JP2000043421A - 光情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高い反射率を維持したまま、保存耐久性及び
耐光性が向上した光情報記録媒体を提供すること。 【解決手段】 透明基板上に光照射により信号の記録が
可能な色素記録層、更にその上に金属反射層を有するヒ
ートモード型の光情報記録媒体において、該色素記録層
が、第四級ピリジニウムイオン（ビピリジル環からなる
オニウムイオン）をカチオン成分として持つオキソノー
ル系色素化合物と、結合剤として、シクロヘキサンジメ
タノール系ポリエステルポリウレタン樹脂を含有するこ
とを特徴とする光情報記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザー光を用い
て情報の記録および再生を行うことができるヒートモー
ド型の光情報記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】レーザ光により一回限りの情報の記録が
可能な光情報記録媒体（光ディスク）は、追記型ＣＤあ
るいはＣＤ−Ｒとも称されており、ＣＤあるいはＣＤ−
ＲＯＭの作製に比べて情報の記録を簡単に行うことがで
きるという利点を有している。ＣＤ−Ｒ型の光情報記録
媒体の代表的な構造は、透明な円盤状基板上に有機色素
からなる記録層、金などの金属からなる反射層、さらに
樹脂製の保護層をこの順に積層したものである。そして
この光情報記録媒体への情報の書き込み（記録）は、近
赤外域のレーザ光（通常は７８０ｎｍ付近の波長のレー
ザ光）を照射することにより行われ、色素記録層の照射
部分がその光を吸収して局所的に温度上昇し、物理的あ
るいは化学的な変化（例えば、ピットの生成）が生じて
その光学的特性を変えることにより情報が記録される。
一方、情報の読み取り（再生）も通常、記録用のレーザ
光と同じ波長のレーザ光を照射することにより行われ、
色素記録層の光学的特性が変化した部位（ピットなどの
生成による記録部分）と変化しない部位（未記録部分）
との反射率の違いを検出することにより情報が再生され
る。

【０００３】ＣＤ−Ｒ型の光デイスクの色素記録層に
は、従来からシアニン色素やフタロシアニン色素が有利
に用いられている。特にシアニン色素はフタロシアニン
色素に比較して、感度が高い等の優れた点がある。しか
し、シアニン色素は紫外線により劣化（分解）しやす
く、十分な耐光性が得られにくいとの問題がある。又、
一般に色素記録層は、樹脂などのバインダを用いて形成
すると、感度が低下したり、又得られる反射率や再生出
力が低下しやすくなる。このため、従来から色素記録層
は、色素のみで形成することが行われている。例えば、
特公平５−７４１５９号公報には、バインダを含まない
シアニン色素薄膜から構成した色素記録層を有する光情
報記録媒体が提案されている。しかしながら、バインダ
を含まない色素記録層は、基板との十分な密着力が得ら
れにくくなるために、繰り返し使用に対して耐久性に劣
り、又記録層上には、反射層、保護層が積層されている
が、高温高湿度の環境下では記録層の色素が湿度の影響
を受け易く、その結果、結晶化して、記録再生特性に悪
影響が生じ易くなる。

【０００４】特開昭６３−２０９９９５号公報には、オ
キソノール色素からなる記録層を基板上に有する情報記
録媒体が開示されている。このオキソノール色素は、分
子内に塩の形でアンモニウムが導入されたもので、この
色素を用いることにより、長期間にわたり比較的安定し
た記録再生特性が得られると記載されている。また、上
記公報には、色素記録層の形成に用いることができるバ
インダとして、例えば、ＰＶＡ、ＰＶＰ、ポリビニルブ
チラール、ポリカーボネート、ニトロセルロース、ポリ
ビニルホルマール、メチルビニルエーテル、塩素化パラ
フィン、無水マレイン酸共重合体、スチレンーブタジエ
ン共重合体、及びキシレン系樹脂が記載されている。そ
してその実施例には、バインダとして、ニトロセルロー
ルや塩素化パラフィンなどを使用した例が記載されてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、色素
記録層をバインダを用いて形成した場合でも高い反射率
を維持したまま、特に下記のような優れた特性が備えら
れた光情報記録媒体を提供することである。即ち、本発
明の目的は、高温高湿度の環境下あるいは温湿度変化の
激しい環境下に保存した場合でも記録再生特性が低下す
ることなく、品質の安定した、即ち、保存耐久性が更に
向上した光情報記録媒体を提供することである。また、
本発明の目的は、耐光性が改善された光情報記録媒体を
提供することでもある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記特開昭６３−２０９
９９５号公報に記載のオキソノール色素は、熱に対する
保存性及び耐久性（繰り返しの再生）はある程度確保さ
れるが、耐光性に対してはなお十分でないとの問題があ
った。このような色素に対して、オニウム原子に水素原
子が結合していないオニウム塩、特に第四級アンモニウ
ム塩を導入した新規なオキソノール色素が特に耐光性に
対して優れていることを見出し、この発明については、
本願出願人により既に特許出願されている（特願平９−
２８４５１２号明細書）。

【０００７】本発明者は、上記新規なオキソノール色素
とバインダを組み合わせた色素記録層を有する情報記録
媒体について検討を行った。その検討によると、バイン
ダを用いることにより、基板と色素記録層との密着不良
の問題は解消され、従って繰り返し使用に対して耐久性
は得られるが、従来のバインダでは、反射率が低下しや
すくなり、また耐光性や保存耐久性も低下する傾向にあ
ることが判明した。

【０００８】本発明者の更なる研究により、色素記録層
を新規なオキソノール色素とシクロヘキサンジメタノー
ル系ポリエステルポリウレタン樹脂とを組み合わせて構
成することにより、驚くべきことに、反射率の低下を殆
ど伴うことなく、高温高湿下での保存耐久性や耐光性が
改善された光情報記録媒体を製造できることが見出され
た。即ち、前述のように、色素記録層にバインダとして
樹脂などの有機化合物を添加すると反射率が低下すると
いうことが一般的であるが、上記の新規なオキソノール
色素とシクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリ
ウレタン樹脂を組み合わせた場合には、反射率を高い状
態に維持したまま、かつ保存耐久性や耐光性に優れる光
情報記録媒体を製造できることが見出された。このよう
な好ましい特性が付与される理由は明らかではないが、
本発明に係るバインダは、色素との相溶性に富み、従っ
てこれを用いることで、記録再生用のレーザ光に適した
色素記録層が形成されるものと推定される。

【０００９】本発明は、透明基板上に光照射により信号
の記録が可能な色素記録層、更にその上に金属反射層を
有するヒートモード型の光情報記録媒体において、該色
素記録層が、下記一般式（Ｉ−１）または一般式（Ｉ−
２）で表される色素化合物、およびシクロヘキサンジメ
タノール系ポリエステルポリウレタン樹脂を含有するこ
とを特徴とする光情報記録媒体にある。

【００１０】

【化４】

【００１１】〔式中、Ａ¹ 、Ａ² 、Ｂ¹ 及びＢ² は各々
独立に置換基を表し、Ｙ¹ 及びＺ¹は各々独立に、炭素
環もしくは複素環を形成するために必要な原子団を表
し、ＥおよびＧは各々独立に、共役二重結合鎖を完成す
るために必要な原子団を表し、Ｘ¹ は、＝Ｏ、＝ＮＲ、
又は＝Ｃ（ＣＮ）₂ を表し、Ｘ² は、−Ｏ、−ＮＲまた
は−Ｃ（ＣＮ）₂ を表し（但し、Ｒは置換基を表す）、
Ｌ¹ 、Ｌ² 、Ｌ³ 、Ｌ⁴及びＬ⁵ は各々独立に、置換さ
れていてもよいメチン基を表し、Ｍ²⁺は、下記一般式
（II）又は（III ）で表される陽イオンを表し、ｍ及び
ｎは各々独立に０、１又は２を表し、ｘ及びｙは、各々
独立に０又は１を表す。〕

【００１２】

【化５】

【００１３】〔式中、Ｒ¹ 及びＲ² は各々独立に、アル
キル基、 アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を
表し、Ｒ³ 及びＲ⁴ は各々独立に置換基を表し、但し、
Ｒ¹とＲ³ 、Ｒ² とＲ⁴ 又はＲ³ とＲ⁴ は各々互いに連
結して環を形成しても良く、ｑ１及びｒ１は各々独立に
０〜４の整数を表し、そしてｑ１とｒ１の双方が２以上
の場合には、複数のＲ³ 及び複数のＲ⁴ は各々互いに同
じでもあっても異なっていてもよい。〕

【００１４】

【化６】

【００１５】〔式中、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は各々独立に、アル
キル基、 アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を
表し、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ は各々独立に置換基を表し、但し、
Ｒ⁵とＲ⁶ 、Ｒ⁵ とＲ⁷ 、Ｒ⁶ とＲ⁸ 又はＲ⁷ とＲ⁸ は
各々互いに連結して環を形成しても良く、ｑ２及びｒ２
は各々独立に０〜４の整数を表し、そしてｑ２とｒ２の
双方が２以上の場合には、複数のＲ⁷ 及び複数のＲ⁸ は
各々互いに同じでもあっても異なっていてもよい。〕

【００１６】本発明の光情報記録媒体は、以下の態様で
あることが好ましい。 （１）一般式（Ｉ−１）又は一般式（Ｉ−２）におい
て、ｍ、ｎが共に１であるか、あるいはｍが０でｎが
２、又はｍが２でｎが０である。 （２）一般式（Ｉ−１）または一般式（Ｉ−２）におい
て、Ｘ¹ が、＝０であり、Ｘ² が、−Ｏである。 （３）シクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリ
ウレタン樹脂が、（Ａ）１，４−シクロヘキサンジメタ
ノールと脂肪族ジカルボン酸とから得られたポリエステ
ルジオール、（Ｂ）二価のアルコール、そして（Ｃ）ジ
イソシアネートから得られたものである。 （４）シクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリ
ウレタン樹脂が、１，４−シクロヘキサンジメタノール
とアジピン酸及びアゼライン酸とから得られたポリエス
テルジオール、１，４−ブタンジオール及び／又は１，
４−シクロヘキサンジメタノール、そしてジフェニルメ
タンジイソシアネートから得られたものである。 （５）シクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリ
ウレタン樹脂が、３０〜１６０℃（更に好ましくは、４
０〜１６０℃）の範囲にガラス転移温度を持つ樹脂であ
る。 （６）シクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリ
ウレタン樹脂の添加量は、色素１００重量部に対して、
０．５〜２００重量部（更に好ましくは、１〜１００重
量部、特に好ましくは、２〜５０重量部、最も好ましく
は、３〜３０重量部）の範囲にある。 （７）金属反射層の上に更に保護層が形成されている。

【００１７】

【発明の実施の形態】本発明の光情報記録媒体は、その
色素記録層が、前記一般式（Ｉ−１）または一般式（Ｉ
−２）で表される色素化合物とシクロヘキサンジメタノ
ール系ポリエステルポリウレタン樹脂（以下単に、本発
明に係るポリエステルポリウレタン樹脂と称する場合が
ある。）とを含有することを特徴とするものである。ま
ず、シクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリウ
レタン樹脂について説明する。

【００１８】本発明に係るポリエステルポリウレタン樹
脂は公知の方法、例えば、「ポリウレタン樹脂ハンドブ
ック」（日刊工業新聞社、１９８７年刊）に記載の方法
を利用して製造することができる。即ち、シクロヘキサ
ンジメタノールを構成成分とするポリエステルジオール
と、必要に応じて二価のアルコールからなる鎖延長剤
と、更にジイソシアネートとを用いることによって製造
することができる。ポリエステルジオールの生成にシク
ロヘキサンジメタノールと組み合わせて使用される二塩
基酸の例としては、アジピン酸、アゼライン酸、及び
１，１２−ドデカンジカルボン酸などを含む脂肪族ジカ
ルボン酸を挙げることができる。これらは、単独である
いは混合して使用することができる。本発明では、二塩
基酸として、アジピン酸とアゼライン酸との混合物を使
用することが特に好ましい。シクロヘキサンジメタノー
ルとしては、１，４−シクロヘキサンジメタノールを使
用することが好ましい。ポリエステルジオールの水酸基
価は５０〜２５０の範囲にあることが好ましい。

【００１９】本発明に係るポリエステルポリウレタン樹
脂の製造には、二価のアルコールからなる鎖延長剤を添
加することが好ましい。鎖延長剤としては、例えば、エ
チレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブ
タンジオール、１，３−ブタンジオール、１，５−ペン
タンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シ
クロヘキサンジメタノールおよびヒドロキノンジ（β−
ヒドロキシルエチル）エーテルを含む二価のアルコール
を挙げることができる。これらは、単独であるいは混合
して使用することができる。中でも、１，４−ブタンジ
オール及び／又は１，４−シクロヘキサンジメタノール
を使用することが好ましい。１，４−シクロヘキサンポ
リエステルジオールと上記の鎖延長剤と併せた水酸基価
は１３０〜３００の範囲にあることが好ましい。

【００２０】上記ジイソシアネートとしては、例えば、
ヘキサメチレンジイソシアネート、トリジンジイソシア
ネート、イソホロンジイソシアネート、１，３−キシリ
レンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシア
ネート、シクロヘキサンジイソシアネート、トルイジン
ジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネー
ト、２，６−トリレンジイソシアネート、４，４’−ジ
フェニルメタンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイ
ソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、およ
び１，５−ナフタレンジイソシアネート等の脂肪族ジイ
ソシアネート、及び芳香族ジイソシアネートのいずれも
使用できる。なかでも、４，４’−ジフェニルメタンジ
イソシアネートが好ましい。本発明に係るポリエステル
ポリウレタン樹脂の製造には、これらのジイソアネート
を上記のポリエステルジオール及び鎖延長剤に対してモ
ル比で等量を添加することが好ましい。

【００２１】本発明に係るシクロヘキサンジメタノール
系ポリエステルポリウレタン樹脂のガラス転移温度（Ｔ
ｇ）は３０〜１６０℃の範囲にあることが好ましく、よ
り好ましくは４０〜１６０℃の範囲である。Ｔｇが３０
℃未満の場合には、記録後の高温・高湿下での保存中に
ピットの形状が変化し、再生特性が低下する原因になり
やすい。一方、Ｔｇが１６０℃を超えると記録層が熱変
形しにくく、感度が低下して記録時のレーザ光の照射量
がより必要になる。また、本発明に係るシクロヘキサン
ジメタノール系ポリエステルポリウレタン樹脂の分子量
は４００〜２０００００の範囲にあることが好ましい。
更に好ましくは、５０００〜１８００００の範囲、特に
好ましくは、５００００〜１５００００の範囲である。
分子量が４００未満では記録層中で樹脂が移動しやす
く、記録後の高温、高湿下での保存中にピットの形状が
変化し、再生特性が低下しやすくなる。一方、分子量が
２０００００を越える場合には、粘度が高くなり、記録
層材料の塗布時に厚みムラが発生する原因になる。

【００２２】本発明に係るシクロヘキサンジメタノール
系ポリエステルポリウレタン樹脂の添加量は、色素化合
物１００重量部に対して、０．５〜２００重量部（更に
好ましくは、１〜１００重量部、特に好ましくは、２〜
５０重量部、最も好ましくは、３〜３０重量部）の範囲
にあることが好ましい。添加量が、色素化合物１００重
量部に対して、０．５重量部未満では満足した効果が得
られにくく、２００重量部を超えると記録層の反射率が
低下し、記録再生特性が低下する原因になりやすい。な
お、従来公知の結合剤を本発明の光情報記録媒体の性能
が低下しない範囲で併用してもよい。

【００２３】次に、一般式（Ｉ−１）又は一般式（Ｉ-
２）で表される色素化合物について説明する。

【００２４】

【化７】

【００２５】〔式中、Ａ¹ 、Ａ² 、Ｂ¹ 及びＢ² は各々
独立に置換基を表し、Ｙ¹ 及びＺ¹は各々独立に、炭素
環もしくは複素環を形成するために必要な原子団を表
し、ＥおよびＧは各々独立に、共役二重結合鎖を完成す
るために必要な原子団を表し、Ｘ¹ は、＝Ｏ、＝ＮＲま
たは＝Ｃ（ＣＮ）₂ を表し、Ｘ² は、−Ｏ、−ＮＲ又は
−Ｃ（ＣＮ）₂ を表し（但し、Ｒは置換基を表す）、Ｌ
¹ 、Ｌ² 、Ｌ³ 、Ｌ⁴ 及びＬ⁵ は各々独立に、置換され
ていてもよいメチン基を表し、Ｍ²⁺は、下記一般式（I
I）又は（III ）で表される陽イオンを表し、ｍ及びｎ
は各々独立に０、１又は２を表し、ｘ及びｙは、各々独
立に０又は１を表す。〕

【００２６】

【化８】

【００２７】〔式中、Ｒ¹ 及びＲ² は各々独立にアルキ
ル基、 アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を表
し、Ｒ³ 及びＲ⁴ は各々独立に置換基を表し、但し、Ｒ
¹ とＲ³ 、Ｒ² とＲ⁴ 又はＲ³ とＲ⁴ は各々互いに連結
して環を形成しても良く、ｑ１及びｒ１は各々独立に０
〜４の整数を表し、そしてｑ１とｒ１の双方が２以上の
場合には、複数のＲ³ 及び複数のＲ⁴ は各々互いに同じ
であっても異なっていてもよい。〕

【００２８】

【化９】

【００２９】〔式中、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は各々独立にアルキ
ル基、 アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を表
し、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ は各々独立に置換基を表し、但し、Ｒ
⁵ とＲ⁶ 、Ｒ⁵ とＲ⁷ 、Ｒ⁶ とＲ⁸ 又はＲ⁷ とＲ⁸ は各
々互いに連結して環を形成しても良く、ｑ２及びｒ２は
各々独立に０〜４の整数を表し、そしてｑ２とｒ２の双
方が２以上の場合には、複数のＲ⁷ 及び複数のＲ⁸ は各
々互いに同じであっても異なっていてもよい。〕

【００３０】上記一般式（Ｉ−１）又は一般式（Ｉ-
２）で表される色素化合物は、アニオン性の部分（以
下、単にアニオン部と称する）とカチオン性の部分（以
下、単にカチオン部と称する）とからなる。まず、アニ
オン部について詳述する。上記式において、Ａ¹ 、Ａ
² 、Ｂ¹ 及びＢ² で表される置換基としては、例えば以
下のものを挙げることができる。炭素数１〜１８（好ま
しくは炭素数１〜８）の置換もしくは無置換の直鎖状、
分岐鎖状または環状のアルキル基（例、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチ
ル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、シクロヘキシル、メ
トキシエチル、エトキシカルボニルエチル、シアノエチ
ル、ジエチルアミノエチル、ヒドロキシエチル、クロロ
エチル、アセトキシエチル、トリフルオロメチル等）；
炭素数７〜１８（好ましくは炭素数７〜１２）の置換も
しくは無置換のアラルキル基（例、ベンジル、カルボキ
シベンジル等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２
〜８）のアルケニル基（例、ビニル等）；炭素数２〜１
８（好ましくは炭素数２〜８）のアルキニル基（例、エ
チニル等）；炭素数６〜１８（好ましくは炭素数６〜１
０）の置換もしくは無置換のアリール基（例、フェニ
ル、４−メチルフェニル、４−メトキシフェニル、４−
カルボキシフェニル、３, ５−ジカルボキシフェニル
等）；

【００３１】炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜
８）の置換もしくは無置換のアシル基（例、アセチル、
プロピオニル、ブタノイル、クロロアセチル等）；炭素
数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは
無置換のアルキルまたはアリールスルホニル基（例、メ
タンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル等）；炭素数
１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）のアルキルスルフ
ィニル基（例、メタンスルフィニル、エタンスルフィニ
ル、オクタンスルフィニル等）；炭素数２〜１８（好ま
しくは炭素数２〜８）のアルコキシカルボニル基（例、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等）；炭素数
７〜１８（好ましくは炭素数７〜１２）のアリールオキ
シカルボニル基（例、フェノキシカルボニル、４−メチ
ルフェノキシカルボニル、４−メトキシフェニルカルボ
ニル等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）
の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例えば、メトキ
シ、エトキシ、ｎ−ブトキシ、メトキシエトキシ等）；
炭素数６〜１８（好ましくは炭素数６〜１０）の置換も
しくは無置換のアリールオキシ基（例、フェノキシ、４
−メトキシフェノキシ等）；炭素数１〜１８（好ましく
は炭素数１〜８）のアルキルチオ基（例、メチルチオ、
エチルチオ等）；炭素数６〜１０のアリールチオ（例、
フェニルチオ等）；

【００３２】炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜
８）の置換もしくは無置換のアシルオキシ基（例、アセ
トキシ、エチルカルボニルオキシ、シクロヘキシルカル
ボニルオキシ、ベンゾイルオキシ、クロロアセチルオキ
シ等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の
置換もしくは無置換のスルホニルオキシ基（例、メタン
スルホニルオキシ等）；炭素数２〜１８（好ましくは炭
素数２〜８）の置換もしくは無置換のカルバモイルオキ
シ基（例、メチルカルバモイルオキシ、ジエチルカルバ
モイルオキシ等）；無置換のアミノ基、もしくは炭素数
１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換アミノ基
（例、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、アニリノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニ
ルアミノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミ
ノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボ
ニルアミノ、メチルカルバモイルアミノ、フェニルカル
バモイルアミノ、エチルチオカルバモイルアミノ、メチ
ルスルファモイルアミノ、フェニルスルファモイルアミ
ノ、アセチルアミノ、エチルカルボニルアミノ、エチル
チオカルボニルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミ
ノ、ベンゾイルアミノ、クロロアセチルアミノ、メタン
スルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノ等）；

【００３３】炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜
８）の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例、無置
換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバ
モイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモ
イル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイ
ル、ピロリジノカルバモイル等）；無置換のスルファモ
イル基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１
〜８）の置換スルファモイル基（例、メチルスルファモ
イル、フェニルスルファモイル等）；ハロゲン原子
（例、フッ素、塩素、臭素等）；水酸基；ニトロ基；シ
アノ基；カルボキシル基；ヘテロ環基（例、オキサゾー
ル環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチ
アゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、
インドレニン環、ピリジン環、モルホリン環、ピペリジ
ン環、ピロリジン環、スルホラン環、フラン環、チオフ
ェン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、クマ
リン環など）。

【００３４】Ａ¹ 及びＡ² で表される置換基は、ハメッ
トの置換基定数（σp ）値が０．２以上のものであるこ
とが好ましい。ハメットの置換基定数は例えば、Ｃｈｅ
ｍ．Ｒｅｖ．９１，１６５（１９９１）に記載されてい
る。特に好ましい置換基は、シアノ基、ニトロ基、アル
コキシカルボニル基、アシル基、カルバモイル基、スル
ファモイル基、アルキルスルホニル基及びアリールスル
ホニル基である。

【００３５】Ｂ¹ 及びＢ² で表される置換基は、アルキ
ル基、アリール基、アルコキシ基、又はアミノ基である
ことが好ましい。

【００３６】Ｙ¹ に結合する〔−Ｃ（＝Ｌ¹ ）−（Ｅ）
x −Ｃ（＝Ｘ¹ ）−〕（以下、便宜的に、Ｗ１と称す
る。）と、Ｚ¹ に結合する〔−Ｃ（−Ｌ⁵ ）＝（Ｇ）y
＝Ｃ（−Ｘ^{2 -} ) −〕（以下、便宜的に、Ｗ２と称す
る）とはそれぞれ共役状態にあるため、Ｙ¹ とＷ１とで
形成される炭素環もしくは複素環、及びＺ¹ とＷ２とで
形成される炭素環もしくは複素環はそれぞれ共鳴構造の
１つとして考えられる。上記Ｙ¹ とＷ１、及びＺ¹ とＷ
２とで形成される炭素環もしくは複素環は、４〜７員環
が好ましく、特に好ましくは、５員環または６員環であ
る。これらの環は更に他の４〜７員環と縮合環を形成し
ていても良い。またこれらは置換基を有していてもよ
い。置換基としては、例えば、Ａ¹ 、Ａ² 、Ｂ¹ 及びＢ
² で表される置換基として示したものが挙げられる。複
素環を形成するヘテロ原子として好ましいものは、Ｂ、
Ｎ、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、及びＴｅである。特に好ましくは、
Ｎ、Ｏ及びＳである。ｘ及びｙは、それぞれ独立に０ま
たは１であり、好ましくは共に０である。

【００３７】Ｘ¹ は、＝Ｏ、＝ＮＲ又は＝Ｃ（ＣＮ）₂
を表す。またＸ² は、−Ｏ、−ＮＲ又は−Ｃ（ＣＮ）₂
を表す。Ｒは置換基を表す。Ｒで表される置換基は、前
述したＡ¹ 、Ａ² 、Ｂ¹ 及びＢ² で表される置換基とし
て示したものが挙げられる。Ｒは、アリール基であるこ
とが好ましい。特に好ましくはフェニルである。本発明
においては、Ｘ¹ は、＝Ｏであり、またＸ² は、−Ｏで
ある場合が好ましい。

【００３８】Ｙ¹ とＷ１、およびＺ¹ とＷ２で形成され
る炭素環としては例えば、以下のものが挙げられる。な
お、例示中、Ｒa 及びＲb は各々独立に、水素原子また
は置換基を表す。

【００３９】

【化１０】

【００４０】好ましい炭素環は、Ａ−１、及びＡ−４で
示される炭素環である。特にＡ−１で示される炭素環が
好ましい。

【００４１】Ｙ¹ とＷ１、およびＺ¹ とＷ２で形成され
る複素環としては例えば、以下のものが挙げられる。な
お、例示中、Ｒa 、Ｒb 及びＲc は各々独立に、水素原
子または置換基を表す。

【００４２】

【化１１】

【００４３】

【化１２】

【００４４】

【化１３】

【００４５】

【化１４】

【００４６】

【化１５】

【００４７】好ましい複素環は、Ａ−５、Ａ−６、Ａ−
７、Ａ−９、及びＡ−４２で示される複素環である。特
にＡ−４２で示される複素環が好ましい。Ｒa 、Ｒb 及
びＲc で表される置換基は、前記Ａ¹ 、Ａ² 、Ｂ¹ 及び
Ｂ² で表される置換基として挙げたものと同義である。
またＲa 、Ｒb 及びＲc はそれぞれ互いに連結して炭素
環又は複素環を形成してもよい。

【００４８】Ｌ¹ 、Ｌ² 、Ｌ³ 、Ｌ⁴ 及びＬ⁵ で表され
るメチン基は各々独立に、置換基を有していてもよいメ
チン基である。その置換基としては、例えば、前述した
Ａ¹、Ａ² 、Ｂ¹ 及びＢ² で表される置換基の例が挙げ
られる。好ましい置換基は、アルキル基、アラルキル
基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、ハロゲン原子、アミノ
基、カルバモイル基及びヘテロ環基である。又置換基同
志が連結して５〜７員環（例、シクロペンテン環、１−
ジメチルアミノシクロペンテン環、１−ジフェニルアミ
ノシクロペンテン環、シクロヘキセン環、１−クロロシ
クロヘキセン環、イソホロン環、１−モルホリノシクロ
ペンテン環、シクロヘプテン環）を形成してもよい。本
発明においては、ｍ及びｎが共に１であるか、あるいは
ｍが０でｎが２、又はｍが２でｎが０である場合が好ま
しい。

【００４９】次に、カチオン部について詳述する。Ｍ²⁺
で表される陽イオンは、下記一般式（II）または一般式
(III）で示されるものである。

【００５０】

【化１６】

【００５１】

【化１７】

【００５２】式中、Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は各々独
立に、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基または
アリール基を表す。Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ は、各々
独立に置換基（置換原子を含む）を表す。Ｒ³ とＲ⁴ 、
Ｒ⁵ とＲ⁶ 、そしてＲ⁷ とＲ⁸ は、それぞれが互いに連
結して環を形成してもよく、あるいはまたＲ¹ とＲ³、
Ｒ² とＲ⁴ 、Ｒ⁵ とＲ⁷ 、そしてＲ⁶ とＲ⁸ は、それぞ
れが互いに連結して環を形成してもよい。ｑ１及びｑ
２、そしてｒ１及びｒ２はそれぞれ０から４の整数を表
し、ｑ１、ｑ２、ｒ１及びｒ２が各々２以上の場合に
は、それらの複数のＲ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ はそれぞ
れ互いに同じであっても異なってもよい。

【００５３】Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ で表されるア
ルキル基は、炭素数１〜１８の置換もしくは無置換のア
ルキル基が好ましく、より好ましくは炭素数１〜８の置
換もしくは無置換のアルキル基であり、例えば、メチ
ル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチ
ル、イソブチル、ｎ−ヘキシル等が挙げられる。

【００５４】アルキル基の置換基の例としては、以下の
ものを挙げることができる。ハロゲン原子（例、Ｆ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ等）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜
８）の置換もしくは無置換のアルコキシ基（例、メトキ
シ、エトキシ）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換
のアリールオキシ基（例、フェノキシ、ｐ−メトキシフ
ェノキシ）；炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜
８）の置換もしくは無置換のアルキルチオ基（例、メチ
ルチオ、エチルチオ）；炭素数６〜１０の置換もしくは
無置換のアリールチオ基（例、フェニルチオ）；炭素数
２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置換もしくは無
置換のアシル基（例、アセチル、プロピオニル）；炭素
数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換もしくは
無置換のアルキルスルホニル基またはアリールスルホニ
ル基（例、メタンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニ
ル）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置
換もしくは無置換のアシルオキシ基（例、アセトキシ、
プロピオニルオキシ）；炭素数２〜１８（好ましくは炭
素数２〜８）の置換もしくは無置換のアルコキシカルボ
ニル基（例、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル）；炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜８）の置
換もしくは無置換のアルケニル基（例、ビニル）；

【００５５】炭素数２〜１８（好ましくは炭素数２〜
８）の置換もしくは無置換のアルキニル基（例、エチニ
ル）；炭素数６〜１０の置換もしくは無置換のアリール
基（例、フェニル、ナフチル）；炭素数７〜１１の置換
もしくは無置換のアリールオキシカルボニル基（例、ナ
フトキシカルボニル）；無置換のアミノ基、もしくは炭
素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜８）の置換アミノ
基（例、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミ
ノ、アニリノ、メトキシフェニルアミノ、クロロフェニ
ルアミノ、ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミ
ノ、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボ
ニルアミノ、メチルカルバモイルアミノ、エチルチオカ
ルバモイルアミノ、フェニルカルバモイルアミノ、アセ
チルアミノ、エチルカルボニルアミノ、エチルチオカル
バモイルアミノ、シクロヘキシルカルボニルアミノ、ベ
ンゾイルアミノ、クロロアセチルアミノ、メチルスルホ
ニルアミノ）；

【００５６】炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜
８）の置換もしくは無置換のカルバモイル基（例、無置
換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカルバ
モイル、ｎ−ブチルカルバモイル、ｔ−ブチルカルバモ
イル、ジメチルカルバモイル、モルホリノカルバモイ
ル、ピロリジノカルバモイル）；無置換のスルファモイ
ル基、もしくは炭素数１〜１８（好ましくは炭素数１〜
８）の置換スルファモイル基（例、メチルスルファモイ
ル、フェニルスルファモイル）；シアノ基；ニトロ基；
カルボキシ基；水酸基；ヘテロ環基（例、オキサゾール
環、ベンゾオキサゾール環、チアゾール環、ベンゾチア
ゾール環、イミダゾール環、ベンゾイミダゾール環、イ
ンドレニン環、ピリジン環、ピペリジン環、ピロリジン
環、モルホリン環、スルホラン環、フラン環、チオフェ
ン環、ピラゾール環、ピロール環、クロマン環、クマリ
ン環）。

【００５７】Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ で表されるア
ルケニル基は、炭素数２〜１８の置換もしくは無置換の
アルケニル基が好ましく、より好ましくは炭素数２〜８
の置換もしくは無置換のアルケニル基であり、例えば、
ビニル、アリル、１−プロペニル、１，３−ブタジエニ
ル等が挙げられる。アルケニル基の置換基としては、前
記アルキル基の置換基として挙げたものが好ましい。

【００５８】Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ で表されるア
ルキニル基は、炭素数２〜１８の置換もしくは無置換の
アルケニル基が好ましく、より好ましくは炭素数２〜８
の置換もしくは無置換のアルケニル基であり、例えば、
エチニル、２−プロピニル等が挙げられる。アルキニル
基の置換基は、前記アルキル基の置換基として挙げたも
のが好ましい。

【００５９】Ｒ¹ 、Ｒ² 、Ｒ⁵ およびＲ⁶ で表されるア
リール基は、炭素数６〜１８の置換もしくは無置換のア
リール基が好ましく、例えば、フェニル、ナフチル等が
挙げられる。アリール基の置換基は前記アルキル基の置
換基として挙げたものが好ましい。またこれらの他に、
アルキル基（例えば、メチル、エチル等）も好ましい。

【００６０】Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ で表される置換
基は、前記Ａ¹ 、Ａ² 、Ｂ¹ およびＢ² で表される置換
基の例と同義である。本発明においては、Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、
Ｒ⁷及びＲ⁸ で表される置換基は、水素原子またはアル
キル基であることが好ましい。特に好ましくは、水素原
子である。

【００６１】本発明においては、Ｒ⁵ とＲ⁶ が互いに連
結して環を形成している場合が好ましい。形成される環
は５〜７員環が好ましく、より好ましくは６員環であ
る。またＲ³ とＲ⁴ 、及びＲ⁷ とＲ⁸ はそれぞれ互いに
連結して炭素環または複素環を形成している場合も好ま
しい。更に好ましくは炭素環であり、特に好ましくは、
Ｒ³ 、Ｒ⁴ 、Ｒ⁷ 及びＲ⁸ がそれぞれ結合しているピリ
ジン環との縮合芳香環である。

【００６２】本発明で用いられる一般式（Ｉ−１）又は
（Ｉ−２）で表される色素化合物のアニオン部とカチオ
ン部について以下に具体的に記載する。

【００６３】

【化１８】

【００６４】

【化１９】

【００６５】

【化２０】

【００６６】

【化２１】

【００６７】

【化２２】

【００６８】

【化２３】

【００６９】

【化２４】

【００７０】

【化２５】

【００７１】

【化２６】

【００７２】

【化２７】

【００７３】

【化２８】

【００７４】

【化２９】

【００７５】

【化３０】

【００７６】

【化３１】

【００７７】

【化３２】

【００７８】

【化３３】

【００７９】

【化３４】

【００８０】

【化３５】

【００８１】

【化３６】

【００８２】

【化３７】

【００８３】

【化３８】

【００８４】

【化３９】

【００８５】

【化４０】

【００８６】

【化４１】

【００８７】本発明で用いられる好ましい具体的な化合
物例を下記の表１に示す。表１において、化合物例は、
アニオン部とカチオン部とを組み合わせてなるものであ
る。

【００８８】

【表１】 表１ ────────────────────────────────── 化合物 化合物 番号 アニオン部 カチオン部 番号 アニオン部 カチオン部 ────────────────────────────────── １ Ｂ−３ Ｃ−２１ ２ Ｂ−３ Ｃ−１９ ３ Ｂ−３ Ｃ− ４ ４ Ｂ−３ Ｃ− ５ ５ Ｂ−３ Ｃ− ６ ６ Ｂ−３ Ｃ−２３ ７ Ｂ−３ Ｃ−２４ ８ Ｂ−３ Ｃ− ８ ９ Ｂ−３ Ｃ−２８ １０ Ｂ−６ Ｃ−１９ ────────────────────────────────── １１ Ｂ−６ Ｃ−２１ １２ Ｂ−６ Ｃ−２３ １３ Ｂ−６ Ｃ−２４ １４ Ｂ−７４ Ｃ−１９ １５ Ｂ−７４ Ｃ−２１ １６ Ｂ−７４ Ｃ−２３ １７ Ｂ−７４ Ｃ−２４ １８ Ｂ−１１１ Ｃ−１９ １９ Ｂ−１１１ Ｃ−２１ ２０ Ｂ−１１１ Ｃ−２３ ────────────────────────────────── ２１ Ｂ−１１１ Ｃ−２４ ２２ Ｂ−１１１ Ｃ− ５ ２３ Ｂ−１１１ Ｃ−２８ ２４ Ｂ−９８ Ｃ−２３ ２５ Ｂ−１２１ Ｃ−２１ ──────────────────────────────────

【００８９】本発明に係る一般式（Ｉ−１）又は一般式
（Ｉ−２）で表される色素化合物は、下記の一般式(IV
−１）又は一般式(IV −２）で表される色素化合物のア
ルカリ金属塩（例、Ｌｉ塩、Ｎａ塩、Ｋ塩など）、アン
モニウム塩（ＮＨ⁴⁺塩）、あるいはトリエチルアンモニ
ウム塩（Ｅｔ₃ ＮＨ⁺ 塩）などの塩化合物とＭ²⁺をカチ
オン部とする塩との水または有機溶媒中（メタノール、
エタノール、イソプロパノール、ジメチルホルムアミド
など）における塩交換反応によって容易に合成できる。

【００９０】

【化４２】

【００９１】式中、Ａ³ 及びＡ⁴ 、Ｂ³ 及びＢ⁴ 、Ｙ２
及びＺ２、並びにＬ⁶ 、Ｌ７、Ｌ⁸、Ｌ⁹ およびＬ¹⁰、
Ｘ³ 及びＸ⁴ 、Ｅ１及びＧ１、ｍ１及びｎ２、並びにｘ
１及びｙ１は、それぞれ前述した一般式（Ｉ−１）また
は一般式（Ｉ−２）におけるＡ¹ 、Ａ² 、Ｂ¹ 及びＢ
² 、Ｙ¹ およびＺ¹ 、Ｌ¹ 、Ｌ² 、Ｌ³ 、Ｌ⁴ 及び
Ｌ⁵、Ｘ¹ 及びＸ² 、Ｅ及びＧ、ｍ及びｎ、並びにｘ及
びｙとそれぞれ同義である。

【００９２】なお、一般式(IV −１）および一般式(IV
−２）で表される色素化合物は、一般に該当する活性メ
チレン化合物（例、ピラゾロン、チオバルビツール酸、
バルビツール酸、インダンジオン、ヒドロキシフェナレ
ンオン等）とメチン染料にメチン基またはポリメチン基
を導入するためのメチン源との縮合反応によって合成す
ることができる。この種の化合物についての詳細は、特
公昭３９−２２０６９号、同４３−３５０４号、同５２
−３８０５６号、同５４−３８１２９号、同５５−１０
０５９号、同５８−３５５４４号、特開昭４９−９９６
２０号、同５２−９２７１６号、同５９−１６８３４
号、同６３−３１６８５３号、及び同６４−４０８２７
号各公報、並びに英国特許第１１３３９８６号、米国特
許第３２４７１２７号、同４０４２３９７号、同４１８
１２２５号、同５２１３９５６号、及び同５２６０１７
９号各明細書を参照することができる。具体的には、モ
ノメチン基の導入には、オルトギ酸エチル、オルト酢酸
エチルなどのオルトエステル類またはＮ，Ｎ−ジフェニ
ルホルムアミジン塩酸塩等が、トリメチン鎖の導入に
は、トリメトキシプロペン、１，１，３，３−テトラメ
トキシプロパンまたはマロンアルデヒドジアニル塩酸塩
（あるいはこれらの誘導体）等が、またペンタメチン鎖
の導入には、グルタコンアルデヒドジアニル塩酸塩また
は１−（２，４−ジニトロフェニル）−ピリジニウムク
ロリド（あるいはこれらの誘導体）等がそれぞれ使用さ
れる。

【００９３】本発明に係る上記一般式（Ｉ−１）又は
（Ｉ−２）で表される色素化合物は、それぞれ単独で用
いても良いし、あるいはまたそれぞれについて二種以上
を併用しても良い。また、一般式（Ｉ−１）で表される
色素化合物と一般式（Ｉ−２）で表される色素化合物と
を併用してもよい。あるいはまた本発明に係る色素化合
物と従来から公知の色素化合物を併用してもよい。

【００９４】なお、本発明に係る一般式（Ｉ−１）又は
一般式（Ｉ−２）で表される色素化合物は、既に公知の
下記の文献の記載を参考にして容易に合成することがで
きる。これらの文献としては、たとえば、エフ・エム・
ハーマー著「ザ・シアニン・ダイズ・アンド・リレイテ
ッド・コンパウンズ５（インターサイエンス・パブリシ
ャーズ、Ｎ．Ｙ．１９６４年）５５頁以降；ニコライ・
チュチュルコフ、ユルゲン・ファビアン、アキム・メー
ルホルン、フィリッツ・ディエツ、アリア・タジエール
（Nikolai Tyutyulkov, Jurgen Fabian, Achim Ulehlho
rn, Fritz Dietz, Alia Tadjer）共著「ポリメチン・ダ
イズ」、セントクリメント・オーリズキ・ユニバシティ
・プレス、ソフィア（St. Kliment Ohridski Universit
y Press,Sophia ）、２３頁ないし３８頁；デー・エム
・スターマー（D.M.Sturmer ）著、「ヘテロサイクリッ
ク、コンパウンズ−スペシャル・トピックス・イン・ヘ
テロサイクリック・ケミストリー（Heterocyclic Compo
unds-Special topics in heterocyclic chemistry
）」、第１８章、第１４節、第４８２〜５１５頁、ジ
ョン・ウィリー・アンド・サンズ（John Wiley & Sons
）社、ニューヨーク、ロンドン、（１９７７年刊）；
「ロッズ・ケミストリー・オブ・カーボン・コンパウン
ズ（Rodd's Chemistry of Carbon Compounds）」、（2n
d.Ed.vol.IV,part B,１９７７年刊）、第１５章、第３
６９〜４２２頁、（2nd.Ed.vol.IV,part B, １９８５年
刊）、第１５章、第２６７〜２９６頁、エルスバイヤー
・サイエンス・パブリック・カンパニー・インク（Elsv
ier Science Public Company Inc. ）、ニューヨークな
どが挙げられる。

【００９５】本発明の光情報記録媒体の色素記録層は、
更に、退色防止剤として下記の一般式（Ａ１）及び式
（Ａ２）で表される化合物を含有していることが好まし
い。

【００９６】

【化４３】

【００９７】上記一般式（Ａ１）において、Ｒ¹¹、Ｒ¹²
は各々独立に炭化水素基を表す。炭化水素基は、炭素数
１〜１８（更に好ましくは、１〜１０、特に１〜６）の
直鎖状、分枝鎖状、又は環状の、無置換のアルキル基が
好ましい。更に好ましくは、炭素数１〜１０（更に好ま
しくは炭素数１〜６）の直鎖状又は分枝鎖状の無置換の
アルキル基であり、これらの例としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、te
rt−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル及びデシル
を挙げることができる。一般式（Ａ１）で表される化合
物の好ましい具体例を以下に記載する。

【００９８】

【化４４】

【００９９】上記一般式（Ａ１）又は式（Ａ２）で表さ
れる化合物は、それぞれ単独で使用しても良いし、ある
いは併用しても良い。前記一般式（Ａ１）又は式（Ａ
２）で表される化合物の使用量は、色素１００重量部に
対して、通常０．１〜５０重量部の範囲であり、好まし
くは、０．５〜４５重量部の範囲、更に好ましくは、３
〜４０重量部の範囲、特に５〜２５重量部の範囲であ
る。

【０１００】本発明の光情報記録媒体は、前記一般式
（Ｉ−１）で示される色素化合物及び／又は一般式（Ｉ
−２）で示される色素化合物と前記シクロヘキサンジメ
タノール系ポリエステルポリウレタン樹脂を含む色素記
録層、そして金属反射層をこの順に透明基板上に設けら
れてなるものである。金属反射層の上には、更に保護層
が設けられていることが好ましい。以下に、これらの構
成要件を順に説明する。

【０１０１】透明基板は、従来の光情報記録媒体の基板
として用いられている各種の材料から任意に選択するこ
とができる。基板材料としては、例えばガラス、ポリカ
ーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹
脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニ
ル系樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィン
およびポリエステルなどを挙げることができ、所望によ
りそれらを併用しても良い。なお、これらの材料はフィ
ルム状としてまたは剛性のある基板として使うことがで
きる。上記材料の中では、耐湿性、寸法安定性および価
格などの点からポリカーボネートが好ましい。

【０１０２】記録層が設けられる側の基板表面には、平
面性の改善、接着力の向上および記録層の変質防止の目
的で、下塗層が設けられてもよい。下塗層の材料として
は例えば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸−メ
タクリル酸共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合
体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、スチレン−ビニルトルエン共重合体、クロルスル
ホン化ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニ
ル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミ
ド、酢酸ビニル−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸
ビニル共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート等の高分子物質、およびシランカップリン
グ剤などの表面改質剤を挙げることができる。

【０１０３】下塗層は、上記物質を適当な溶剤に溶解ま
たは分散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピ
ンコート、ディップコート、エクストルージョンコート
などの塗布法により基板表面に塗布することにより形成
することができる。下塗層の層厚は一般に０．００５〜
２０μｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍ
の範囲である。

【０１０４】基板（または下塗層）上には、トラッキン
グ用溝またはアドレス信号等の情報を表わす凹凸（グル
ーブ）が形成されていることが好ましい。このグルーブ
は、ポリカーボネートなどの樹脂材料を射出成形あるい
は押出成形する際に直接基板上に形成することが好まし
い。

【０１０５】またグルーブの形成は、グルーブ層を設け
ることにより行ってもよい。グルーブ層の材料として
は、アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエス
テルおよびテトラエステルのうちの少なくとも一種のモ
ノマー（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物
を用いることができる。

【０１０６】グルーブ層の形成は、例えば、まず精密に
作られた母型（スタンパ）上に上記のアクリル酸エステ
ルおよび重合開始剤からなる混合液を塗布し、さらにこ
の塗布液層上に基板を載せたのち、基板または母型を介
して紫外線を照射することにより塗布層を硬化させて基
板と塗布層とを固着させる。次いで、基板を母型から剥
離することにより得ることができる。グルーブ層の層厚
は一般に、０．０５〜１００μｍの範囲にあり、好まし
くは０．１〜５０μｍの範囲である。

【０１０７】グルーブの深さは１０〜３００ｎｍの範囲
にあることが好ましく、またその半値幅は、０．２〜
０．９μｍの範囲にあることが好ましい。またグルーブ
層の深さを１５０〜２００ｎｍの範囲にすることにより
反射率を殆ど低下させることなく感度を向上させること
ができ、特に好ましい。従って、このような深いグルー
ブの基板に色素の記録層および金属反射層が形成された
光ディスクは、高い感度を有することから、低いレーザ
ーパワーでも記録が可能となり、これにより安価な半導
体レーザの使用が可能となる、あるいは半導体レーザの
使用寿命を延ばすことができる等の利点を有する。

【０１０８】このような基板（又は下塗り層）の表面
（グルーブが形成されている場合は、その表面上）に
は、本発明の特徴とする前記一般式（Ｉ−１）で示され
る色素化合物及び／又は一般式（Ｉ−２）で示される色
素化合物と前記シクロヘキサンジメタノール系ポリエス
テルポリウレタン樹脂を含む色素記録層が設けられる。
色素記録層の形成は、前記式で示される色素化合物、特
定の組成からなるポリウレタン樹脂、及び好ましくは、
前記の退色防止剤を加え、これらを溶剤に溶解して塗布
液を調製し、次いでこの塗布液を基板表面に塗布して塗
膜を形成したのち乾燥することにより行なうことができ
る。なお、塗布液中には更に酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、
可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加し
てもよい。

【０１０９】色素層塗布液の溶剤としては、酢酸ブチ
ル、セロソルブアセテートなどのエステル；メチルエチ
ルケトン、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン
などのケトン；ジクロルメタン、１，２−ジクロルエタ
ン、クロロホルムなどの塩素化炭化水素；ジメチルホル
ムアミドなどのアミド；シクロヘキサンなどの炭化水
素；テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン
などのエーテル；エタノール、ｎ−プロパノール、イソ
プロパノール、ｎ−ブタノール、ジアセトンアルコール
などのアルコール；２，２，３，３−テトラフルオロプ
ロパノールなどのフッ素系溶剤；エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、プロピレングリコールモノメチルエーテルなどの
グリコールエーテル類などを挙げることができる。上記
溶剤は使用する色素の溶解性を考慮して単独または二種
以上を適宜併用することができる。

【０１１０】このようにして調製される塗布液の色素の
濃度は一般に０．０１〜１０重量％の範囲にあり、好ま
しくは０．１〜５重量％の範囲にある。塗布方法として
は、スプレー法、スピンコート法、ディップ法、ロール
コート法、ブレードコート法、ドクターロール法、スク
リーン印刷法などを挙げることができる。色素記録層は
単層でも重層でもよい。色素記録層の層厚は一般に２０
〜５００ｎｍの範囲にあり、好ましくは５０〜３００ｎ
ｍの範囲にある。また、色素記録層は基板の片面のみな
らず両面に設けられていてもよい。

【０１１１】上記色素記録層の上には、情報の再生時に
おける反射率の向上の目的で、金属反射層が設けられ
る。金属反射層の材料である光反射性物質は、レーザ光
に対する反射率が高い物質であり、その例としては、Ｍ
ｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃ
ｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｒｕ、
Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃ
ｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐ
ｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属及び半金属あるいはステンレ
ス鋼を挙げることができる。これらのうちで好ましいも
のは、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌおよ
びステンレス鋼である。これらの物質は単独で用いても
よいし、あるいは二種以上の組合せで、または合金とし
て用いてもよい。特に好ましくはＡｕである。

【０１１２】金属反射層は、例えば、上記光反射性物質
を蒸着、スパッタリングまたはイオンプレーティングす
ることにより記録層の上に形成することができる。金属
反射層の層厚は、一般的には１０〜８００ｎｍの範囲に
あり、好ましくは２０〜５００ｎｍの範囲、更に好まし
くは５０〜３００ｎｍの範囲である。また色素記録層の
厚さ（Ｒａ）と金属反射層の厚さ（Ｒｂ）との比（層厚
比）は、通常０．０１≦Ｒａ／Ｒｂ≦５０（好ましく
は、０．０５≦Ｒａ／Ｒｂ≦４０、更に好ましくは、
０．０８≦Ｒａ／Ｒｂ≦２５、特に好ましくは、０．０
８≦Ｒａ／Ｒｂ≦１５）の範囲である。

【０１１３】金属反射層の上には、色素記録層などを物
理的および化学的に保護する目的で保護層を設けること
が好ましい。この保護層は、基板の色素記録層が設けら
れていない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設ける
こともできる。保護層に用いられる材料の例としては、
ＳｉＯ、ＳｉＯ₂ 、ＭｇＦ₂ 、ＳｎＯ₂ 、Ｓｉ₃ Ｎ₄等
の無機物質、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線硬化
性樹脂等の有機物質を挙げることができる。保護層は、
例えば、プラスチックの押出加工で得られたフィルムを
接着剤を介して金属反射層上及び／または基板上に積層
することにより形成することができる。あるいは真空蒸
着、スパッタリング、塗布等の方法により設けられても
よい。また、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂の場合には、
これらを適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、
この塗布液を塗布し、乾燥することによっても形成する
ことができる。紫外線硬化性樹脂の場合には、そのまま
もしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこ
の塗布液を塗布し、紫外線光を照射して硬化させること
によっても形成することができる。これらの塗布液中に
は、更に帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤等の各
種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の層厚
は一般には０．１〜１００μｍの範囲にある。

【０１１４】本発明の光情報記録媒体は、上述した構成
からなる単板であってもよいが、あるいは更に上記構成
を有する二枚の基板を記録層が内側となるように向い合
わせ、接着剤等を用いて接合することにより、貼り合せ
タイプの光情報記録媒体とすることもできる。あるいは
また、二枚の円盤状基板のうちの少なくとも一方に上記
構成を有する基板を用いて、リング状内側スペーサとリ
ング状外側スペーサとを介して接合することにより、エ
アーサンドイッチタイプの光情報記録媒体とすることも
できる。本発明の光情報記録媒体は上記のような方法で
製造することができる。

【０１１５】このようにして得られる光情報記録媒体
は、高い反射率を示すため、市販のＣＤプレーヤで再生
することができる。レーザ光による情報の記録再生方法
は、上記光情報記録媒体を用いて、例えば、次のように
行われる。まず、光情報記録媒体を定線速度（ＣＤフォ
ーマットの場合は１．２〜１．４ｍ／秒）または定角速
度にて回転させながら、基板側から半導体レーザ光など
の記録用の光を照射する。この光の照射により、色素記
録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度上昇
し、物理的あるいは化学的な変化（例えば、ピットの生
成）が生じてその光学的特性を変えることにより情報が
記録されると考えられる。記録光としては５００ｎｍ〜
８５０ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザービ
ームが用いられる。用いられるレーザービーム波長は好
ましくは５００〜８００ｎｍの範囲である。特に、ＣＤ
−Ｒ型の光情報記録媒体においては、７７０〜７９０ｎ
ｍの範囲の波長が適している。上記のように記録された
情報の再生は、光情報記録媒体を上記と同一の定線速度
で回転させながら半導体レーザ光を基板側から照射し
て、その反射光を検出することにより行うことができ
る。

【０１１６】

【実施例】以下に、実施例及び比較例を示す。 〔実施例１及び実施例２〕下記の表２に示す本発明に係
る色素化合物（実施例１：化合物番号２４、実施例２：
化合物番号２５）と、該色素化合物１００重量部に対し
て１０重量部の下記組成のシクロヘキサンジメタノール
系ポリエステルポリウレタン樹脂（モートン社製 商品
名：モルセンＣＡ１３９：結合剤）および１０重量部の
前記式（Ａ１−１：ｎ＝０）で示される褪色防止剤とを
２，２，３，３−テトラフルオロプロパノールに溶解し
て記録層形成用塗布液を調製した。この塗布液の色素の
濃度は２．７重量％であった。 シクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポリウレタ
ン樹脂（商品名：モルセンＣＡ１３９） 組成：１，４−シクロヘキサンジメタノール／１，４−
ブタンジオール／アジピン酸／アゼライン酸／４，４’
−ジフェニルメタンジイソシアネート＝０．８／１．７
／１．２／０．２／１（モル比） 分子量：１０００００ ガラス転移温度：４３℃

【０１１７】この塗布液を、表面にスパイラル状のプレ
グルーブ（トラックピッチ：１．６μｍ、プレグルーブ
幅：０．４μｍ、プレグルーブの深さ：０．１６μｍ）
が射出成型により形成されたポリカーボネートからなる
直径：１２０ｍｍ、厚さ：１．２ｍｍの基板（帝人
（株）製：パンライトＡＤ５５０３）のプレグルーブ側
の表面に、回転数３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍまで変
化させながらスピンコートにより塗布し、プレグルーブ
内の底部からの厚さが２００ｎｍの色素記録層を形成し
た。次に、色素記録層の表面に金をスパッタリングして
金属反射層を形成した。更に該金属反射層上に紫外線硬
化性樹脂（大日本インキ化学工業（株）製、ＳＤ−２２
０）を回転数を３００ｒｐｍ〜４０００ｒｐｍまで変化
させながらスピンコートにより塗布した。塗布後、その
上から高圧水銀灯により紫外線を照射し、硬化させて紫
外線硬化した樹脂層厚８μｍの保護層を形成した。以上
の工程により、基板、色素記録層、金属反射層および保
護層からなる本発明に従うＣＤ−Ｒ型の光デイスクを製
造した。

【０１１８】〔比較例１〕実施例１において、色素記録
層形成用塗布液に、結合剤を添加しなかった以外は同様
の方法で比較用の光デイスクを作製した。

【０１１９】〔比較例２〕実施例１において、結合剤を
用いず、かつ色素を下記のシアニン色素（ａ）に変更し
た以外は同様にして比較用の光デイスクを作製した。

【０１２０】

【化４５】

【０１２１】〔比較例３〕色素記録層の形成に際して、
結合剤を下記組成の比較用のポリウレタン樹脂に変えた
以外は実施例２と同様の方法で比較用の光デイスクを作
製した。 比較用ポリウレタン樹脂： 組成：ネオペンチルグリコール／エチレングリコール／
プロピレングリコール／フタル酸／４，４’−ジフェニ
ルメタンジイソシアネート＝３．２／２．８／１０／３
／１（モル比） 分子量：４００００

【０１２２】〔比較例４〕色素記録層の形成に際して、
色素を、前記比較例２に用いたシアニン色素（ａ）に、
結合剤を上記比較例３で用いた上記組成の比較用のポリ
ウレタン樹脂にそれぞれ変えた以外は実施例１と同様の
方法で比較用の光デイスクを作製した。

【０１２３】〔比較例５〕色素記録層の形成に際して、
結合剤をセルロースジアセテート（ＤＡＣ）（分子量：
１７００００）変えた以外は実施例２と同様の方法で比
較用の光デイスクを作製した。

【０１２４】〔比較例６〕色素記録層の形成に際して、
色素を、前記比較例２で用いたシアニン色素（ａ）に、
結合剤をセルロースジアセテート（ＤＡＣ）（分子量：
１７００００）にそれぞれ変えた以外は実施例１と同様
の方法で比較用の光デイスクを作製した。

【０１２５】〔光情報記録媒体としての評価〕実施例及
び比較例で得られた光デイスクの保存耐久性と耐光性を
下記の方法で測定した。 （１）保存耐久性 得られた光デイスクに波長７８０ｎｍ、線速度１．２ｍ
／秒で３ＴのＥＦＭ信号をレーザーパワーを４ｍＷ〜９
ｍＷまで変化させて記録した。その後、光デイスクを９
０℃、９０％ＲＨの環境条件下で４８時間保存した。保
存後の光デイスクに対してＣＤ−Ｒディスクテスター
（パルステック社製ＯＭＴ−２０００）を用いて最適パ
ワーでの記録再生特性（ブロックエラー）を調べ、保存
耐久性を評価した。

【０１２６】（２）耐光性 耐光試験機（スガ試験器製フェードメーター）を使用
し、照射光量：３３５Ｗ／ｍ² 、ブラックパネル温度：
３５℃、湿度７５％ＲＨの条件で２４時間光デイスクの
基板面から照射した。照射後の光デイスクに対してＣＤ
−Ｒディスクテスター（パルステック社製ＯＭＴ−２０
００）を用いて最適パワーでの記録再生特性（ブロック
エラー）を調べ、耐光性を評価した。なお、表２におい
て、「認識せず」とはＣＤ−Ｒディスクテスターにかけ
ても記録媒体として認識されなかったことを示す。

【０１２７】

【表２】 表２ ────────────────────────────────── 色素記録層の構成 保存耐久性 耐光性試験 色素 試験後のブロ 後のブロック 化合物 結合剤 ックエラー エラー ────────────────────────────────── 実施例１ ２４ ＣＡ１３９ １２ ２３ 実施例２ ２５ ＣＡ１３９ ３４ ３４ ────────────────────────────────── 比較例１ ２５ なし １２８ ３８ 比較例２ ａ なし １３２ ７８ 比較例３ ２５ 比較用ポリウレタン樹脂 １６０ ７２ 比較例４ ａ 比較用ポリウレタン樹脂 １５６ ８４ 比較例５ ２５ ＤＡＣ １７０ ８２ 比較例６ ａ ＤＡＣ １８０ 認識せず ──────────────────────────────────

【０１２８】上記表２の結果から、本発明に係る色素化
合物及びシクロヘキサンジメタノール系ポリエステルポ
リウレタン樹脂を含有する色素記録層を有する光デイス
ク（実施例１及び２）の場合には、保存耐久性及び耐光
性が向上することが明らかである。一方、本発明に係る
色素化合物を使用した場合でも結合剤樹脂を使用しない
場合（比較例１）や本発明係る樹脂以外の樹脂を結合剤
として使用した場合（比較例３及び５）、又シアニン色
素のみで構成した場合（比較例２）やシアニン色素と本
発明係る樹脂以外の樹脂を結合剤として使用した場合
（比較例４及び６）には、保存耐久性及び耐光性が低下
することが明らかである。特に、比較例６の光デイスク
の場合には、耐光性試験において脱色が激しく、記録媒
体として認識されなかった。なお、実施例の光デイスク
の場合には、反射率の低下は殆ど見られなかったが、比
較例の光デイスクのいずれの場合においても反射率の低
下が見られた。

【０１２９】

【発明の効果】本発明に従う光情報記録媒体は、高い反
射率を維持したまま、かつ高温高湿度環境下に保存した
後においても良好な記録再生特性を示し、また優れた耐
光性を示す。更にバインダにより、基板と色素記録層と
の密着力も確保されるため、繰り返し使用に対して高い
耐久性をも有している。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 割石 幸司 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内 Ｆターム(参考） 2H111 EA03 EA12 EA22 EA25 EA39 EA40 EA41 FA01 FA12 FA23 FA33 FA35 FA37 FB42 FB54 4H056 CA01 CA02 CA05 CB02 CC02 CC08 CD01 CD02 CD04 CD05 CD08 CD10 CE01 CE02 CE03 CE06 CE07 DD04 DD06 DD07 DD12 DD15 DD19 DD23 DD28 DD29 FA06 4J038 DG051 DG111 DG281 GA01 JB28 JB32 JB33 JC18 KA08 MA13 PA07 PA17 PB11 PC08 5D029 JA04 JA10 JC17

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板上に光照射により信号の記録が
   可能な色素記録層、更にその上に金属反射層を有するヒ
   ートモード型の光情報記録媒体において、該色素記録層
   が、下記一般式（Ｉ−１）または一般式（Ｉ−２）で表
   される色素化合物、およびシクロヘキサンジメタノール
   系ポリエステルポリウレタン樹脂を含有することを特徴
   とする光情報記録媒体。 【化１】 〔式中、Ａ¹ 、Ａ² 、Ｂ¹ 及びＢ² は各々独立に置換基
   を表し、Ｙ¹ 及びＺ¹は各々独立に、炭素環もしくは複
   素環を形成するために必要な原子団を表し、ＥおよびＧ
   は各々独立に、共役二重結合鎖を完成するために必要な
   原子団を表し、Ｘ¹ は、＝Ｏ、＝ＮＲ、または＝Ｃ（Ｃ
   Ｎ）₂ を表し、Ｘ² は、−Ｏ、−ＮＲ、または−Ｃ（Ｃ
   Ｎ）₂ を表し（但し、Ｒは置換基を表す）、Ｌ¹ 、Ｌ
   ² 、Ｌ³ 、Ｌ⁴ 及びＬ⁵ は各々独立に、置換されていて
   もよいメチン基を表し、Ｍ²⁺は、下記一般式（II）又は
   （III ）で表される陽イオンを表し、ｍ及びｎは各々独
   立に０、１又は２を表し、ｘ及びｙは、各々独立に０又
   は１を表す。〕 【化２】 〔式中、Ｒ¹ 及びＲ² は各々独立に、アルキル基、 アル
   ケニル基、アルキニル基又はアリール基を表し、Ｒ³ 及
   びＲ⁴ は各々独立に置換基を表し、但し、Ｒ¹とＲ³ 、
   Ｒ² とＲ⁴ 又はＲ³ とＲ⁴ は各々互いに連結して環を形
   成しても良く、ｑ１及びｒ１は各々独立に０〜４の整数
   を表し、そしてｑ１とｒ１の双方が２以上の場合には、
   複数のＲ³ 及び複数のＲ⁴ は各々互いに同じであっても
   異なっていてもよい。〕 【化３】 〔式中、Ｒ⁵ 及びＲ⁶ は各々独立に、アルキル基、 アル
   ケニル基、アルキニル基又はアリール基を表し、Ｒ⁷ 及
   びＲ⁸ は各々独立に置換基を表し、但し、Ｒ⁵とＲ⁶ 、
   Ｒ⁵ とＲ⁷ 、Ｒ⁶ とＲ⁸ 又はＲ⁷ とＲ⁸ は各々互いに連
   結して環を形成しても良く、ｑ２及びｒ２は各々独立に
   ０〜４の整数を表し、そしてｑ２とｒ２の双方が２以上
   の場合には、複数のＲ⁷ 及び複数のＲ⁸ は各々互いに同
   じであっても異なっていてもよい。〕
2. 【請求項２】 シクロヘキサンジメタノール系ポリエス
   テルポリウレタン樹脂が、（Ａ）１，４−シクロヘキサ
   ンジメタノールと脂肪族ジカルボン酸とから得られたポ
   リエステルジオール、（Ｂ）二価のアルコール、そして
   （Ｃ）ジイソシアネートから得られたものである請求項
   １に記載の光情報記録媒体。
3. 【請求項３】 シクロヘキサンジメタノール系ポリエス
   テルポリウレタン樹脂が、１，４−シクロヘキサンジメ
   タノールとアジピン酸及びアゼライン酸とから得られた
   ポリエステルジオール、１，４−ブタンジオール及び／
   又は１，４−シクロヘキサンジメタノール、そしてジフ
   ェニルメタンジイソシアネートとから得られたものであ
   る請求項１又は２に記載の光情報記録媒体。
4. 【請求項４】 シクロヘキサンジメタノール系ポリエス
   テルポリウレタン樹脂が、３０〜１６０℃の範囲にガラ
   ス転移温度を持つ樹脂である請求項１〜３のうちのいず
   れかの項に記載の光情報記録媒体。