JP2000065641A - 分光光度計 - Google Patents

分光光度計

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JP2000065641A
JP2000065641A JP10237667A JP23766798A JP2000065641A JP 2000065641 A JP2000065641 A JP 2000065641A JP 10237667 A JP10237667 A JP 10237667A JP 23766798 A JP23766798 A JP 23766798A JP 2000065641 A JP2000065641 A JP 2000065641A
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JP
Japan
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slit disk
slit
original point
notch
spectrophotometer
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JP10237667A
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English (en)
Inventor
Kazuo Nagasawa
和夫 長澤
Masumi Sakai
真澄 酒井
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Shimadzu Corp
Original Assignee
Shimadzu Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 スリット円盤の原点検出に誤検出がなく、安
価で再現性の良い制御ができる分光光度計を提供する。 【解決手段】 まず、原点検出開始の信号を制御パネル
を操作して送る。ステッピングモータ15はスリット円
盤17を高速で順方向に回転する。スリット円盤17に
覆設されたフォトインタラプタ16が原点検出位置18
(切り欠き)を粗検出する。粗検出してからその原点検
出位置18(切り欠き)の幅以内で順方向にスリット円
盤17を数パルス回転させる。次に逆方向にスリット円
盤17を低速で回転させる。そして原点検出位置18
(切り欠き)を細検出する。原点検出位置18(切り欠
き)を細検出してから順方向に低速で回転させる。原点
検出位置18(切り欠き)を細検出すれば、ステッピン
グモータ15は停止し、スリット円盤17は原点に精度
よく確実に停止する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、分光光度計に関
し、特に分光光度計に使われているスリット円盤の位置
設定の自動化に関する。
【0002】
【従来の技術】紫外及び可視領域で測定しようとする試
料の成分を、イオンや分子の光吸収物質に変え、光を照
射して吸収される光の量から成分の濃度を求める分光光
度計が広く使われている。図4はその中の一つであるダ
ブルビーム分光光度計を示している。図においてD2ラ
ンプ1またはWランプ2からの光は、凹面ミラー12で
反射され、フィルタ3を通り、入射スリット4でビーム
幅が設定され、分光素子である凹面グレーティング5に
入射する。すなわちこの分光素子としては旧来のプリズ
ムに代わって、この凹面グレーティング(回折格子)5
が常用されている。この凹面グレーティング5は、凹面
上に極めて精巧に等間隔に刻まれた溝を持った透過面ま
たは反射面からなり、紫外可視用には1mm当たり1,
000本程度の溝を持つものが良く使われている。そし
て、入射スリット4からの光は凹面グレーティング5で
分光され、出射スリット6のスリット幅で制限されて単
色光となる。この単色光は、設定波長を最大強度として
短、長波長の両方に広がりを持ち、この半値幅をバンド
幅と称するが、このバンド幅が小さいほど測定値が被測
定試料の吸収スペクトルの真値に近づく。バンド幅が測
定試料の吸収スペクトルバンド幅の1/10以下であれ
ば、測定値はほとんど真値であると見ることができる。
また、この単色光の強度は、バンド幅の2乗に比例する
から、バンド幅を狭くすると想像以上に光量が弱くな
り、ひいては測光値が不安定となる原因にもなる。出射
スリット6からの単色光は、光カット部7の回転ミラー
8により2方向に振り分けられ、一つはミラー11で反
射され対照試料10を透過しIo強度になる。もう一つ
は被測定試料9を透過しIt強度になる。このItはミ
ラー11で反射され格子ミラー13でIoと合成され、
凹面ミラー12により反射され、検知器14で検知され
る。分光光度計では図4に示すように、分光素子である
凹面グレーティング5の前と後にそれぞれ入射スリット
4と出射スリット6を設け、被測定試料9と対照試料1
0に入る単色光の光量や帯域幅を設定するのに使用され
ている。これらのスリット4、6の制御を自動化するた
め、図3に示すような機構が使われている。すなわち、
スリット19を刻んだスリット円盤17をステッピング
モータ15に取り付け、回転させることで目的とするス
リット19に設定している。指定したステップ数で再現
性良く設定するためには、スリット円盤17の回転スタ
ートになる原点を決めておく必要がある。このためスリ
ット19を刻んだスリット円盤17の外周に原点検出位
置18(切り欠き)を設け、フォトインタラプタ16
(以後PI16と呼ぶ)で検出し、スリット円盤17の
原点として目的のスリット19までのパルス数を指定し
制御するようにしている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の分光光度計は以
上のように構成されているが、原点検出位置18(切り
欠き)を検出する時、ステッピングモータ15を1ステ
ップづつ送り、PI16の信号をチェックしながら行な
っている。1ステップ送った時、ステッピングモータ1
5の保持トルクがスリット円盤17を保持するのに十分
大きくないと、止めた瞬間からしばらく回転方向に振動
する。原点検出位置18(切り欠き)部分で振動すると
PI16の検出信号もスリット円盤17が振動している
間不安定な状態になり、原点を誤検出してしまうという
問題があった。このようにスリット円盤17が振動する
という問題点を解決するためには、回転体の重量を下げ
慣性モーメントを小さくするか、回転を止めるのに十分
なトルクを持つ大きなステッピングモータを使用する
か、あるいは振動が収まるまで待機する必要がある。い
ずれの方法もコストの上昇や性能低下そして効率低下を
もたらす要因になっていた。
【0004】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、低トルクのステッピングモータ15
で、慣性モーメントの大きなスリット円盤17でも、振
動の影響を受けずに原点検出位置18(切り欠き)の誤
検出がなく、安価で再現性の良い制御ができる分光光度
計を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明の分光光度計は、分光素子の前後にスリット円
盤を設け、そのスリット円盤のスリット位置をスリット
円盤に覆設されたフォトインタラプタの信号によりステ
ッピングモータで自動制御する分光光度計において、ス
リット円盤を順方向に高速回転させフォトインタラプタ
が回転スタート原点を粗検出した後、スリット円盤を順
方向に数パルス送り、その後低速度で逆方向に送り、フ
ォトインタラプタが回転スタート原点を細かく検出する
(以下細検出という)と、再びスリット円盤を低速度で
順方向に送り、フォトインタラプタが回転スタート原点
を検出すると、ステッピングモータがスリット円盤を停
止させる制御回路を備えることを特徴とする。
【0006】本発明の分光光度計は上記のように構成さ
れており、高速回転で回転スタート原点をフォトインタ
ラプタで粗検出し、その後数ステップ同一方向に送り、
続いて逆方向に低速回転で原点を細検出し、再び低速で
原点に戻る。このように粗検出と細検出の組み合わせで
原点検出を行なうので、高速での原点検出がスリット円
盤の振動により誤検出される可能性を排除し、低速での
細検出と組み合わせることで検出精度が向上する。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明の分光光度計の一実施例を
図1を参照しながら説明する。分光光度計の構成は従来
の図4に示すものと同様の構成で、D2ランプ1または
Wランプ2からの光は、凹面ミラー12で反射され、フ
ィルタ3を通り、入射スリット4でビーム幅が設定さ
れ、分光素子である凹面グレーティング5に入射する。
この凹面グレーティング5は、凹面上に極めて精巧に等
間隔に刻まれた溝を持った反射面からなり、紫外可視用
には1mm当たり1,000本程度の溝を持つものが使
われる。そして、入射スリット4からの光は凹面グレー
ティング5で分光され、出射スリット6のスリット幅で
制限されて単色光となる。この単色光の半値幅であるバ
ンド幅が測定試料の吸収スペクトルバンド幅の1/10
以下になるように、入射スリット4の幅が設定されてお
り、測定値はほとんど真値として見なせる。また、この
単色光の強度はバンド幅の2乗に比例するから、バンド
幅を狭くすると想像以上に光量が弱くなるので、測定系
の感度レベルに合わせて入射スリット4の幅が設定され
ている。出射スリット6からの単色光は、光カット部7
の回転ミラー8により2方向に振り分けられ、一つはミ
ラー11で反射され対照試料10を透過しIo強度にな
る。もう一つは被測定試料9を透過しIt強度になる。
このItはミラー11で反射され格子ミラー13でIo
と合成され、凹面ミラー12により反射され、検知器1
4で検知される。
【0008】この入射スリット4および出射スリット6
の位置を自動制御するための機構は従来装置の図3に示
すものと同じであるが、本発明の装置は、分光素子であ
る凹面グレーティング5の入力側と出力側に設けられた
スリット円盤17の入射スリット4と出射スリット6の
位置設定が、スリット円盤17に覆設されたフォトイン
タラプタ16からの検出信号によって、ステッピングモ
ータ15で自動制御されるアルゴリズムの改良にある。
図2に本装置の制御回路の制御アルゴリズムのフローチ
ャートを示す。図3を参照しながら説明する。まず、装
置の原点検出開始の信号を制御パネル(図示せず)を操
作して装置に送る。ステッピングモータ15はスリット
円盤17を高速で順方向に回転する。スリット円盤17
に覆設されたフォトインタラプタ16が原点検出位置1
8(切り欠き)を粗検出する。検出しなければこれを繰
り返す。原点検出位置18(切り欠き)を粗検出してか
らその原点検出位置18(切り欠き)の幅以内で順方向
にスリット円盤17を数パルス回転させる。次に逆方向
にスリット円盤17を低速で回転させる。そして原点検
出位置18(切り欠き)を細検出する。検出しなければ
これを繰り返す。原点検出位置18(切り欠き)を細検
出してから順方向に低速で回転させる。原点検出位置1
8(切り欠き)を細検出すれば、ステッピングモータ1
5は停止し、スリット円盤17は原点検出位置18(切
り欠き)に精度よく確実に停止する。このように制御フ
ローの前半では、高速でスリット円盤17を回転させる
ことが可能となり、原点検出がスピードアップされる。
そして検出後数パルス送ることで誤検出が防止できる。
一方、後半では、低速でスリット円盤17を回転させ、
振動の影響を排除し検出する。この時は数パルス分しか
回転させない。このように高速の粗検出と低速の細検出
を組み合わせた自動制御で、スリット円盤17の位置制
御を確実に行なうことができる。
【0009】
【発明の効果】本発明の分光光度計は上記のように構成
されており、スリット円盤制御回路の本アルゴリズムを
利用することにより、原点の誤検出がなくなり、またス
リット円盤17の回転速度の高速化が可能となり、シス
テム全体をより信頼性が高く、高性能な製品にすること
が可能となる。同じ大きさのスリット円盤17なら、よ
りトルクの小さい安価なモータでも駆動が可能となり、
回転速度もスピードアップが可能となる。逆に同じモー
タなら、より大きなスリット円盤17を駆動することが
でき、慣性モーメントを減らすため高価な材料を用いる
必要が無くなる。
【0010】
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の分光光度計の一実施例を示す図であ
る。
【図2】 図1のスリット円盤の制御フローチャートを
示す図である。
【図3】 分光光度計のスリット円盤の概略を示す図で
ある。
【図4】 従来の分光光度計を示す図である。
【符号の説明】
1…D2ランプ 2…Wランプ 3…フィルタ 4…入射スリッ
ト 5…凹面グレーティング 6…出射スリッ
ト 7…光カット部 8…回転ミラー 9…被測定試料 10…対照試料 11…ミラー 12…凹面ミラ
ー 13…格子ミラー 14…検知器 15…ステッピングモータ 16…フォトイ
ンタラプタ 17…スリット円盤 18…原点検出
位置(切り欠き) 19…スリット

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】分光素子の前後にスリット円盤を設け、そ
    のスリット円盤のスリット位置をスリット円盤に覆設さ
    れたフォトインタラプタの信号によりステッピングモー
    タで自動制御する分光光度計において、スリット円盤を
    順方向に高速回転させフォトインタラプタが回転スター
    ト原点を粗検出した後、スリット円盤を順方向に数パル
    ス送り、その後低速度で逆方向に送り、フォトインタラ
    プタが回転スタート原点を細検出すると、再びスリット
    円盤を低速度で順方向に送り、フォトインタラプタが回
    転スタート原点を検出すると、ステッピングモータがス
    リット円盤を停止させる制御回路を備えることを特徴と
    する分光光度計。
JP10237667A 1998-08-24 1998-08-24 分光光度計 Pending JP2000065641A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100365400C (zh) * 2004-09-09 2008-01-30 中国科学院上海技术物理研究所 成像光谱仪的像面检校装置
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KR101109076B1 (ko) * 2009-08-19 2012-01-31 세메스 주식회사 기판 처리 장치 및 그의 회전 위치 조절을 위한 자동 설정 방법
JP2017067523A (ja) * 2015-09-29 2017-04-06 Kyb株式会社 ワークの原点検出方法及びその原点検出装置
WO2021044704A1 (ja) * 2019-09-02 2021-03-11 株式会社島津製作所 クロマトグラフ用分光光度計および基準位置検出方法

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