JP2000058615A - 複数のウエハーの同時処理方法 - Google Patents

複数のウエハーの同時処理方法

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JP2000058615A JP10229454A JP22945498A JP2000058615A JP 2000058615 A JP2000058615 A JP 2000058615A JP 10229454 A JP10229454 A JP 10229454A JP 22945498 A JP22945498 A JP 22945498A JP 2000058615 A JP2000058615 A JP 2000058615A
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wafers
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Tokuei Ko
徳穎 高
Kohaku Han
厚博 范
Jiketsu Ri
時傑 李
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TAIWAN MAOXI ELECTRONICS CO Ltd
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TAIWAN MAOXI ELECTRONICS CO LT
TAIWAN MAOXI ELECTRONICS CO Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数のウエハーの同時処理方法の提供。 【解決手段】 処理室をウエハー処理の順序単位となす
ほか、別に従来の処理ステップにさらに終了信号の出力
ステップを加え、該終了信号を、その処理を行う次の一
つのウエハーの順序を決定するのに用いて、該終了信号
がどの一つの処理室り出力したものかを判断すること
で、次の一つの該処理を行うウエハー箱のウエハーが必
要とする相関順序シリアルナンバーをメモリ中に格納
し、それにより異なるウエハー箱のウエハーを同時に異
なる処理室で処理できるようにし、ウエハー箱の待機時
間を減少し、有効にウエハー製造工程の加工時間を減少
できるようにした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一種の複数のウエ
ハーの同時処理方法に関し、異なるウエハー箱を同時に
異なる処理室中で処理することで有効に作業時間を減少
して生産効率を高める目的を達成できる方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般的に、半導体ウエハー製造工程にお
いては、一組ずつのウエハーケースを単位として異なる
処理室に送りウエハーにさらなる処理を行っており、異
なるウエハー処理室があって、異なるウエハー箱を処理
する時には、ウエハー箱の順序を処理の順序の基準とし
て異なるウエハー箱をウエハー処理室に輸送して処理し
ていた。図1は従来のウエハー箱のウエハー処理室への
輸送実施例図である。その中には、三つのウエハー箱を
置く棚が設けられて、この棚は第1の棚10、第2の棚
20及び第3の棚30を含み、第1の棚10は第1のウ
エハー箱1を収容するのに用いられ、第2、第3の棚2
0、30は第2、第3のウエハー箱2、3を収容するの
に用いられている。図1中にはさらに一つの通路15が
あり、該通路15は第1の処理室11、第2の処理室1
2、第3の処理室13及び第4の処理室14に連接して
いる。これら処理室11、12、13、14とウエハー
箱1、2、3の棚10、20、30の間の順序関係は以
下のとおりである。
【0003】第1のウエハー箱1、第2のウエハー箱2
及び第3のウエハー箱3がそれぞれ第1の棚10、第2
の棚20、第3の棚30に置かれ、各一つのウエハー箱
中のウエハーを異なる処理室11、12、13、14に
送って処理(例えばウエハー上にフォトレジストを塗布
したりエッチング処理を施す)を行う時、その伝送処理
の順序は図1中に示されるように、第1のウエハー箱処
理順序21、第2のウエハー箱処理順序22、第3のウ
エハー箱処理順序23という異なる順序となる。もし第
2のウエハー箱2中のウエハーを第2の処理室12に送
り処理を行うなら、第1のウエハー箱1中のウエハーに
対する第1の処理室11中での処理が完了してからでな
ければ第2のウエハー2中のウエハーを第2の処理室1
2中で処理できない。さらに、もし第3のウエハー箱3
中のウエハーを第3の処理室13中で処理する時には、
第1、第2のウエハー箱1、2中の全てのウエハーの処
理が完了してからでなければ第3のウエハー箱3中のウ
エハーの処理を進行できない。このような処理順序はウ
エハー箱の処理待機時間を増加するほか、このようなウ
エハー伝送処理方式の効率は極めて低く、作業時間が不
必要に長くなった。
【0004】さらに従来の技術においてウエハー箱を異
なる処理室に送り処理するステップについて以下に説明
を行う。
【0005】まず、異なるウエハー箱を異なる棚に入れ
る411。それから処理項目、例えばフォトレジスト塗
布を選択し実行開始する412。続いてウエハー箱の処
理優先順序を設定する413。この時、開始シリアルナ
ンバー設定、位置シリアルナンバー及び処理室シリアル
ナンバーなどの異なるシリアルナンバーの設定を行う。
その後、処理するウエハーの走査を執行する414。こ
のステップでは処理したいウエハーを所属のウエハー箱
中より定義する。続いてウエハー箱の処理順序をメモリ
に入力する415。このステップでは異なる処理室のシ
リアルナンバー及び位置のシリアルナンバーを、メモリ
のバッファ中に入力し、これによりウエハー全ての処理
ステップ中で、各一つのウエハーの位置と送りたい処理
室と処理の順序を知ることができるようにする。その
後、処理をしたいウエハーを取り出す416。そしてウ
エハー処理を実行する417。このステップでは例えば
ウエハー上にフォトレジストを塗布する。続いてそのウ
エハーの元々の位置のシリアルナンバーにより該ウエハ
ーを元の位置に戻す。その後、処理したウエハーが該ウ
エハー箱中の最後の一つのウエハーか否かの判断を行う
419。もし処理したウエハーが最後の一つのウエハー
であれば、続いて該ウエハー箱が最後の一組のウエハー
箱であるか否かを判断し420、もし最後の一組のウエ
ハー箱でなければ、次のウエハー箱を処理する421動
作を行い、並びにウエハー箱処理順序をメモリに入力す
る415のステップに戻り、継続して実行する。ただし
もし最後の一組のウエハー箱であれば、それは全てのウ
エハー箱のウエハーがいずれも処理を完了したことを示
すので、このときウエハーの処理を終了する422。こ
れは即ち全てのウエハーの処理が完了したことを示す。
【0006】ゆえに、上述のウエハー箱処理ステップに
関しては、異なるウエハー箱中のウエハーを異なる処理
室中で処理する時、順序により先の一つのウエハー箱の
ウエハーの処理が完了した後でなければ処理を実行でき
ず、即ち従来の技術では、シリアルナンバー決定後に一
度開始ボタンを押して実行すると、全てのウエハー処理
順序ステップがいずれも決定されてしまい、異なるウエ
ハーの異なる処理ステップがあろうとなかろうと状況は
変わらなかった。このため大幅に作業時間がかかり、異
なるウエハー箱の待機時間を浪費するため、改善の必要
があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来の技術の実
際上の運用の欠点から、本発明では、使用者が同時に異
なるウエハー箱中のウエハーの個別加工処理が行える方
法を提供する。具体的には、本発明は、一種の経済的で
且つ作業時間を節約できる複数のウエハーの同時処理方
法を提供し、その中、ウエハーの処理室をウエハー加工
処理の順序の根拠となし、即ち同時に異なる処理室で異
なるウエハー箱中のウエハーをそれぞれ加工できるよう
にして、有効に異なるウエハー箱の処理待ち時間をなく
し、作業時間を節約し且つウエハー加工の経済性を高
め、従来の技術の欠点を改善することを課題としてい
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、異な
るウエハー箱のウエハーを同時に異なる処理室中で処理
することを特徴とする、複数のウエハーの同時処理方法
としている。
【0009】請求項2の発明は、前述の異なる処理室を
ウエハー処理の順序の根拠となして各一つの処理室で一
つのウエハーの処理が完了した後に、一つの終了信号を
出力して、次の処理を行うウエハーの順序の根拠となす
ことを特徴とする、請求項1に記載の複数のウエハーの
同時処理方法としている。
【0010】請求項3の発明は、前述の処理室での処理
がフォトレジストのウエハーへの塗布であることを特徴
とする、請求項1に記載のウエハーの同時処理方法とし
ている。
【0011】請求項4の発明は、前述の処理室での処理
がウエハーに対するエッチングであることを特徴とす
る、請求項1に記載のウエハーの同時処理方法としてい
る。
【0012】請求項5の発明は、以下の(a)から
(m)のステップ、即ち、 (a) 異なるウエハー箱を異なる棚中に収容するステ
ップ (b) 処理項目を選択し並びに実行開始するステップ (c) ウエハー処理の優先順序を設定するステップ (d) 処理するウエハーを走査するステップ (e) ウエハー箱の処理順序をメモリ中に入力するス
テップ (f) 処理するウエハーを取り出すステップ (g) ウエハーの処理を執行し、処理終了後に一つの
終了信号を出力するステップ (h) 該終了信号がどの処理室から出力されたかを判
断するステップ (i) 次の一つのウエハー箱の処理順序をメモリ中に
入力するステップ (j) 処理後のウエハーを戻すステップ (k) ウエハー箱の最後の一つのウエハーであるか否
かを判定してもし否であれば(e)のステップに戻るス
テップ (l) 最後のウエハー箱であるか否かを判定してもし
否であれば次の一つのウエハー箱を処理し、その後に
(e)のステップに戻るステップ (m)ウエハー処理を終了するステップ 以上を包括することを特徴とする、請求項1に記載の複
数のウエハーの同時処理方法としている。
【0013】請求項6の発明は、(d)の処理するウエ
ハーを走査するステップにおいて、ウエハーに設定され
たウエハーシリアルナンバーを処理するウエハーを走査
する根拠となすことを特徴とする、請求項5に記載の複
数のウエハーの同時処理方法としている。
【0014】請求項7の発明は、(e)のウエハー箱の
処理順序をメモリ中に入力するステップにおいて、異な
る処理室シリアルナンバー及び位置シリアルナンバーが
設定されることで、ウエハーの処理の優先順序が決定さ
れることを特徴とする、請求項5に記載の複数のウエハ
ーの同時処理方法としている。
【0015】請求項8の発明は、(f)の処理するウエ
ハーを取り出すステップにおいて、設定された処理室シ
リアルナンバーにより処理するウエハーを対応する処理
室に送って処理を行うことを特徴とする、請求項5に記
載の複数のウエハーの同時処理方法としている。
【0016】請求項9の発明は、(i)の次の一つのウ
エハー箱の処理順序をメモリ中に入力するステップにお
いて、異なる処理室シリアルナンバーと位置シリアルナ
ンバーが設定されて次の一つのウエハーの処理優先順序
が決定されることを特徴とする、請求項5に記載の複数
のウエハーの同時処理方法としている。
【0017】請求項10の発明は、(j)の処理後のウ
エハーを戻すステップにおいて、該ウエハーの元の位置
シリアルナンバーにより該ウエハーが元の位置に戻され
ることを特徴とする、請求項5に記載の複数のウエハー
の同時処理方法としている。
【0018】請求項11の発明は、(l)の最後のウエ
ハー箱であるか否かを判定してもし否であれば次の一つ
のウエハー箱を処理し、その後に(e)のステップに戻
るステップにおいて、ウエハーの位置シリアルナンバー
により次の一つのウエハー箱の処理を行うことを特徴と
する、請求項5に記載の複数のウエハーの同時処理方法
としている。
【0019】
【発明の実施の形態】上述の課題を達成するために、本
発明では処理室をウエハー処理の順序単位となすほか、
別に従来の処理ステップにさらに終了信号の出力ステッ
プを加え、該終了信号を、その処理を行う次の一つのウ
エハーの順序を決定するのに用いて、該終了信号がどの
一つの処理室り出力したものかを判断することで、次の
一つの該処理を行うウエハー箱のウエハーが必要とする
相関順序シリアルナンバーをメモリ中に格納し、それに
より異なるウエハー箱のウエハーを同時に異なる処理室
で処理できるようにし、ウエハー箱の待機時間を減少
し、有効にウエハー製造工程の加工時間を減少するよう
にしてある。
【0020】望ましくは、異なるウエハー処理室での処
理にフォトレジスト塗布ステップが含まれるものとす
る。
【0021】望ましくは、異なるウエハー処理室での処
理にウエハーに対するエッチングステップが含まれるも
のとする。
【0022】望ましくは、異なるウエハー箱のウエハー
自体に異なる開始シリアルナンバー、位置シリアルナン
バー、処理室シリアルナンバー及びウエハーシリアルナ
ンバーを設定するものとする。
【0023】
【実施例】図3を参照されたい。図3は本発明の実施例
のウエハー処理順序表示図である。図3中には従来の技
術と同様に第1のウエハー箱1を収容するための第1の
棚10、及び第2、第3のウエハー箱2、3を収容する
ために第2、第3の棚20、30が示されている。異な
る棚の作用は従来の技術と同様に、異なるウエハー箱を
異なる処理室に輸送する前に待機させることである。こ
のほか、第3中には一つの通路15が設けられ、該通路
15は第1の処理室1、第2の処理室12、第3の処理
室13及び第4の処理室14に連接し、これら異なる処
理室は異なるウエハーに対して加工処理、例えばウエハ
ーへのフォトレジスト塗布或いはウエハーへのエッチン
グのステップを行うのに用いられる。
【0024】図3と図1の最大の違いは、図1中の第1
のウエハー箱処理順序21、第2のウエハー箱処理順序
22、第3のウエハー箱処理順序23等の前後の順序処
理方式が、図3では第1のウエハー箱処理順序31、第
2のウエハー箱処理順序32及び第3のウエハー箱処理
順序33という同時処理方式に改変されていることであ
る。異なる処理室11、12、13、14と異なるウエ
ハー箱1、2、3を収容する異なる棚10、20、30
相互間の同時処理関係は以下のとおりである。
【0025】第1のウエハー箱1、第2のウエハー箱2
及び第3のウエハー箱3をそれぞれ第1の棚10、第2
の棚20、第3の棚30に置き待機させる。各一つのウ
エハー箱中のウエハーを異なる処理室11、12、1
3、14に送り処理を行う時(例えばウエハーへのフォ
トレジスト塗布或いはウエハーへのエッチング処理な
ど)、その伝送処理の順序は第1のウエハー箱処理順序
21、第2のウエハー箱処理順序22、第3のウエハー
箱処理順序23とされて、異なるウエハー箱のいずれも
が同一時期に異なる処理室に送られて処理されるように
してある。例えば、第2のウエハー箱2中のウエハーを
第2の処理室12に送って処理する時に、第1のウエハ
ー箱1中の全てのウエハーの第1の処理室11で処理が
完了するのを待つ必要がなく、即ち同時に第2のウエハ
ー箱2中のウエハーを第2処理室12に送って処理でき
る。
【0026】さらに、もし第3のウエハー箱3中のウエ
ハーを第3の処理室13に送って処理する場合、同様に
第1、第2のウエハー箱1、2の全てのウエハーが処理
完了するのを待つ必要がなく、同時に第3の処理室13
中で第3のウエハー箱3中のウエハーの処理を行うこと
ができる。ゆえに、このような処理順序により異なるウ
エハー箱の処理待機時間をなくすことができ、有効にウ
エハー製造工程にかかる時間を節約することができ、こ
のようなウエハー伝送処理方式の効率が非常に良好であ
ることは明らかである。
【0027】さらに詳しく本発明の方法の内容を理解い
ただくために、図4の本発明の実施例のウエハー処理動
作のフローチャートを参照して、本発明によりウエハー
を異なる処理室で処理するステップについて説明を行
う。まず、異なるウエハー箱を異なる棚に収容する51
1。その後、処理項目、例えばウエハーへのフォトレジ
スト塗布或いはウエハーへのエッチングの処理ステップ
を選択して実行開始する512。続いてウエハー箱の処
理優先順序を設定する513。この処理優先順序の設定
には、開始シリアルナンバー、位置シリアルナンバー、
処理室シリアルナンバーの異なるシリアルナンバー設定
が含まれる。
【0028】その後、処理したいウエハーの走査を実行
する514。このステップでは処理したいウエハーを所
属するウエハー箱中より定義し、それはウエハーに設定
されたウエハーシリアルナンバーを処理したいウエハー
を走査する根拠となすことで行われる。続いて、ウエハ
ー箱の処理順序をメモリ中に入力する515。このステ
ップの入力情報は異なる処理室シリアルナンバー及び位
置シリアルナンバーを含み、これらをメモリのバッファ
中に入力し、全てのウエハーの処理ステップにおいて、
各一つのウエハーの位置、輸送したい処理室の位置及び
処理の順序を知ることができるようにする。メモリに関
しては、それが一般の処理ステップ制御回路中のメモリ
とされるが、これについては本発明のポイントではない
ため詳しい説明は省略する。
【0029】続いて、処理したいウエハーを取り出す5
16。このステップでは、設定された処理室シリアルナ
ンバーに照らして処理したいウエハーを対応する処理室
に送り処理を行う。続いて、ウエハーの処理を実行する
517。このステップでは例えばウエハーへのフォトレ
ジスト塗布或いはウエハーへのエッチングを進行する。
ウエハーの処理が終わった後に同時に一つの終了信号を
出力する。続いて該終了信号がどの一つの処理室から出
力されたかを判断する518。その後、次の一つのウエ
ハー箱の処理順序をメモリ中に入力する519。このス
テップでは、同様に異なる処理室シリアルナンバーと位
置シリアルナンバーをメモリのバッファ中に入力し、そ
れにより次の該処理を行うウエハーを知ることができる
ようになる。さらに該ウエハーの元の位置のシリアルナ
ンバーに照らして該ウエハーを元の位置に戻す520。
【0030】その後、処理したウエハーが該ウエハー箱
の最後の一つのウエハーであるか否かを判断する52
1。もし最後の一つのウエハーでなければ、処理するウ
エハーを取り出す516のステップに戻り、次の一つの
ウエハーの処理を継続して実行する。もし処理したウエ
ハーがウエハー箱の最後のウエハーであれば、継続して
そのウエハー箱が最後のウエハー箱であるか否かを判断
522し、もし最後のウエハー箱でなければ、次のウエ
ハー箱を処理する動作を進行し523、並びに処理した
いウエハーを取り出す516ステップを継続して執行す
る。もし最後のウエハー箱であった時には、即ち全ての
ウエハー箱のウエハーがいずれも処理完了したことにな
り、即ち全てのウエハーの処理が完了したことを示す。
以上のステップにより、本発明の同時に異なるウエハー
箱のウエハーを処理する方法が完成し、本発明の方法に
より有効に製造工程の作業時間を節約し、生産能を高め
ることができる。
【0031】図5は本発明の実施例中のウエハーの相関
シリアルナンバー表示図である。該図は本発明と従来の
技術の間の違いを説明するのに用いられうる。図5は図
3の三つのウエハー箱を設けた場合を例としてその相関
シリアルナンバーを表にしたものである。該三つのウエ
ハー箱中の各一つのウエハー箱1、2、3にはそれぞれ
開始シリアルナンバーA1、A2、A3、位置シリアル
ナンバーB1、B2、B3、処理室シリアルナンバーC
1、C2、C3及びウエハーシリアルナンバーD1、D
2、D3が設定されている。
【0032】従来の技術においても本発明と同様に上述
の相関シリアルナンバーの設定はなされていたが、ただ
し、従来の技術では、一旦開始シリアルナンバーの順序
を決定すると、全体のウエハー処理の前後の順序が決定
してしまい、異なる処理室での処理ステップに費やされ
る時間が同じであるか否かに係わらず、いずれの場合に
も一つのウエハー箱の全てのウエハーの処理が完了して
からでなければ次の一つのウエハー箱のウエハーを処理
できず、異なるウエハー箱間の待機時間を浪費した。
【0033】反対に本発明の提供するウエハー処理方式
によると、各一つのウエハー処理が完了した後にいずれ
も一つの終了信号を発生し、該終了信号が次の一つの処
理したいウエハーをどの処理室に送って処理すべきかを
通知するのに用いられ、それにより異なるウエハー箱間
で相互に待機する必要がなくなり、即ち本発明により全
てのウエハー箱の処理時間が節約できる。総合すると、
本発明で使用する終了信号は従来の技術の開始信号と比
較すると、使用上さらに弾性を有しさらに快速であり、
並びに全てのウエハー製造工程の機器を有効に運用でき
るようにするため、ウエハーの大量生産に有利である。
【0034】
【発明の効果】本発明では処理室をウエハー処理の順序
単位となすほか、別に従来の処理ステップにさらに終了
信号の出力ステップを加え、該終了信号を、その処理を
行う次の一つのウエハーの順序を決定するのに用いて、
該終了信号がどの一つの処理室り出力したものかを判断
することで、次の一つの該処理を行うウエハー箱のウエ
ハーが必要とする相関順序シリアルナンバーをメモリ中
に格納し、それにより異なるウエハー箱のウエハーを同
時に異なる処理室で処理できるようにし、ウエハー箱の
待機時間を減少し、有効にウエハー製造工程の加工時間
を減少するようにしてある。
【0035】総合すると、本発明の複数のウエハーの同
時処理方法は同時に異なる処理室中で異なるウエハー箱
のウエハーを処理する方法であり、全てのウエハー箱の
処理にかかる時間を有効に節約し、経済的であり、本発
明の目的及び機能のいずれにおいても実施上、十分な進
歩性を有しており極めて産業上の利用価値を有してい
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の異なるウエハー箱のウエハーを異なる処
理室で処理する順序表示図である。
【図2】従来の異なるウエハー箱のウエハーを異なる処
理室で処理する動作フローチャートである。
【図3】本発明の実施例のウエハー処理順序表示図であ
る。
【図4】本発明の実施例のウエハー処理動作フローチャ
ートである。
【図5】本発明の実施例のウエハーの相関シリアルナン
バー例表示図である。
【符号の説明】
1 第1のウエハー箱 2 第2のウエハー箱 3 第3のウエハー箱 10 第1の棚 11 第1の処理室 12 第2の処理室 13 第3の処理室 14 第4の処理室 15 通路 20 第2の棚 21 第1のウエハー箱処理順序 22 第2のウエハー箱処理順序 23 第3のウエハー箱処理順序 30 第3の棚 31 第1のウエハー箱処理順序 32 第2のウエハー箱処理順序 33 第3のウエハー箱処理順序
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成11年8月10日(1999.8.1
0)
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 複数のウエハーの同時処理方法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、一種の複数のウエ
ハーの同時処理方法に関し、異なるウエハー箱を同時に
異なる処理室中で処理することで有効に作業時間を減少
して生産効率を高める目的を達成できる方法に関する。
【0002】
【従来の技術】一般的に、半導体ウエハー製造工程にお
いては、一組ずつのウエハーケースを単位として異なる
処理室に送りウエハーにさらなる処理を行っており、異
なるウエハー処理室があって、異なるウエハー箱を処理
する時には、ウエハー箱の順序を処理の順序の基準とし
て異なるウエハー箱をウエハー処理室に輸送して処理し
ていた。図1は従来のウエハー箱のウエハー処理室への
輸送実施例図である。その中には、三つのウエハー箱を
置く棚が設けられて、この棚は第1の棚10、第2の棚
20及び第3の棚30を含み、第1の棚10は第1のウ
エハー箱1を収容するのに用いられ、第2、第3の棚2
0、30は第2、第3のウエハー箱2、3を収容するの
に用いられている。図1中にはさらに一つの通路15が
あり、該通路15は第1の処理室11、第2の処理室1
2、第3の処理室13及び第4の処理室14に連接して
いる。これら処理室11、12、13、14とウエハー
箱1、2、3の棚10、20、30の間の順序関係は以
下のとおりである。
【0003】第1のウエハー箱1、第2のウエハー箱2
及び第3のウエハー箱3がそれぞれ第1の棚10、第2
の棚20、第3の棚30に置かれ、各一つのウエハー箱
中のウエハーを異なる処理室11、12、13、14に
送って処理(例えばウエハー上にフォトレジストを塗布
したりエッチング処理を施す)を行う時、その伝送処理
の順序は図1中に示されるように、第1のウエハー箱処
理順序21、第2のウエハー箱処理順序22、第3のウ
エハー箱処理順序23という異なる順序となる。もし第
2のウエハー箱2中のウエハーを第2の処理室12に送
り処理を行うなら、第1のウエハー箱1中のウエハーに
対する第1の処理室11中での処理が完了してからでな
ければ第2のウエハー2中のウエハーを第2の処理室1
2中で処理できない。さらに、もし第3のウエハー箱3
中のウエハーを第3の処理室13中で処理する時には、
第1、第2のウエハー箱1、2中の全てのウエハーの処
理が完了してからでなければ第3のウエハー箱3中のウ
エハーの処理を進行できない。このような処理順序はウ
エハー箱の処理待機時間を増加するほか、このようなウ
エハー伝送処理方式の効率は極めて低く、作業時間が不
必要に長くなった。
【0004】さらに従来の技術においてウエハー箱を異
なる処理室に送り処理するステップについて以下に説明
を行う。
【0005】まず、異なるウエハー箱を異なる棚に入れ
る411。それから処理項目、例えばフォトレジスト塗
布を選択し実行開始する412。続いてウエハー箱の処
理優先順序を設定する413。この時、開始シリアルナ
ンバー設定、位置シリアルナンバー及び処理室シリアル
ナンバーなどの異なるシリアルナンバーの設定を行う。
その後、処理するウエハーの走査を執行する414。こ
のステップでは処理したいウエハーを所属のウエハー箱
中より定義する。続いてウエハー箱の処理順序をメモリ
に入力する415。このステップでは異なる処理室のシ
リアルナンバー及び位置のシリアルナンバーを、メモリ
のバッファ中に入力し、これによりウエハー全ての処理
ステップ中で、各一つのウエハーの位置と送りたい処理
室と処理の順序を知ることができるようにする。その
後、処理をしたいウエハーを取り出す416。そしてウ
エハー処理を実行する417。このステップでは例えば
ウエハー上にフォトレジストを塗布する。続いてそのウ
エハーの元々の位置のシリアルナンバーにより該ウエハ
ーを元の位置に戻す。その後、処理したウエハーが該ウ
エハー箱中の最後の一つのウエハーか否かの判断を行う
419。もし処理したウエハーが最後の一つのウエハー
であれば、続いて該ウエハー箱が最後の一組のウエハー
箱であるか否かを判断し420、もし最後の一組のウエ
ハー箱でなければ、次のウエハー箱を処理する421動
作を行い、並びにウエハー箱処理順序をメモリに入力す
る415のステップに戻り、継続して実行する。ただし
もし最後の一組のウエハー箱であれば、それは全てのウ
エハー箱のウエハーがいずれも処理を完了したことを示
すので、このときウエハーの処理を終了する422。こ
れは即ち全てのウエハーの処理が完了したことを示す。
【0006】ゆえに、上述のウエハー箱処理ステップに
関しては、異なるウエハー箱中のウエハーを異なる処理
室中で処理する時、順序により先の一つのウエハー箱の
ウエハーの処理が完了した後でなければ処理を実行でき
ず、即ち従来の技術では、シリアルナンバー決定後に一
度開始ボタンを押して実行すると、全てのウエハー処理
順序ステップがいずれも決定されてしまい、異なるウエ
ハーの異なる処理ステップがあろうとなかろうと状況は
変わらなかった。このため大幅に作業時間がかかり、異
なるウエハー箱の待機時間を浪費するため、改善の必要
があった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来の技術の実
際上の運用の欠点から、本発明では、使用者が同時に異
なるウエハー箱中のウエハーの個別加工処理が行える方
法を提供する。具体的には、本発明は、一種の経済的で
且つ作業時間を節約できる複数のウエハーの同時処理方
法を提供し、その中、ウエハーの処理室をウエハー加工
処理の順序の根拠となし、即ち同時に異なる処理室で異
なるウエハー箱中のウエハーをそれぞれ加工できるよう
にして、有効に異なるウエハー箱の処理待ち時間をなく
し、作業時間を節約し且つウエハー加工の経済性を高
め、従来の技術の欠点を改善することを課題としてい
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、異な
るウエハー箱のウエハーを同時に異なる処理室中で処理
し、該異なる処理室をウエハー処理の順序の根拠となし
て各一つの処理室で一つのウエハーの処理が完了した後
に、一つの終了信号を出力して、次の処理を行うウエハ
ーの順序の根拠となすことを特徴とする、ウエハーの同
時処理方法としている。
【0009】請求項2の発明は、前述の処理室での処理
がフォトレジストのウエハーへの塗布であることを特徴
とする、請求項1に記載のウエハーの同時処理方法とし
ている。
【0010】請求項3の発明は、前述の処理室での処理
がウエハーに対するエッチングであることを特徴とす
る、請求項1に記載のウエハーの同時処理方法としてい
る。
【0011】請求項4の発明は、以下の(a)から
(m)のステップ、即ち、 (a) 異なるウエハー箱を異なる棚中に収容するステ
ップ (b) 処理項目を選択し並びに実行開始するステップ (c) ウエハー処理の優先順序を設定するステップ (d) 処理するウエハーを走査するステップ (e) ウエハー箱の処理順序をメモリ中に入力するス
テップ (f) 処理するウエハーを取り出すステップ (g) ウエハーの処理を執行し、処理終了後に一つの
終了信号を出力するステップ (h) 該終了信号がどの処理室から出力されたかを判
断するステップ (i) 次の一つのウエハー箱の処理順序をメモリ中に
入力するステップ (j) 処理後のウエハーを戻すステップ (k) ウエハー箱の最後の一つのウエハーであるか否
かを判定してもし否であれば(e)のステップに戻るス
テップ (l) 最後のウエハー箱であるか否かを判定してもし
否であれば次の一つのウエハー箱を処理し、その後に
(e)のステップに戻るステップ (m)ウエハー処理を終了するステップ 以上を包括することを特徴とする、請求項1に記載の複
数のウエハーの同時処理方法としている。
【0012】請求項5の発明は、(d)の処理するウエ
ハーを走査するステップにおいて、ウエハーに設定され
たウエハーシリアルナンバーを処理するウエハーを走査
する根拠となすことを特徴とする、請求項4に記載の複
数のウエハーの同時処理方法としている。
【0013】請求項6の発明は、(e)のウエハー箱の
処理順序をメモリ中に入力するステップにおいて、異な
る処理室シリアルナンバー及び位置シリアルナンバーが
設定されることで、ウエハーの処理の優先順序が決定さ
れることを特徴とする、請求項4に記載の複数のウエハ
ーの同時処理方法としている。
【0014】請求項7の発明は、(f)の処理するウエ
ハーを取り出すステップにおいて、設定された処理室シ
リアルナンバーにより処理するウエハーを対応する処理
室に送って処理を行うことを特徴とする、請求項4に記
載の複数のウエハーの同時処理方法としている。
【0015】請求項8の発明は、(i)の次の一つのウ
エハー箱の処理順序をメモリ中に入力するステップにお
いて、異なる処理室シリアルナンバーと位置シリアルナ
ンバーが設定されて次の一つのウエハーの処理優先順序
が決定されることを特徴とする、請求項4に記載の複数
のウエハーの同時処理方法としている。
【0016】請求項9の発明は、(j)の処理後のウエ
ハーを戻すステップにおいて、該ウエハーの元の位置シ
リアルナンバーにより該ウエハーが元の位置に戻される
ことを特徴とする、請求項4に記載の複数のウエハーの
同時処理方法としている。
【0017】請求項10の発明は、(l)の最後のウエ
ハー箱であるか否かを判定してもし否であれば次の一つ
のウエハー箱を処理し、その後に(e)のステップに戻
るステップにおいて、ウエハーの位置シリアルナンバー
により次の一つのウエハー箱の処理を行うことを特徴と
する、請求項4に記載の複数のウエハーの同時処理方法
としている。
【0018】
【発明の実施の形態】上述の課題を達成するために、本
発明では処理室をウエハー処理の順序単位となすほか、
別に従来の処理ステップにさらに終了信号の出力ステッ
プを加え、該終了信号を、その処理を行う次の一つのウ
エハーの順序を決定するのに用いて、該終了信号がどの
一つの処理室り出力したものかを判断することで、次の
一つの該処理を行うウエハー箱のウエハーが必要とする
相関順序シリアルナンバーをメモリ中に格納し、それに
より異なるウエハー箱のウエハーを同時に異なる処理室
で処理できるようにし、ウエハー箱の待機時間を減少
し、有効にウエハー製造工程の加工時間を減少するよう
にしてある。
【0019】望ましくは、異なるウエハー処理室での処
理にフォトレジスト塗布ステップが含まれるものとす
る。
【0020】望ましくは、異なるウエハー処理室での処
理にウエハーに対するエッチングステップが含まれるも
のとする。
【0021】望ましくは、異なるウエハー箱のウエハー
自体に異なる開始シリアルナンバー、位置シリアルナン
バー、処理室シリアルナンバー及びウエハーシリアルナ
ンバーを設定するものとする。
【0022】
【実施例】図3を参照されたい。図3は本発明の実施例
のウエハー処理順序表示図である。図3中には従来の技
術と同様に第1のウエハー箱1を収容するための第1の
棚10、及び第2、第3のウエハー箱2、3を収容する
ために第2、第3の棚20、30が示されている。異な
る棚の作用は従来の技術と同様に、異なるウエハー箱を
異なる処理室に輸送する前に待機させることである。こ
のほか、第3中には一つの通路15が設けられ、該通路
15は第1の処理室1、第2の処理室12、第3の処理
室13及び第4の処理室14に連接し、これら異なる処
理室は異なるウエハーに対して加工処理、例えばウエハ
ーへのフォトレジスト塗布或いはウエハーへのエッチン
グのステップを行うのに用いられる。
【0023】図3と図1の最大の違いは、図1中の第1
のウエハー箱処理順序21、第2のウエハー箱処理順序
22、第3のウエハー箱処理順序23等の前後の順序処
理方式が、図3では第1のウエハー箱処理順序31、第
2のウエハー箱処理順序32及び第3のウエハー箱処理
順序33という同時処理方式に改変されていることであ
る。異なる処理室11、12、13、14と異なるウエ
ハー箱1、2、3を収容する異なる棚10、20、30
相互間の同時処理関係は以下のとおりである。
【0024】第1のウエハー箱1、第2のウエハー箱2
及び第3のウエハー箱3をそれぞれ第1の棚10、第2
の棚20、第3の棚30に置き待機させる。各一つのウ
エハー箱中のウエハーを異なる処理室11、12、1
3、14に送り処理を行う時(例えばウエハーへのフォ
トレジスト塗布或いはウエハーへのエッチング処理な
ど)、その伝送処理の順序は第1のウエハー箱処理順序
21、第2のウエハー箱処理順序22、第3のウエハー
箱処理順序23とされて、異なるウエハー箱のいずれも
が同一時期に異なる処理室に送られて処理されるように
してある。例えば、第2のウエハー箱2中のウエハーを
第2の処理室12に送って処理する時に、第1のウエハ
ー箱1中の全てのウエハーの第1の処理室11で処理が
完了するのを待つ必要がなく、即ち同時に第2のウエハ
ー箱2中のウエハーを第2処理室12に送って処理でき
る。
【0025】さらに、もし第3のウエハー箱3中のウエ
ハーを第3の処理室13に送って処理する場合、同様に
第1、第2のウエハー箱1、2の全てのウエハーが処理
完了するのを待つ必要がなく、同時に第3の処理室13
中で第3のウエハー箱3中のウエハーの処理を行うこと
ができる。ゆえに、このような処理順序により異なるウ
エハー箱の処理待機時間をなくすことができ、有効にウ
エハー製造工程にかかる時間を節約することができ、こ
のようなウエハー伝送処理方式の効率が非常に良好であ
ることは明らかである。
【0026】さらに詳しく本発明の方法の内容を理解い
ただくために、図4の本発明の実施例のウエハー処理動
作のフローチャートを参照して、本発明によりウエハー
を異なる処理室で処理するステップについて説明を行
う。まず、異なるウエハー箱を異なる棚に収容する51
1。その後、処理項目、例えばウエハーへのフォトレジ
スト塗布或いはウエハーへのエッチングの処理ステップ
を選択して実行開始する512。続いてウエハー箱の処
理優先順序を設定する513。この処理優先順序の設定
には、開始シリアルナンバー、位置シリアルナンバー、
処理室シリアルナンバーの異なるシリアルナンバー設定
が含まれる。
【0027】その後、処理したいウエハーの走査を実行
する514。このステップでは処理したいウエハーを所
属するウエハー箱中より定義し、それはウエハーに設定
されたウエハーシリアルナンバーを処理したいウエハー
を走査する根拠となすことで行われる。続いて、ウエハ
ー箱の処理順序をメモリ中に入力する515。このステ
ップの入力情報は異なる処理室シリアルナンバー及び位
置シリアルナンバーを含み、これらをメモリのバッファ
中に入力し、全てのウエハーの処理ステップにおいて、
各一つのウエハーの位置、輸送したい処理室の位置及び
処理の順序を知ることができるようにする。メモリに関
しては、それが一般の処理ステップ制御回路中のメモリ
とされるが、これについては本発明のポイントではない
ため詳しい説明は省略する。
【0028】続いて、処理したいウエハーを取り出す5
16。このステップでは、設定された処理室シリアルナ
ンバーに照らして処理したいウエハーを対応する処理室
に送り処理を行う。続いて、ウエハーの処理を実行する
517。このステップでは例えばウエハーへのフォトレ
ジスト塗布或いはウエハーへのエッチングを進行する。
ウエハーの処理が終わった後に同時に一つの終了信号を
出力する。続いて該終了信号がどの一つの処理室から出
力されたかを判断する518。その後、次の一つのウエ
ハー箱の処理順序をメモリ中に入力する519。このス
テップでは、同様に異なる処理室シリアルナンバーと位
置シリアルナンバーをメモリのバッファ中に入力し、そ
れにより次の該処理を行うウエハーを知ることができる
ようになる。さらに該ウエハーの元の位置のシリアルナ
ンバーに照らして該ウエハーを元の位置に戻す520。
【0029】その後、処理したウエハーが該ウエハー箱
の最後の一つのウエハーであるか否かを判断する52
1。もし最後の一つのウエハーでなければ、処理するウ
エハーを取り出す516のステップに戻り、次の一つの
ウエハーの処理を継続して実行する。もし処理したウエ
ハーがウエハー箱の最後のウエハーであれば、継続して
そのウエハー箱が最後のウエハー箱であるか否かを判断
522し、もし最後のウエハー箱でなければ、次のウエ
ハー箱を処理する動作を進行し523、並びに処理した
いウエハーを取り出す516ステップを継続して執行す
る。もし最後のウエハー箱であった時には、即ち全ての
ウエハー箱のウエハーがいずれも処理完了したことにな
り、即ち全てのウエハーの処理が完了したことを示す。
以上のステップにより、本発明の同時に異なるウエハー
箱のウエハーを処理する方法が完成し、本発明の方法に
より有効に製造工程の作業時間を節約し、生産能を高め
ることができる。
【0030】図5は本発明の実施例中のウエハーの相関
シリアルナンバー表示図である。該図は本発明と従来の
技術の間の違いを説明するのに用いられうる。図5は図
3の三つのウエハー箱を設けた場合を例としてその相関
シリアルナンバーを表にしたものである。該三つのウエ
ハー箱中の各一つのウエハー箱1、2、3にはそれぞれ
開始シリアルナンバーA1、A2、A3、位置シリアル
ナンバーB1、B2、B3、処理室シリアルナンバーC
1、C2、C3及びウエハーシリアルナンバーD1、D
2、D3が設定されている。
【0031】従来の技術においても本発明と同様に上述
の相関シリアルナンバーの設定はなされていたが、ただ
し、従来の技術では、一旦開始シリアルナンバーの順序
を決定すると、全体のウエハー処理の前後の順序が決定
してしまい、異なる処理室での処理ステップに費やされ
る時間が同じであるか否かに係わらず、いずれの場合に
も一つのウエハー箱の全てのウエハーの処理が完了して
からでなければ次の一つのウエハー箱のウエハーを処理
できず、異なるウエハー箱間の待機時間を浪費した。
【0032】反対に本発明の提供するウエハー処理方式
によると、各一つのウエハー処理が完了した後にいずれ
も一つの終了信号を発生し、該終了信号が次の一つの処
理したいウエハーをどの処理室に送って処理すべきかを
通知するのに用いられ、それにより異なるウエハー箱間
で相互に待機する必要がなくなり、即ち本発明により全
てのウエハー箱の処理時間が節約できる。総合すると、
本発明で使用する終了信号は従来の技術の開始信号と比
較すると、使用上さらに弾性を有しさらに快速であり、
並びに全てのウエハー製造工程の機器を有効に運用でき
るようにするため、ウエハーの大量生産に有利である。
【0033】
【発明の効果】本発明では処理室をウエハー処理の順序
単位となすほか、別に従来の処理ステップにさらに終了
信号の出力ステップを加え、該終了信号を、その処理を
行う次の一つのウエハーの順序を決定するのに用いて、
該終了信号がどの一つの処理室り出力したものかを判断
することで、次の一つの該処理を行うウエハー箱のウエ
ハーが必要とする相関順序シリアルナンバーをメモリ中
に格納し、それにより異なるウエハー箱のウエハーを同
時に異なる処理室で処理できるようにし、ウエハー箱の
待機時間を減少し、有効にウエハー製造工程の加工時間
を減少するようにしてある。
【0034】総合すると、本発明の複数のウエハーの同
時処理方法は同時に異なる処理室中で異なるウエハー箱
のウエハーを処理する方法であり、全てのウエハー箱の
処理にかかる時間を有効に節約し、経済的であり、本発
明の目的及び機能のいずれにおいても実施上、十分な進
歩性を有しており極めて産業上の利用価値を有してい
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来の異なるウエハー箱のウエハーを異なる処
理室で処理する順序表示図である。
【図2】従来の異なるウエハー箱のウエハーを異なる処
理室で処理する動作フローチャートである。
【図3】本発明の実施例のウエハー処理順序表示図であ
る。
【図4】本発明の実施例のウエハー処理動作フローチャ
ートである。
【図5】本発明の実施例のウエハーの相関シリアルナン
バー例表示図である。
【符号の説明】 1 第1のウエハー箱 2 第2のウエハー箱 3 第3のウエハー箱 10 第1の棚 11 第1の処理室 12 第2の処理室 13 第3の処理室 14 第4の処理室 15 通路 20 第2の棚 21 第1のウエハー箱処理順序 22 第2のウエハー箱処理順序 23 第3のウエハー箱処理順序 30 第3の棚 31 第1のウエハー箱処理順序 32 第2のウエハー箱処理順序 33 第3のウエハー箱処理順序
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高 徳穎 台湾新竹市武陵路271巷57弄59號2樓 (72)発明者 范 厚博 台湾嘉義市劉▲つぉ▼里自強街84巷67弄20 號 (72)発明者 李 時傑 台湾新竹縣竹北市文山路2號2樓 Fターム(参考) 5F031 BB05 GG19 KK04 KK06 MM11

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 異なるウエハー箱のウエハーを同時に異
    なる処理室中で処理することを特徴とする、複数のウエ
    ハーの同時処理方法。
  2. 【請求項2】 前述の異なる処理室をウエハー処理の順
    序の根拠となして各一つの処理室で一つのウエハーの処
    理が完了した後に、一つの終了信号を出力して、次の処
    理を行うウエハーの順序の根拠となすことを特徴とす
    る、請求項1に記載の複数のウエハーの同時処理方法。
  3. 【請求項3】 前述の処理室での処理がフォトレジスト
    のウエハーへの塗布であることを特徴とする、請求項1
    に記載のウエハーの同時処理方法。
  4. 【請求項4】 前述の処理室での処理がウエハーに対す
    るエッチングであることを特徴とする、請求項1に記載
    のウエハーの同時処理方法。
  5. 【請求項5】 以下の(a)から(m)のステップ、即
    ち、 (a) 異なるウエハー箱を異なる棚中に収容するステ
    ップ (b) 処理項目を選択し並びに実行開始するステップ (c) ウエハー処理の優先順序を設定するステップ (d) 処理するウエハーを走査するステップ (e) ウエハー箱の処理順序をメモリ中に入力するス
    テップ (f) 処理するウエハーを取り出すステップ (g) ウエハーの処理を執行し、処理終了後に一つの
    終了信号を出力するステップ (h) 該終了信号がどの処理室から出力されたかを判
    断するステップ (i) 次の一つのウエハー箱の処理順序をメモリ中に
    入力するステップ (j) 処理後のウエハーを戻すステップ (k) ウエハー箱の最後の一つのウエハーであるか否
    かを判定してもし否であれば(e)のステップに戻るス
    テップ (l) 最後のウエハー箱であるか否かを判定してもし
    否であれば次の一つのウエハー箱を処理し、その後に
    (e)のステップに戻るステップ (m)ウエハー処理を終了するステップ 以上を包括することを特徴とする、請求項1に記載の複
    数のウエハーの同時処理方法。
  6. 【請求項6】 (d)の処理するウエハーを走査するス
    テップにおいて、ウエハーに設定されたウエハーシリア
    ルナンバーを処理するウエハーを走査する根拠となすこ
    とを特徴とする、請求項5に記載の複数のウエハーの同
    時処理方法。
  7. 【請求項7】 (e)のウエハー箱の処理順序をメモリ
    中に入力するステップにおいて、異なる処理室シリアル
    ナンバー及び位置シリアルナンバーが設定されること
    で、ウエハーの処理の優先順序が決定されることを特徴
    とする、請求項5に記載の複数のウエハーの同時処理方
    法。
  8. 【請求項8】 (f)の処理するウエハーを取り出すス
    テップにおいて、設定された処理室シリアルナンバーに
    より処理するウエハーを対応する処理室に送って処理を
    行うことを特徴とする、請求項5に記載の複数のウエハ
    ーの同時処理方法。
  9. 【請求項9】 (i)の次の一つのウエハー箱の処理順
    序をメモリ中に入力するステップにおいて、異なる処理
    室シリアルナンバーと位置シリアルナンバーが設定され
    て次の一つのウエハーの処理優先順序が決定されること
    を特徴とする、請求項5に記載の複数のウエハーの同時
    処理方法。
  10. 【請求項10】 (j)の処理後のウエハーを戻すステ
    ップにおいて、該ウエハーの元の位置シリアルナンバー
    により該ウエハーが元の位置に戻されることを特徴とす
    る、請求項5に記載の複数のウエハーの同時処理方法。
  11. 【請求項11】 (l)の最後のウエハー箱であるか否
    かを判定してもし否であれば次の一つのウエハー箱を処
    理し、その後に(e)のステップに戻るステップにおい
    て、ウエハーの位置シリアルナンバーにより次の一つの
    ウエハー箱の処理を行うことを特徴とする、請求項5に
    記載の複数のウエハーの同時処理方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6745783B2 (en) * 2000-08-01 2004-06-08 Tokyo Electron Limited Cleaning processing method and cleaning processing apparatus
TWI558636B (zh) * 2015-03-16 2016-11-21 台灣積體電路製造股份有限公司 晶圓運輸方法

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20120189421A1 (en) 2011-01-21 2012-07-26 Samsung Austin Semiconductor, L.P. Parallel multi wafer axial spin clean processing using spin cassette inside movable process chamber
CN104779134B (zh) * 2014-01-13 2017-07-28 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 派货系统及派货方法
JP7209556B2 (ja) * 2019-02-05 2023-01-20 東京エレクトロン株式会社 基板処理方法および基板処理装置

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5024570A (en) * 1988-09-14 1991-06-18 Fujitsu Limited Continuous semiconductor substrate processing system
US5402350A (en) * 1991-06-28 1995-03-28 Texas Instruments Incorporated Scheduling for multi-task manufacturing equipment
US5928389A (en) * 1996-10-21 1999-07-27 Applied Materials, Inc. Method and apparatus for priority based scheduling of wafer processing within a multiple chamber semiconductor wafer processing tool
US5855681A (en) * 1996-11-18 1999-01-05 Applied Materials, Inc. Ultra high throughput wafer vacuum processing system

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6745783B2 (en) * 2000-08-01 2004-06-08 Tokyo Electron Limited Cleaning processing method and cleaning processing apparatus
TWI558636B (zh) * 2015-03-16 2016-11-21 台灣積體電路製造股份有限公司 晶圓運輸方法

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