JPH04326026A

JPH04326026A - 分光測光装置

Info

Publication number: JPH04326026A
Application number: JP9681791A
Authority: JP
Inventors: Osamu Iwasaki; 修岩崎
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1991-04-26
Filing date: 1991-04-26
Publication date: 1992-11-16

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は分光測光装置に関し、例
えばカラー写真焼付け装置の測光系に適した分光測光装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、従来の面露光プリンタにおいて
は、印画紙の分光感度にほぼ一致させた３色色分解フィ
ルタによりネガの分光分布を測光して、ネガの発色濃度
を検出している。しかしながら、この方法では、３色色
分解フィルタを印画紙の分光感度に正確に一致させるこ
とが困難であり、加えて、印画紙の分光感度のずれに対
応できない欠点がある。また、ネガの種類によって露光
条件を変えるには、現状ではパトローネに表示されたバ
ーコードに頼っており、間違える場合もある。

【０００３】そのため、ネガの発色濃度を印画紙の分光
感度に一致させるべく、重み付けした測定系で検出する
手段が特開平１−１３４３５３号、特開平１−１４２７
１９号等において提案されている。これらにおいては、
ネガをライン走査してコマ領域ないしコマ間の非画像領
域の各分解画素の分光濃度分布を測定するための分光系
として、分光プリズムが用いられており、また、回折格
子や干渉フィルタ等も用いることが可能であるとしてい
る。しかし、プリズム、回折格子等の分光系は装置が大
型化し、また、耐久性が疑問視される。

【０００４】また、干渉フィルタを用いる方式としては
、透過波長を場所毎に順次異ならせた干渉フィルタを用
いるものが特開昭６４−５７１３４号に提案され、実際
に測色計として商品化されているが、このような透過波
長が場所毎に異なる干渉フィルタを製造することには困
難が伴う。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような状
況に鑑みてなされたものであり、その目的は、上記従来
の方式と異なる分光方式により、装置の簡素化と耐久性
の向上を図った分光測光装置を提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の分光測光装置は、均一な膜厚の干渉フィルタに対す
る被測定光の入射角を順次変更する手段と、前記干渉フ
ィルタを透過した光強度を検出する手段とからなり、前
記入射角と検出信号とを関連付けることにより被測定光
の分光分布を測定することを特徴とするものである。

【０００７】この場合、具体的な１例として、被測定光
が１次元方向に制限された領域から出射する光からなり
、前記入射角変更手段が干渉フィルタの面及び前記１次
元方向にほぼ平行な回転軸を中心に前記干渉フィルタを
回転させる回転手段からなり、光強度検出手段が前記１
次元方向の光量分布を検出する手段からなり、さらに、
前記干渉フィルタに被測定光が入射する前にその光を平
行光に変換するコリメート手段と、前記干渉フィルタを
透過した光を前記１次元方向光量分布検出手段の検出面
に集光する手段と、少なくともコリメート手段と前記集
光手段の間に配置された偏光手段とを備えたものとする
ことができる。そして、その場合、前記コリメート手段
によって変換された平行光が前記回転軸に対して一方の
側の干渉フィルタに入射するように配置され、前記干渉
フィルタの分光透過特性が前記回転軸を挟んで異なるよ
うに構成すると、分光できる波長範囲がより拡大する。

【０００８】なお、本発明の分光測光装置は、カラー写
真焼付け装置のフィルム分光測光系に適したものである
。

【０００９】

【作用】本発明においては、均一な膜厚の干渉フィルタ
に対する被測定光の入射角を順次変更する手段と、前記
干渉フィルタを透過した光強度を検出する手段とからな
り、前記入射角と検出信号とを関連付けることにより被
測定光の分光分布を測定するものであるので、特別な構
成の干渉フィルタでなく、通常の均一膜厚の干渉フィル
タを用いているため、設計、製造が容易である。また、
分光の前後で光軸が変化しないので、安定して分光がで
きる。さらに、スペクトルは時間的に分解できるため、
所望のスペクトルと他のスペクトルとのクロストークが
他の分光方式に比べて少なくできる。

【００１０】

【実施例】以下、本発明の分光測光装置をカラー写真焼
付け装置の測光系に適用した場合の実施例について説明
する。一定の膜厚の干渉フィルタであっても、入射光に
対して干渉フィルタを傾けて入射角ｉ０　をゼロ度から
増加させると、図４（Ａ）、（Ｂ）に示すように、干渉
フィルタを透過する波長が入射角ｉ０　の増加に応じて
短波長側にシフトし、また、そのシフトした波長の透過
率も変化することが知られている。したがって、積極的
に干渉フィルタへの入射角ｉ０　を変化させながらその
角度ｉ０　との関連で透過光強度を測定することにより
、入射光の分光測光が可能になる。本発明の分光測光装
置はこの原理を利用するものである。

【００１１】図１に本発明の１実施例の分光測光装置の
構成を示す。装置は、被測定ネガフィルム１を照明する
照明装置３と、被測定ネガフィルム１の進行方向に交差
するストライプ領域のみに被測定ネガフィルム１の透過
光を制限するスリット２と、スリット２を通過した光を
平行光に変換するコリメータ光学系４と、コリメータ光
学系４からの光の中のｓ成分（図４（Ａ））又はｐ成分
（図４（Ｂ））のみを透過する偏光フィルタ、偏光ビー
ムスプリッタ等からなる偏光器５と、エンコーダ付きパ
ルスモータ９の回転軸に図２の斜視図に示すように取り
付けられ、パルスモータ９の回転軸の一方に位置する部
分のみが光路中に挿入されている干渉フィルタ６と、ス
リット２に直交する面内で集光してラインセンサ１１に
有効に入射させるためのシリンドリカルレンズ１０と、
シリンドリカルレンズ１０によって集光されたライン状
の光の強度を検出するラインセンサ１１と、ラインセン
サ１１からの検出強度を入力し、パルスモータ９に駆動
信号を送り、また、パルスモータ９から干渉フィルタ６
の回転角を入力して、各分光領域のスペクトル強度を算
出するコンピュータ１３とからなる。干渉フィルタ６は
フィルタ基板７の両面又は片面に干渉フィルタ膜８が設
けられ、図２に示すように、パルスモータ９の回転軸を
境にして部分ａと部分ｂの透過波長特性が異なるように
構成されていてもよい。コリメータ光学系４は、スリッ
ト２に前側焦点が配置されたマイクロレンズアレー等か
らなる。また、ラインセンサ１１はスリット方向に微小
な光検出器１２がアレイ状に並んでいるものであり、Ｃ
ＣＤラインセンサ等が用いられる。

【００１２】本発明の分光測光装置をこのように構成し
たので、スリット２によってライン状に制限された被測
定ネガフィルム１からの透過光は、コリメータ光学系４
により平行光に変換され、偏光器５によりｓ成分又はｐ
成分のみが取り出される。一方、干渉フィルタ６は、パ
ルスモータ９により光路に垂直な軸の周りで回転されて
いるので、その入射角ｉ０　が−１８０°から＋１８０
°へ往復変動しており、その透過波長及びその透過率は
図４（Ａ）又は（Ｂ）のグラフに従って変化している。また、干渉フィルタ６への入射角ｉ０　は、パルスモー
タ９に付属しているエンコーダによってモニタされ、コ
ンピュータ１３へ入力されている。干渉フィルタ６によ
り選択された波長の光は、スリット２に直交する面内で
集光するシリンドリカルレンズ１０により、ラインセン
サ１１のアレイ状の光検出器１２上に集光して光電変換
され、被測定ネガフィルム１のスリット２で制限された
１次元方向のその波長の濃度分布信号が得られる。この
信号もコンピュータ１３へ入力されている。コンピュー
タ１３においては、ラインセンサ１１から得られた濃度
分布信号とエンコーダからの干渉フィルタ６への入射角
信号とを関連付け、図４に示したような入射角に対する
干渉フィルタ６の透過率特性データと照明装置３の照明
光スペクトル分布データとから、被測定ネガフィルム１
の１次元方向の各画素の分光濃度分布を算出する。

【００１３】被測定ネガフィルム１の２次元の各画素の
分光濃度分布を求めるには、被測定ネガフィルム１を干
渉フィルタ６が少なくとも１／４回転した後に、図に矢
印で示したように、歩進的に１ステップ移動させ、その
位置で同様にそのライン領域の分光濃度分布を求めるこ
とを繰り返し行うようにすればよい。

【００１４】ところで、図４からも明らかなように、単
一の所定膜厚の干渉フィルタの入射角ｉ０　を０°から
９０°の範囲で変化させても、分光できる波長範囲は余
り広くはない。分光できる範囲を広げるためには、入射
角ｉ０　＝０°における透過波長が異なる２以上の干渉
フィルタを用い、各干渉フィルタについて、上記と同様
にして分光測光を行うことにより、分光できる波長範囲
をより広くすることができる。その１つの方法としては
、図２との関連で説明したように、パルスモータ９の回
転軸を境にして干渉フィルタ６の部分ａと部分ｂの特性
を異ならせればよい。また、図１のような装置を被測定
ネガフィルム１の進行方向に２段以上設け、各装置の干
渉フィルタ６の特性を異ならせればよい。さらに、図３
に示すように、図１の偏光器５として偏光ビームスプリ
ッタ５′を用い、偏光ビームスプリッタ５′で分けられ
たｓ成分とｐ成分に対して別々に図１のような装置で分
光測光するようにしてもよい。この場合も、各装置の干
渉フィルタ６の特性を異ならせるようにする。なお、図
３においては、一方の装置の構成要素の符号に「′」を
付して他の装置の構成要素から区別している。

【００１５】なお、以上において、干渉フィルタ６の回
転角に対応させてラインセンサ１１から濃度分布信号を
得るが、所定の微小回転角範囲毎に区分してラインセン
サ１１から出力を得るようにしてもよい（この場合、ラ
インセンサ１１として例えばＣＣＤを用いる。）。

【００１６】以上、本発明の分光測光装置をカラー写真
焼付け装置の測光系に適用した場合の実施例について説
明してきたが、本発明はその他種々の分野に適用できる
。例えば、測色計、簡便な分光計、レーザー分光器等。また、本発明は上記実施例の構成に限定されず、種々の
変形が可能である。

【００１７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の分光測光
装置によると、均一な膜厚の干渉フィルタに対する被測
定光の入射角を順次変更する手段と、前記干渉フィルタ
を透過した光強度を検出する手段とからなり、前記入射
角と検出信号とを関連付けることにより被測定光の分光
分布を測定するものであるので、特別な構成の干渉フィ
ルタでなく、通常の均一膜厚の干渉フィルタを用いてい
るため、設計、製造が容易である。また、分光の前後で
光軸が変化しないので、安定して分光ができる。さらに
、スペクトルは時間的に分解できるため、所望のスペク
トルと他のスペクトルとのクロストークが他の分光方式
に比べて少なくできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の１実施例の分光測光装置の構成を示す
図である。

【図２】干渉フィルタのパルスモータへの取り付け状態
を示す斜視図である。

【図３】別の実施例の構成を示す図である。

【図４】干渉フィルタの入射角に対する透過波長特性を
示す図である。

【符号の説明】

１…被測定ネガフィルム２…スリット３…照明装置４…コリメータ光学系５…偏光器６…干渉フィルタ７…フィルタ基板８…干渉フィルタ膜９…エンコーダ付きパルスモータ１０…シリンドリカルレンズ１１…ラインセンサ１２…光検出器１３…コンピュータ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　均一な膜厚の干渉フィルタに対する被
測定光の入射角を順次変更する手段と、前記干渉フィル
タを透過した光強度を検出する手段とからなり、前記入
射角と検出信号とを関連付けることにより被測定光の分
光分布を測定することを特徴とする分光測光装置。
【請求項２】　　被測定光が１次元方向に制限された領
域から出射する光からなり、前記入射角変更手段が干渉
フィルタの面及び前記１次元方向にほぼ平行な回転軸を
中心に前記干渉フィルタを回転させる回転手段からなり
、光強度検出手段が前記１次元方向の光量分布を検出す
る手段からなり、さらに、前記干渉フィルタに被測定光
が入射する前にその光を平行光に変換するコリメート手
段と、前記干渉フィルタを透過した光を前記１次元方向
光量分布検出手段の検出面に集光する手段と、少なくと
もコリメート手段と前記集光手段の間に配置された偏光
手段とを備えたことを特徴とする請求項１記載の分光測
光装置。
【請求項３】　　前記コリメート手段によって変換され
た平行光が前記回転軸に対して一方の側の干渉フィルタ
に入射するように配置され、前記干渉フィルタの分光透
過特性が前記回転軸を挟んで異なるように構成されてい
ることを特徴とする請求項２記載の分光測光装置。
【請求項４】　　カラー写真焼付け装置のフィルム分光
測光系に用いられたことを特徴とする請求項１から３の
何れか１項記載の分光測光装置。