JP2000160131A - アニオン性赤外線吸収剤、感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 高感度で、現像ラチチュードの良好なダイレ
クト製版用の赤外線レーザ用感光性組成物及びそれに適
する新規アニオン性赤外線吸収剤を提供する。 【解決手段】 （ａ）一般式（Ｉ）で表されるアニオン
性赤外線吸収剤及び（ｂ）水に不溶であり、且つ、アル
カリ水溶液に可溶な高分子化合物を含有し、赤外線レー
ザの照射により、アルカリ水溶液に可溶となることを特
徴とする。一般式（Ｉ）で表されるアニオン性赤外線吸
収剤は比較的長い共役鎖を有するオキソニウム系色素で
あり、対カチオンが熱分解性のオニウム塩構造を有する
ことが感度の観点から好ましい。なお、下記式中、Ｍ
は、炭素原子数７以上の共役メチン鎖を表し、Ｇａ^-は
アニオン性置換基を表し、Ｇ_bは中性の置換基を表す。
Ｘ^m+はプロトンを含む１〜ｍ価のカチオンを示し、ここ
でｍは１乃至６の整数を表す。 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は画像形成材料として
有用な新規アニオン性赤外線吸収剤、ポジ型画像形成材
料として好適な特定のアニオン性赤外線吸収剤を含有す
る感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原版に関
し、特に、赤外線レーザー、サーマルヘッド等の熱によ
り書き込み可能であり、特にコンピュータ等のディジタ
ル信号から直接製版できるいわゆるダイレクト製版用の
平版印刷版原版に好適な、赤外線レーザ用のポジ型画像
形成可能な感光性組成物及びそれを用いた平版印刷版原
版に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、近赤外から赤外に発光領域を持つ
固体レーザ・半導体レーザの発達に伴い、コンピュータ
のディジタルデータから直接製版するシステムとして、
これらの赤外線レーザーを用いるものが注目されてい
る。ダイレクト製版用の赤外線レーザ用ポジ型平板印刷
版材料が特開平７−２８５２７５号公報に開示されてい
る。この発明は、アルカリ水溶液可溶性樹脂に、光を吸
収し熱を発生する物質と、キノンジアジド化合物類等の
ようなポジ型感光性化合物を添加した画像記録材料であ
り、画像部ではポジ型感光性化合物が、アルカリ水溶液
可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤と
して働き、非画像部では熱により分解して溶解阻止能を
発現しなくなり、現像により除去され得るようになっ
て、画像を形成する。

【０００３】本発明者らの検討の結果、キノンジアジド
化合物類を画像記録材料に添加しなくても、ポジ画像が
得られることを見出したが、単にキノンジアジド化合物
類を除した画像記録材料においては、現像液の濃度に対
する感度の安定性、即ち現像のラチチュードが悪くなっ
てしまうという欠点がある。

【０００４】一方、オニウム塩やアルカリ不溶性の水素
結合可能な化合物はアルカリ可溶性高分子のアルカリ溶
解抑制作用を有することが知られている。赤外線レーザ
ー対応画像形成材料としては、カチオン性赤外線吸収色
素をアルカリ水可溶高分子の溶解抑制剤として用いた組
成物がポジ作用を示すことがＷＯ97/39894に記載されて
いる。このポジ作用は赤外線吸収色素がレーザー光を吸
収し、発生する熱で照射部分の高分子膜の溶解抑制効果
を消失させて画像形成を行う作用である。その画像形成
性は感材のレーザー照射表面では十分であるが、熱拡散
のため感材の深部までは十分な効果は得られず、従って
露光部／未露光部のアルカリ現像のON-OFFがつきにく
く、良好な画像が得られない問題（低感度、現像ラチチ
ュードが狭い）があった。ここで言う現像ラチチュード
とはアルカリ現像液のアルカリ濃度を変化させたときに
良好な画像形成ができる許容範囲をさす。

【０００５】また、赤外線レーザー対応画像形成材料に
は、感度向上のため、赤外線吸収剤を併用するのが一般
的でり、画像形成材料に用いられる赤外線吸収剤として
は、例えば、シアニン色素、金属錯体などの染料や、カ
ーボンブラック、フタロシアニンなどの顔料が知られて
いる。しかし金属錯体は分子吸光係数が低く、顔料は現
像での汚れなどの問題があった。シアニン色素は波長適
性、分子吸光係数共に良いものの、多量に用いた場合に
現像性を著しく悪化させるという問題があった。そこで
本発明者はアニオン性色素であるオキソノール色素を用
いることにより良好な画像を形成しうることを見出し、
先に特願平１０−７９９１２号として提案したが、赤外
線に対する波長適性に関してはなお、改良が望まれてい
た。長波長領域に吸収を持つオキソノール色素として
は、例えば、ＥＰ４４４７８６号にはペンタメチン体が
記載されているが、画像形成材料として重要なファクタ
ーである分子吸光係数等の物性に関する記述はない。ま
た、ＥＰ３９７４３５号にはヘプタメチンオキソノール
の例が開示されているが、これらの化合物の吸収はいず
れも７８０ｎｍ以下と赤外線レーザー対応としては波長
が短く、また分子吸光係数も低いという問題があった。
このように現在公知のオキソノール系色素には吸収極大
波長が８００ｎｍ近傍あるいはそれを超えるものはほと
んどなく、長波長領域に吸収を有するアニオン性の赤外
線吸収色素が望まれていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、画像形成材料に好適に用い得る長波長領域に吸収を
有する新規なアニオン性赤外線吸収剤、高感度で、かつ
現像ラチチュードが良好な感光性組成物及びそれを用い
たダイレクト製版用の赤外線レーザで高感度に画像を形
成しうるポジ型平版印刷版原版を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、画像形成
性、すなわち感度と現像ラチチュードを増加する目的で
鋭意研究を重ねた結果、特定のアニオン性赤外線吸収剤
を用いることにより、現像ラチチュードが向上すること
を見出し、特願平１０−７９９１２号として提案した
が、アニオン性赤外線吸収剤のなかでも、分子内に比較
的長い共役鎖を有するオキソノール系色素を用いること
により、レーザーに対するマッチングが改良され、さら
に、優れた感度と広い現像ラチチュードが得られること
を見いだし、本発明を完成するに到った。また、これら
のアニオン性赤外線吸収剤のうち、下記一般式（１）で
表される化合物はナフトインダンジオン基を末端に導入
した新規化合物であり、吸収波長が長波長であり、分子
吸光係数が高く、画像形成材料として有用であることを
見いだした。

【０００８】すなわち、本発明の請求項１に記載の新規
化合物は、下記一般式（１）で表されるアニオン性赤外
線吸収剤である。

【０００９】

【化５】

【００１０】式中、Ｌは共役炭素原子数７以上のメチン
鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置
換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Ｘ
⁺は陽イオンを示す。Ｙ¹〜Ｙ⁶及びＺ¹〜Ｚ⁶は互いに独
立に水素原子又は置換基を表し、それらが置換基を表す
とき、互いに結合して環構造を形成していてもよい。こ
こで、前記一般式（１）中、Ｌが共役炭素原子数７のメ
チン鎖を表すもの、及び、Ｙ¹〜Ｙ⁶及びＺ¹〜Ｚ⁶がすべ
て水素原子を表すのもが入手の容易性と効果の観点から
好ましく、特に、本発明の新規アニオン性赤外線吸収剤
として、下記一般式（２）で表されるものや、下記一般
式（３）で表されるものが、好ましい態様である。

【００１１】

【化６】

【００１２】式中、Ｘ⁺は一般式（１）におけるのと同
義である。Ａは炭素原子、窒素原子、酸素原子、いおう
原子及びセリウム原子から選択された１４個以下の環原
子により構成される、５員−、６員−、もしくは７員−
炭素環式環、５員−、６員−、もしくは７員−複素環式
環、または５員−、６員−、もしくは７員−核からなる
群より選択される縮合環を完成するのに必要な非金属原
子を表す。

【００１３】

【化７】

【００１４】式中、Ｘ⁺は一般式（１）におけるのと同
義である。

【００１５】また、本発明の請求項６に記載の感光性組
成物は、（ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるアニオン性
赤外線吸収剤、及び（ｂ）水に不溶であり、且つ、アル
カリ水溶液に可溶な高分子化合物（以下、適宜、アルカ
リ水可溶性高分子化合物と称する）を含有し、赤外線レ
ーザの照射により、アルカリ水溶液に可溶となることを
特徴とする。

【００１６】

【化８】

【００１７】式中、Ｍは、炭素原子数７以上の共役鎖を
表し、Ｇａ^-はアニオン性置換基を表し、Ｇ_bは中性の置
換基を表す。Ｘ^m+はプロトンを含む１〜ｍ価のカチオン
を示し、ここでｍは１乃至６の整数を表す。また、
（ａ）アニオン性赤外線吸収剤の対カチオンが、熱分解
性のオニウム塩構造を有することが好ましい。

【００１８】本発明の請求項８に記載の平版印刷版原版
は、支持体上に、前記の感光性組成物からなる感光層を
設けたことを特徴とする。

【００１９】本発明の感光性組成物における作用は明確
ではないが、（ａ）炭素原子数７以上の比較的長い共役
鎖を有するアニオン性赤外線吸収剤を用いることによ
り、対カチオン部が（ｂ）アルカリ水可溶性高分子の溶
解抑制剤として働き、レーザー光照射部において、アニ
オン性赤外線吸収剤がレーザー光を吸収し発生する熱で
その溶解抑制効果を消失させることが可能となる。さら
に、このアニオン性赤外線吸収剤は分子内に炭素原子数
７以上の比較的長い共役鎖を有し、近赤外領域での高い
分子吸光係数を持ち、溶剤に対する溶解性にも優れるた
め、さらなる感度向上を達成できたことと推定される。
従来公知のカチオン性赤外線吸収色素の場合、赤外線領
域に吸収を持たせるためその構造がおのずと限定され、
溶解抑制効果をになう構造が赤外線領域の吸収能を阻害
しない範囲に限定され、所望の溶解抑制効果を分子構造
上では制御できないのが現状であったが、アニオン性赤
外線吸収剤を用いた場合、対カチオンの自由な選択が可
能となり、溶解抑制効果も制約なく自由に変化させるこ
とができるため、本発明の効果である所望の画像形成性
の向上が可能となり、さらに、ヘプタメチン、ナノメチ
ン等の比較的長い共役鎖をアニオン部に有する構造をと
ることにより、近赤外領域の分子吸光係数が高くなり、
さらなるレーザーへの適合性が達成できたと考えられ
る。これらのアニオン性赤外線吸収剤のなかでも、前記
一般式（１）で表される本発明者が合成により得た新規
化合物がナフトインダンジオン基を末端に導入すること
で、吸収が長波長側にシフトし、且つ分子吸光係数が高
いため、効果が良好であった。

【００２０】また、より好ましい態様である（ａ）アニ
オン性赤外線吸収剤の対カチオンとして熱分解性のオニ
ウム塩を用いる場合には、熱分解性オニウム塩が赤外線
吸収剤の発する熱により分解することで、より迅速に高
感度に溶解抑制効果が消失するため、さらなる高感度、
高現像ラチチュードな画像形成能を達成することが可能
となったと考えられる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。 ［一般式（１）で表される新規アニオン性赤外線吸収
剤］本発明においてアニオン性赤外線吸収剤とは、色素
の実質的に赤外線を吸収する母核にカチオン構造が無
く、アニオン構造を有するものを指す。一般式（１）で
表される化合物は、所謂、オキソノール系の赤外線吸収
剤に属する。

【００２２】前記一般式（１）中、Ｌは共役炭素原子数
７以上を有する長鎖の共役メチン鎖を表す。メチン鎖を
構成する炭素原子は置換基を有していても良く、また、
その置換基同士が連結して環構造を形成しても構わな
い。メチン鎖が置換基を有する場合、その置換基として
は、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール
基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ
基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ
基等が挙げられ、なかでも、アルキル基、ハロゲン原子
が好ましく挙げられる。また、合成適性の観点からは置
換基を有しないものや、環構造のものが好ましい。Ｘ⁺
はカチオンを示す。カチオンとしては金属イオンやアン
モニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩、ジアゾ
ニウム塩、オキソニウム塩、セレニウム塩、ホスホニウ
ム塩などが挙げられ、画像形成性の観点からは、熱分解
性のものが好ましい。

【００２３】式中、Ｙ¹〜Ｙ⁴及びＺ¹〜Ｚ⁴はそれぞれ独
立に水素原子又は置換基を表し、置換基同士が互いに連
結して環構造を形成していてもよい。ここで、導入し得
る置換基としては前述メチン鎖の場合に述べた各置換基
が同様に挙げられ、好ましくは、水素原子、アルキル
基、ハロゲン原子などである。本発明の赤外線吸収剤に
おいては、置換基を有さないナフトインダジオン基を両
末端に導入したもの、即ち、Ｙ¹〜Ｙ⁴及びＺ¹〜Ｚ⁴がす
べて水素原子を表すものが、合成の容易性の観点から好
ましい。このような好ましい態様を具体的に表すと、メ
チン鎖に環構造を有するものとして、下記一般式（２）
で表されるアニオン性赤外線吸収剤が挙げられる。

【００２４】

【化９】

【００２５】式中、Ａは炭素原子、窒素原子、酸素原
子、いおう原子及びセリウム原子から選択された１４個
以下の環原子により構成される、５員−、６員−、もし
くは７員−の縮合環を完成するのに必要な非金属原子を
表し、該環構造は炭素環式環であっても、複素環式環で
あってもよく、または５員−、６員−、もしくは７員−
核の上の原子であってもよい。メチン鎖の置換基が環構
造を形成する場合、６員炭素環式環を１つあるいは２つ
形成していることが好ましく、該環構造がさらに置換基
を有していてもよい。

【００２６】また、Ｙ¹〜Ｙ⁴及びＺ¹〜Ｚ⁴がすべて水素
原子を表し、メチン鎖に環構造を有さない構造として
は、下記一般式（３）で表されるアニオン性赤外線吸収
剤が挙げられる。

【００２７】

【化１０】

【００２８】式中、Ｘ⁺は一般式（１）におけるのと同
義である。以下に、本発明に係る新規アニオン性赤外線
吸収剤の代表的な化合物［ＩＲ−２１、ＩＲ−１３］の
構造、その吸収極大波長及び分子吸光係数を示すが、本
発明はこれに制限されるものではない。ここで、対象例
として、下記ＩＲ−２１と同じ共役メチン鎖と対カチオ
ンを有する染料化合物の構造、その吸収極大波長及び分
子吸光係数を示す。

【００２９】

【化１１】

【００３０】このように、末端にナフトインダンジオン
基を導入し、共役炭素原子数７以上の比較的長鎖のメチ
ン鎖を有する、所謂オキソノール系色素と呼ばれるアニ
オン性赤外線吸収剤は新規化合物であり、本発明者らの
評価によれば、８００ｎｍ付近の長波長領域に吸収を有
し、分子吸光係数も高く、画像形成材料として有用であ
ることが判明した。この極大吸収波長と分子吸光係数の
優位性は類似の構造を有する染料化合物（ｄｅｙ−１）
との対象において明らかである。

【００３１】次に、先に述べた新規化合物であるオキソ
ノール系色素をはじめとする分子内に比較的長鎖の共役
メチン鎖を有する赤外線吸収剤を含有する本発明の感光
性組成物について、各構成要件を挙げて説明する。本発
明の感光性組成物は、前述のように、（ａ）前記一般式
（Ｉ）で表されるアニオン性赤外線吸収剤、及び（ｂ）
水に不溶であり、且つ、アルカリ水溶液に可溶な高分子
化合物を含有し、赤外線レーザの照射により、アルカリ
水溶液に可溶となることを特徴とする。この特徴によ
り、赤外線レーザーの露光により、書き込み可能な、感
光記録材料に有用な感光性組成物となる。

【００３２】［（ａ）一般式（Ｉ）で表されるアニオン
性赤外線吸収剤］本発明においてアニオン性赤外線吸収
剤とは、色素の実質的に赤外線を吸収する母核にカチオ
ン構造が無く、アニオン構造を有するものを指すが、一
般式（Ｉ）で表される化合物は、所謂、オキソノール系
の赤外線吸収剤に属し、なかでも、分子内に比較的長い
共役鎖を有する化合物ある。このアニオン性赤外線吸収
剤の対カチオンは、プロトンを含む一価の陽イオン或い
は多価の陽イオンである。一般式（Ｉ）中、Ｍは、炭素
原子数７以上の共役鎖を表し、この共役鎖は置換基や環
構造を有していてもよい。共役鎖Ｍは下記式で表すこと
ができる。

【００３３】

【化１２】

【００３４】式中、Ｒ¹〜Ｒ²ⁿ⁺¹はそれぞれ独立に、水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリー
ル基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チ
オ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミ
ノ基を示し、これらは互いに連結して環構造を形成して
いてもよい。ｎは３〜８の整数を示す。

【００３５】Ｇ_a ^-はアニオン性置換基を表し、Ｇ_bは中
性の置換基を表す。Ｘ^m+はプロトンを含む１〜ｍ価のカ
チオンを示し、ここでｍは１乃至６の整数を表す。

【００３６】Ｒ¹〜Ｒ²ⁿ⁺¹がアルキル基の場合、アルキ
ル基としては、炭素原子数が１から２０までの直鎖状、
分岐状、または環状のアルキル基が挙げられる。具体的
には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペ
ンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニ
ル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシ
ル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル
基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１−メ
チルブチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル
基、２−メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロ
ペンチル基、２−ノルボルニル基を挙げることができ
る。これらの中では、炭素原子数１から１２までの直鎖
状、炭素原子数３から１２までの分岐状、ならびに炭素
原子数５から１０までの環状のアルキル基がより好まし
い。

【００３７】これらのアルキル基は置換基を有していて
もよく、置換基としては、水素を除く一価の非金属原子
団が用いられる。好ましい例としては、ハロゲン原子
（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃ１、−Ｉ）、ヒドロキシル基、ア
ルコキシ基、アリーロキシ基、メルカプト基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリール
ジチオ基、アミノ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールアミ
ノ基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
ルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイ
ルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイルオキシ
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
ルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキシ基、アルキル
スルホキシ基、アリールスルホキシ基、アシルチオ基、
アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−ア
リールアシルアミノ基、ウレイド基、Ｎ’−アルキルウ
レイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキルウレイド基、Ｎ’−
アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリールウレイド
基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリ一ルウレイド基、Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−
アルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−
Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ
−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−
アリールウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウ
レイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アルキルウレイド基、
Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−アリールウレイド基、
Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アルキルウレイ
ド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−Ｎ−アリール
ウレイド基、アルコキシカルボニルアミノ基、アリーロ
キシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アルコキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリーロキ
シカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アルコキシ
カルボニルアミノ基、Ｎ−アリール−Ｎ−アリーロキシ
カルボニルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、及びその共役塩基基（以下、「カルボキシラー
ト」という。）、アルコキシカルボニル基、アリーロキ
シカルボニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバ
モイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−ア
リールカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイ
ル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイル基、ア
ルキルスルフィニル基、アリールスルフィニル基、アル
キルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基
（−ＳＯ₃Ｈ）及びその共役塩基（以下、「スルホナト
基」という。）、アルコキシスルホニル基、アリーロキ
シスルホニル基、スルフィナモイル基、Ｎ−アルキルス
ルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルフィナモイ
ル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジア
リールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリー
ルスルフィナモイル基、スルファモイル基、Ｎ−アルキ
ルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルスルファモイ
ル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアリ
ールスルファモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールス
ルファモイル基、Ｎ−アシルスルファモイル基及びその
共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルスルファモイル基
（−ＳＯ₂ ＮＨＳＯ₂Ｒ、Ｒはアルキル基を表す。）及
びその共役塩基基、Ｎ−アリールスルホニルスルファモ
イル基（−ＳＯ₂ＮＨＳＯ₂Ａｒ、Ａｒはアリール基を表
す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アルキルスルホニルカ
ルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂Ｒ、Ｒはアルキル基を
表す。）及びその共役塩基基、Ｎ−アリ一ルスルホニル
カルバモイル基（−ＣＯＮＨＳＯ₂Ａｒ、Ａｒはアリー
ル基を表す。）及びその共役塩基基、アルコキシシリル
基（−Ｓｉ（ＯＲ）₃、Ｒはアルキル基を表す。）、ア
リーロキシシリル基（−Ｓｉ（ＯＡｒ）₃、Ａｒはアリ
ール基を表す。）、ヒドロキシシリル基（−Ｓｉ（Ｏ
Ｈ）₃）及びその共役塩基基、ホスホノ基（一ＰＯ
₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以下、「ホスホナト基」と
いう。）、ジアルキルホスホノ基（−ＰＯ₃Ｒ₂、Ｒはア
ルキル基を表す。）、ジアリールホスホノ基（−ＰＯ₃
Ａｒ₂、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリー
ルホスホノ基（−ＰＯ₃（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒはアルキル
基、Ａｒはアリール基を表す。）モノアルキルホスホノ
基（−ＰＯ₃Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキル基を表す。）及び
その共役塩基基（以下、「アルキルホスホナト基」とい
う。）、モノアリールホスホノ基（−ＰＯ₃Ｈ（Ａ
ｒ）、Ａｒはアリール基を表す。）及びその共役塩基基
（以下、「アリールホスホナト基」という。）、ホスホ
ノオキシ基（−ＯＰＯ₃Ｈ₂）及びその共役塩基基（以
下、「ホスホナトオキシ基」という。）、ジアルキルホ
スホノオキシ基（−ＯＰＯ₃ ）₂、Ｒはアルキル基を表
す。）、ジアリールホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（Ａ
ｒ）₂、Ａｒはアリール基を表す。）、アルキルアリー
ルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃（Ｒ）（Ａｒ）、Ｒは
アルキル基、Ａｒはアリール基を表す。）、モノアルキ
ルホスホノオキシ基（−ＯＰＯ₃ Ｈ（Ｒ）、Ｒはアルキ
ル基を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アルキル
ホスホナトオキシ基」という。）、モノアリールホスホ
ノオキシ基（−ＯＰＯ₃ Ｈ（Ａｒ）、Ａｒはアリール基
を表す。）及びその共役塩基基（以下、「アリ一ルホス
ホナトオキシ基」という。）、シアノ基、ニトロ基、ア
リール基、アルケニル基、アルキニル基が挙げられる。
これらの置換基における、アルキル基の具体例として
は、前述の一般式（１）のＲ¹〜Ｒ²ⁿ⁺¹において例示し
たアルキル基が挙げられ、アリール基の具体例として
は、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル
基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、フルオロフ
ェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、クロ
ロメチルフェニル基、ヒドロキシフェニル基、メトキシ
フェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル
基、メチルチオフェニル基、フェニルチオフェニル基、
メチルアミノフェニル基、ジメチルアミノフェニル基、
アセチルアミノフェニル基、カルボキシフェニル基、メ
トキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェ
ニル基、フェノキシカルボニルフェニル基、Ｎ−フェニ
ルカルバモイルフェニル基、フェニル基、ニトロフェニ
ル基、シアノフェニル基、スルホフェニル基、スルホナ
トフェニル基、ホスホノフェニル基、ホスホナトフェニ
ル基等を挙げることができる。また、アルケニル基の例
としては、ビニル基、１−プロペニル基、１−ブテニル
基、シンナミル基、２−クロロ−１−エテニル基、等が
あげられ、アルキニル基の例としては、エチニル基、１
−プロピニル基、１−ブチニル基、トリメチルシリルエ
チニル基、フェニルエチニル基等が挙げられる。前記の
アシル基（Ｒ¹ＣＯ−）としては、Ｒ¹が水素原子及び前
記のアルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基を挙げることができる。

【００３８】これら置換基のうち、さらに好ましいもの
としては、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−
Ｉ）、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルアミノ基、アシルオキシ基、Ｎ−アルキルカ
ルバモイルオキシ基、Ｎ−アリールカルバモイルオキシ
基、アシルアミノ基、ホルミル基、アシル基、カルボキ
シル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボ
ニル基、カルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリール
カルバモイル基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモ
イル基、スルホ基、スルホナト基、スルファモイル基、
Ｎ−アルキルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルファモイル基、Ｎ−アリールスルファモイル基、Ｎ−
アルキル−Ｎ−アリールスルファモイル基、ホスホノ
基、ホスホナト基、ジアルキルホスホノ基、ジアリール
ホスホノ基、モノアルキルホスホノ基、アルキルホスホ
ナト基、モノアリールホスホノ基、アリールホスホナト
基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基、アリール
基、アルケニル基等を挙げることができる。

【００３９】一方、置換アルキル基におけるアルキレン
基としては、前述の炭素数１から２０までのアルキル基
上の水素原子のいずれか１つを除し、２価の有機残基と
したものを挙げることができ、好ましくは炭素原子数１
から１２までの直鎖状、炭素原子数３から１２までの分
岐状ならびに炭素原子数５から１０までの環状のアルキ
レン基を挙げることができる。該置換基とアルキレン基
を組み合わせることにより得られる置換アルキル基の好
ましい具体例としては、クロロメチル基、ブロモメチル
基、２−クロロエチル基、トリフルオロメチル基、メト
キシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキ
シメチル基、フェノキシメチル基、メチルチオメチル
基、トリルチオメチル基、エチルアミノエチル基、ジエ
チルアミノプロピル基、モルホリノプロピル基、アセチ
ルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、Ｎ−シ
クロヘキシルカルバモイルオキシエチル基、Ｎ−フェニ
ルカルバモイルオキシエチル基、アセチルアミノエチル
基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノプロピル基、２−オキ
ソエチル基、２−オキソプロピル基、カルボキシプロピ
ル基、メトキシカルボニルエチル基、メトキシカルボニ
ルメチル基、メトキシカルボニルブチル基、アリルオキ
シカルボニルブチル基、クロロフェノキシカルボニルメ
チル基、カルバモイルメチル基、Ｎ−メチルカルバモイ
ルエチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルガルバモイルメチル
基、Ｎ−（メトキシフェニル）ガルバモイルエチル基、
Ｎ−メチル−Ｎ−（スルホフェニル）ガルバモイルメチ
ル基、スルホプロピル基、スルホブチル基、スルホナト
ブチル基、スルファモイルブチル基、Ｎ−エチルスルフ
ァモイルメチル基、Ｎ，Ｎ−ジプロピルスルファモイル
プロピル基、Ｎ−トリルスルファモイルプロピル基、Ｎ
−メチル−Ｎ−（ホスホノフェニル）スルファイルオク
チル基、

【００４０】ホスホノブチル基、ホスホナトヘキシル
基、ジエチルホスホノブチル基、ジフェニルホスホノプ
ロピル基、メチルホスホノブチル基、メチルホスホナト
ブチル基、トリルホスホノヘキシル基、トリルホスホナ
トヘキシル基、ホスホノオキシプロピル基、ホスホナト
オキシブチル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルベンジル基、１−メチル−１−フェニルエチル基、ｐ
−メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、１−プ
ロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル
基、２−メチルプロペニルメチル基、２−プロピニル
基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、等を挙げること
ができる。

【００４１】Ｒ¹〜Ｒ²ⁿ⁺¹がアリール基の場合、アリー
ル基としては、１個から３個のベンゼン環が縮合環を形
成したもの、ベンゼン環と５員不飽和環が縮合環を形成
したものをあげることができ、具体例としては、フェニ
ル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、
インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、を
挙げることができ、これらの中でも、フェニル基、ナフ
チル基がより好ましい。

【００４２】置換アリール基としては、前述のアリール
基の環形成炭素原子上に置換基として、水素を除く一価
の非金属原子団を有するものが用いられる。好ましい置
換基の例としては前記のアルキル基、置換アルキル基、
置換アルキル基における置換基として示したものを挙げ
ることができる。このような、置換アリール基の好まし
い具体例としては、ビフェニル基、トリル基、キシリル
基、メシチル基、クメニル基、クロロフェニル基、ブロ
モフェニル基、フルオロフェニル基、クロロメチルフェ
ニル基、トリフルオロメチルフェニル基、ヒドロキシフ
ェニル基、メトキシフェニル基、メトキシエトキシフェ
ニル基、アリルオキシフェニル基、フェノキシフェニル
基、メチルチオフェニル基、トリルチオフェニル基、フ
ェニルチオフェニル基、エチルアミノフェニル基、ジエ
チルアミノフェニル基、モルホリノフェニル基、アセチ
ルオキシフェニル基、ベンゾイルオキシフェニル基、Ｎ
−シクロヘキシルカルバモイルオキシフェニル基、Ｎ−
フェニルカルバモイルオキシフェニル基、アセチルアミ
ノフェニル基、Ｎ−メチルベンゾイルアミノフェニル
基、カルボキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニ
ル基、アリルオキシカルボニルフェニル基、クロロフェ
ノキシカルボニルフェニル基、ガルバモイルフェニル
基、Ｎ−メチルガルバモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジプ
ロピルカルバモイルフェニル基、Ｎ−（メトキシフェニ
ル）ガルバモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（スル
ホフェニル）カルバモイルフェニル基、スルホフェニル
基、スルホナトフェニル基、スルファモイルフェニル
基、Ｎ−エチルスルファモイルフェニル基、Ｎ，Ｎ−ジ
プロピルスルファモイルフェニル基、Ｎ−トリルスルフ
ァモイルフェニル基、Ｎ−メチル−Ｎ−（ホスホノフェ
ニル）スルファモイルフェニル基、ホスホノフェニル
基、ホスホナトフェニル基、ジエチルホスホノフェニル
基、ジフェニルホスホノフェニル基、メチルホスホノフ
ェニル基、メチルホスホナトフェニル基、トリルホスホ
ノフェニル基、トリルホスホナトフェニル基、アリル
基、１−プロペニルメチル基、２−ブテニル基、２−メ
チルアリルフェニル基、２−メチルプロペニルフェニル
基、２−プロピニルフェニル基、２−ブチニルフェニル
基、３−ブチニルフェニル基、等を挙げることができ
る。

【００４３】Ｒ¹〜Ｒ²ⁿ⁺¹のアルケニル基、置換アルケ
ニル基、アルキニル基、置換アルキニル基（−Ｃ
（Ｒ⁷）＝Ｃ（Ｒ⁸）（Ｒ⁹）、並びに−Ｃ≡Ｃ（Ｒ¹⁰）
としては、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰が一価の非金属原子団
のものが使用できる。好ましいＲ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰の
例としては、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、置
換アルキル基、アリール基並びに置換アーリル基を挙げ
ることができる。これらの具体例としては、前述の例と
して示したものを同様に挙げることができる。Ｒ⁷、
Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰の好ましい置換基の例としては、水素原
子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０の直鎖状、分岐
状、環状のアルキル基が挙げられる。このようなＲ¹〜
Ｒ²ⁿ⁺¹の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル
基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オタタデ
シル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル
基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネ
オペンチル基、１−メチルブチル基、イソヘキジル基、
２−エチルヘキシル基、アリル基、１−プロペニルメチ
ル基、２−ブテニル基、２−メチルアリル基、２−メチ
ルプロペニル基、２−プロピニル基、２−ブチニル基、
３−ブチニル基、ベンジル基、フェネチル基、α−メチ
ルヘンジル基、１−メチル−１−フェネチル基、ｐ−メ
チルベンジル基、シンナミル基、ヒドロキシエチル基、
メトキシエチル基、フェノキジエチル基、アリロキシエ
チル基、メトキシエトキシエチル基、エトキシエトキシ
エチル基、モルホリノエチル基、モルホリノプロピル
基、スルホプロピル基、スルホナトプロピル基、スルホ
ブチル基、スルホナトブチル基・カルボキジメチル基、
カルボキジエチル基、カルボキシプロピル基、メトキシ
カルボニルエチル基、２−エチルヘキシルオキシカルボ
ニルエチル基、フェノキシカルボニルメチル基、メトキ
シカルボニルプロピル基、Ｎ−メチルカルバモイルエチ
ル基、Ｎ，Ｎ−エチルアミノカルバモイルメチル基、Ｎ
−フェニルカルバモイルプロピル基、Ｎ−トリルスルフ
ァモイルブチル基、Ｐ−トリエンスルホニルアミノプロ
ピル基、ベンゾイルアミノヘキシル基、ホスフォノメチ
ル基、ホスフォノエチル基、ホスフォノプロピル基、ｐ
−ホスフォノベンジルアミノカルボニルエチル基、ホス
フォナトメチル基、ホスフォナトプロピル基、ホスフォ
ナトブチル基、ｐ−ホスフォナトベンジルアミノカルボ
ニルエチル基、ビニル基、エチニル基を挙げることがで
きる。

【００４４】Ｒ¹〜Ｒ²ⁿ⁺¹の置換カルボニル基（Ｒ¹¹Ｃ
Ｏ−）としては、Ｒ¹¹が一価の非金属原子団であるもの
を用いることができる。置換カルボニル基の好ましい例
としては、ホルミル基、アシル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、Ｎ−アルキルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−
ジアルキルカルバモイル基、Ｎ−アリールカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイル基、Ｎ−アルキル
−Ｎ−アリールカルバモイル基が挙げられる。これらに
おけるアルキル基、アリール基としては前記のアルキル
基、置換アルキル基、アリール基、ならびに置換アリー
ル基として例示したものを挙げることができる。これら
の中でも、より好ましい置換基としては、ホルミル基、
アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、
アリーロキシカルボニル基、ガルバモイル基、Ｎ−アル
キルガルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカルバモイル
基、Ｎ−アリールカルバモイル基、が挙げられ、更によ
り好ましいものとしては、ホルミル基、アシル基、アル
コキシカルボニル基ならびにアリーロキシカルボニル基
が挙げられる。好ましい置換基の具体例としては、ホル
ミル基、アセチル基、ベンゾイル基、カルボキシル基、
メトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、Ｎ
−メチルカルバモイル基、Ｎ−フェニルカルバモイル
基、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル基、モルホリノカル
ボニル基等が挙げられる。

【００４５】置換チオ基（Ｒ¹⁴Ｓ−）としては、Ｒ¹⁴が
水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いること
ができる。好ましい置換チオ基の例としては、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アルキルジチオ基、アリール
ジチオ基、アシルチオ基を挙げることができる。これら
におけるアルキル基、アリール基としては前記のアルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、ならびに置換アリ
ール基として例示したものを挙げることができ、アシル
チオ基におけるアシル基（Ｒ¹³ＣＯ−）のＲ¹³は前記の
とおりである。これらの中ではアルキルチオ基、ならび
にアリールチオ基がより好ましい。好ましい置換チオ基
の具体例としては、メチルチオ基、エチルチオ基、フェ
ニルチオ基、エトキシエチルチオ基、カルボキシエチル
チオ基、メトキシカルボニルチオ基等が挙げられる。

【００４６】置換スルホニル基（Ｒ¹⁹ＳＯ₂−）として
は、Ｒ¹⁹が一価の非金属原子団であるものを用いること
ができる。より好ましい例としては、アルキルスルホニ
ル基、アリールスルホニル基を挙げることができる。こ
れらにおけるアルキル基、アリール基としては前記のア
ルキル基、置換アルキル基、アリール基、ならびに置換
アリール基として例示したものを挙げることができる。
置換スルホニル基の具体例としては、ブチルスルホニル
基、クロロフェニルスルホニル基等が挙げられる。

【００４７】置換スルフィニル基（Ｒ¹⁸ＳＯ−）として
はＲ¹⁸が一価の非金属原子団であるものを用いることが
できる。好ましい例としては、アルキルスルフィニル
基、アリールスルフィニル基、スルフィナモイル基、Ｎ
−アルキルスルフィナモイル基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルス
ルフィナモイル基、Ｎ−アリールスルフィナモイル基、
Ｎ，Ｎ−ジアリールスルフィナモイル基、Ｎ−アルキル
−Ｎ−アリールスルフィナモイル基が挙げられる。これ
らにおけるアルキル基、アリール基としては前記のアル
キル基、置換アルキル基、アリール基、ならびに置換ア
リール基として例示したものを挙げることができる。こ
れらのうち、より好ましい例としてはアルキルスルフィ
ニル基、アリールスルフィニル基が挙げられる。このよ
うな置換スルフィニル基の具体例としては、ヘキシルス
ルフィニル基、ベンジルスルフイニル基、トリルスルフ
ィニル基等が挙げられる。

【００４８】置換オキシ基（Ｒ¹²Ｏ−）としては、Ｒ¹²
が水素を除く一価の非金属原子団であるものを用いるこ
とができる。好ましい置換オキシ基としては、アルコキ
シ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、カルバモイル
オキシ基、Ｎ−アルキルカルバモイルオキシ基、Ｎ−ア
リールカルバモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルカル
バモイルオキシ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールカルバモイルオ
キシ基、Ｎ−アルキル−Ｎ−アリールカルバモイルオキ
シ基、アルキルスルホキシ基、アリールスルホキシ基、
ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ基が挙げられる。
これらにおけるアルキル基、ならびにアリール基として
は前記のアルキル基、置換アルキル基、アリール基、な
らびに置換アリール基として例示したものが挙げられ
る。また、アシルオキシ基におけるアシル基（Ｒ¹³ＣＯ
−）としては、Ｒ¹³が、前記のアルキル基、置換アルキ
ル基、アリール基、ならびに置換アリール基として例示
したものが挙げられる。これらの置換基の中では、アル
コキシ基、アリーロキシ基、アシルオキシ基、アリール
スルホキシ基、がより好ましい。好ましい置換オキシ基
の具体例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロピル
オキシ基、イソプロピルオキシ基、ブチルオキシ基、ペ
ンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ドデシルオキシ
基、ベンジルオキシ基、アリルオキシ基、フェネチルオ
キシ基、カルボキシエチルオキシ基、メトキシカルボニ
ルエチルオキシ基、エトキシカルボニルエチルオキシ
基、メトキシエトキシ基、フェノキシエトキシ基、メト
キシエトキシエトキシ基、エトキシエトキシエトキシ
基、モルホリノエトキシ基、モルホリノプロピルオキシ
基、アリロキシエトキシエトキシ基、フェノキシ基、ト
リルオキシ基、キシリルオキシ基、メシチルオキシ基、
クメニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、エトキ
シフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、ブロモ
フェニルオキシ基、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキ
シ基、ナフチルオキシ基、フェニルスルホニルオキシ
基、ホスホノオキシ基、ホスホナトオキシ等が挙げられ
る。

【００４９】置換アミノ基（Ｒ¹⁵ＮＨ−、（Ｒ¹⁶）（Ｒ
¹⁷）Ｎ−）としては、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｒ¹⁷が水素を除く一
価の非金属原子団のであるものを用いることができる。
置換アミノ基の好ましい例としては、Ｎ−アルキルアミ
ノ基、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミ
ノ基、Ｎ，Ｎ−ジアリールアミノ基、Ｎ−アルキル−Ｎ
−アリールアミノ基、アシルアミノ基、Ｎ−アルキルア
シルアミノ基、Ｎ−アリールアシルアミノ基、ウレイド
基、Ｎ’−アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアルキ
ルウレイド基、Ｎ’−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’
−ジアリールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリ
ールウレイド基、Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ−アリー
ルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アルキルウレイド
基、Ｎ’−アルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’，
Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’，
Ｎ’−ジアルキル−Ｎ−アリールウレイド基、Ｎ’−ア
リール−Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アリール−Ｎ
−アリールウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−
アルキルウレイド基、Ｎ’，Ｎ’−ジアリール−Ｎ−ア
リールウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリール−
Ｎ−アルキルウレイド基、Ｎ’−アルキル−Ｎ’−アリ
ール−Ｎ−アリールウレイド基、アルコキシカルボニル
アミノ基、アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アル
キル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アルキ
ル−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリー
ル−Ｎ−アルコキシカルボニルアミノ基、Ｎ−アリール
−Ｎ−アリーロキシカルボニルアミノ基が挙げられる。
これらにおけるアルキル基、アリール基としては前記の
アルキル基、置換アルキル基、アリール基、ならびに置
換アリール基として例示したものを挙げることができ、
アシルアミノ基、Ｎ−アルキルアシルアミノ基、Ｎ−ア
リール−アシルアミノ基におけるアシル基（Ｒ¹³ＣＯ
−）のＲ¹³は前記のとおりである。これらのうち、より
好ましいものとしては、Ｎ−アルキルアミノ基、Ｎ，Ｎ
−ジアルキルアミノ基、Ｎ−アリールアミノ基、アシル
アミノ基、が挙げられる。好ましい置換アミノ基の具体
例としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチ
ルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基、ピロリジノ
基、フェニルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、アセチル
アミノ基等が挙げられる。

【００５０】ここで、前記一般式（Ｉ）において、好ま
しい共役鎖を有する構造を以下に例示する。下記式にお
いて、Ｇ_a ^-はアニオン性置換基を表し、Ｇ_bは中性の置
換基を表す。以下に示すのは共役メチン鎖として、ヘプ
タメチン鎖（式中、ｎ＝３）を有するものであり、メチ
ン鎖は置換基や下記に示すような環構造を有していても
よい。

【００５１】

【化１３】

【００５２】同様に、共役メチン鎖として、ナノメチン
（式中、ｎ＝４）、ウンデカメチン（ｎ＝５）を有する
ものを下記に示す。これらはメチン鎖上の任意の位置に
さらに環構造を有していていもよい。

【００５３】

【化１４】

【００５４】また、前記一般式（Ｉ）において、Ｇ_a ^-は
アニオン性置換基を表し、Ｇ_bは中性の置換基を表が、
これらは、それぞれ下記の構造で表すことができる。

【００５５】

【化１５】

【００５６】式中、Ｌ₁〜Ｌ₄は、互いに独立に、水素原
子、ハロゲン、シアノ基及び前述のアルキル基、アリー
ル基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チ
オ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミ
ノ基があげられ、またＬ₁とＬ₂、Ｌ₃とＬ₄が連結して環
構造を形成していてもよい。好ましいものとしてＧ_bは
シアニン色素の酸性核が、またＧ_a ^-は酸性核がアニオン
化したものが挙げられる。酸性核としては「Ｔｈｅ ｔ
ｅｏｒｙ ｏｆ ｔｈｅ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ
Ｐｒｏｃｅｓｓ」ｐ，１９９、テーブル８、２−Ｂに記
載される化合物や以下のものが挙げられる。

【００５７】１）１，３−ジカルボニル核、例えば１，
３−インダンジオン、１，３−シクロヘキサンジオン、
５，５−ジメチル−１，３−シクロヘキサンジオン、
１，３−ジオキサン−４，６−ジオン、 ２）ピラゾリノン核、例えば３−メチル−１−フェニル
−２−ピラゾリン−５−オン、１−フェニル−２−ピラ
ゾリン−５−オン、１−フェニル−２−ピラゾリン−５
−オン、１−（２−ベンゾチアゾリル）−３−メチル−
２−ピラゾリンー５−オン、 ３）イソオキサゾリノン核、例えば３−フェニル−２−
イソオキサゾリン−５−オン、３−メチル−２−イソオ
キサゾリン−５−オン等、 ４）オキシインドール核、例えば１−アルキル−２，３
−ジヒドロ−２−オキシインドール、

【００５８】５）２，４，６−トリケトヘキサヒドロピ
リミジン核、例えばバルビツル酸又は２−チオバルビツ
ル酸及びその誘導体、かかる誘導体としては、１−メチ
ル、１−エチル等の１−アルキル体、１，３−ジエチ
ル、１，３−ジブチル等の１，３−ジアルキル体、１，
３一ジフェニル、１，３−ジ（ｐ−クロロフェニル）
−、１，３−ジ（ｐ−エトキシカルボニルフェニル）等
の１，３−ジアリール体、１−エチル−３−フェニル等
の１−アルキル−３−アリール体等が挙げられる。 ６）２−チオ−２，４−チアゾリジンジオン核、例えば
ローダニン及びその誘導体、かかる誘導体としては３−
エチルローダニン、３−アリルローダニン等の３−アル
キルローダニン、３−フェニルローダニン等の３−アリ
ールローダニン等が挙げられる。

【００５９】７）２−チオ−２，４一オキサゾリジンジ
オン（２−チオ−２，４−（３Ｈ，５Ｈ）−オキサゾー
ルジオン）核、例えば２−エチル−２−チオ−２，４−
オキサゾリジンジオン、 ８）チアナフテノン核、例えば３（２Ｈ）−チアナフテ
ノン及び３（２Ｈ）−チアナフテノン−１，１−ジオキ
サイド、 ９）２−チオ−２，５−チアゾリジンジオン核、例えば
３−エチル−２−チオ−２，５−チアゾリジンジオン、 １０）２，４−チアゾリジンシオン核・例えば２，４−
チアゾリジンジオン、３−エチル−２，４−チアゾリジ
ンジオン、３−フェニル−２，４−チアゾリジンジオ
ン、 １１）チアゾリジノン核、例えば４−チアゾリジノン、
３−エチル−４−チアゾリジノン、

【００６０】１２）４−チアゾリノン核、例えば２−エ
チルメルカプト−５−チアゾリン−４−オン、２−アル
キルフェニルアミノ−５−チアゾリン−４−オン、 １３）２−イミノ−２−オキソゾリン−４−オン（凝ヒ
ダントイン）核、 １４）２，４−イミダゾリジンジオン（ヒダントイン）
核、例えば、２，４−イミダゾリジンジオン、３−エチ
ル−２，４−イミダゾリジンジオン、 １５）２−チオ−２，４−イミダゾリジンジオン（２−
チオヒダントイン）核、例えば２−チオ−２，４−イミ
ダゾリジンシオン、３−エチル−２−チオ−２，４−イ
ミダゾリジンジオン、 １６）２−イミダゾリン−５−オン核、例えば２−ｎ−
プロピル−メルカプト−２−イミダゾリン−５−オン、

【００６１】１７）フラン−５−オン、 １８）４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−キノリノン核もし
くは４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−ピリジノン核、例え
ばＮ−メチル−４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−キノリノ
ン、Ｎ−ｎ−ブチル−４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−キ
ノリノン、Ｎ−メチル−４−ヒドロキシ−２（１Ｈ）−
ピリジノン、 １９）置換もしくは非置換の４−ヒドロキシ−２Ｈ−ピ
ラン−２−オン、４−ヒドロキシクマリン、 ２０）置換もしくは非置換のチオインドキシル、例えば
５−メチルチオインドキシル。

【００６２】また、前記一般式（Ｉ）中、Ｚはカルコゲ
ン原子、−Ｃ（Ｙ₁）（Ｙ₂）基、を示す。ここで、
Ｙ₁、Ｙ₂は同一で異っていてもよく、−ＣＮ、−ＣＯ₂
Ｒ’、−ＳＯ₂Ｒ''を表す。Ｒ’、Ｒ''は前記と同様の
アルキル基、アリール基を示す。

【００６３】アニオン性赤外線吸収剤において好ましい
態様は、対カチオンがポジ型画像形成作用を持つもので
あり、そのような対イオンとしてはオニウム塩構造を有
するものが挙げられる。ここで、オニウム塩としては、
アンモニウム塩、ジアゾニウム塩、オキソニウム塩、ス
ルホニウム塩、セレニウム塩、ホスホニウム塩、カルボ
ニウム塩、ヨードニウム塩等が挙げられる。

【００６４】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えば S. I. Schlesinger,
Photogr. Sci. Eng., 18, 387(1974) 、T. S. Bal et a
l, Polymer, 21, 423(1980) 、特開平５−１５８２３０
号公報に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４，０６
９，０５５号、同４，０６９，０５６号、特開平３−１
４０１４０号の明細書に記載のアンモニウム塩、D. C.
Necker et al, Macromolecules, 17, 2468(1984)、C.
S. Wen et al, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p
478 Tokyo, Oct (1988)、米国特許第４，０６９，０５
５号、同４，０６９，０５６号に記載のホスホニウム
塩、J. V. Crivello et al, Macromorecules,10(6), 13
07 (1977)、Chem. & Eng. News, Nov. 28, p31 (198
8)、欧州特許第１０４，１４３号、米国特許第３３９，
０４９号、同第４１０，２０１号、特開平２−１５０８
４８号、特開平２−２９６５１４号に記載のヨードニウ
ム塩、J. V. Crivello et al, Polymer J. 17, 73 (198
5)、J. V. Crivello et al. J. Org. Chem., 43, 3055
(1978)、W. R. Watt et al, J. Polymer Sci., Polymer
Chem. Ed., 22, 1789 (1984) 、J. V. Crivello et a
l, Polymer Bull., 14, 279 (1985) 、J. V. Crivello
et al, Macromorecules, 14(5) ，1141(1981)、J. V.Cr
ivello et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed.,
17, 2877 (1979) 、欧州特許第３７０，６９３号、同２
３３，５６７号、同２９７，４４３号、同２９７，４４
２号、米国特許第４，９３３，３７７号、同３，９０
２，１１４号、同４１０，２０１号、同３３９，０４９
号、同４，７６０，０１３号、同４，７３４，４４４
号、同２，８３３，８２７号、独国特許第２，９０４，
６２６号、同３，６０４，５８０号、同３，６０４，５
８１号に記載のスルホニウム塩、J.V. Crivello et al,
Macromorecules, 10(6), 1307 (1977)、J. V. Crivell
o et al, J. Polymer Sci., Polymer Chem. Ed., 17, 1
047 (1979) に記載のセレノニウム塩、C. S. Wen et a
l, Teh, Proc. Conf. Rad. Curing ASIA, p478 Tokyo,
Oct (1988)に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。

【００６５】また、特開平９−１３４００９号に記載の
アンモニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨ
ードニウム塩等も本発明に好ましく用いることができ
る。

【００６６】オキソニウム塩は、下記一般式（Ａ）また
は一般式（Ｂ）で表される。

【００６７】

【化１６】

【００６８】式中、Ｒａ〜Ｒｄはそれぞれ独立にアルキ
ル基、アリール基を示し、Ｒｅはアルキレン基、アリー
レン基を表す。また、隣接するＲａ〜ＲｃあるいはＲｄ
とＲｅは互いに結合して環構造を形成していてもよい。

【００６９】セレニウム塩は、下記一般式（Ｃ）または
一般式（Ｄ）で表される。

【００７０】

【化１７】

【００７１】式中、Ｒｆ〜Ｒｉはそれぞれ独立にアルキ
ル基、アリール基を示し、Ｒｊはアルキレン基、アリー
レン基を表す。また、隣接するＲｆ〜ＲｇあるいはＲｉ
とＲｊは互いに結合して環構造を形成していてもよい。

【００７２】ジアゾニウム塩は、下記一般式（Ｅ）で表
される。

【００７３】

【化１８】

【００７４】式中、Ｒｋはアルキル基、アリール基を表
す。

【００７５】カルボニウム塩は、下記一般式（Ｆ）また
は一般式（Ｇ）で表される。

【００７６】

【化１９】

【００７７】式中、Ｒｌ〜Ｒｏはそれぞれ独立にアルキ
ル基、アリール基を示し、Ｒｐはアルキレン基、アリー
レン基を表す。また、隣接するＲｌ〜ＲｍあるいはＲｏ
とＲｐは互いに結合して環構造を形成していてもよい。

【００７８】また、他の好ましいオニウム塩として、下
記一般式（Ｈ）乃至一般式（Ｉ）で表されるものが挙げ
られる。

【００７９】

【化２０】

【００８０】前記式中、Ｒ^A、Ｒ^B、Ｒ^C、Ｒ^D、Ｒ^J、
Ｒ^K、Ｒ^L及びＲ^Mはそれぞれ独立にアルキル基、アリー
ル基又はアラルキル基を表し、Ｒ^A、Ｒ^B、Ｒ^C及びＲ^Dは
互いに結合して環を形成していてもよく、Ｒ^J、Ｒ^K、Ｒ
^L及びＲ^Mは互いに結合して環を形成していてもよい。Ｒ
^E、Ｒ^F及びＲ^Gはそれぞれ独立にアルキル基、又はアリ
ール基を表し、Ｒ^E、Ｒ^F及びＲ^Gは互いに結合して環を
形成していてもよい。Ｒ^H及びＲ^Iはそれぞれ独立にアル
キル基を表す。

【００８１】さらに好ましい例として、対カチオンが熱
分解性のオニウム塩である態様が挙げられる。本発明に
おいて熱分解性のオニウム塩とは、示差熱／熱重量分析
或いは融点測定器を用いて測定した場合に、分解が１０
ｍｏｌ％生ずる温度が２００℃以下のオニウム塩を指す
ものとする。このような熱分解性オニウム塩はオニウム
塩の置換基を変化させることで容易に得ることができ
る。ここで用いられる熱分解性オニウム塩としては、熱
分解性の上記要件を満たすものであれば、アンモニウム
塩、ジアゾニウム塩、オキソニウム塩、スルホニウム
塩、セレニウム塩、ホスホニウム塩、カルボニウム塩、
ヨードニウム塩等のいずれであってもよい。

【００８２】以下に一般式（Ｉ）で表されるアニオン性
赤外線吸収剤の対イオンとして好ましいオニウム塩の例
を示すが、本発明はこれらの具体例に制限されるもので
はない。

【００８３】一般式（Ａ）乃至一般式（Ｇ）で表される
好適な対カチオン部分構造の例としては以下のものが挙
げられる。

【００８４】

【化２１】

【００８５】

【化２２】

【００８６】一般式（Ｈ）で表される好適な対カチオン
部分構造の例としては以下のものが挙げられる。

【００８７】

【化２３】

【００８８】一般式（Ｉ）で表される好適な対カチオン
部分構造の例としては以下のものが挙げられる。

【００８９】

【化２４】

【００９０】

【化２５】

【００９１】一般式（Ｊ）で表される好適な対カチオン
部分構造の例としては以下のものが挙げられる。

【００９２】

【化２６】

【００９３】一般式（Ｋ）で表される好適な対カチオン
部分構造の例としては以下のものが挙げられる。

【００９４】

【化２７】

【００９５】

【化２８】

【００９６】前記一般式（Ｉ）で表されるオキソノール
系色素としては、欧州特許（以下、ＥＰと記す）第３９
７，４３５号、特許登録第２６７６２１２号に記載の色
素が挙げられる。以下に前記好適な対イオンと組み合わ
せてなるアニオン性赤外線吸収剤の好適な具体例（ＩＲ
−１）〜（ＩＲ−５４）を示すが、本発明はこれらの具
体例に制限されるものではない。化合物番号の下に共役
メチン鎖の炭素原子数を表示する。なお、本発明の前記
一般式（１）に挙げた新規なアニオン性赤外線吸収剤に
該当するものとしては、（ＩＲ−２１）、（ＩＲ−１
３）、（ＩＲ−４０）（ＩＲ−４３１）、（ＩＲ−５
３）及び（ＩＲ−５４）が挙げられる。なお、これらの
色素の構造は共鳴構造のひとつにより表すものとし、例
えば、以下の構造式は同一の分子を表す。

【００９７】

【化２９】

【００９８】

【化３０】

【００９９】

【化３１】

【０１００】

【化３２】

【０１０１】

【化３３】

【０１０２】

【化３４】

【０１０３】

【化３５】

【０１０４】

【化３６】

【０１０５】

【化３７】

【０１０６】

【化３８】

【０１０７】

【化３９】

【０１０８】

【化４０】

【０１０９】

【化４１】

【０１１０】本発明においては、これらのアニオン性赤
外線吸収剤は、感光性組成物の全固形分に対して０．０
１〜５０重量％、好ましくは０．１〜２０重量％、より
好ましくは０．５〜１５重量％の割合で添加することが
できる。添加量が０．０１重量％より少ないとこの感光
性組成物によって画像を形成することができず、５０重
量％を超えて添加すると、平版印刷版原版の感光層とし
て用いた場合に、非画像部に汚れを生じる虞がある。

【０１１１】本発明の感光性組成物には、この赤外線吸
収剤に加えて、画像形成性を向上させる目的で他の赤外
線吸収性を有する顔料あるいは染料を添加することがで
きる。顔料としては、市販の顔料およびカラーインデッ
クス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技
術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（Ｃ
ＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ
出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が利用でき
る。

【０１１２】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレンおよびペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、
キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインド
リノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔
料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔
料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用で
きる。

【０１１３】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の方
法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性
剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカッ
プリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート等）
を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表
面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、
「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）およ
び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）
に記載されている。

【０１１４】顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範
囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲
にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍ
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が０．０１μ
ｍ未満のときは分散物の感光層塗布液中での安定性の点
で好ましくなく、また、１０μｍを越えると感光層の均
一性の点で好ましくない。顔料を分散する方法として
は、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散
技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サ
ンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、
ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コ
ロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニー
ダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」
（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載がある。

【０１１５】染料としては、市販の染料および文献（例
えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４５年
刊）に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボ
ニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン
染料などの染料が挙げられる。本発明において、これら
の顔料、もしくは染料のうち赤外光、もしくは近赤外光
を吸収するものが、赤外光もしくは近赤外光を発光する
レーザでの利用に適する点で特に好ましい。

【０１１６】そのような赤外光、もしくは近赤外光を吸
収する顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ
る。また、赤外光、もしくは近赤外光を吸収する染料と
しては例えば特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９
−８４３５６号、特開昭５９−２０２８２９号、特開昭
６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、
特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９
０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されている
メチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８
−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭
５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開
昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン
染料、 特開昭５８−１１２７９２号等に記載されてい
るスクワリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載
のシアニン染料、米国特許５，３８０，６３５号に記載
のジヒドロペリミジンスクアリリウム染料等を挙げるこ
とができる。

【０１１７】また、染料として米国特許第５，１５６，
９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、ま
た、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１
４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載
のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０
５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３
号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同
５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載
されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１
４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４
７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公
平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公報に開示さ
れているピリリウム化合物、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１
７８、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ III−１３０、Ｅｐｏｌｉｇｈ
ｔ III−１２５、Ｅｐｏｌｉｇｈｔ IV −６２Ａ等は特
に好ましく用いられる。

【０１１８】また、染料として特に好ましい別の例とし
て米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式
（Ｉ）、（II）として記載されている近赤外吸収染料を
挙げることができる。これらの顔料もしくは染料は、印
刷版材料全固形分に対し０．０１〜５０重量％、好まし
くは０．１〜１０重量％、染料の場合特に好ましくは
０．５〜１０重量％、顔料の場合特に好ましくは３．１
〜１０重量％の割合で印刷版材料中に添加することがで
きる。顔料もしくは染料の添加量が０．０１重量％未満
であると感度が低くなり、また５０重量％を越えると感
光層の均一性が失われ、記録層の耐久性が悪くなる。

【０１１９】これらの染料もしくは顔料は感光性組成物
に添加して他の成分とともに感光層に添加してもよい
し、平版印刷版原版の作製にあたり、感光層以外の別の
層を設けそこへ添加してもよい。これらの染料もしくは
顔料は一種のみを添加してもよく、二種以上を混合して
使用してもよい。

【０１２０】［（ｂ）アルカリ水溶液可溶性樹脂］本発
明に使用される（ｂ）アルカリ水溶液可溶性高分子化合
物とは、高分子化合物の主鎖又は側鎖に、以下のような
酸基構造を有するものを指す。フェノール性水酸基（−
Ａｒ−ＯＨ）、カルボン酸基（−ＣＯ₃Ｈ）、スルホン
酸基（−ＳＯ₃Ｈ）、リン酸基（−ＯＰＯ₃Ｈ）、スルホ
ンアミド基（−ＳＯ₂ＮＨ−Ｒ）、置換スルホンアミド
系酸基（活性イミド基）（−ＳＯ₂ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ₂
ＮＨＳＯ₂Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ₂Ｒ）。ここで、Ａｒは置
換基を有していてもよい２価のアリール基を表し、Ｒは
置換基を有していてもよい炭化水素基を有する。なかで
も、好ましい酸基として、（ｂ−１）フェノール性水酸
基、（ｂ−２）スルホンアミド基、（ｂ−３）活性イミ
ド基が挙げられ、特に（ｂ−１）フェノール性水酸基を
有するアルカリ水溶液可溶性樹脂（以下、「フェノール
性水酸基を有する樹脂」という。）が最も好ましく用い
ることができる。

【０１２１】（ｂ−１）フェノール性水酸基を有する高
分子化合物としては、例えば、フェノールとホルムアル
デヒドとの縮重合体（以下、「フェノールホルムアルデ
ヒド樹脂」という。）、ｍ−クレゾールとホルムアルデ
ヒドとの縮重合体（以下、「ｍ−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂」という。）、ｐ−クレゾールとホルムアル
デヒドとの縮重合体、ｍ−／ｐ−混合クレゾールとホル
ムアルデヒドとの縮重合体、フェノールとクレゾール
（ｍ−、ｐ−、またはｍ−／ｐ−混合のいずれでもよ
い）とホルムアルデヒドとの縮重合体等のノボラック樹
脂、および、ピロガロールとアセトンとの縮重合体を挙
げることができる。あるいは、フェノール基を側鎖に有
するモノマーを共重合させた共重合体を用いることもで
きる。用いるフェノール基を有するモノマーとしては、
フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、また
はヒドロキシスチレン等が挙げられる。具体的には、Ｎ
−（２−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−
（３−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４
−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒ
ドロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（３−ヒド
ロキシフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロ
キシフェニル）メタクリルアミド、ｏ−ヒドロキシフェ
ニルアクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレー
ト、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、ｏ−ヒドロ
キシフェニルメタクリレート、ｍ−ヒドロキシフェニル
メタクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルメタクリレー
ト、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレ
ン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−（２−ヒドロキシフ
ェニル）エチルアクリレート、２−（３−ヒドロキシフ
ェニル）エチルアクリレート、２−（４−ヒドロキシフ
ェニル）エチルアクリレート、２−（２−ヒドロキシフ
ェニル）エチルメタクリレート、２−（３−ヒドロキシ
フェニル）エチルメタクリレート、２−（４−ヒドロキ
シフェニル）エチルメタクリレート等を好適に使用する
ことができる。高分子の重量平均分子量は５．０×１０
²〜２．０×１０⁴で、数平均分子量が２．０×１０²〜
１．０×１０⁴のものが、画像形成性の点で好ましい。
また、これらの樹脂を単独で用いるのみならず、２種類
以上を組み合わせて使用してもよい。組み合わせる場合
には、米国特許第４１２３２７９号明細書に記載されて
いるような、ｔ−ブチルフェノールとホルムアルデヒド
との縮重合体や、オクチルフェノールとホルムアルデヒ
ドとの縮重合体のような、炭素数３〜８のアルキル基を
置換基として有するフェノールとホルムアルデヒドとの
縮重合体を併用してもよい。

【０１２２】これらのフェノール性水酸基を有する樹脂
は、重量平均分子量が５００〜２００００で数平均分子
量が２００〜１００００のものが好ましい。更に、米国
特許第４１２３２７９号明細書に記載されているよう
に、ｔ−ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂、オク
チルフェノールホルムアルデヒド樹脂のような、炭素数
３〜８のアルキル基を置換基として有するフェノールと
ホルムアルデヒドとの縮合物を併用してもよい。かかる
フェノール性水酸基を有する樹脂は、１種類あるいは２
種類以上を組み合わせて使用してもよい。

【０１２３】（ｂ−２）スルホンアミド基を有するアル
カリ水可溶性高分子化合物の場合、この高分子化合物を
構成する主たるモノマーである（ｂ−２）スルホンアミ
ド基を有するモノマーとしては、１分子中に、窒素原子
上に少なくとも一つの水素原子が結合したスルホンアミ
ド基と、重合可能な不飽和結合をそれぞれ一つ以上有す
る低分子化合物からなるモノマーが挙げられる。その中
でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロキシ基
と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基または置
換スルホニルイミノ基とを有する低分子化合物が好まし
い。このような化合物としては、例えば、下記一般式
（４）〜（８）で示される合物が挙げられる。

【０１２４】

【化４２】

【０１２５】式中、Ｘ¹、Ｘ²はそれぞれ−Ｏ−又は−Ｎ
Ｒ¹⁷−を示す。Ｒ²¹、Ｒ²⁴はそれぞれ水素原子又は−Ｃ
Ｈ₃を表す。Ｒ²²、Ｒ²⁵、Ｒ²⁹、Ｒ³²、Ｒ³⁶はそれぞれ
置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン
基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレ
ン基を表す。Ｒ²³、Ｒ²⁷、Ｒ³³は水素原子、それぞれ置
換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、
シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を示
す。また、Ｒ²⁶、Ｒ²⁷は、それぞれ置換基を有していて
もよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アラルキル基を示す。Ｒ²⁸、Ｒ³⁰、Ｒ
³⁴は水素原子又は−ＣＨ₃を表す。Ｒ³¹、Ｒ^{3 5}はそれぞ
れ単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２
のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又
はアラルキレン基を表す。Ｙ¹、Ｙ²はそれぞれ単結合ま
たは−ＣＯ−を表す。

【０１２６】具体的には、ｍ−アミノスルホニルフェニ
ルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニ
ル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフ
ェニル）アクリルアミド等を好適に使用することができ
る。

【０１２７】（ｂ−３）活性イミド基を有するアルカリ
水可溶性高分子化合物の場合、下記式で表される活性イ
ミド基を分子内に有するものであり、この高分子化合物
を構成する主たるモノマーである（ｂ−３）活性イミド
基を有するモノマーとしては、１分子中に、下記の式で
表される活性イミノ基と、重合可能な不飽和結合をそれ
ぞれ一つ以上有する低分子化合物からなるモノマーが挙
げられる。

【０１２８】

【化４３】

【０１２９】このような化合物としては、具体的には、
Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ
−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適
に使用することができる。

【０１３０】本発明に用い得るアルカリ水可溶性共重合
体は、前記（ｂ−１）から（ｂ−３）の酸性基を含むモ
ノマーは、１種類である必要はなく、同一の酸性基を有
するモノマーを２種以上、または、異なる酸性基を有す
るモノマーを２種以上共重合させたものも用いることも
できる。共重合の方法としては、従来知られている、グ
ラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共重合法
等を用いることができる。

【０１３１】前記共重合体は、共重合させる（ｂ−１）
から（ｂ−３）の酸性基を有するモノマーを共重合成分
として１０モル％以上含んでいることが好ましく、２０
モル％以上含むものがより好ましい。共重合成分が１０
モル％より少ないと、フェノール性水酸基を有する樹脂
との相互作用が不十分となり共重合成分を用いる場合の
利点である現像ラチチュードの向上効果が不充分とな
る。

【０１３２】また、この共重合体には、前記（ｂ−１）
から（ｂ−３）の酸性基を含むモノマー以外の他の共重
合成分を含んでいてもよい。共重合体成分として用いう
るモノマーの例としては、下記（１）〜（１２）に挙げ
るモノマーを用いることができる。

【０１３３】（１）例えば、２−ヒドロキシエチルアク
リレートまたは２−ヒドロキシエチルメタクリレート等
の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、および
メタクリル酸エステル類。 （２）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、ア
クリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベ
ンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルア
クリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート等
のアルキルアクリレート。 （３）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸
アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘ
キシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−ク
ロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチル
アミノエチルメタクリレート等のアルキルメタクリレー
ト。 （４）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−
ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリ
ルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−
フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリル
アミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等の
アクリルアミドもしくはメタクリルアミド。 （５）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニル
エーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピル
ビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニ
ルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテ
ル類。 （６）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビ
ニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 （７）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 （８）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロ
ピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケ
トン類。 （９）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエ
ン、イソプレン等のオレフィン類。 （１０）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾー
ル、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル等。 （１１）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミ
ド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニル
メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 （１２）アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン酸、
イタコン酸等の不飽和カルボン酸。

【０１３４】本発明においてアルカリ水可溶性高分子化
合物としては、単独重合体、共重合体に係わらず、重量
平均分子量が２０００以上、数平均分子量が５００以上
のものが膜強度の点で好ましい。さらに好ましくは、重
量平均分子量が５０００〜３０００００、数平均分子量
が８００〜２５００００であり、分散度（重量平均分子
量／数平均分子量）が１．１〜１０のものである。

【０１３５】前記共重合体において、（ｂ−１）〜（ｂ
−３）の酸性基を有するモノマーと、他のモノマーとの
配合重量比が、現像ラチチュードの点から５０：５０か
ら５：９５の範囲にあるものが好ましく、４０：６０か
ら１０：９０の範囲にあるものがより好ましい。

【０１３６】これらアルカリ水可溶性高分子化合物は、
それぞれ１種類あるいは２種類以上を組み合わせて使用
してもよく、全感光性組成物固形分中、３０〜９９重量
％、好ましくは４０〜９５重量％、特に好ましくは５０
〜９０重量％の添加量で用いられる。アルカリ可溶性の
高分子化合物の添加量が３０重量％未満であると記録層
の耐久性が悪化し、また、９９重量％を越えると感度、
耐久性の両面で好ましくない。

【０１３７】〔その他の成分〕本発明の感光性組成物に
は、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することが
できる。例えば、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホ
ン酸エステル化合物等の熱分解性であり、分解しない状
態ではアルカリ水可溶性高分子化合物の溶解性を実質的
に低下させる物質を併用することは、画像部の現像液へ
の溶解阻止性の向上を図る点では、好ましい。

【０１３８】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第４，１１５，
１２８号明細書に記載されている無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３，
６−エンドオキシ−Δ４−テトラヒドロ無水フタル酸、
テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロル無
水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハ
ク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェノー
ル類としては、ビスフェノールＡ、ｐ−ニトロフェノー
ル、ｐ−エトキシフェノール、２，４，４′−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、４−ヒドロキシベンゾフェノン、４，
４′，４″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、４，
４′，３″，４″−テトラヒドロキシ−３，５，３′，
５′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙げられ
る。更に、有機酸類としては、特開昭６０−８８９４２
号、特開平２−９６７５５号公報などに記載されてい
る、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸類、
ホスホン酸類、リン酸エステル類およびカルボン酸類な
どがあり、具体的には、ｐ−トルエンスルホン酸、ドデ
シルベンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルフィン酸、
エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフィン
酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香酸、イ
ソフタル酸、アジピン酸、ｐ−トルイル酸、３，４−ジ
メトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、４−シク
ロヘキセン−１，２−ジカルボン酸、エルカ酸、ラウリ
ン酸、ｎ−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが挙げら
れる。上記の環状酸無水物、フェノール類および有機酸
類の印刷版材料中に占める割合は、０．０５〜２０重量
％が好ましく、より好ましくは０．１〜１５重量％、特
に好ましくは０．１〜１０重量％である。

【０１３９】また、本発明における印刷版材料中には、
現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭６
２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９号公
報に記載されているような両性界面活性剤を添加するこ
とができる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ
（アミノエチル）グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル
−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやＮ
−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型（例えば、商品名
「アモーゲンＫ」：第一工業（株）製）等が挙げられ
る。上記非イオン界面活性剤および両性界面活性剤の印
刷版材料中に占める割合は、０．０５〜１５重量％が好
ましく、より好ましくは０．１〜５重量％である。

【０１４０】本発明における印刷版材料中には、露光に
よる加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画
像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼
き出し剤としては、露光による加熱によって酸を放出す
る化合物（光酸放出剤）と塩を形成し得る有機染料の組
合せを代表として挙げることができる。具体的には、特
開昭５０−３６２０９号、同５３−８１２８号の各公報
に記載されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スル
ホン酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開
昭５３−３６２２３号、同５４−７４７２８号、同６０
−３６２６号、同６１−１４３７４８号、同６１−１５
１６４４号および同６３−５８４４０号の各公報に記載
されているトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の
組合せを挙げることができる。かかるトリハロメチル化
合物としては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化
合物とがあり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き
出し画像を与える。

【０１４１】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料を挙げることができる。具体的にはオイルイエロ
ー＃１０１、オイルイエロー＃１０３、オイルピンク＃
３１２、オイルグリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オ
イルブルー＃６０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラ
ックＢＳ、オイルブラックＴ−５０５（以上オリエント
化学工業（株）製）、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット（ＣＩ４２５５５）、メチルバイオレ
ット（ＣＩ４２５３５）、エチルバイオレット、ローダ
ミンＢ（ＣＩ１４５１７０Ｂ）、マラカイトグリーン
（ＣＩ４２０００）、メチレンブルー（ＣＩ５２０１
５）などを挙げることができる。また、特開昭62−2932
47号公報に記載されている染料は特に好ましい。これら
の染料は、印刷版材料全固形分に対し、０．０１〜１０
重量％、好ましくは０．１〜３重量％の割合で印刷版材
料中に添加することができる。更に本発明の印刷版材料
中には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可
塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチ
レングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチ
ル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸
ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、
リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリ
ル、アクリル酸またはメタクリル酸のオリゴマーおよび
ポリマー等が用いられる。

【０１４２】さらに、これら以外にも、エポキシ化合
物、ビニルエーテル類、さらには特開平８−２７６５５
８号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノー
ル化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合
物及び本発明者らが先に提案した特願平９−３２８９３
７号明細書に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する架橋
性化合物等を目的に応じて適宜添加することができる。

【０１４３】本発明の感光性組成物を含む感光層塗布液
や、保護層等の所望の層の塗布液用成分を溶媒に溶かし
て、適当な支持体上に塗布することにより平版印刷版原
版を製造することができる。ここで使用する溶媒として
は、エチレンジクロライド、シクロヘキサノン、メチル
エチルケトン、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、エチレングリコールモノメチルエーテル、１−メト
キシ−２−プロパノール、２−メトキシエチルアセテー
ト、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、ジメトキ
シエタン、乳酸メチル、乳酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラ
メチルウレア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホ
キシド、スルホラン、γ−ブチロラクトン、トルエン、
水等を挙げることができるがこれに限定されるものでは
ない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用され
る。溶媒中の上記成分（添加剤を含む全固形分）の濃度
は、好ましくは１〜５０重量％である。また塗布、乾燥
後に得られる支持体上の塗布量（固形分）は、用途によ
って異なるが、感光性印刷版についていえば一般的に
０．５〜５．０ｇ／ｍ²が好ましい。塗布する方法とし
ては、種々の方法を用いることができるが、例えば、バ
ーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗
布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、
ロール塗布等を挙げることができる。塗布量が少なくな
るにつれて、見かけの感度は大になるが、感光層の皮膜
特性は低下する。

【０１４４】本発明における感光性組成物を用いた感光
層塗布液中には、塗布性を良化するための界面活性剤、
例えば特開昭６２−１７０９５０号公報に記載されてい
るようなフッ素系界面活性剤を添加することができる。
好ましい添加量は、全印刷版材料の０．０１〜１重量％
さらに好ましくは０．０５〜０．５重量％である。

【０１４５】本発明の平版印刷版原版に使用される支持
体としては、寸度的に安定な板状物であり、例えば、
紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板
（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチック
フィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロー
ス、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪
酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタ
レート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレ
ン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上
記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、
もしくはプラスチックフィルム等が含まれる。

【０１４６】本発明の平版印刷版原版に用いられる支持
体としては、ポリエステルフィルム又はアルミニウム板
が好ましく、その中でも寸法安定性がよく、比較的安価
であるアルミニウム板は特に好ましい。好適なアルミニ
ウム板は、純アルミニウム板およびアルミニウムを主成
分とし、微量の異元素を含む合金板であり、更にアルミ
ニウムがラミネートもしくは蒸着されたプラスチックフ
ィルムでもよい。アルミニウム合金に含まれる異元素に
は、ケイ素、鉄、マンガン、銅、マグネシウム、クロ
ム、亜鉛、ビスマス、ニッケル、チタンなどがある。合
金中の異元素の含有量は高々１０重量％以下である。本
発明において特に好適なアルミニウムは、純アルミニウ
ムであるが、完全に純粋なアルミニウムは精錬技術上製
造が困難であるので、僅かに異元素を含有するものでも
よい。このように本発明に適用されるアルミニウム板
は、その組成が特定されるものではなく、従来より公知
の素材のアルミニウム板を適宜に利用することができ
る。本発明で用いられるアルミニウム板の厚みはおよそ
０．１ｍｍ〜０．６ｍｍ程度、好ましくは０．１５ｍｍ
〜０．４ｍｍ、特に好ましくは０．２ｍｍ〜０．３ｍｍ
である。

【０１４７】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤またはアルカリ性水溶液などによる脱脂
処理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理
は、種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗
面化する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法
および化学的に表面を選択溶解させる方法により行われ
る。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨
法、ブラスト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用
いることができる。また、電気化学的な粗面化法として
は塩酸または硝酸電解液中で交流または直流により行う
方法がある。また、特開昭５４−６３９０２号公報に開
示されているように両者を組み合わせた方法も利用する
ことができる。この様に粗面化されたアルミニウム板
は、必要に応じてアルカリエッチング処理および中和処
理された後、所望により表面の保水性や耐摩耗性を高め
るために陽極酸化処理が施される。アルミニウム板の陽
極酸化処理に用いられる電解質としては、多孔質酸化皮
膜を形成する種々の電解質の使用が可能で、一般的には
硫酸、リン酸、蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が
用いられる。それらの電解質の濃度は電解質の種類によ
って適宜決められる。

【０１４８】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が１〜８０重量％溶液、液温は５〜７０℃、電流
密度５〜６０Ａ／ｄｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間
１０秒〜５分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は１．０ｇ／ｍ²より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第２，７
１４，０６６号、同第３，１８１，４６１号、第３，２
８０，７３４号および第３，９０２，７３４号に開示さ
れているようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸
ナトリウム水溶液）法がある。この方法においては、支
持体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか、ま
たは電解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公
報に開示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米
国特許第３，２７６，８６８号、同第４，１５３，４６
１号、同第４，６８９，２７２号に開示されているよう
なポリビニルホスホン酸で処理する方法などが用いられ
る。

【０１４９】本発明の平版印刷版原版は、支持体上に本
発明の感光性組成物を含むポジ型の感光層を設けたもの
であるが、必要に応じてその間に下塗層を設けることが
できる。下塗層成分としては種々の有機化合物が用いら
れ、例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリ
ン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などの
アミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよい
フェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホ
スホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸
およびエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置
換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、
アルキルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン
酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフ
チルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセ
ロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ
−アラニンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールア
ミンの塩酸塩などのヒドロキシ基を有するアミンの塩酸
塩等から選ばれるが、２種以上混合して用いてもよい。

【０１５０】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水またはメタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれら
の混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアル
ミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水または
メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有
機溶剤もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を
溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合
物を吸着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有
機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の
有機化合物の０．００５〜１０重量％の濃度の溶液を種
々の方法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃
度は０．０１〜２０重量％、好ましくは０．０５〜５重
量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５
〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好まし
くは２秒〜１分である。これに用いる溶液は、アンモニ
ア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物
質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨ１〜１２
の範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の
調子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、２〜２００ｍｇ／ｍ²が適
当であり、好ましくは５〜１００ｍｇ／ｍ²である。上
記の被覆量が２ｍｇ／ｍ²よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、２００ｍｇ／ｍ²より大きくて
も同様である。

【０１５１】上記のようにして作製されたポジ型平版印
刷版原版は、通常、像露光、現像処理を施される。像露
光に用いられる活性光線の光源としては、例えば、水銀
灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカル
ランプ、カーボンアーク灯等がある。放射線としては、
電子線、Ｘ線、イオンビーム、遠赤外線などがある。ま
たｇ線、ｉ線、Ｄｅｅｐ−ＵＶ光、高密度エネルギービ
ーム（レーザービーム）も使用される。レーザービーム
としてはヘリウム・ネオンレーザー、アルゴンレーザ
ー、クリプトンレーザー、ヘリウム・カドミウムレーザ
ー、ＫｒＦエキシマレーザー、固体レーザー、半導体レ
ーザー等が挙げられる。本発明においては、近赤外から
赤外領域に発光波長を持つ光源が好ましく、固体レー
ザ、半導体レーザが特に好ましい。

【０１５２】本発明の平版印刷版原版の現像液および補
充液としては従来より知られているアルカリ水溶液が使
用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウ
ム、第３リン酸ナトリウム、第３リン酸カリウム、第３
リン酸アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、第２リン
酸カリウム、第２リン酸アンモニウム、炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム、炭酸アンモニウム、炭酸水素ナトリ
ウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウム、ほう
酸ナトリウム、ほう酸カリウム、ほう酸アンモニウム、
水酸化ナトリウム、水酸化アンモニウム、水酸化カリウ
ムおよび水酸化リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げら
れる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリ
メチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、ト
リエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロ
ピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミ
ン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ
エタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイ
ソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジア
ミン、ピリジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。

【０１５３】これらのアルカリ剤は単独もしくは２種以
上を組み合わせて用いられる。これらのアルカリ剤の中
で特に好ましい現像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム等のケイ酸塩水溶液である。その理由はケイ酸塩
の成分である酸化珪素ＳｉＯ₂とアルカリ金属酸化物Ｍ₂
Ｏの比率と濃度によって現像性の調節が可能となるため
であり、例えば、特開昭５４−６２００４号公報、特公
昭５７−７４２７号公報に記載されているようなアルカ
リ金属ケイ酸塩が有効に用いられる。

【０１５４】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液（補充液）
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のＰＳ版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液および補充液には、現像性の
促進や抑制、現像カスの分散および印刷版画像部の親イ
ンキ性を高める目的で、必要に応じて種々の界面活性剤
や有機溶剤を添加できる。好ましい界面活性剤として
は、アニオン系、カチオン系、ノニオン系および両性界
面活性剤が挙げられる。更に現像液および補充液には必
要に応じて、ハイドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜
硫酸水素酸などの無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等
の還元剤、更に有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を
加えることもできる。上記現像液および補充液を用いて
現像処理された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有す
るリンス液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化
液で後処理される。本発明の画像記録材料を印刷版とし
て使用する場合の後処理としては、これらの処理を種々
組み合わせて用いることができる。

【０１５５】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化および標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用
いられている。この自動現像機は、一般に現像部と後処
理部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽およ
びスプレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬
送しながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノ
ズルから吹き付けて現像処理するものである。また、最
近は処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロール
などによって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知
られている。このような自動処理においては、各処理液
に処理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処
理することができる。また、実質的に未使用の処理液で
処理するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。

【０１５６】本発明の感光性組成物を用いた感光性平版
印刷版原版について説明する。画像露光し、現像し、水
洗及び／又はリンス及び／又はガム引きして得られた平
版印刷版に不必要な画像部（例えば原画フィルムのフィ
ルムエッジ跡など）がある場合には、その不必要な画像
部の消去が行われる。このような消去は、例えば特公平
２−１３２９３号公報に記載されているような消去液を
不必要画像部に塗布し、そのまま所定の時間放置したの
ちに水洗することにより行う方法が好ましいが、特開平
５９−１７４８４２号公報に記載されているようなオプ
ティカルファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部
に照射したのち現像する方法も利用できる。

【０１５７】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力の平版印刷版と
したい場合にはバーニング処理が施される。平版印刷版
をバーニング処理する場合には、該バーニング処理前
に、特公昭６１−２５１８号、同５５−２８０６２号、
特開昭６２−３１８５９号、同６１−１５９６５５号の
各公報に記載されているような整面液で処理することが
好ましい。その方法としては、該整面液を浸み込ませた
スポンジや脱脂綿にて、平版印刷版上に塗布するか、整
面液を満たしたバット中に印刷版を浸漬して塗布する方
法や、自動コーターによる塗布などが適用される。ま
た、塗布した後でスキージ、あるいは、スキージローラ
ーで、その塗布量を均一にすることは、より好ましい結
果を与える。

【０１５８】整面液の塗布量は一般に０．０３〜０．８
ｇ／ｍ²（乾燥重量）が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー（たとえば富士写真フイルム（株）より販
売されているバーニングプロセッサー：「ＢＰ−１３０
０」）などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
１８０〜３００℃の範囲で１〜２０分の範囲が好まし
い。

【０１５９】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行われて
いる処理を施こすことができるが、水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合には、ガム引きな
どのいわゆる不感脂化処理を省略することができる。こ
の様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印
刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。

【０１６０】

【実施例】以下、本発明を、アニオン性赤外線吸収剤の
合成例及び実施例に従って説明するが、本発明の範囲は
これらの合成例、実施例に限定されない。まず、本発明
の新規なアニオン性赤外線吸収剤の合成例について説明
する。 ［アニオン性赤外線吸収剤（ＩＲ−２１）の合成］合成
は下記スキームに準じて行った。

【０１６１】

【化４４】

【０１６２】Ａ−１（０．０４ｍｏｌ）、Ａ−３（０．
０２ｍｏｌ）、及びエタノール（４０ｍｌ）の入ったビ
ーカーにトリエチルアミン（０．０８ｍｏｌ）を加え、
室温で３０分撹拌後５０℃で１０分間撹拌すると黒色の
懸濁液となった。この液を４０ｍｌの水に入れ、析出し
た固体を濾取した。この固体は¹Ｈ−ＮＭＲから先に例
示化合物として挙げた（ＩＲ−５３）であることを確認
した。図３にそのチャートを示した。また吸収極大はλ
ｍａｘ＝７９８ｎｍ（ＭｅＯＨ）であった。 （ＩＲ−２１への塩交換）（ＩＲ−５３）のＤＭＳＯ溶
液を、テトラブチルアンモニウムブロミドの水溶液に滴
下し、析出した固体を濾取した。さらなる精製としてア
セトン／ヘキサンからリスラリーを行い（ＩＲ−２１）
を得た。このように対カチオンの変更は容易に行うこと
ができるため、他のカチオンを有する化合物も同様に合
成することが可能である。構造の確認は¹Ｈ−ＮＭＲに
より行った。このデータを図１に示した。ｍｐを測定し
たところ、１５５〜１５６℃であった。また吸収極大は
λｍａｘ＝７９８ｎｍ（ＭｅＯＨ）であった。

【０１６３】［アニオン性赤外線吸収剤（ＩＲ−１３）
の合成］合成は下記スキームに準じて行った。

【０１６４】

【化４５】

【０１６５】Ａ−２（０．０４ｍｏｌ）、Ａ−３（０．
０２ｍｏｌ）、及びメタノール（４０ｍｌ）の入ったビ
ーカーにトリエチルアミン（０．０８ｍｏｌ）を１分間
かけて滴下し、室温で１時間撹拌すると濃青色の懸濁液
となった。この液にテトラブチルアンモニウムブロミド
（１０ｇ）を加え、さらに５分撹拌すると濃青色固体が
析出する。この固体を濾取し、シリカゲルカラムクロマ
トグラフィー（酢酸エチル／メタノール展開）で精製し
（ＩＲ−１３）を得た。構造は¹Ｈ−ＮＭＲ、により確
認した。チャートを図２に示した。ｍｐを測定したとこ
ろ、１８０〜１８４℃であった。また吸収極大はλｍａ
ｘ＝８１１ｎｍ（ＭｅＯＨ）であった。

【０１６６】以上のように新規なアニオン性赤外線吸収
剤である（ＩＲ−２１）、（ＩＲ−１３）はインダンジ
オン基に置換基を導入することにより吸収を長波長に
し、且つ分子吸光係数も高くなっていることが分かる。

【０１６７】また、本発明の感光性組成物に有用な他の
アニオン性赤外線吸収剤の合成も、下記スキームに示す
如く活性メチレンを有する化合物とメチレン鎖供与体と
を塩基の存在下で縮合させることにより行うことができ
る。この合成方法は、色素の一般的な合成法、例えば、
「染料と薬品」（１９９１年）第２７４〜２８９頁に記
載されたオキソノール色素の合成法に準じて行うことが
できる。

【０１６８】

【化４６】

【０１６９】メチレン鎖供与体の例としては、以下の構
造が挙げられる。

【０１７０】

【化４７】

【０１７１】（合成例１：化合物ＩＲ−８の合成）Ａ−
１（１０ｍｍｏｌ）、Ａ−２（５ｍｍｏｌ）と、メタノ
ール（２０ｍｌ）とをビーカーに入れ、トリエチルアミ
ン（２０ｍｍｏｌ）を１０分間かけて滴下し、室温で２
時間攪拌した。この液にテトラブチルアンモニウムブロ
ミド（１０ｍｍｏｌ）を加え、さらに２０分間攪拌する
と固体が析出した。析出した固体をろ取し、シリカゲル
カラムクロマトグラフィーで精製し、さらに酢酸エチル
／ヘキサンでリスラリーし、ＩＲ−８を収率２５％で得
た。ＩＲ−８の構造は、質量分析、¹Ｈ−ＮＭＲ、赤外
線吸収スペクトルで確認した。

【０１７２】

【化４８】

【０１７３】（合成例２：化合物ＩＲ−１０の合成）ト
リフェニルスルホニウムクロリド（１０ｍｍｏｌ）のメ
タノール／水溶液に化合物ＩＲ−８（１ｍｍｏｌ）を加
え、析出した結晶をろ取した。同様の操作を３回繰り返
して塩交換を行い、ＩＲ−１０を収率５０％で得た。Ｉ
Ｒ−１０の構造は、質量分析、¹Ｈ−ＮＭＲ、赤外線吸
収スペクトルで確認した。同様にして、ＩＲ−９、ＩＲ
−３７及びＩＲ−４４も合成できる。

【０１７４】（合成例３：化合物ＩＲ−１５の合成）Ａ
−３（１０ｍｍｏｌ）、Ａ−２（５ｍｍｏｌ）と、メタ
ノール（２０ｍｌ）とをビーカーに入れ、トリエチルア
ミン（２０ｍｍｏｌ）を１０分間かけて滴下し、室温１
２時間攪拌した。この液にテトラブチルアンモニウムブ
ロミド（１０ｍｍｏｌ）を加え、さらに２０分間攪拌す
ると固体が析出した。析出した固体をろ取し、シリカゲ
ルカラムクロマトグラフィーで精製し、さらに酢酸エチ
ル／ヘキサンでリスラリーし、ＩＲ−１５を収率３５％
で得た。ＩＲ−１５の構造は、質量分析、¹Ｈ−ＮＭ
Ｒ、赤外線吸収スペクトルで確認した。

【０１７５】

【化４９】

【０１７６】前記ＩＲ−１５の塩交換によりＩＲ−５１
を合成することができる。

【０１７７】（合成例４：化合物ＩＲ−１２の合成）合
成例１において、Ａ−２を下記Ａ−４に変更し、テトラ
ブチルアンモニウムブロミドを下記式で示される化合物
に変更したほかは、合成例１と同様にして、ＩＲ−１２
を収率２０％で得た。ＩＲ−１２の構造は、質量分析、
¹Ｈ−ＮＭＲ、赤外線吸収スペクトルで確認した。

【０１７８】

【化５０】

【０１７９】（合成例５：化合物ＩＲ−２７の合成）合
成例３において、Ａ−２を上記Ａ−４に変更したほか
は、合成例３と同様にして、ＩＲ−２７を収率１２％で
得た。ＩＲ−２７の構造は、質量分析、¹Ｈ−ＮＭＲ、
赤外線吸収スペクトルで確認した。前記ＩＲ−２７の塩
交換によりＩＲ−４８及びＩＲ−４９を合成することが
できる。

【０１８０】（実施例１〜１１） 〔基板の作製〕厚み０．３ｍｍのアルミニウム板（材質
１０５０）をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
の板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに２０％硝酸
に２０秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約３ｇ／ｍ ²であった。次にこの板を７
％硫酸を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ²で３ｇ／
ｍ²の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、
さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を９０℃で１分乾
燥した。乾燥後の塗膜の塗布量は１０ｍｇ／ｍ ²であっ
た。

【０１８１】 ＜下塗り液の組成＞ β−アラニン ０．５ｇ メタノール ９５ ｇ 水 ５ ｇ

【０１８２】得られた基板に以下の感光液１において赤
外線吸収剤を下記表１のように変えたものを調製し、そ
れぞれを塗布量が１．８ｇ／ｍ²になるよう塗布し、実
施例１〜１１の平版印刷版原版を得た。

【０１８３】 ＜感光液１の組成＞ ・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平 均分子量３５００、未反応クレゾール０．５重量％含有）１．０ ｇ ※アルカリ水可溶性高分子化合物 ・表１に記載の赤外線吸収剤 ０．２ ｇ ※一般式（Ｉ）で表される化合物 ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対アニオンを１−ナフタレ ンスルホン酸アニオンにした染料 ０．０２ｇ ・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本イン キ化学工業（株）製） ０．０５ｇ ・γ−ブチロラクトン ３ ｇ ・メチルエチルケトン ８ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ７ ｇ

【０１８４】（実施例１２〜２２） 〔アルカリ水溶液可溶性高分子化合物としての共重合体
の合成〕 ＜合成例（共重合体１）＞攪拌機、冷却管及び滴下ロー
トを備えた５００ｍｌ三ツ口フラスコにメタクリル酸３
１．０ｇ（０．３６モル）、クロロギ酸エチル３９．１
ｇ（０．３６モル）及びアセトニトリル２００ｍｌを入
れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この混合
物にトリエチルアミン３６．４ｇ（０．３６モル）を約
１時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、
氷水浴をとり去り、室温下で３０分間混合物を攪拌し
た。

【０１８５】この反応混合物に、ｐ−アミノベンゼンス
ルホンアミド５１．７ｇ（０．３０モル）を加え、油浴
にて７０℃に温めながら混合物を１時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水１リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、３０分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水５００ｍ
ｌでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりＮ−（ｐ−アミノスルホニ
ルフェニル）メタクリルアミドの白色固体が得られた
（収量４６．９ｇ）。

【０１８６】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た１００ｍｌ三ツ口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノスル
ホニルフェニル）メタクリルアミド５．０４ｇ（０．０
２１０モル）、メタクリル酸エチル２．０５ｇ（０．０
１８０モル）、アクリロニトリル１．１１ｇ（０．０２
１モル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇを入
れ、湯水浴により６５℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「Ｖ−６５」（和光純薬（株）製）
０．１５ｇを加え６５℃に保ちながら窒素気流下２時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにＮ−（ｐ−
アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド５．０４
ｇ、メタクリル酸エチル２．０５ｇ、アクリロニトリル
１．１１ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇ及び
「Ｖ−６５」０．１５ｇの混合物を２時間かけて滴下ロ
ートにより滴下した。滴下終了後さらに６５℃で２時間
得られた混合物を攪拌した。反応終了後メタノール４０
ｇを混合物に加え、冷却し、得られた混合物を水２リッ
トルにこの水を攪拌しながら投入し、３０分混合物を攪
拌した後、析出物をろ過により取り出し、乾燥すること
により１５ｇの白色固体を得た。ゲルパーミエーション
クロマトグラフィーによりこの共重合体１の重量平均分
子量（ポリスチレン標準）を測定したところ５３，００
０であった。

【０１８７】実施例１〜１１で用いた基板と同様のもの
に、以下の感光液２において赤外線吸収剤を下記表２の
ように変えたものを調製し、それぞれを塗布量が１．８
ｇ／ｍ²になるよう塗布し、実施例１２〜２２の平版印
刷版原版を得た。 ＜感光液２の組成＞ ・前記共重合体１ １．０ ｇ ・表２の赤外線吸収剤 ０．１ ｇ ※一般式（Ｉ）で表される化合物 ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対アニオンを１−ナフタレ ンスルホン酸アニオンにした染料 ０．０２ ｇ ・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本イン キ化学工業（株）製） ０．０５ ｇ ・γ−ブチロラクトン ８ ｇ ・メチルエチルケトン ８ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール ４ ｇ

【０１８８】（比較例１〜２）実施例１において、感光
液１に配合された一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収剤
を下記構造で示す赤外線吸収剤Ｂ−１、Ｂ−２に代えた
以外は、実施例１とまったく同様にして比較例１〜４の
平版印刷版原版を得た。

【０１８９】

【化５１】

【０１９０】（比較例３〜４）実施例１１において、感
光液２に配合された一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収
剤を前記構造で示した赤外線吸収剤Ｂ−１、Ｂ−２に代
えた以外は、実施例１１とまったく同様にして比較例３
〜４の平版印刷版原版を得た。

【０１９１】（実施例２３〜３３） ＜合成例（共重合体２）＞攪拌機、冷却管及び滴下ロー
トを備えた５００ｍｌ三ツ口フラスコにメタクリル酸３
１．０ｇ（０．３６モル）、クロロギ酸エチル３９．１
ｇ（０．３６モル）及びアセトニトリル２００ｍｌを入
れ、氷水浴で冷却しながら混合物を攪拌した。この混合
物にトリエチルアミン３６．４ｇ（０．３６モル）を約
１時間かけて滴下ロートにより滴下した。滴下終了後、
氷水浴をとり去り、室温下で３０分間混合物を攪拌し
た。

【０１９２】この反応混合物に、ｐ−アミノベンゼンス
ルホンアミド５１．７ｇ（０．３０モル）を加え、油浴
にて７０℃に温めながら混合物を１時間攪拌した。反応
終了後、この混合物を水１リットルにこの水を攪拌しな
がら投入し、３０分間得られた混合物を攪拌した。この
混合物をろ過して析出物を取り出し、これを水５００ｍ
ｌでスラリーにした後、このスラリーをろ過し、得られ
た固体を乾燥することによりＮ−（ｐ−アミノスルホニ
ルフェニル）メタクリルアミドの白色固体が得られた
（収量４６．９ｇ）。

【０１９３】次に攪拌機、冷却管及び滴下ロートを備え
た２０ｍｌ三ツ口フラスコに、Ｎ−（ｐ−アミノスルホ
ニルフェニル）メタクリルアミド４．６１ｇ（０．０１
９２モル）、メタクリル酸エチル２．９４ｇ（０．０２
５８モル）、アクリロニトリル０．８０ｇ（０．０１５
モル）及びＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド２０ｇを入
れ、湯水浴により６５℃に加熱しながら混合物を攪拌し
た。この混合物に「Ｖ−６５」（和光純薬（株）製）
０．１５ｇを加え６５℃に保ちながら窒素気流下２時間
混合物を攪拌した。この反応混合物にさらにＮ−（ｐ−
アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド４．６１
ｇ、メタクリル酸エチル２．９４ｇ、アクリロニトリル
０．８０ｇ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド及び「Ｖ−
６５」０．１５ｇの混合物を２時間かけて滴下ロートに
より滴下した。滴下終了後さらに６５℃で２時間得られ
た混合物を攪拌した。反応終了後メタノール４０ｇを混
合物に加え、冷却し、得られた混合物を水２リットルに
この水を攪拌しながら投入し、３０分混合物を攪拌した
後、析出物をろ過により取り出し、乾燥することにより
１５ｇの白色固体を得た。ゲルパーミエーションクロマ
トグラフィーによりこの共重合体２の重量平均分子量
（ポリスチレン標準）を測定したところ５３，０００で
あった。

【０１９４】実施例１〜１１で用いた基板と同様のもの
に、以下の感光液３において赤外線吸収剤を下記表３の
ように変えたものを調製し、それぞれを塗布量が１．８
ｇ／ｍ²になるよう塗布し、実施例２３〜３３の平版印
刷版原版を得た。

【０１９５】 ＜感光液３の組成＞ ・前記共重合体２ ０．７５ｇ ・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ，ｐ比＝６／４、 重量平均分子量３，５００、未反応クレゾール０．５重量％含有） ０．２５ｇ ・テトラヒドロ無水フタル酸 ０．０３ｇ ・表３の赤外線吸収剤 ０．０１７ｇ ※一般式（Ｉ）で表される化合物 ・ビクトリアピュアブルーＢＯＨの対イオンを１−ナフ タレンスルホン酸アニオンにした染料 ０．０１５ｇ ・フッ素系界面活性剤（メガファックＦ−１７７、大日本イン キ化学工業（株）製） ０．０５ ｇ ・γ−ブチロラクトン １０ ｇ ・メチルエチルケトン １０ ｇ ・１−メトキシ−２−プロパノール １ ｇ

【０１９６】（比較例５〜６）実施例２３において、感
光液３に配合された一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収
剤を前記構造で示した赤外線吸収剤Ｂ−１、Ｂ−２に代
えた以外は、実施例２３とまったく同様にして比較例５
〜６の平版印刷版原版を得た。

【０１９７】〔平版印刷版原版の性能評価〕前記のよう
にして作製した実施例１〜３３、および比較例１〜６の
各平版印刷版原版について、下記の基準により性能評価
を行った。評価結果を表１乃至表３に示す。

【０１９８】（画像形成性：感度及び現像ラチチュード
の評価）得られた平版印刷版原版を、波長８４０ｎｍ半
導体レーザを用いて露光した後、富士写真フイルム
（株）製現像液ＤＰ−４、リンス液ＦＲ−３（１：７）
を仕込んだ自動現像機（富士写真フイルム（株）製：
「ＰＳプロセッサー９００ＶＲ」）を用いて現像した。
その際、ＤＰ−４は１：６で希釈したもの及び１：１２
で希釈したものの二水準を使用し、それぞれの現像液に
て得られた非画像部の線幅を測定し、その線幅に相当す
るレーザーの照射エネルギーを求めて、これを感度とし
た。そして、標準である１：６で希釈したものと、１：
１２で希釈したものとの差を記録した。その差が小さい
ほど現像ラチチュードが良好であり、２０ｍＪ／ｃｍ²
以下であれば、実用可能なレベルである。

【０１９９】（保存安定性の評価）得られた平版印刷版
原版を、レーザー露光する前に６０℃で３日間保存し、
その後前記と同様にレーザ露光および現像を行い、同様
に感度を測定して前記の結果と比較した。感度の変動
は、２０ｍＪ／ｃｍ²以下であれば保存安定性は良好で
あり、実用可能なレベルであると評価した。

【０２００】

【表１】

【０２０１】

【表２】

【０２０２】

【表３】

【０２０３】表１乃至表３の結果より、実施例１〜３３
の平版印刷版原版はいずれも、比較例１〜６の平版印刷
版原版と比較して赤外線レーザに対する感度が高いこと
がわかった。また、２つの希釈濃度の現像液に対する感
度の差が格段に小さく、実用上必要とされる２０ｍＪ／
ｃｍ²以下の性能を達成しており、現像ラチチュードに
優れていることが確認された。さらに、保存安定性の評
価結果から、本発明の平版印刷版原版はすべて、保存の
前後における感度の変動が実用上必要とされる２０ｍＪ
／ｃｍ²以下の性能を達成していることがわかった。

【０２０４】次に、本発明に係る新規アニオン性赤外線
吸収剤についても、同様に平版印刷版原版を作成し、そ
の性能を評価した。 （実施例３４〜３７）実施例１において、感光液１に配
合された一般式（Ｉ）で表される赤外線吸収剤を表４に
示す新規アニオン性赤外線吸収剤に代えた以外は、実施
例１とまったく同様にして実施例３４〜３７の平版印刷
版原版を得た。これらの平版印刷版原版についても、実
施例１と同様に感度と現像ラチチュードに関する性能評
価を行った。評価結果を下記表４に示す。

【０２０５】

【表４】

【０２０６】（実施例３８〜４１）実施例１２におい
て、感光液２に配合された一般式（Ｉ）で表される赤外
線吸収剤を表５に示す新規アニオン性赤外線吸収剤に代
えた以外は、実施例１２とまったく同様にして実施例３
８〜４１の平版印刷版原版を得た。これらの平版印刷版
原版についても、実施例１と同様に感度と現像ラチチュ
ードに関する性能評価を行った。評価結果を下記表５に
示す。

【０２０７】

【表５】

【０２０８】（実施例４２〜４５）実施例１２におい
て、感光液３に配合された一般式（Ｉ）で表される赤外
線吸収剤を表６に示す新規アニオン性赤外線吸収剤に代
えた以外は、実施例１２とまったく同様にして実施例４
１〜４５の平版印刷版原版を得た。これらの平版印刷版
原版についても、実施例１と同様に感度と現像ラチチュ
ードに関する性能評価を行った。評価結果を下記表６に
示す。

【０２０９】

【表６】

【０２１０】表４乃至表６の結果より、本発明の一般式
（１）で表される新規なアニオン性赤外線吸収剤を用い
た実施例３４〜４５の平版印刷版原版はいずれも、前記
実施例１〜３３と同様に、赤外線レーザに対する感度が
高く、現像ラチチュードに優れていることが確認され
た。

【０２１１】

【発明の効果】本発明の新規アニオン性赤外線吸収剤
は、長波長領域に吸収極大を有し、画像形成材料として
有用である。また、本発明の感光性組成物によれば、高
感度で、かつ現像液の濃度に対する感度の安定性、即ち
現像ラチチュードの良好な感光性組成物を提供すること
ができる。さらに、この感光性組成物を用いた平版印刷
版原版は赤外線レーザによるダイレクト製版が可能で、
高感度、且つ、現像ラチチュードが良好であるという優
れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の新規アニオン性赤外線吸収剤ＩＲ
（１−１）のＮＭＲスペクトルを表すグラフである。

【図２】 本発明の新規アニオン性赤外線吸収剤ＩＲ
（１−２）のＮＭＲスペクトルを表すグラフである。

【図３】 本発明の新規アニオン性赤外線吸収剤ＩＲ
（１−３）のＮＭＲスペクトルを表すグラフである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ Ｇ０３Ｆ 7/00 ５０３ // Ｇ０３Ｆ 7/004 ５０５ 7/004 ５０５

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（１）で表されるアニオン性
   赤外線吸収剤。 【化１】 式中、Ｌは共役炭素原子数７以上のメチン鎖を表し、該
   メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに
   結合して環構造を形成していてもよい。Ｘ⁺はカチオン
   を示す。Ｙ¹〜Ｙ⁶及びＺ¹〜Ｚ⁶は互いに独立に水素原子
   又は置換基を表し、それらが置換基を表すとき、互いに
   結合して環構造を形成していてもよい。
2. 【請求項２】 前記一般式（１）中、Ｌが共役炭素原子
   数７のメチン鎖を表すことを特徴とする請求項１に記載
   のアニオン性赤外線吸収剤。
3. 【請求項３】 前記一般式（１）中、Ｙ¹〜Ｙ⁶及びＺ¹
   〜Ｚ⁶がすべて水素原子を表すことを特徴とする請求項
   １に記載のアニオン性赤外線吸収剤。
4. 【請求項４】 下記一般式（２）で表されるアニオン性
   赤外線吸収剤。 【化２】 式中、Ｘ⁺は一般式（１）におけるのと同義である。Ａ
   は炭素原子、窒素原子、酸素原子、いおう原子及びセリ
   ウム原子から選択された１４個以下の環原子により構成
   される、５員−、６員−、もしくは７員−炭素環式環、
   ５員−、６員−、もしくは７員−複素環式環、または５
   員−、６員−、もしくは７員−核からなる群より選択さ
   れる縮合環を完成するのに必要な非金属原子を表す。
5. 【請求項５】 下記一般式（３）で表されるアニオン性
   赤外線吸収剤。 【化３】 式中、Ｘ⁺は一般式（１）におけるのと同義である。
6. 【請求項６】 下記（ａ）及び（ｂ）を含有し、赤外線
   レーザの照射により、アルカリ水溶液に可溶となること
   を特徴とする感光性組成物。 （ａ）下記一般式（Ｉ）で表されるアニオン性赤外線吸
   収剤、 （ｂ）水に不溶であり、且つ、アルカリ水溶液に可溶な
   高分子化合物。 【化４】 式中、Ｍは、炭素原子数７以上の共役鎖を表し、Ｇａ^-
   はアニオン性置換基を表し、Ｇ_bは中性の置換基を表
   す。Ｘ^m+はプロトンを含む１〜ｍ価のカチオンを示し、
   ここでｍは１乃至６の整数を表す。
7. 【請求項７】 前記（ａ）一般式（Ｉ）で表されるアニ
   オン性赤外線吸収剤の対カチオンが、熱分解性のオニウ
   ム塩構造を有することを特徴とする請求項６に記載の感
   光性組成物。
8. 【請求項８】 支持体上に、前記請求項６又は請求項７
   に記載の感光性組成物からなる感光層を設けたことを特
   徴とする平版印刷版原版。