JPS60239649A - デンシトメ−タにおける測光信号処理方法 - Google Patents

デンシトメ−タにおける測光信号処理方法

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JPS60239649A
JPS60239649A JP9769984A JP9769984A JPS60239649A JP S60239649 A JPS60239649 A JP S60239649A JP 9769984 A JP9769984 A JP 9769984A JP 9769984 A JP9769984 A JP 9769984A JP S60239649 A JPS60239649 A JP S60239649A
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Kunihiko Okubo
邦彦 大久保
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Shimadzu Corp
Shimazu Seisakusho KK
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Shimadzu Corp
Shimazu Seisakusho KK
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/59Transmissivity
    • G01N21/5907Densitometers
    • G01N21/5911Densitometers of the scanning type

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、薄層クロマトグラフィー(TLC)等に適用
されるデンシトメータに関し、さらに詳しくは測光信号
に対する暗電流の影響を高速度で除去するためのデンシ
トメータにおける測光信号処理方法に関する。
(ロ)従来技術 従来から、タングステンランプまたは重水素ランプ等の
光源からの光を、試料スポットが形成された薄層プレー
トに照射し、該薄層プレートからの光を複数の受光素子
からなる一次元ダイオードアレー検出器で検出して測光
信号を得るデンシトメータがあるが、このような−次元
ダイオードアレー検出器を使用するデンシトメータでは
、−次元ダイオードアレー検出器に暗電流が生じ、この
ため、例えば吸光度を測定する場合には、暗電流値をめ
て第1式に示すように検出信号値から減算して対数を取
らなければ正しい吸光度Aが得られない。
A = −log[(S −D)/(R−D)]−−1
ここで、S:サンプルの信号値 R:サンプルのないときの信号値 D:暗電流値 である。
ところで、この暗電流値は、温度変化に対応して大きく
変化するために、かなりの頻度で暗電流値を測定しなけ
ればならない。この暗電流値の測定は、光源からの光を
走査する際に、薄層プレートの各検出位置毎、即ちダイ
オードアレー検出器を構成する各受光素子毎にチョッパ
等によって光を遮断して測定しなければならない。この
ため、暗電流値の測定に多くの時間を要し、デンシトメ
ータの測定の高速化を図るうえでの難点となっていた。
(ハ)目的 本発明は、上述の点に鑑みてなされたものであって、暗
電流値の測定を容易にしてデンシトメータの高速測定を
可能にすることを目的とする。
(ニ)構成 本発明では、上述の目的を達成するために、前記複数の
受光素子のうちの一部の受光素子を遮光する構造として
暗電流値測定のためのモニタ部とし、測光の開始時点に
おいて、薄層プレートからの光を遮断して一次元ダイオ
ードアレーの複数の受光素子の暗電流値を予め測定し、
該モニタ部の暗電流値が変化したときには、該モニタ部
の前記予め測定した暗電流値とモニタ部以外の受光素子
の前記予め測定した暗電流値との比に基づいてモニタ部
以外の受光素子の暗電流値を算出し、該算出した暗電流
値によって測光信号を補正して暗電流による影響を除去
するようにしている。
(ホ)実施例 以下、図面によって本発明の実施例について詳細に説明
する。第1図は、本発明の一実施例を適用したデンシト
メータの光学系の構成図である。
光源としてのタングステンランプ1または重水素ランプ
2がらの光は、光源切り換えミラー3によって反射され
て分光器の入口スリット4に入射した後、回折格子5に
よって分光され、ミラー6で反射されて出ロスリッ)7
から単色光が取り出される。出口スリット7がらの単色
光は、2つのミラー8,9で反射されて試料スポラFが
形成されている薄層プレート10に集光される。薄層プ
レート10を透過した光は、ミラー11で反射され、複
数の受光素子12’a〜12nからなる自己走査型の一
次元ダイオードアレー検出器12によって検出される。
この−次元ダイオードアレー検出器12からの測光信号
は、A/D変換されて図示しないマイクロコンピュータ
に与えられ、このマイクロコンピュータによって後述の
ように所定の演算処理がなされる。13は、予め暗電流
値を測定する際に光を遮断するためのチョッパである。
本発明のデンシトメータにおける測光信号処理方法では
、薄層プレー)10がらの光をチョッパ13で遮断して
一次元ダイオードアレー検出器12の前記複数の受光素
子12a〜12’nの各暗電流値を予め測定し、測光の
際には、第2図に示されるように前記複数の受光素子1
2a〜12nのうちの一部の受光素子12a〜12dを
遮光して暗電流値測定のためのモニタ部14とし、該モ
ニタ部14の暗電流値が変化したときには、該モニタ部
14の前記予め測定した暗電流値と、モニタ部14以外
の吸光度測定のための測定部15の受光素子12e〜1
2nの前記予め測定した暗電流値との比に基づいて、モ
ニタ部14以外の測定部15の受光素子12e〜12n
の暗電流値を算出し、該算出した暗電流値によって測定
部15で検出された測光信号を前述の第1式に従って補
正処理するようにしている。
この実施例では、試料走査開始前にチョッパ13によっ
て光を遮断し、−次元ダイオードアレー検出器12の総
ての受光素子12a〜12nの各暗電流値を予め測定し
、この予め測定された暗電流値に対応するデジタル情報
に基づいて、前述のマイクロコンピュータでは、測定部
15の各受光素子12e〜12nの暗電流値を、モニタ
部14の受光素子12a〜12dの平均の暗電流値で除
し、その商をマイクロコンピュータのメモリに格納する
次に走査、即ち測光を開始したときには、その時点での
モニタ部14の受光素子12a〜12dで得られる暗電
流値の平均値に、メモリに格納した前記面を乗じて得ら
れた値を、測定部15の各受光素子12e〜12nのそ
の時点での暗電流値とし、この得られた暗電流値を前述
の第1式に従って測定部15の検出出力から減算して暗
電流による影響を除去して補正された測光信号を得るよ
うにしている。したがって、温度の変化等によって一次
元ダイオードアレー検出器12の暗電流が変化したとき
には、モニタ部14で測定されている暗電流値が変化す
るので、この測定された暗電流値と、予めめられている
モニタ部14と測定部15との暗電流値の比とによって
、前記温度変化等に対応した測定部15の暗電流値が算
出されることになる。
これによって、従来の上うに一次元ダイオードアレー検
出器を構成する各受光素子毎に光を遮断して暗電流値を
逐次測定する必要がない。
なお、この実施例では、モニタ部14で測定された暗電
流値のバラツキをできるだけ少なくするために、前述の
ように4つ受光素子12a〜12dで構成してその平均
値を取っているがモニタ部を構成する受光素子の数は適
宜選択すればよい。
前述の実施例では、透過吸光度測定について述べたけれ
ども、勿論反射吸光度測定でも応用が可能である。本発
明は吸光度測定に限るものではなく、けい光測定に適用
してもよいのは勿論である。
上記方式では、−次元ダイオードアレー検出器の一部を
常にマスクし、暗電流測定用のモニタ部としていたが、
第1図のチョッパをパルスモータ等で駆動し、任意の角
度のマスキングが可能なようにすれば、次のような手順
で、−次元ダイオードアレー検出器に常に遮光したモニ
タ部を設けなくとも、同等な効果を奏することが可能で
ある。
まず、チョッパでダイオードアレー検出器を完全に遮光
し、すべての受光素子の暗電流をめる。
次に走査時には、チョッパの角度を変えて、上記モニタ
部lこ相当する受光素子部分を遮光する。測定時に、こ
の部分の暗電流値をモニタし、このモニタ部の変化量を
計算し、予めめてあった他の部分の暗電流値に、この変
化量を来して、これらの部分の暗電流値を算出する。勿
論暗電流測定用の部分は、測光には使用されない。
(へ)効果 以上のように本発明によれば、薄層プレートからの光を
遮断して一次元ダイオードアレーの前記複数の受光素子
の暗電流値を予め測定し、測光の際には、前記複数の受
光素子のうちの一部の受光素子を遮光して暗電流値測定
のためのモニタ部とし、該モニタ部の暗電流値が変化し
たときには、該モニタ部の前記予め測定した暗電流値と
モニタ部以外の受光素子の前記予め測定した暗電流値と
の比に基づいてモニタ部以外の受光素子の暗電流値を算
出し、該算出した暗電流値によって測光信号を補正する
ようにしているので、走査の際に各検出位置毎に光を遮
断して暗電流を測定してその影響を除〈従来技術に比べ
て暗電流の影響を高速で除去することができ、これによ
ってデンシトメータの測定の高速化を図ることが可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を適用したデンシトメータの
光学系の構成図、第2図は第1図の一次元ダイオードア
レー検出器12の正面図である。 10・・・薄層プレート、12・・・−次元ダイオード
アレー検出器、12a〜120・・・受光素子、13・
・チョッパ、14・・・モニタ部。 出願人 株式会社 島津製作所 代理人 弁理士 岡田和秀

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光源からの光を、試料スポットが形成された薄層
    プレートに照射し、該薄層プレートからの光を複数の受
    光素子からなる一次元ダイオード7レー検出器で検出し
    て測光信号を得るデンシトメータにおける測光信号処理
    方法であって、−次元ダイオードアレー検出器の一部の
    受光素子を遮光する構造として暗電流値測定のためのモ
    ニタ部とし、 前記薄層プレートからの光を遮断して一次元ダイオード
    アレーの前記複数の受光素子の暗電流値を予め測定し、 該モニタ部の暗電流値が変化したときには、該モニタ部
    の前記予め測定した暗電流値とモニタ部以外の受光素子
    の前記予め測定した暗電流値との比に基づいてモニタ部
    以外の受光素子の暗電流値を算出し、 該算出した暗電流値によって測光信号を補正することを
    特徴とするデンシトメータにおける測光信号処理方法。
JP9769984A 1984-05-15 1984-05-15 デンシトメ−タにおける測光信号処理方法 Granted JPS60239649A (ja)

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JPS62141732U (ja) * 1986-03-01 1987-09-07
JP2005062201A (ja) * 2004-10-29 2005-03-10 Yokogawa Electric Corp 分光装置

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