JP2000062246A - 熱現像記録装置および熱現像記録方法 - Google Patents
熱現像記録装置および熱現像記録方法Info
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- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 最低濃度を上げないで鮮鋭度の低下を防止で
きる熱現像記録装置を提供する。 【解決手段】 画像データ１にしたがってレーザ変調す
るレーザ変調部３と、該レーザ変調されたレーザ光ビー
ムにより波長７５０ｎｍ以下に感光性を持つ熱現像性感
光材料を走査露光して潜像を形成する露光部４と、露光
した感光材料を熱現像する熱現像部５とを、有する熱現
像記録装置において、画像データ１を処理する周波数処
理部２をレーザ変調部３の前段に設け、鮮鋭度低下をフ
ィルタ処理により補正するものである。
きる熱現像記録装置を提供する。 【解決手段】 画像データ１にしたがってレーザ変調す
るレーザ変調部３と、該レーザ変調されたレーザ光ビー
ムにより波長７５０ｎｍ以下に感光性を持つ熱現像性感
光材料を走査露光して潜像を形成する露光部４と、露光
した感光材料を熱現像する熱現像部５とを、有する熱現
像記録装置において、画像データ１を処理する周波数処
理部２をレーザ変調部３の前段に設け、鮮鋭度低下をフ
ィルタ処理により補正するものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、熱現像記録装置の
ボケ防止に関し、特に医療用レーザプリンタにおけるボ
ケ防止に関するものである。
ボケ防止に関し、特に医療用レーザプリンタにおけるボ
ケ防止に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】ディジタルラジオグラフィーシステム、
ＣＴ，ＭＲなどの医療用の画像を記録する画像記録装置
として、従来、銀塩写真式感光材料に撮影または記録
後、湿式処理して再現画像を得るウエットシステムが用
いられている。これに対して、近年、熱現像感光材料を
用いた湿式処理を含まないドライシステムによる記録装
置が注目されている。図９はこのような従来の熱現像記
録装置のブロック図である。すなわち、同図において、
画像データ１によりレーザ変調部３で変調されたレーザ
光ビームを露光部４において熱現像感光材料などのフィ
ルムに照射（走査）して潜像を形成し、その後、この露
光済みの熱現像感光材料を熱現像部５で加熱手段に接触
させて熱現像を行ないフィルムを得るものである。この
ドライシステムの画像記録装置においても、画像記録を
行う場合には、感光材料にレーザ光を照射すること（露
光）によって感光材料に潜像を形成する。そして、潜像
が形成されたこの感光材料を加熱することで該潜像を現
像する。露光は別途撮影して得た画像データに従ってレ
ーザの出力を制御しつつ、該レーザを走査（主走査）さ
せることで行うのが一般的である。当然このときには感
光材料も所定の方向に移動（副走査）させる。
ＣＴ，ＭＲなどの医療用の画像を記録する画像記録装置
として、従来、銀塩写真式感光材料に撮影または記録
後、湿式処理して再現画像を得るウエットシステムが用
いられている。これに対して、近年、熱現像感光材料を
用いた湿式処理を含まないドライシステムによる記録装
置が注目されている。図９はこのような従来の熱現像記
録装置のブロック図である。すなわち、同図において、
画像データ１によりレーザ変調部３で変調されたレーザ
光ビームを露光部４において熱現像感光材料などのフィ
ルムに照射（走査）して潜像を形成し、その後、この露
光済みの熱現像感光材料を熱現像部５で加熱手段に接触
させて熱現像を行ないフィルムを得るものである。この
ドライシステムの画像記録装置においても、画像記録を
行う場合には、感光材料にレーザ光を照射すること（露
光）によって感光材料に潜像を形成する。そして、潜像
が形成されたこの感光材料を加熱することで該潜像を現
像する。露光は別途撮影して得た画像データに従ってレ
ーザの出力を制御しつつ、該レーザを走査（主走査）さ
せることで行うのが一般的である。当然このときには感
光材料も所定の方向に移動（副走査）させる。
【０００３】図７は、上記原理を用いた本出願人の先行
発明に係る熱現像記録装置の全体図を示している。同図
において、画像形成装置１０は、湿式の現像処理を必要
としない熱現像感光材料（以下、記録材料Ａと言う）を
用い、レーザ光ビームＬによる走査露光により記録材料
Ａを像様に露光して潜像を形成した後に熱現像を行って
可視像を得る装置である。この画像形成装置１０、基本
的に記録材料Ａの搬送方向順に、記録材料供給部１２
と、幅寄せ部１４と、画像露光部１６と、熱現像部１８
とを備えている。
発明に係る熱現像記録装置の全体図を示している。同図
において、画像形成装置１０は、湿式の現像処理を必要
としない熱現像感光材料（以下、記録材料Ａと言う）を
用い、レーザ光ビームＬによる走査露光により記録材料
Ａを像様に露光して潜像を形成した後に熱現像を行って
可視像を得る装置である。この画像形成装置１０、基本
的に記録材料Ａの搬送方向順に、記録材料供給部１２
と、幅寄せ部１４と、画像露光部１６と、熱現像部１８
とを備えている。
【０００４】記録材料供給部１２は２段となっていて、
それぞれの内部２２，２４にマガジン１００を介して各
段に装填された記録材料Ａ（例えばＢ４サイズ及び半切
りサイズなど）が選択的に使用できるようにしている。
記録材料Ａは、レーザビームＬによって画像を記録（露
光）し、その後熱現像して発色させる記録材料である。
プリント指令により、マガジン１００の蓋が開いている
状態で枚葉機構の吸盤２６，２８により選択されたマガ
ジン１００の記録材料Ａが上部から一枚取出され、搬送
方向の下流に位置する供給ローラ対３０，３２、搬送ロ
ーラ対３４，３６、搬送ガイド３８，４０，４２に案内
されて幅寄せ部１４に搬送される。
それぞれの内部２２，２４にマガジン１００を介して各
段に装填された記録材料Ａ（例えばＢ４サイズ及び半切
りサイズなど）が選択的に使用できるようにしている。
記録材料Ａは、レーザビームＬによって画像を記録（露
光）し、その後熱現像して発色させる記録材料である。
プリント指令により、マガジン１００の蓋が開いている
状態で枚葉機構の吸盤２６，２８により選択されたマガ
ジン１００の記録材料Ａが上部から一枚取出され、搬送
方向の下流に位置する供給ローラ対３０，３２、搬送ロ
ーラ対３４，３６、搬送ガイド３８，４０，４２に案内
されて幅寄せ部１４に搬送される。
【０００５】幅寄せ部１４は、搬送方向と直交する方向
（以下、輻方向とする）に記録材料Ａを位置合わせする
ことにより、下流の画像露光部１６における主走査方向
の記録材料Ａの位置合わせ、いわゆるサイドレジストを
取って、搬送ローラ対４４によって記録材料Ａを下流の
画像露光部１６に搬送する。
（以下、輻方向とする）に記録材料Ａを位置合わせする
ことにより、下流の画像露光部１６における主走査方向
の記録材料Ａの位置合わせ、いわゆるサイドレジストを
取って、搬送ローラ対４４によって記録材料Ａを下流の
画像露光部１６に搬送する。
【０００６】その下流の画像露光部１６は光ビームによ
って記録材料Ａを像様に露光するものであり、露光ユニ
ット４６と副走査搬送手段４８とを備えている。図８は
この画像露光部１６の１例を示している。同図におい
て、画像露光部１６は、 記録用の基準となる波長のレーザビームＬ０を出力
する半導体レーザ５０ａ，レーザビームを平行光束とす
るコリメータレンズ５０ｂ，シリンドリカルレンズ５０
ｃとからなる第一のレーザ光源５０のほかに、 この光軸方向と直交して、レーザビームＬ１を出力
する第二の半導体レーザ２００ａ，コリメータレンズ２
００ｂ，シリンドリカルレンズ２００Ｃからなる第二の
レーザ光源２００を備えている。 各レーザ光源５０，２００からの光は、偏光ビームスプ
リッタ２０２を通じて重畳されたビームとなり、反射ミ
ラー２０４を通じてポリゴンミラー５４に入光し、これ
の回転に伴いレーザビームは偏向されつつｆθレンズ５
６及びシリンドリカルミラー５８を介して主走査方向ｂ
に沿って照射される。また、画像信号の入力を受けて、
図示しない制御部によりドライバ５２を駆動し、ポリゴ
ンミラー（回転多面鏡）５４及びローラ対６２に設けた
送りモータ２０６を回転駆動制御してレーザビームを記
録材料Ａの主走査方向ｂに走査しつつ記録材料Ａを副走
査方向ａに送る。上記合波光学系は１例であるが、本発
明はもちろんこれに限定されるわけではない。また、上
記説明では半導体レーザを用いているが、本発明はもち
ろんこれに限定されるわけではなく、他のもの、例えば
Ｈｅ−Ｎｅレーザでもよいことはいうまでもない。以上
により、記録材料Ａはローラ対６２に設けた送りモータ
２０６の送りによる副走査方向に順次送られながら、そ
の表面に主走査方向に沿って所定の潜像を順次形成する
ことになる。
って記録材料Ａを像様に露光するものであり、露光ユニ
ット４６と副走査搬送手段４８とを備えている。図８は
この画像露光部１６の１例を示している。同図におい
て、画像露光部１６は、 記録用の基準となる波長のレーザビームＬ０を出力
する半導体レーザ５０ａ，レーザビームを平行光束とす
るコリメータレンズ５０ｂ，シリンドリカルレンズ５０
ｃとからなる第一のレーザ光源５０のほかに、 この光軸方向と直交して、レーザビームＬ１を出力
する第二の半導体レーザ２００ａ，コリメータレンズ２
００ｂ，シリンドリカルレンズ２００Ｃからなる第二の
レーザ光源２００を備えている。 各レーザ光源５０，２００からの光は、偏光ビームスプ
リッタ２０２を通じて重畳されたビームとなり、反射ミ
ラー２０４を通じてポリゴンミラー５４に入光し、これ
の回転に伴いレーザビームは偏向されつつｆθレンズ５
６及びシリンドリカルミラー５８を介して主走査方向ｂ
に沿って照射される。また、画像信号の入力を受けて、
図示しない制御部によりドライバ５２を駆動し、ポリゴ
ンミラー（回転多面鏡）５４及びローラ対６２に設けた
送りモータ２０６を回転駆動制御してレーザビームを記
録材料Ａの主走査方向ｂに走査しつつ記録材料Ａを副走
査方向ａに送る。上記合波光学系は１例であるが、本発
明はもちろんこれに限定されるわけではない。また、上
記説明では半導体レーザを用いているが、本発明はもち
ろんこれに限定されるわけではなく、他のもの、例えば
Ｈｅ−Ｎｅレーザでもよいことはいうまでもない。以上
により、記録材料Ａはローラ対６２に設けた送りモータ
２０６の送りによる副走査方向に順次送られながら、そ
の表面に主走査方向に沿って所定の潜像を順次形成する
ことになる。
【０００７】さて、再び図７に戻って、このように図８
で例示したような画像露光部１６において潜像を記録さ
れた記録材料Ａは、次いで、搬送ローラ対６４，６６，
１３２によって搬送されて、熱現像部１８に搬送され
る。熱現像部１８は、記録材料Ａを加熱することによ
り、熱現像を行って潜像を可視像とする部位で、内部の
プレートヒータ３２０はその内部にニクロム線等の発熱
体を平面状に敷設して収容した板状の加熱部材であり、
記録材料Ａの現像温度に維持している。また、図示のよ
うにプレートヒータ３２０を上方に凸としており、記録
材料Ａをプレートヒータ３２０の表面に接触させつつ、
プレートヒータ３２０に対して相対的に移動させる移送
手段としての供給ローラ３２６と、プレートヒータ３２
０から記録材料Ａへの伝熱のため、押さえローラ３２２
がプレートヒータ３２０の下面側に配設されている。ま
た、押さえローラ３２２のプレートヒータ３２０とは反
対側に保温のための保温カバー３２５が設けられてい
る。このような構成により、記録材料Ａは対ローラ３２
６の駆動移送によって押さえローラ３２２とプレートヒ
ータ３２０との間を通過し、熱処理によって熱現像され
て、露光によって記録された潜像が可視像となる。その
際記録材料Ａの先端がプレートヒータ３２０に押しつけ
られるように搬送されるので、記録材料Ａの座屈を防止
することができる。以上の説明はプレートヒータを用い
たものについて行ってきたが、本発明はこれに限定され
るものではなく、他の方式の熱現像のもの、例えばヒー
トドラム＋ベルト式のものであってもよいことは言うま
でもない。熱現像部１８から排出された記録材料Ａは搬
送ローラ対１４０によりガイドプレート１４２に案内さ
れ、排出ローラ対１４４からトレイ１４６に集配され
る。
で例示したような画像露光部１６において潜像を記録さ
れた記録材料Ａは、次いで、搬送ローラ対６４，６６，
１３２によって搬送されて、熱現像部１８に搬送され
る。熱現像部１８は、記録材料Ａを加熱することによ
り、熱現像を行って潜像を可視像とする部位で、内部の
プレートヒータ３２０はその内部にニクロム線等の発熱
体を平面状に敷設して収容した板状の加熱部材であり、
記録材料Ａの現像温度に維持している。また、図示のよ
うにプレートヒータ３２０を上方に凸としており、記録
材料Ａをプレートヒータ３２０の表面に接触させつつ、
プレートヒータ３２０に対して相対的に移動させる移送
手段としての供給ローラ３２６と、プレートヒータ３２
０から記録材料Ａへの伝熱のため、押さえローラ３２２
がプレートヒータ３２０の下面側に配設されている。ま
た、押さえローラ３２２のプレートヒータ３２０とは反
対側に保温のための保温カバー３２５が設けられてい
る。このような構成により、記録材料Ａは対ローラ３２
６の駆動移送によって押さえローラ３２２とプレートヒ
ータ３２０との間を通過し、熱処理によって熱現像され
て、露光によって記録された潜像が可視像となる。その
際記録材料Ａの先端がプレートヒータ３２０に押しつけ
られるように搬送されるので、記録材料Ａの座屈を防止
することができる。以上の説明はプレートヒータを用い
たものについて行ってきたが、本発明はこれに限定され
るものではなく、他の方式の熱現像のもの、例えばヒー
トドラム＋ベルト式のものであってもよいことは言うま
でもない。熱現像部１８から排出された記録材料Ａは搬
送ローラ対１４０によりガイドプレート１４２に案内さ
れ、排出ローラ対１４４からトレイ１４６に集配され
る。
【０００８】つぎに、記録材料Ａである熱現像感光材料
について説明する。図１０は熱現像感光材料の断面図で
ある。同図において、レーザー光の入射側（図の上側
面）から、画像形成層の保護や付着防止などのための表
面保護層であるＰＣ層、画像形成する乳剤（エマルジョ
ン）層であるＥｍ層、支持体層である通常はＰＥＴを用
いるＰＥＴ層、ハレーション防止ＡＨ層およびバックコ
ートＢＣ層と、で構成されている。Ｅｍ層は支持体層の
レーザー光Ｌの入射側面にバインダーの５０％以上がラ
テックスで構成されかつ有機銀塩の還元剤を含有する画
像形成層である。レーザー光Ｌの入射により画像形成層
が露光されると感光性ハロゲン化銀等の光触媒が潜像核
を形成し、加熱されることによって、還元剤の作用でイ
オン化されている有機銀塩の銀が移動して、感光性ハロ
ゲン化銀と結合して結晶銀となり、画像を形成する。有
機銀塩としては、有機酸の銀塩、好ましくは炭素数が１
０〜３０の長鎖脂肪カルボン酸の銀塩、および配位子が
４．０〜１０．０の錯安定定数を有する有機または無機
銀塩の錯体が例示され、具体的には、ベヘン酸銀、アラ
キジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン
酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸
銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、リノール酸
銀、酪酸銀、樟脳酸銀等が例示できる。この記録材料の
画像形成層には、露光されて光触媒となる物質、例え
ば、感光性ハロゲン化銀（以下、ハロゲン化銀とする）
が含有されている。このような記録材料の画像形成層も
しくは画像形成層と同一面の他の層には、光学濃度の向
上を目的として、色調剤として知られる添加剤を、好ま
しくは銀１mol 当たり０．１mol ％〜５０mol ％程度含
有してもよい。なお、色調剤は現像時のみ有効に機能を
持つように誘導化されたプレカーサであってもよい。色
調剤としては、記録材料に利用される公知のものが各種
利用可能であり、具体的には、フタルイミドやＮ−ヒド
ロキシフタルイミド等のフタルイミド化合物； スクシ
ンイミドやピラゾリン−５−オン等の環状イミド； Ｎ
−ヒドロキシ−１，８−ナフタルイミド等のナフタルイ
ミド； コバルトヘキサミントリフルオロアセテート等
のコバルト錯体； ３−メルカプト−１，２，４−トリ
アゾールや２，４−ジメルカプトピリミジン等のメルカ
プタン； ４−（１−ナフチル）フタラジノン等のフタ
ラジノン誘導体やその金属塩等が例示され、塗布液に、
溶液、粉末、固体微粒子分散物として添加される。増感
色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波
長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので有れ
ばいかなるものでも良い。増感色素をハロゲン化銀乳剤
中に添加せしめるには、それらを直接乳剤中に分散して
もよく、あるいは、水、メタノール、エタノール、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド等の単独もしくは混合溶液に
溶解して乳剤に添加してもよい。
について説明する。図１０は熱現像感光材料の断面図で
ある。同図において、レーザー光の入射側（図の上側
面）から、画像形成層の保護や付着防止などのための表
面保護層であるＰＣ層、画像形成する乳剤（エマルジョ
ン）層であるＥｍ層、支持体層である通常はＰＥＴを用
いるＰＥＴ層、ハレーション防止ＡＨ層およびバックコ
ートＢＣ層と、で構成されている。Ｅｍ層は支持体層の
レーザー光Ｌの入射側面にバインダーの５０％以上がラ
テックスで構成されかつ有機銀塩の還元剤を含有する画
像形成層である。レーザー光Ｌの入射により画像形成層
が露光されると感光性ハロゲン化銀等の光触媒が潜像核
を形成し、加熱されることによって、還元剤の作用でイ
オン化されている有機銀塩の銀が移動して、感光性ハロ
ゲン化銀と結合して結晶銀となり、画像を形成する。有
機銀塩としては、有機酸の銀塩、好ましくは炭素数が１
０〜３０の長鎖脂肪カルボン酸の銀塩、および配位子が
４．０〜１０．０の錯安定定数を有する有機または無機
銀塩の錯体が例示され、具体的には、ベヘン酸銀、アラ
キジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸銀、ラウリン
酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パルミチン酸
銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、酒石酸銀、リノール酸
銀、酪酸銀、樟脳酸銀等が例示できる。この記録材料の
画像形成層には、露光されて光触媒となる物質、例え
ば、感光性ハロゲン化銀（以下、ハロゲン化銀とする）
が含有されている。このような記録材料の画像形成層も
しくは画像形成層と同一面の他の層には、光学濃度の向
上を目的として、色調剤として知られる添加剤を、好ま
しくは銀１mol 当たり０．１mol ％〜５０mol ％程度含
有してもよい。なお、色調剤は現像時のみ有効に機能を
持つように誘導化されたプレカーサであってもよい。色
調剤としては、記録材料に利用される公知のものが各種
利用可能であり、具体的には、フタルイミドやＮ−ヒド
ロキシフタルイミド等のフタルイミド化合物； スクシ
ンイミドやピラゾリン−５−オン等の環状イミド； Ｎ
−ヒドロキシ−１，８−ナフタルイミド等のナフタルイ
ミド； コバルトヘキサミントリフルオロアセテート等
のコバルト錯体； ３−メルカプト−１，２，４−トリ
アゾールや２，４−ジメルカプトピリミジン等のメルカ
プタン； ４−（１−ナフチル）フタラジノン等のフタ
ラジノン誘導体やその金属塩等が例示され、塗布液に、
溶液、粉末、固体微粒子分散物として添加される。増感
色素としてはハロゲン化銀粒子に吸着した際、所望の波
長領域でハロゲン化銀粒子を分光増感できるもので有れ
ばいかなるものでも良い。増感色素をハロゲン化銀乳剤
中に添加せしめるには、それらを直接乳剤中に分散して
もよく、あるいは、水、メタノール、エタノール、Ｎ，
Ｎ−ジメチルホルムアミド等の単独もしくは混合溶液に
溶解して乳剤に添加してもよい。
【０００９】表面保護ＰＣ層は付着防止材料から形成さ
れ、例えば、ワックス、シリカ粒子、スチレン含有エラ
ストマー性ブロックコポリマー（スチレン−ブタジエン
−スチレン等）、酢酸セルロース、セルロースアセテー
トブチレート、セルロースプロピオネート等が利用され
る。また、ハレーション防止染料を使用する場合、この
染料は波長範囲で目的の吸収を有し、処理後に可視領域
での吸収が充分少なく、ハレーション防止層の好ましい
吸光度スペクトルの形状が得られればいかなる化合物で
も良い。例えば、以下に挙げるものが開示されている
が、これに限定されるものではない。単独の染料として
は特開平７−１１４３２号や同７−１３２９５号の各公
報に開示されている化合物等が例示され、処理で消色す
る染料としては特開昭５２−１３９１３６号、特開平７
−１９９４０９号の各公報に開示されている化合物等が
例示される。 また、この記録材料は、支持体の一方の
側に画像形成層を有し、他方の側にバック層を有するの
が好ましい。バックＢＣ層には、搬送性改良のためにマ
ット剤を添加しても良い。マット剤は、一般に水に不溶
性の有機または無機化合物の微粒子である。有機化合物
としては、水分散性ビニル重合体の例としてポリメチル
アクリレート、メチルセルロース、カルボキシ澱粉、カ
ルボキシニトロフェニル澱粉等が好ましく例示され、無
機化合物としては、二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化
マグネシウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム等が好
ましく例示される。バック層を形成するバインダーとし
ては、好ましくは、無色で、透明または半透明の各種の
樹脂が利用可能であり、例えば、ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポロビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートプチ
レート、カゼイン、デンプン、ポリ（メタ）アクリル
酸、ポリメチルメタクリル酸、ポリ塩化ビニル等が例示
される。また、バック層は、所望の波長範囲での最大吸
収が０．３〜２であることが好ましく、必要に応じて、
前述のハレーション防止層で利用されるハレーション防
止染料を添加してもよい。
れ、例えば、ワックス、シリカ粒子、スチレン含有エラ
ストマー性ブロックコポリマー（スチレン−ブタジエン
−スチレン等）、酢酸セルロース、セルロースアセテー
トブチレート、セルロースプロピオネート等が利用され
る。また、ハレーション防止染料を使用する場合、この
染料は波長範囲で目的の吸収を有し、処理後に可視領域
での吸収が充分少なく、ハレーション防止層の好ましい
吸光度スペクトルの形状が得られればいかなる化合物で
も良い。例えば、以下に挙げるものが開示されている
が、これに限定されるものではない。単独の染料として
は特開平７−１１４３２号や同７−１３２９５号の各公
報に開示されている化合物等が例示され、処理で消色す
る染料としては特開昭５２−１３９１３６号、特開平７
−１９９４０９号の各公報に開示されている化合物等が
例示される。 また、この記録材料は、支持体の一方の
側に画像形成層を有し、他方の側にバック層を有するの
が好ましい。バックＢＣ層には、搬送性改良のためにマ
ット剤を添加しても良い。マット剤は、一般に水に不溶
性の有機または無機化合物の微粒子である。有機化合物
としては、水分散性ビニル重合体の例としてポリメチル
アクリレート、メチルセルロース、カルボキシ澱粉、カ
ルボキシニトロフェニル澱粉等が好ましく例示され、無
機化合物としては、二酸化珪素、二酸化チタン、二酸化
マグネシウム、酸化アルミニウム、硫酸バリウム等が好
ましく例示される。バック層を形成するバインダーとし
ては、好ましくは、無色で、透明または半透明の各種の
樹脂が利用可能であり、例えば、ゼラチン、アラビアゴ
ム、ポロビニルアルコール、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートプチ
レート、カゼイン、デンプン、ポリ（メタ）アクリル
酸、ポリメチルメタクリル酸、ポリ塩化ビニル等が例示
される。また、バック層は、所望の波長範囲での最大吸
収が０．３〜２であることが好ましく、必要に応じて、
前述のハレーション防止層で利用されるハレーション防
止染料を添加してもよい。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】ところで、こうした透
過型感光材料をレーザ記録するシステムでは、感光材料
の中でのレーザ光のハレーション（散乱・反射・伝搬）
により鮮鋭度の低下が問題となる。そして、この鮮鋭度
低下は、感光材料にレーザ光を吸収する材料を乳剤層お
よび近傍に塗布することで対策は可能であり、ウェット
タイプの感光材料の場合は、散乱・反射する部分を吸収
してしまうような染料を多く入れて、散乱・反射しない
ようにボケを無くすようにしても、露光現像後に洗浄に
よりこれらの染料を除去できるのであまり問題はなかっ
た。一方、熱現像性感光材料をレーザ記録する場合に
は、レーザ光が可視光（赤）であることから、赤い可視
光を吸収するシアン染料を入れているが、ウェットタイ
プと違って洗い流せないので、ハレーションを防ぐため
にシアン染料を多く入れすぎると最低濃度の上昇を招い
て画質を劣化させ、医療分野の画像診断に必要とされる
最低濃度が得られなくなり、逆にシアン染料が少ないと
高い鮮鋭度が得られなくなるといったことがあって、こ
の最低濃度と高鮮鋭度の両立が困難であった。
過型感光材料をレーザ記録するシステムでは、感光材料
の中でのレーザ光のハレーション（散乱・反射・伝搬）
により鮮鋭度の低下が問題となる。そして、この鮮鋭度
低下は、感光材料にレーザ光を吸収する材料を乳剤層お
よび近傍に塗布することで対策は可能であり、ウェット
タイプの感光材料の場合は、散乱・反射する部分を吸収
してしまうような染料を多く入れて、散乱・反射しない
ようにボケを無くすようにしても、露光現像後に洗浄に
よりこれらの染料を除去できるのであまり問題はなかっ
た。一方、熱現像性感光材料をレーザ記録する場合に
は、レーザ光が可視光（赤）であることから、赤い可視
光を吸収するシアン染料を入れているが、ウェットタイ
プと違って洗い流せないので、ハレーションを防ぐため
にシアン染料を多く入れすぎると最低濃度の上昇を招い
て画質を劣化させ、医療分野の画像診断に必要とされる
最低濃度が得られなくなり、逆にシアン染料が少ないと
高い鮮鋭度が得られなくなるといったことがあって、こ
の最低濃度と高鮮鋭度の両立が困難であった。
【００１１】そこで、熱現像性感光材料においては、図
１０に示すように、レーザ光が乳剤層Ｅｍでの本来の感
光領域Ａを露光させた後、バックコート層ＢＣで反射し
て不要なハレーションによる感光領域Ｂなどを発生させ
るので、染料を入れてレーザ光を吸収し防止するように
しているが、あとで染料を消色しなければならないので
主にＥｍ層ではなくてハレーション防止層を設けてここ
に染料を入れレーザ光を吸収するようにしている。この
ようにＢａｃｋ面にハレーション防止層を設けること
で、レーザ光を吸収してハレーションを防ぎ、ハレーシ
ョン防止層を熱現像で消色、透明化する技術が知られて
いるが、鮮鋭度低下に対してはある程度の効果はあるも
のの、この技術だけでは鮮鋭度低下に対する完全な対策
とはなっていなかった。
１０に示すように、レーザ光が乳剤層Ｅｍでの本来の感
光領域Ａを露光させた後、バックコート層ＢＣで反射し
て不要なハレーションによる感光領域Ｂなどを発生させ
るので、染料を入れてレーザ光を吸収し防止するように
しているが、あとで染料を消色しなければならないので
主にＥｍ層ではなくてハレーション防止層を設けてここ
に染料を入れレーザ光を吸収するようにしている。この
ようにＢａｃｋ面にハレーション防止層を設けること
で、レーザ光を吸収してハレーションを防ぎ、ハレーシ
ョン防止層を熱現像で消色、透明化する技術が知られて
いるが、鮮鋭度低下に対してはある程度の効果はあるも
のの、この技術だけでは鮮鋭度低下に対する完全な対策
とはなっていなかった。
【００１２】そこで、本発明は、最低濃度を上げずにし
かも鮮鋭度低下を効果的に防止できる熱現像記録装置お
よび熱現像記録方法を提供することを目的としている。
かも鮮鋭度低下を効果的に防止できる熱現像記録装置お
よび熱現像記録方法を提供することを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項１記載の発明は、画像データにしたがってレ
ーザ変調するレーザ変調部と、該レーザ変調されたレー
ザ光ビームにより波長７５０ｎｍ以下に感光性を持つ熱
現像性感光材料を走査露光して潜像を形成する露光部
と、該露光した感光材料を熱現像する熱現像部と、を有
する熱現像記録装置において、画像データを処理する周
波数処理部を前記レーザ変調部の前段に備えたことを特
徴としている。また、請求項２記載の発明は、周波数処
理部が前記感光材料の特性に合わせて画像データを処理
することを特徴としている。そして、請求項３記載の発
明は、前記周波数処理部が周波数強調処理であり、周波
数強調処理範囲を空間周波数約０．０１ｃ／ｍｍ以上、
周波数強調度約２倍以下とすることを特徴としている。
さらに、請求項４記載の発明は、本発明の熱現像記録装
置に使用される熱現像性感光材料が、支持体上に有機銀
塩、還元剤、ハロゲン化銀およびバインダーを有するも
のであることを特徴としている。そして、請求項５記載
の発明は、本発明の熱現像記録装置に使用される熱現像
性感光材料が、露光後の後処理で消色するハレーション
防止染料を塗布していることを特徴としている。また、
請求項６記載の発明は、本発明の熱現像記録装置に使用
される熱現像性感光材料が、露光後の後処理で消色する
ハレーション防止染料の光源波長における吸光度が１．
０以下であることを特徴としている。さらに、請求項７
記載の発明は、画像データにしたがってレーザ変調され
たレーザ光ビームにより波長７５０ｎｍ以下に感光性を
持つ熱現像性感光材料を走査露光して潜像を形成した
後、加熱現像する熱現像記録方法において、前記画像デ
ータをまず周波数処理して鮮鋭度低下分を補正した後、
前記レーザ変調することを特徴としている。
め、請求項１記載の発明は、画像データにしたがってレ
ーザ変調するレーザ変調部と、該レーザ変調されたレー
ザ光ビームにより波長７５０ｎｍ以下に感光性を持つ熱
現像性感光材料を走査露光して潜像を形成する露光部
と、該露光した感光材料を熱現像する熱現像部と、を有
する熱現像記録装置において、画像データを処理する周
波数処理部を前記レーザ変調部の前段に備えたことを特
徴としている。また、請求項２記載の発明は、周波数処
理部が前記感光材料の特性に合わせて画像データを処理
することを特徴としている。そして、請求項３記載の発
明は、前記周波数処理部が周波数強調処理であり、周波
数強調処理範囲を空間周波数約０．０１ｃ／ｍｍ以上、
周波数強調度約２倍以下とすることを特徴としている。
さらに、請求項４記載の発明は、本発明の熱現像記録装
置に使用される熱現像性感光材料が、支持体上に有機銀
塩、還元剤、ハロゲン化銀およびバインダーを有するも
のであることを特徴としている。そして、請求項５記載
の発明は、本発明の熱現像記録装置に使用される熱現像
性感光材料が、露光後の後処理で消色するハレーション
防止染料を塗布していることを特徴としている。また、
請求項６記載の発明は、本発明の熱現像記録装置に使用
される熱現像性感光材料が、露光後の後処理で消色する
ハレーション防止染料の光源波長における吸光度が１．
０以下であることを特徴としている。さらに、請求項７
記載の発明は、画像データにしたがってレーザ変調され
たレーザ光ビームにより波長７５０ｎｍ以下に感光性を
持つ熱現像性感光材料を走査露光して潜像を形成した
後、加熱現像する熱現像記録方法において、前記画像デ
ータをまず周波数処理して鮮鋭度低下分を補正した後、
前記レーザ変調することを特徴としている。
【００１４】上記構成によれば、画像データをまず周波
数強調処理することで、あらかじめ鮮鋭度低下分を補正
できるので、ハレーション防止染料の消色処理と合わせ
て最低濃度を上げずに鮮鋭度低下を補正することができ
る。さらには、感光材料の乳剤層のレーザ光吸収度にマ
ッチした度合いの周波数強調処理を行うことで、感光材
料に適応してムラが少なくアーチファクトの無い高画質
を得ることができる。
数強調処理することで、あらかじめ鮮鋭度低下分を補正
できるので、ハレーション防止染料の消色処理と合わせ
て最低濃度を上げずに鮮鋭度低下を補正することができ
る。さらには、感光材料の乳剤層のレーザ光吸収度にマ
ッチした度合いの周波数強調処理を行うことで、感光材
料に適応してムラが少なくアーチファクトの無い高画質
を得ることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】以下、本発明の第１の実施の形態
について図を参照して説明する。図１は本発明の第１の
実施の形態に係る熱現像記録装置のブロック図である。
図２は図１に示す熱現像記録装置で使用される各種感光
材料の鮮鋭度を示す図である。図３は図１に示す周波数
強調処理部でのボケマスク処理の説明図である。図４は
図１に示す周波数強調処理部でのデジタル・フィルタ処
理の説明図である。図５は図１に示す周波数強調処理部
のフィルタ特性を示す図である。図６は図５に示す特性
の強調度が小さい時のフィルタ特性を示す図である。図
１において、１は、例えばデジタルラジオグラフィーシ
ステム、ＣＴ、ＭＲなどの医療用機器の画像データであ
る。２はボケマスク処理などに代表される周波数に変換
して画像処理を行う周波数強調処理部であって、本発明
では鮮鋭度低下分を周波数強調処理を行って補正する。
３は露光用のレーザ光を画像データで変調するレーザ変
調部であり、４はＰＥＴなどの支持体上に有機銀塩、還
元剤、ハロゲン化銀、バインダーなどの層を形成し、更
にハレーション防止層を塗布した熱現像感光材に、レー
ザ光ビームで露光を行う熱現像性感光材料露光部であ
る。５は露光済みの熱現像感光材料を加熱手段に接触さ
せて熱現像を行う現像部である。従来例である図９と比
較対比すればわかるように、図１では、画像データ１に
したがってレーザ変調するレーザ変調部３の前段に画像
データ１を処理する周波数処理部２を設けたことを特徴
としている。図２は、各種感光材料の鮮鋭度（ＣＴＦ
％）を示したグラフであり、横軸に空間周波数（ｃ／ｍ
ｍ）、縦軸に鮮鋭度（ＣＴＦ％）を示している。 一番上の〔＊〕のグラフは従来のウェット・レーザ
プリンタのＣＴＦグラフである。 〔▲〕のグラフは熱現像性感光材料１（消色ＡＨ染
料あり）を、 〔◆〕のグラフは熱現像性感光材料２（消色ＡＨ染
料なし）を、それぞれ示している。 これからわかることは、消色ＡＨ染料ありの場合が、無
い場合よりもＣＴＦは向上するがウェットタイプとは差
があって、図２の例でも特に低周波の、１．０ｃ／ｍｍ
付近がウェットタイプに比較して低い、ということであ
る。
について図を参照して説明する。図１は本発明の第１の
実施の形態に係る熱現像記録装置のブロック図である。
図２は図１に示す熱現像記録装置で使用される各種感光
材料の鮮鋭度を示す図である。図３は図１に示す周波数
強調処理部でのボケマスク処理の説明図である。図４は
図１に示す周波数強調処理部でのデジタル・フィルタ処
理の説明図である。図５は図１に示す周波数強調処理部
のフィルタ特性を示す図である。図６は図５に示す特性
の強調度が小さい時のフィルタ特性を示す図である。図
１において、１は、例えばデジタルラジオグラフィーシ
ステム、ＣＴ、ＭＲなどの医療用機器の画像データであ
る。２はボケマスク処理などに代表される周波数に変換
して画像処理を行う周波数強調処理部であって、本発明
では鮮鋭度低下分を周波数強調処理を行って補正する。
３は露光用のレーザ光を画像データで変調するレーザ変
調部であり、４はＰＥＴなどの支持体上に有機銀塩、還
元剤、ハロゲン化銀、バインダーなどの層を形成し、更
にハレーション防止層を塗布した熱現像感光材に、レー
ザ光ビームで露光を行う熱現像性感光材料露光部であ
る。５は露光済みの熱現像感光材料を加熱手段に接触さ
せて熱現像を行う現像部である。従来例である図９と比
較対比すればわかるように、図１では、画像データ１に
したがってレーザ変調するレーザ変調部３の前段に画像
データ１を処理する周波数処理部２を設けたことを特徴
としている。図２は、各種感光材料の鮮鋭度（ＣＴＦ
％）を示したグラフであり、横軸に空間周波数（ｃ／ｍ
ｍ）、縦軸に鮮鋭度（ＣＴＦ％）を示している。 一番上の〔＊〕のグラフは従来のウェット・レーザ
プリンタのＣＴＦグラフである。 〔▲〕のグラフは熱現像性感光材料１（消色ＡＨ染
料あり）を、 〔◆〕のグラフは熱現像性感光材料２（消色ＡＨ染
料なし）を、それぞれ示している。 これからわかることは、消色ＡＨ染料ありの場合が、無
い場合よりもＣＴＦは向上するがウェットタイプとは差
があって、図２の例でも特に低周波の、１．０ｃ／ｍｍ
付近がウェットタイプに比較して低い、ということであ
る。
【００１６】つぎに動作について説明する。第１の実施
の形態では、支持体（ＰＥＴ等）上に有機銀塩、還元
剤、ハロゲン化銀、バインダーを塗布し、露光後の消色
処理が可能なハレーション防止染料を塗布したハレーシ
ョン防止層を有する、波長７５０ｎｍ以下に感光性を持
つ熱現像性感光材料を使用しているが、図２に示すよう
に、消色ＡＨ染料ありでもウエットレーザプリンタに比
較するとＣＴＦが落ちるので、この鮮鋭度の低下分を、
あらかじめ周波数強調処理部２でボケマスク処理によっ
て平均的に持ち上げ、デジタルフィルタ処理によって特
に低域の１．０ｃ／ｍｍ近傍を強調処理して補正するも
のである。次に具体的な補正処理について説明する。
の形態では、支持体（ＰＥＴ等）上に有機銀塩、還元
剤、ハロゲン化銀、バインダーを塗布し、露光後の消色
処理が可能なハレーション防止染料を塗布したハレーシ
ョン防止層を有する、波長７５０ｎｍ以下に感光性を持
つ熱現像性感光材料を使用しているが、図２に示すよう
に、消色ＡＨ染料ありでもウエットレーザプリンタに比
較するとＣＴＦが落ちるので、この鮮鋭度の低下分を、
あらかじめ周波数強調処理部２でボケマスク処理によっ
て平均的に持ち上げ、デジタルフィルタ処理によって特
に低域の１．０ｃ／ｍｍ近傍を強調処理して補正するも
のである。次に具体的な補正処理について説明する。
【００１７】ボケ（非鮮鋭）マスク処理は図３に示すよ
うに、入力画像の画像データ（ここでは仮に、中心画素
Ｐ４を中心とするＮ列×Ｎ行＝３×３＝９で表す、マス
クによって）、Ｐｎｅｗ４＝Ｐ４＋Ｋ（Ｐ４−ｑ）、で
示される周波数強調処理（ボケマスク処理）を施し、新
たなＰｎｅｗ４画素とするものである。この場合のｑは
入力画素Ｐ０〜Ｐ８の９個の加算値を、９で除したボケ
マスク信号で、ｑ＝Ｐ０＋〜＋Ｐ８／Ｎ×Ｎであり、Ｋ
は強調度を表す強調係数で、線形と非線形の場合があ
る。
うに、入力画像の画像データ（ここでは仮に、中心画素
Ｐ４を中心とするＮ列×Ｎ行＝３×３＝９で表す、マス
クによって）、Ｐｎｅｗ４＝Ｐ４＋Ｋ（Ｐ４−ｑ）、で
示される周波数強調処理（ボケマスク処理）を施し、新
たなＰｎｅｗ４画素とするものである。この場合のｑは
入力画素Ｐ０〜Ｐ８の９個の加算値を、９で除したボケ
マスク信号で、ｑ＝Ｐ０＋〜＋Ｐ８／Ｎ×Ｎであり、Ｋ
は強調度を表す強調係数で、線形と非線形の場合があ
る。
【００１８】次に、デジタル・フィルタ処理は図４に示
すように、（ここでは、仮に入力画像データと、周波数
強調マスクをそれぞれＮ×Ｎ＝３×３＝９の場合を示し
ている。）入力画像データａ１〜ａ９を、周波数強調マ
スクｋ１〜ｋ９によりフィルタ処理することで、（ａ１
×ｋ１）＋〜＋（ａ９×ｋ９）、として周波数強調処理
を行うものである。ここで、ボケマスク処理、デジタル
・フィルタ処理共にＮ×Ｎ＝３×３＝９のマスク例を示
したが、勿論マスク設定やフィルタ処理方式等はこれに
限定するものではない。
すように、（ここでは、仮に入力画像データと、周波数
強調マスクをそれぞれＮ×Ｎ＝３×３＝９の場合を示し
ている。）入力画像データａ１〜ａ９を、周波数強調マ
スクｋ１〜ｋ９によりフィルタ処理することで、（ａ１
×ｋ１）＋〜＋（ａ９×ｋ９）、として周波数強調処理
を行うものである。ここで、ボケマスク処理、デジタル
・フィルタ処理共にＮ×Ｎ＝３×３＝９のマスク例を示
したが、勿論マスク設定やフィルタ処理方式等はこれに
限定するものではない。
【００１９】このようなフイルタにより周波数強調処理
した結果を図５に示す。図５は横軸に空間周波数、縦軸
に利得を示すフィルタ特性である。 １）空間周波数０．０１ｃ／ｍｍ以上とする理由は低周
波側のボケが問題であり、空間周波数０．０１ｃ／ｍｍ
以上を強調する必要があるからである。 ２）また、周波数強調度を２倍以下とする理由は、強調
度を大きくし過ぎるとアーチファクト（画像異常）が問
題になるからであり、このアーチファクトを発生させな
いためには、２倍以下であることが必要である。 図５に示す結果では、図２のＣＴＦに対応して、周波数
強調度は１．２とし、低域強調周波数領域は０．５〜
１．０ｃ／ｍｍ近辺としている。従って、ボケマスク強
調係数Ｋ、デジタルフィルター係数ｋ、をそれらに基づ
いて設定する。また、マスクサイズを大きくすれば低域
のフィルタ効果が上がるので、図５の例ではマスクサイ
ズを３５としている。
した結果を図５に示す。図５は横軸に空間周波数、縦軸
に利得を示すフィルタ特性である。 １）空間周波数０．０１ｃ／ｍｍ以上とする理由は低周
波側のボケが問題であり、空間周波数０．０１ｃ／ｍｍ
以上を強調する必要があるからである。 ２）また、周波数強調度を２倍以下とする理由は、強調
度を大きくし過ぎるとアーチファクト（画像異常）が問
題になるからであり、このアーチファクトを発生させな
いためには、２倍以下であることが必要である。 図５に示す結果では、図２のＣＴＦに対応して、周波数
強調度は１．２とし、低域強調周波数領域は０．５〜
１．０ｃ／ｍｍ近辺としている。従って、ボケマスク強
調係数Ｋ、デジタルフィルター係数ｋ、をそれらに基づ
いて設定する。また、マスクサイズを大きくすれば低域
のフィルタ効果が上がるので、図５の例ではマスクサイ
ズを３５としている。
【００２０】図６も図５と同様なフィルタ特性を示すも
のであるが、本発明では、感光材料の乳剤層Ｅｍのレー
ザ光吸収度（例えば０．６７、０．８等）に適応した周
波数強調処理を行うので、図６の場合は感光材料に応じ
て周波数強調度を図５よりも落とし、強調度を略１．１
程度とした例であり、感光材料に合わせてマスク係数
Ｋ、ｋを可変調節される。また、以上のマスク処理につ
いては、各式共に一次元で示したが画像処理は２次元の
処理となるので最終的には、主（水平）、副（垂直）方
向の処理となる。
のであるが、本発明では、感光材料の乳剤層Ｅｍのレー
ザ光吸収度（例えば０．６７、０．８等）に適応した周
波数強調処理を行うので、図６の場合は感光材料に応じ
て周波数強調度を図５よりも落とし、強調度を略１．１
程度とした例であり、感光材料に合わせてマスク係数
Ｋ、ｋを可変調節される。また、以上のマスク処理につ
いては、各式共に一次元で示したが画像処理は２次元の
処理となるので最終的には、主（水平）、副（垂直）方
向の処理となる。
【００２１】次に、本発明の第２の実施の形態について
説明する。第１の実施の形態が主方向、副方向共にデジ
タルフィルタ処理であったのに対し、第２の実施の形態
は主方向は、周波数強調範囲を空間周波数０．０１ｃ／
ｍｍ以上、周波数強調度を２倍以下に限定した、通常の
アナログ回路のピーキング・フイルタ処理を行い、副方
向は第１の実施の形態と同様なデジタルフィルタ処理を
行うもので、最終的に合成して画像データとする。この
場合は、画像データの出力形態（ＣＲＴ表示画像、プリ
ント写真画像等）に応じて、デシタルとアナログに分け
た処理ができるといった便利さがある。なお、ハード面
に関する実際的なフィルタ回路等の構成については特に
限定されず、所定の特性が得られるものは使用可能であ
る。以上の第１、第２実施の形態のような、周波数強調
処理による補正によって、図２に示したような感光材料
の鮮鋭度低下（特に低周波領域）分を、図５、図６に示
したようにフィルタ処理により補正することでアーチフ
ァクトの無い高画質の画像が得られる。
説明する。第１の実施の形態が主方向、副方向共にデジ
タルフィルタ処理であったのに対し、第２の実施の形態
は主方向は、周波数強調範囲を空間周波数０．０１ｃ／
ｍｍ以上、周波数強調度を２倍以下に限定した、通常の
アナログ回路のピーキング・フイルタ処理を行い、副方
向は第１の実施の形態と同様なデジタルフィルタ処理を
行うもので、最終的に合成して画像データとする。この
場合は、画像データの出力形態（ＣＲＴ表示画像、プリ
ント写真画像等）に応じて、デシタルとアナログに分け
た処理ができるといった便利さがある。なお、ハード面
に関する実際的なフィルタ回路等の構成については特に
限定されず、所定の特性が得られるものは使用可能であ
る。以上の第１、第２実施の形態のような、周波数強調
処理による補正によって、図２に示したような感光材料
の鮮鋭度低下（特に低周波領域）分を、図５、図６に示
したようにフィルタ処理により補正することでアーチフ
ァクトの無い高画質の画像が得られる。
【００２２】以上のような処理によって、画像データ１
の周波数強調処理が終わると、画像データによりレーザ
光をレーザ変調部３で変調し、熱現像記録装置（図７）
の露光部４で露光され、熱現像部５で熱現像される。こ
のようにして、鮮鋭度を周波数強調処理によってあらか
じめ補正し、高精細なレーザ露光と熱現像によって、ア
ーチファクトの無い画像が得られる。
の周波数強調処理が終わると、画像データによりレーザ
光をレーザ変調部３で変調し、熱現像記録装置（図７）
の露光部４で露光され、熱現像部５で熱現像される。こ
のようにして、鮮鋭度を周波数強調処理によってあらか
じめ補正し、高精細なレーザ露光と熱現像によって、ア
ーチファクトの無い画像が得られる。
【００２３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
波長７５０ｎｍ以下に感光性を持つ熱現像性感光材料を
レーザ露光する熱現像記録装置において、画像データを
処理する周波数処理部を備えて、鮮鋭度を補正するよう
に構成したので、最低濃度を上げずに鮮鋭度低下を防止
できる効果がある。また、周波数処理部が、感光材料の
特性に合わせて画像データの強調処理を行うように構成
したので、感光材料のレーザ光吸収度に適応した周波数
処理によってムラの無い鮮鋭度を保ち、アーチファクト
の無い高画質の画像が得られる効果がある。
波長７５０ｎｍ以下に感光性を持つ熱現像性感光材料を
レーザ露光する熱現像記録装置において、画像データを
処理する周波数処理部を備えて、鮮鋭度を補正するよう
に構成したので、最低濃度を上げずに鮮鋭度低下を防止
できる効果がある。また、周波数処理部が、感光材料の
特性に合わせて画像データの強調処理を行うように構成
したので、感光材料のレーザ光吸収度に適応した周波数
処理によってムラの無い鮮鋭度を保ち、アーチファクト
の無い高画質の画像が得られる効果がある。
【図１】本発明の第１の実施の形態に係る熱現像記録装
置のブロック図である。
置のブロック図である。
【図２】図１に示す熱現像記録装置で使用される各種感
光材料の鮮鋭度を示す図である。
光材料の鮮鋭度を示す図である。
【図３】図１に示す周波数強調処理部でのボケマスク処
理の説明図である。
理の説明図である。
【図４】図１に示す周波数強調処理部でのデジタル・フ
ィルタ処理の説明図である。
ィルタ処理の説明図である。
【図５】図１に示す周波数処理部のフィルタ特性を示す
図である。
図である。
【図６】図５に示す特性の強調度が小さい場合のフィル
タ特性を示す図である。
タ特性を示す図である。
【図７】本出願人の先行発明に係る熱現像記録装置の全
体図を示している。
体図を示している。
【図８】図７の中の露光部の構成図である。
【図９】従来の熱現像記録装置のブロック図である。
【図１０】熱現像性感光材料の断面図である。
１ 画像データ
２ 周波数強調処理部
３ レーザ変調ブロック
４ 露光ブロック
５ 現像ブロック
１０ 熱現像装置
１２ 記録材料供給部
１４ 幅寄せ部
１６ 露光部
１８ 熱現像部
５０、２００ レーザ光源
５２ ドライバ
５４ ポリゴンミラー
５６ ｆθレンズ
５８ シリンドリカルミラー
１３２ 塵埃ローラ
１４０ 搬送ローラ
１４４ 排出ローラ
２０２ 偏光ビームスプリッタ
２０４ 反射ミラー
２０６ モータ
３２０ プレートヒータ
３２２ 押さえローラ
Ａ 熱現像感光材料（記録材料）
Ｌ レーザ光
Claims (7)
- 【請求項１】 画像データにしたがってレーザ変調する
レーザ変調部と、該レーザ変調されたレーザ光ビームに
より波長７５０ｎｍ以下に感光性を持つ熱現像性感光材
料を走査露光して潜像を形成する露光部と、該露光した
感光材料を熱現像する熱現像部と、を有する熱現像記録
装置において、 画像データを処理する周波数処理部を前記レーザ変調部
の前段に備えたことを特徴とする熱現像記録装置。 - 【請求項２】 前記周波数処理部が前記感光材料の特性
に合わせて画像データを処理することを特徴とする請求
項１記載の熱現像記録装置。 - 【請求項３】 前記周波数処理部が周波数強調処理であ
り、周波数強調処理範囲を空間周波数約０．０１ｃ／ｍ
ｍ以上、周波数強調度約２倍以下を特徴とする請求項１
記載の熱現像記録装置。 - 【請求項４】 前記熱現像性感光材料は、支持体上に有
機銀塩、還元剤、ハロゲン化銀およびバインダーを有す
るものであることを特徴とする請求項１又は２記載の熱
現像記録装置に使用される熱現像性感光材料。 - 【請求項５】 前記熱現像性感光材料は、露光後の後処
理で消色するハレーション防止染料を塗布していること
を特徴とする請求項１又は２記載の熱現像記録装置に使
用される熱現像性感光材料。 - 【請求項６】 露光後の後処理で消色するハレーション
防止染料の光源波長における吸光度が１．０以下である
ことを特徴とする請求項５記載の熱現像感光材料。 - 【請求項７】 画像データにしたがってレーザ変調され
たレーザ光ビームにより波長７５０ｎｍ以下に感光性を
持つ熱現像性感光材料を走査露光して潜像を形成した
後、加熱現像する熱現像記録方法において、 前記画像データをまず周波数処理して鮮鋭度低下分を補
正した後、前記レーザ変調することを特徴とする熱現像
記録方法。
Priority Applications (2)
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|---|---|---|---|
| JP10238979A JP2000062246A (ja) | 1998-08-25 | 1998-08-25 | 熱現像記録装置および熱現像記録方法 |
| US09/382,625 US6532033B2 (en) | 1998-08-25 | 1999-08-25 | Heat development recording apparatus and heat development recording method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10238979A JP2000062246A (ja) | 1998-08-25 | 1998-08-25 | 熱現像記録装置および熱現像記録方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000062246A true JP2000062246A (ja) | 2000-02-29 |
Family
ID=17038142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10238979A Pending JP2000062246A (ja) | 1998-08-25 | 1998-08-25 | 熱現像記録装置および熱現像記録方法 |
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| US (1) | US6532033B2 (ja) |
| JP (1) | JP2000062246A (ja) |
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- 1998-08-25 JP JP10238979A patent/JP2000062246A/ja active Pending
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1999
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