姆龙株式会社 | 缺陷检查装置及缺陷检查方法 |
| CN104411118A (zh) * | 2014-12-11 | 2015-03-11 | 重庆矢崎仪表有限公司 | 柔性电路板排插压入检测设备 |
| CN108707551A (zh) * | 2018-06-27 | 2018-10-26 | 深圳市深研生物科技有限公司 | 一种细胞观察装置及细胞观察方法 |
| CN109990702A (zh) * | 2019-03-04 | 2019-07-09 | 深圳市派科斯科技有限公司 | 一种柔性电路板检测装置和方法 |
-
1998
- 1998-10-07 JP JP10285358A patent/JP2000113191A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2012505397A (ja) * | 2008-10-10 | 2012-03-01 | レニショウ パブリック リミテッド カンパニー | バックライトビジョンマシン |
| US9188431B2 (en) | 2008-10-10 | 2015-11-17 | Renishaw Plc | Backlit vision machine |
| CN104007116A (zh) * | 2013-02-21 | 2014-08-27 | 欧姆龙株式会社 | 缺陷检查装置及缺陷检查方法 |
| CN104007116B (zh) * | 2013-02-21 | 2017-08-08 | 欧姆龙株式会社 | 缺陷检查装置及缺陷检查方法 |
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| CN109990702A (zh) * | 2019-03-04 | 2019-07-09 | 深圳市派科斯科技有限公司 | 一种柔性电路板检测装置和方法 |
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