JP2000029165A - 低熱収縮フイルムおよびそれを支持体とする熱現像写真感光材料 - Google Patents

低熱収縮フイルムおよびそれを支持体とする熱現像写真感光材料

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JP2000029165A
JP2000029165A JP10195960A JP19596098A JP2000029165A JP 2000029165 A JP2000029165 A JP 2000029165A JP 10195960 A JP10195960 A JP 10195960A JP 19596098 A JP19596098 A JP 19596098A JP 2000029165 A JP2000029165 A JP 2000029165A
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Narikazu Hashimoto
斉和 橋本
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】寸法安定性にすぐれた低熱収縮支持体および熱
現像写真感光材料を提供することにある。 【解決手段】飽和吸湿量の1/2到達所要時間が0分以
上30分以下である低熱収縮性フィルムおよびそれを支
持体とする熱現像写真感光材料。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は低熱収縮性フィルム
およびそれを支持体とする熱現像写真感光材料に関す
る。
【0002】
【従来の技術】ハロゲン化銀写真感光材料は、撮影後現
像液を用いて複雑な処理をするため、一部のユーザーに
は利用できなかった。そのため、米国特許315290
4号明細書、米国特許3457075号明細書、特公昭
43−4921号公報、特公昭43−4924号公報等
に記載されているような80〜150℃の熱による現像
方法(以下熱現像と略することがある)を用いた写真感
材が提唱されている。この一つの例として感光層中にあ
らかじめ現像薬の前駆体を含ませておき、これを熱によ
り分解し現像薬とし、現像する方法等が挙げられる。こ
のような熱現像方式では、現像処理は熱を与えるだけで
よく短時間で処理が可能であり、現像機も小型化でき
る。さらに現像液の補充や廃棄の心配がないという特徴
を有している。しかし、印刷用感材にこの方式の感材を
用いた場合、熱現像中に発生する寸法変化を解決するた
めに、特開平8−211547号公報に開示されている
低張力で熱処理する技術が開示されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
方法では熱現像直後、即ち熱現像後3時間以内に寸法が
変化し、画像の歪みや4版(青、緑、赤、墨)の色ズレ
が発生するという問題があった。これは短時間で露光・
現像・焼き付けを行なう新聞用途において問題であり、
解決が望まれていた。したがって、本発明は寸法安定性
にすぐれた低熱収縮性フィルムおよびそれを支持体とす
る熱現像写真感光材料を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、飽和吸湿量の
1/2到達所要時間が0分以上30分以下であることを
特徴とする低熱収縮性フィルムおよびそれを支持体とす
る熱現像写真感光材料により達成された。
【0005】
【発明の実施の形態】本発明の低熱収縮性フィルムは、
熱処理に相当する熱現像直後の寸法変化がMD(縦方
向)方向、TD(横方向)方向とも0%以上+0.05
%以下、より好ましくは0%以上+0.04%以下、さ
らに好ましくは0%以上+0.03%以下である。ま
た、本発明の熱現像写真感光材料は、熱現像直後の寸法
変化がMD方向、TD方向とも0%以上+0.05%以
下、より好ましくは0%以上+0.04%以下、さらに
好ましくは0%以上+0.03%以下の写真感光材料で
ある。本発明でいう熱現像直後の寸法変化(ΔL)と
は、1式で求めた値である。なお、「+」は経時で寸法
が伸びることを意味する。 ΔL(%) =100×(L120 −L3 )/L3 (1式) ΔL ;熱現像直後の寸法変化 L120 ;熱現像(115℃30秒)後25℃75%RH
下に120分放置後の寸法 L3 ;熱現像(115℃30秒)後25℃75%RH下
に3分放置後の寸法
【0006】我々は寸法変化が生ずる下記のような機構
を想定した。 熱現像中に支持体用フィルム中の水分が揮発する。 室温に放置する間に水分が再吸着し、それに対応して
フィルムが伸張する。(この水分の吸着にはPETフィ
ルムの場合1〜5時間を要し、この間に寸法変化が発生
する) その結果、熱処理に相当する熱現像後の吸湿を速やかに
終了させることが重要であることを確認した。さらに、
本発明の支持体および感光材料の熱現像前後の寸法変化
はMD方向、TD方向とも−0.04%以上+0.04
%以下、より好ましくは−0.03%以上+0.04%
以下、さらに好ましくは−0.02%以上+0.03%
以下であることである。ここで云う熱現像前後の寸法変
化率(δ)とは2式で示した求められる。 δ(%)=100×(Lf−Ld)/Lf (2式) Lf;25℃55%RHで1日調湿した熱現像前の平衡
寸度 Ld;115℃で30秒熱現像後、25℃55%RHで
1日調湿した平衡寸度
【0007】したがって、本発明は熱処理に相当する熱
現像後の吸湿を速やかに終了させることが可能なフィル
ムにより達成された。熱現像により支持体用フィルムか
らは水分が揮発するが、その後フィルムが急速に飽和吸
湿量まで吸湿すれば、寸法変化量を小さくすることがで
きる。フィルムの好ましい吸湿速度は、飽和吸湿量の1
/2到達所要時間が0分以上30分以下、より好ましく
は0分以上15分以下、さらに好ましくは0分以上5分
以下である。このようなフィルムは水蒸気を透過し易い
ほうがよく、水蒸気透過係数が5×10-8(cm3(STP)・c
m-1・sec -1・cmHg-1)以上5×10-5(cm3(STP)・cm-1
sec -1・ cmHg-1)以下が好ましく、7×10-8(cm3(ST
P)・cm-1・sec -1・cmHg-1)以上1×10-5(cm3(STP)・cm
-1・sec -1・cmHg-1)以下が好ましく、8×10-8(cm
3(STP)・ cm-1・ sec -1・ cmHg-1)以上5×10-6(cm
3(STP)・cm-1・ sec -1・ cmHg-1)以下がさらに好まし
い。このようなフィルムの原料ポリマーとして下記の具
体的化合物をあげることができる。
【0008】 水蒸気透過係数 (cm3(STP)・cm-1・sec -1・cmHg-1) #a シンジオタクチック−ポリスチレン(s-PS) 8×10-8 #b アタクチック−ポリスチレン(a-PS) 9×10-8 #c ポリカーボネイト(PC) 1×10-7 #d 三酢酸セルロース(CTA) 1×10-6 #e ポリメチルメタクリレート(PMMA) 2×10-7 #f ポリイミド(カプトン)(PI) 5×10-8 #g ナイロン66(PA) 7×10-8 #h 二酢酸セルロース(CDA) 1×10-5
【0009】これらのポリマーの中でより好ましいのが
ポリカーボネイト(PC)またはシンジオタクチック−
ポリスチレン(s-PS)である。これらは耐熱性が高く
熱現像を行っても収縮しにくい。さらにs-PSは弾性率
も高く好ましい。s-PSは例えば特開平3−13184
3号公報に記載の方法で調製できる。これらのポリマー
は熔融製膜、溶液製膜いずれでも実施することができ
る。s-PS、PMMA、PAは熔融製膜が好ましく、C
TA、PI、CDAは溶液製膜が好ましい。a-PS、P
Cは溶液製膜、熔融製膜のいずれの方法でも実施でき
る。熔融製膜は常法に従って実施でき、100℃〜20
0℃で10分以上乾燥したペレットを各ポリマーの融点
〜融点+50℃の温度で熔融した後、各ポリマーのガラ
ス転位温度(Tg)−50℃〜Tgのキャスティングドラ
ム上に押出して製膜する。この時静電印加法等の手法で
キャスティングドラムとの密着を上げることでより良好
な面状を達成できる。
【0010】このようにして得たシートをそのまま用い
ることもできるが、さらに1軸以上延伸した延伸フィル
ムとするのが好ましい。延伸は各ポリマーのTg〜Tg
+60℃以下で2〜5倍延伸するのが好ましい。延伸は
縦、横に少なくとも1回以上実施するのが好ましく、さ
らに好ましいのは縦延伸後横に延伸する逐次2軸延伸で
ある。さらにこの後、各ポリマーの融点(Tm )−60
℃〜Tm−10℃で5秒〜000熱固定するのも好まし
い。この時MD、TDの少なくとも1方向を0〜10%
弛緩することが好ましい。
【0011】溶液製膜も常法に従い実施でき、各ポリマ
ーを良溶媒に溶解し5〜30%の高濃度溶液(ドープ)
を作る。これをベルトの上に流延した後加熱し溶剤を揮
発させる。この後ベルトからポリマーを剥取った後、さ
らに乾燥させて製膜する。また、ドープを冷却ドラム上
に流延しゲル化させた後剥取り、溶剤を揮発させる方法
も用いられる。このようにして得た未延伸ベースをその
まま用いても良く、さらに熔融製膜法と同様に延伸を行
っても良い。
【0012】これらのフィルムの厚みは50μm以上5
00μm以下が好ましく、75μm以上300μm以下が
さらに好ましく、90μm以上200μm以下がさらに好
ましい。本発明のフィルムを支持体として感材(感材に
使用するときは支持体と呼ぶことにする。)を作成する
が、感光層塗設に先だって感光層の反対側にバック層
(BC層)、感光層側に下塗層を付与するのが好まし
い。これらの層は直接支持体に塗布しても良く、支持体
にグロー放電処理(例えば特開平8−194286)、
コロナ処理(例えば特公昭48−5043号)、紫外線
処理(例えば特公昭43−2603号)や火炎処理を行
った後塗布することも好ましい。
【0013】重層の下塗り層を設ける場合、第1層で
は、例えば、塩化ビニル、ブタジエン、酢酸ビニル、ス
チレン、アクリロニトリル、メタクリル酸エステル、メ
タクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸
等の中から選ばれた単量体を出発原料とする共重合体、
エポキシ樹脂、ゼラチン、ニトロセルロース、ポリ酢酸
ビニルなどが用いられる。また必要に応じて、トリアジ
ン系、エポキシ系、メラミン系、ブロックイソシアネー
トを含むイソシアネート系、アジリジン系、オキサザリ
ン系等の架橋剤、コロイダルシリカ等の無機粒子、界面
活性剤、増粘剤、染料、防腐剤などを添加してもよい。
また下塗第2層では主にゼラチンが用いられる。
【0014】単層の下塗り層を設ける場合、支持体を膨
潤させ下塗りポリマーと界面混合させる事によって良好
な接着性を得る方法が多く用いられる。この下塗りポリ
マーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、ガゼイン、
寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニルアルコ
ール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイン酸共重合
体などの水溶性ポリマー、カルボキシメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロースエステ
ル、塩化ビニル含有共重合体、アクリル酸エステル含有
共重合体、酢酸ビニル含有共重合体、酢酸ビニル含有共
重合体等のラテックスポリマー、などが用いられる。こ
れらのうち好ましいのはゼラチンである。ゼラチンとし
ては当業界で一般に用いられているものはいずれも用い
ることができるが、最も好ましく用いられるのは石灰処
理ゼラチン、酸処理ゼラチンである。
【0015】バック面の耐傷性付与、すべり性付与、カ
ール補償、帯電防止能の付与等のためにバック層を塗設
することが好ましい。バック層はは親水性コロイドをバ
インダーとしてもよく、疎水性ポリマーをバインダーと
してもよい。親水性ポリマーとして最も好ましいものは
ゼラチンである。親水性ポリマーを用いる場合、より強
固な密着性を付与するために、感光層と同じ下塗を行っ
た上にバック層を塗設することも好ましい。疎水性ポリ
マー層のバインダーとしてはポリメチルメタクリレー
ト、エチルアクリレート等の(メタ)アクリル酸エステ
ルポリマー、ポリエチレン等のオレフィン系ポリマー、
スチレン系ポリマー、ウレタン系ポリマー、ブタジエン
等のゴム系ポリマーなどが用いられる。この層は1層で
も2層以上でもよい。
【0016】バック層あるいは/および下塗層には必要
に応じてマット剤、すべり剤、帯電調整剤、界面活性
剤、架橋剤を添加してもよい。帯電調整剤として導電性
の結晶性金酸化物又はその複合酸化物微粒子を添加して
表面抵抗率を1012以下にすることも好ましい。導電性
の結晶性酸化物又はその複合酸化物の微粒子としては体
積抵抗率が107 Ωcm以下、より好ましくは105 Ωcm
以下のものが望ましい。またその粒子サイズは0.01
〜0.7μm、特に0.02〜0.5μmであることが
望ましい。
【0017】これらの導電性の結晶性金属酸化物あるい
は複合酸化物の微粒子の製造方法については特開昭56
−143430号公報の明細書に詳細に記載されてい
る。即ち、第1に金属酸化物微粒子で暁成により作製
し、導電性を向上させる異種原子の存在下で熱処理する
方法、第2に焼成により金属酸化物微粒子を製造すると
きに導電性を向上させる為の異種原子を共存させる方
法、第3に焼成により金属微粒子を製造する際に雰囲気
中の酸素濃度を下げて、酸素欠陥を導入する方法等が容
易である。金属原子を含む例としてはZnOに対してA
l、In等、TiO2に対してはNb、Ta等、SnO
2 に対してはSb、Nb、ハロゲン元素等があげられ
る。異種原子の添加量は0.01〜30mol%の範囲
が好ましいが0.1〜10mol%であれば特に好まし
い。これらのうちSbを添加したSnO2複合金属酸化
物微粒子が最も好ましい。
【0018】またハレーション防止、セーフライト安全
性向上、表裏判別性向上などの目的で、染色された非感
光性親水性コロイド層(以降染色層と表わす)を設けて
もよい。中でも染料を固体のまま分散する方法が好まし
い。このようなバック層は、1層でも多層でもよく、各
層の厚みは0.02〜10μm、より好ましくは0.1
〜7μmの範囲が好ましく、これらの層の全厚みは0〜
5μmが好ましい。
【0019】さらに支持体を低張力で熱処理することが
好ましい。これにより熱現像前後の支持体の寸法変化を
MD、TDとも−0.04%以上+0.04%以下、よ
り好ましくは−0.03%以上+0.04%以下、さら
に好ましくは−0.02%以上+0.03%以下にする
ことができる。このような低張力熱処理は135℃以上
200℃以下、より好ましくは145℃以上180℃以
下、さらに好ましくは155℃以上170℃以下で、2
0秒以上5分以下、より好ましくは30秒以上4分以
下、さらに好ましくは40秒以上3分以下で実施するの
が好ましい。さらに熱処理を行っている時の張力を0.
3kg/cm2以上15kg/cm2以下、より好ましくは0.5kg
/cm2以上8kg/cm2以下、さらに好ましくは0.8kg/cm2
以上3kg/cm2以下で実施するのが好ましい。この熱処理
はバック層及び下塗層塗設後、感光層塗設前の間に実施
するのが最も好ましい。
【0020】このようにして得た支持体としてのフイル
ム上に熱現像写真感光層を塗設することで本発明の感光
材料、即ち熱現像直後の寸法変化がMD方向、TD方向
とも0%以上+0.05%以下であり、熱現像前後の寸
法変化がMD方向、TD方向とも−0.04%以上+
0.04%以下である熱現像写真感光材料を作ることが
できる。好ましい熱現像写真感光層は、特開平5−22
4371号公報や特開平10−10676号公報等に記
載のものを用いることができる。即ち、感光層はバイン
ダー中にハロゲン化銀、有機酸銀等を添加して形成され
る。バインダーとして、スチレン・ブタジエン・アクリ
ロニトリル共重合体(SBR)、ポリアクリレート系重
合体、酢酸ビニル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリオレフ
ィン樹脂、ポリメタクリレート系重合体のラテックスを
挙げることができる。これらの分子量(Mw)は5千〜
100万が好ましく、1万〜20万がより好ましい。よ
り具体的には、アクリル樹脂系としてセビアンA−46
35,46583,4601(ダイセル化学工業製)、
Nipol Lx811,814,824,820,857(日本ゼオン製)、ゴム
系樹脂としてLACSTAR7310K,3307B,4700H,7132C(大日本
インキ化学製)、Nipol Lx416,410,438c,2507 (日本ゼ
オン製)、オレフィン樹脂としてケミパールS120,SA100
(三井石油化学製)が挙げられる。これらは単独で用い
ても良く、混合して用いてもよい。これらのラテックス
中の固形分濃度は10%以上80%以下、より好ましく
は20%以上70%以下であることがより好ましい。
【0021】またゼラチン、水溶性ポリエステル(例え
ばスルホイソフタル酸を共重合したPET)、ポリビニ
ルピロリドン、デンプン、アラビアゴム、ポリビニルア
ルコ−ル、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、キチ
ン、キトサン等の水溶性ポリマーを用いることも好まし
い。これらの分子量(Mw)は5千〜100万が好まし
く、1万〜20万がより好ましい。これらは単独で用い
ても良く、混合して用いてもよい。
【0022】さらに感光層には有機酸銀塩を添加するこ
とが好ましい。好ましい有機酸銀塩は炭素数10〜30
の脂肪族カルボン酸が好ましく、より好ましくはベヘン
酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレイン酸
銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸銀、パ
ルミチン酸銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、リノール酸
銀、酪酸銀、酒石酸銀等を挙げることができるが、なか
でも好ましいのがベヘン酸銀である。これらの有機酸銀
は分散し塗布するのが好ましいく、ポリビニルアルコー
ル、ポリエチレングリコール、ポリアクリル酸、アクリ
ル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、アクリロイルメ
チルプロパンスルホン酸共重合体、カルボキシメチルセ
ルロース、カルボキシメチルデンプン等のポリマー、特
開昭52−92716号、WO88/047974記載
のアニオン系界面活性剤や公知のアニオン、ノニオン、
カチオン界面活性剤を使用するのも好ましい。
【0023】感光層中には感光性ハロゲン化銀を用い
る。例えばリサーチディスクロージャー1978年6月
の第17029号、米国特許3,700,458号に記
載のものを使用することができる。有機酸銀塩1モルに
対し0.01〜0.5モル用いるのが好ましい。必要に
応じてロジウム、レニウム、ルテニウム、オスニウム、
イリジウム、コバルト、水銀、鉄から選ばれる金属の錯
体を少なくとも一種類を、銀1モルに対し1nモル〜1
0mモル含有するのがより好ましい。さらに、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法を用いることもでき
る。さらに造核剤を添加するのが好ましい。造核剤とし
て、アミン誘導体、オニウム塩、ジスルフィド誘導体、
ヒドロキシメチル誘導体、ヒドロキサム誘導体、アシル
ヒドラジド誘導体、アクリロニトリル誘導体、水素供与
体を挙げることができるが、なかでも好ましいのが下式
に示すような構造を持つヒドラジン系誘導体である。
【0024】R2−NA1−NA2−(G1m1−R1 式中R2 は脂肪族基、芳香族基またはヘテロ基を表し、
1 は水素原子またはブロック基を示し、G1 は−CO
−、−COCO−、−C=S−、−SO2 −、−SO
−、−PO(R3 )基(R3 はR1 に定義した基と同じ
範囲から選ばれ、R1 と異なっても良い)、またはイミ
ノメチレン基を表す。A1 、A2 はともに水素原子、あ
るいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置換のア
ルキルスルホニル基、または置換もしくは無置換のアリ
ールスルホニル基、または置換もしくは無置換のアシル
基を示す。m1 は0または1であり、m1 が0のときR
1 は脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表す。
【0025】さらにシアニン色素、メロシアニン色素、
コンプレックスシアニン色素、コンプレックスメロシア
ニン色素、ホロホーラーシアニン色素、スチリル色素、
ヘミシアニン色素、オキソノール色素、ヘミオキソノー
ル色素等の増感色素を用いることも好ましい。カブリ防
止剤としてチアゾニウム塩、アザインデン、ウラゾー
ル、水銀塩、有機ハロゲン化合物(等を用いることがで
きる。現像を制御するためにメルカプト化合物、ジスル
フィド化合物、チオン化合物を用いるのも好ましい。感
光層中に還元剤を添加するのも好まい。感光層中にアン
チハレーションの目的で染料や顔料を用いることも好ま
しく、ピラゾロアゾール染料、アントラキノン染料、ア
ゾ染料、アゾメチン染料、オキソノール染料、カルボシ
アニン染料、スチリル染料、トルフェニルメタン染料、
インドアニリン染料、インドフェノール染料、フタロシ
アニン等が挙げられる。これらは感光層に添加しても良
く、バック層に添加してもよい。これらの感光層の厚み
の和は5μm以上25μm以下、8μm以上20μm以下が
好ましい。
【0026】本発明には他の各種の写真用添加剤が使用
できるが、いずれもRDに記載されており、関連する箇
所を下に示した。 添加剤の種類 RD17643 RD18716 RD307105 1.化学増感剤 23頁 648 頁右欄 866頁 2.感度上昇剤 648 頁右欄 3.分光増感剤、 23〜24頁 648 頁右欄 866 〜868 頁 強色増感剤 〜649 頁右欄 4.増 白 剤 24頁 647 頁右欄 868頁 5.光吸収剤、 25 〜26頁 649 頁右欄 873頁 フィルター 〜650 頁左欄 染料、紫外 線吸収剤 6.バインダー 26頁 651 頁左欄 873 〜874 頁 7.可塑剤、 27頁 650 頁右欄 876頁 潤滑剤 8.塗布助剤、 26 〜27頁 650 頁右欄 875 〜876 頁 表面活性剤 9.スタチツク 27頁 650 頁右欄 876 〜877 頁 防止剤 10.マツト剤 878 〜879 頁
【0027】以下に本発明で用いた測定法について述べ
る。 (1)熱現像直後の寸法変化 5cm幅×25cm長に幅方向(TD)、長手方向(MD)
にサンプルを切り出し、20cm間隔の孔を開ける。これ
を115℃に加熱したヒートブロックに30秒接触させ
無張力下で熱現像する。これを25℃60%RH下で寸
法変化を測定する。即ち熱現像後3分後の寸法(L3とす
る)と熱現像後120分後の寸法(L60とする)をピン
ゲージを用いて測り、下記式に従い熱現像直後の寸法変
化を求める。 熱現像直後の寸法変化(%)=100×(L120−L3)/L3
【0028】(2)熱現像前後の寸法変化 5cm幅×25cm長にMD、TDにサンプルを切り出し、
25℃60%RH下に24時間調湿した後、20cm間隔
の孔を開け、孔の間隔をピンゲージを用い測長する(こ
の長さをL(f)とする)。これを115℃に加熱した
ヒートブロックに30秒接触させ無張力下で熱現像す
る。これを25℃60%RH下に24時間調湿した後、
孔の間隔をピンゲージを用い測長する(この長さをL
(d)とする)。これから下記式に従い熱現像前後の寸
法変化を求める。 熱現像前後の寸法変化(%)=100×{L(d)−L
(f)}/L(f)
【0029】(3)飽和吸湿量の1/2到達時間 5cm幅×25cm長にMD、TDにサンプルを切り出し、
25℃20%RH下に24時間調湿した後、20cm間隔
の孔を開け、孔の間隔をピンゲージを用い測長する(こ
の長さをLとする)。これを25℃70%RHの部屋に
移す。この時から30分間隔で孔の間隔を測長する。経
時で寸法は伸び、一定値に収斂する。この長さをL’と
する。(L+L’)/2の長さに到達するのに要する時
間を内挿して求め「飽和吸湿量の1/2到達時間」とす
る。
【0030】(4)水蒸気透過係数 サンプルフィルムで隔てた2つの容器を真空にし、一次
側に92%RHの水蒸気を導入する。フィルムを透過し
二次側に出てきた水蒸気量を、25℃において真空計を
用いて計測する。これを経時で測定し、縦軸に二次側水
蒸気圧(cmHg)、横軸に時間(秒)をとり透過曲線を
作成する。この透過曲線の直線部の勾配から下記式に従
い水蒸気透過係数を求める。 水蒸気透過係数(cm3(STP)・cm-1・sec -1・cmHg-1)=
(Δp/Δt)×(V/760)×(l/p・a) Δp/Δt:透過曲線の直線部の勾配 V:二次側の容積(cm3) l:フィルムの厚み(cm) p:一次側の水上気圧(cmHg) a:フィルムの厚さ(cm)
【0031】
【実施例】以下に実施例を示すが、発明の趣旨を超えな
い限り、本発明はこれらに限定されるものではない。 実施例−1 (1)フィルム(以下支持体とよぶ)の作製 (1-1)シンジオタクチック−ポリスチレン(s-PS)支
持体の作成 反応溶媒としてトルエン6リットルを用い、触媒として
テトラエトキシチタン5ミリモルおよびメチルアルミノ
キサンをアルミニウム原子として500ミリモル添加
し、50℃においてモル比でスチレン48.94:p−
メチルスチレン1.06とを加え、2時間重合反応を行
った。反応終了後、生成物を塩酸とメタノールとの混合
液で洗浄して、触媒成分を分解除去した。次いで乾燥す
ることにより共重合体640gを得た。
【0032】この共重合体の重量平均分子量(Mw)が
44万であり、数平均分子量(Mn)が24万であっ
た。この共重合体中のp−メチルスチレン単位の含有割
合は5wt%であった。また、この共重合体は13C−N
MRによる分析から、145.11ppm、145.2
2ppm、142.09ppmに吸収が認められ、その
ピーク面積から算出したスチレン単位のラセミペンタッ
ドでのシンジオタクティシティーは72%であった。こ
れを150℃5時間減圧下で乾燥後280℃で押し出
し、50℃の冷却ドラムの上で未延伸シートを得た。こ
れを115℃で3.3倍に縦延伸を行った後、120℃
で3.5倍に横延伸を行い、さらに180℃で30秒熱
固定を実施した後、横方向に3%緩和しながら220℃
で熱弛緩を行った。このようにして120μmの2軸延
伸s−PSフィルム(支持体−14)を得た。
【0033】(1-2)ポリカーボネイト(PC)支持体の
作成 PC樹脂(帝人(株)製ユーピロンMB2210NU)
を170℃5時間減圧下で乾燥後280℃で押し出し、
80℃の冷却ドラムの上で未延伸シートを得た。これを
155℃で3.3倍に縦延伸を行った後、160℃で
3.5倍に横延伸を行った。このようにして120μm
の延伸PCフィルム(支持体−15)を得た。さらにユ
ーピロンMB2210NUを同様に280℃で押し出
し、80℃の冷却ドラムの上で120μmの未延伸PC
フィルム(支持体−16)を得た。
【0034】(1-3)アタクチック−ポリスチレン(a-P
S)支持体の作成 a-PS樹脂(三菱化成ポリテック(株)製ダイヤレック
ス)を140℃5時間減圧下で乾燥後280℃で押し出
し、50℃の冷却ドラムの上で未延伸シートを得た。こ
れを115℃で3.3倍に縦延伸を行った後、120℃
で3.5倍に横延伸を行った。このようにして120μ
mのa-PS延伸フィルム(支持体−17)を得た。さら
にダイヤレックスを同様に280℃で押し出し、50℃
の冷却ドラムの上で120μmのa-PS未延伸フィルム
(支持体−18)を得た。
【0035】(1-4)ポリメチルメタクリレート(PMM
A)支持体の作成 PMMA樹脂(三菱レイヨン製アクリライト-IR)を1
40℃5時間減圧下で乾燥後280℃で押し出し、50
℃の冷却ドラムの上で未延伸シートを得た。これを11
5℃で3.3倍に縦延伸を行った後、120℃で3.5
倍に横延伸を行った。このようにして120μmのPM
MA延伸フィルム(支持体−19)を得た。さらにダイ
ヤレックスを同様に280℃で押し出し、50℃の冷却
ドラムの上で120μmのPMMA未延伸フィルム(支
持体−20)を得た。
【0036】(1-5)三酢酸セルロース(CTA)支持体
の作成 特公平5−17844実施例1の方法に従って、ジクロ
ロメタン系ドープを用い溶液製膜法にて厚み120μm
のCTA未延伸フィルム(支持体−21)を得た。
【0037】(2)下塗、バック層の塗設 s−PS、PC、PET支持体に下記表面処理、下塗
層、バック層を付与した。 表面処理 塗布に支持体の両面にコロナ処理を行った。 装置:ピラー社製ソリッドステートコロナ処理機6KV
Aモデル 条件:温度=室温、処理速度=20m/分、強度=0.
375kV・A・分/m2 、処理周波数=9.6kH
z、電極と誘電体ロールのギャップクリアランス=1.
6mm 下塗第1層の塗設 支持体の両面に下記組成の水分散ラテックスをワイヤー
バーを用いて乾燥膜厚が0.3μmとなるよう塗布し、
120℃で2分間乾燥した。 ブタジエン−スチレン共重合ラテックス 13ml (固形分43%、ブタジエン/スチレン重量比=32/68) 2,4−ジクロロ−6−ヒドロキシ−S−トリアジンナトリウ 7ml ム塩 8%水溶液 ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム 1%水溶液 1.6ml 蒸留水 80ml
【0038】下塗第2層の塗設 下記組成の水溶液をワイヤーバーを用いて乾燥膜厚が
0.14μmとなるように下塗第1層の上に塗布し、1
80℃で2分間乾燥した。 ゼラチン 0.9g メチルセルロース 0.1g (メトローズSM15 置換度1.79〜1.83) 酢酸(濃度99%) 0.02ml 蒸留水 99ml バック第1層(導電性層) 下記組成の導電性素材を含むアクリルラテックス水分散
液を、乾燥膜厚が0.04μmになるように下塗面の反
対側に塗布し180℃で30秒乾燥し、表面電気抵抗が
106 Ωの支持体を作成した。 アクリル樹脂水分散液 2.0重量部 (ジュリマーET410、固形分20重量%、日本純薬(株)製) 酸化スズ−酸化アンチモン複合金属酸化物水分散物 18.1重量部 (平均粒径0.1μm、17重量%) ポリオキシエチレンフェニルエーテル 0.1重量部 これに蒸留水を加えて100重量部となるように調製した。
【0039】バック第2層(発色・マット層) バック第1層の上に下記組成の塗布液を、塗布乾燥後の
660nm光学濃度が0.7になるように塗設した。
【0040】(発色剤分散物Aの調製)酢酸エチル35
gに対して、下記化合物1を2.5g平均粒径5μmの
架橋PMMA微粒子1g添加して攪拌した。この液に予
め溶解したポリビニルアルコール10重量%溶液50g
を添加して5分間ホモジナイザーで分散した。その後、
酢酸エチルを脱溶媒により除き、その後、水で希釈して
発色剤分散物を調製した。
【0041】
【化1】
【0042】バック第3層(ポリオレフィン層:すべ
り層) 下記組成のポリオレフィンラテックス水分散液を、乾燥
膜厚が0.15μmになるように発色層の上に塗布し
た。これを185℃で3分間乾燥した。 ポリオレフィン 3.0重量部 (ケミパールS−120、27重量%、三井石油化学(株)製) コロイダルシリカ 2.0重量部 (スノーテックスC、日産化学(株)製) エポキシ化合物 0.3重量部 (デナコールEX−614B、ナガセ化成(株)製) 蒸留水を加えて合計が100重量部になるように調製
【0043】(3)低張力熱処理 熱現像前後の寸法変化を小さくするために、表3に示し
た条件で低張力熱処理を実施した。但しいずれの水準も
0.8kg/cm2で搬送しながら実施した。 (4)支持体の評価 このようにして得た支持体に対し上記の方法に従って水
蒸気透過係数、熱現像直後の寸法変化、熱現像前後の寸
法変化、飽和吸水量の1/2到達時間を測定し、結果を
表1に示した。
【0044】
【表1】
【0045】(5)感材の作成 上述の方法で得た支持体の下塗層側に下記感光層を塗設
した。
【0046】(5-1) SBR系感光層 (ハロゲン化銀粒子Aの調製)水700mlにフタル化
ゼラチン22gおよび臭化カリウム30mgを溶解し
て、温度40℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀
18.6gを含む水溶液159mlと臭化カリウムを含
む水溶液をpAgを7.7に保ちながらコントロールダ
ブルジェット法で10分間かけて添加した。K3 〔Ir
Cl6 3-を8×10-6モル/リットルと臭化カリウム
を1モル/リットルで含む水溶液をpAgを7.7に保
ちながらコントロールダブルジェット法で30分間かけ
て添加した。その後pH5.9、pAg8.0に調製し
た。得られた粒子は、平均粒子サイズ0.07μm、投
影面積直径の変動係数8%、(100)面積率86%の
立方体粒子であった。上記のハロゲン化銀粒子Cを温度
60℃に昇温して、銀1モル当たり8.5×10-5モル
のチオ硫酸ナトリウム、1.1×10-5モルの2,3,
4,5,6−ペンタフルオロフェニルジフェニルスルフ
ィンセレニド、2×10-6モルのテルル化合物1、3.
3×10-6モルの塩化金酸、2.3×10-4モルのチオ
シアン酸を添加して、120分間熟成した。その後、温
度を50℃にして8×10-4モルの増感色素Cを撹拌し
ながら添加し、更に3.5×10-2モルの沃化カリウム
を添加して30分間撹拌し、30℃に急冷却してハロゲ
ン化銀の調製を完了した。
【0047】
【化2】
【0048】(有機酸銀微結晶分散物の調製)ベヘン酸
40g、ステアリン酸7.3g、蒸留水500mlを9
0℃で15分間混合し、激しく撹拌しながら1N−Na
OH水溶液187mlを15分間かけて添加し、1N−
硝酸水溶液61mlを添加して50℃に降温した。次
に、1N−硝酸水溶液124mlを添加してそのまま3
0分間撹拌した。その後、吸引濾過で固形分を濾過し、
濾水の伝導度が30μS/cmになるまで固形分を水洗
した。こうして得られた固形分は、乾燥させないでウェ
ットケーキとして取扱い、乾燥固形分34.8g相当の
ウェットケーキに対して、ポリビニルアルコール12g
及び水150mlを添加し、良く混合してスラリーとし
た。平均直径0.5mmのジルコニアビーズ840gを
用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機(1
/4G−サンドグラインダーミル:アイメックス(株)
社製)にて5時間分散し、体積加重平均1.5μmの有
機酸銀微結晶分散物を得た。粒子サイズの測定は、Ma
lvern Insutruments Ltd.製
Master SaizerXにて行った。
【0049】(素材固体微粒子分散物の調製)テトラク
ロロフタル酸、4−メチルフタル酸、1,1−ビス(2
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−3,5,
5−トリメチルヘキサン、フタラジン、トリブロモメチ
ルスルフォニルベンゼンについて固体微粒子分散物を調
製した。テトラクロロフタル酸に対して、ヒドロキシプ
ロピルセルロース0.81gと水94.2mlとを添加
して良く撹拌してスラリーとして10時間放置した。そ
の後、平均直径0.5mmのジルコニアビーズを100
mlとスラリーとを一緒にベッセルに入れて有機酸銀微
結晶分散物の調製に用いたものとおなじ型の分散機で5
時間分散してテトラクロロフタル酸の固体微結晶分散物
を得た。固体微粒子の粒子サイズは70wt%が1.0
μmであった。
【0050】(乳剤層塗布液の調製)先に調製した有機
酸銀微結晶分散物に対して下記の組成物を添加して、乳
剤塗布液を調製した。 有機酸微結晶分散物 1モル ハロゲン粒子 A 0.05モル バインダー、SBRラテックス (LACSTAR 3307B 大日本インキ化学工業(株)) 430g 現像用素材: テトラクロロフタル酸 5g 1,1−ビス(2−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル) −3,5,5−トリメチルヘキサン 98g フタラジン 9.2g トリブロモメチルフェノルスルホン 12g 4−メチルフタル酸 7g ヒドラジン造核剤 5.0×10-3mol/Ag 1mol
【0051】(乳剤保護層塗布液の調製)イナートゼラ
チンに対して、下記の各組成物を添加して乳化保護層塗
布液を調製した。 イナートゼラチン 10g 界面活性剤 A 0.26g 界面活性剤 B 0.09g マット剤(平均粒径3μmのPMMA) 1g 1,2−(ビスビニルスルホンアセトアミド)エタン 0.3g 水 64g
【0052】
【化3】
【0053】(6)感材の包装 感材を25℃において表2に記載の湿度で平衡調湿にし
た後、包装した。 (7)感材の評価 このようにして得た支持体に対し上記の方法に従って熱
現像直後の寸法変化、熱現像前後の寸法変化を測定し、
結果を表2に示した。さらに、これらの感材にスキャナ
ーを用い一辺が60cmの正方形を書き込み115℃で3
0秒熱現像した。これを2時間25℃60%RH下に置い
たものと、同じパターンを書き込み同様に熱現像した直
後のものとを重ね合わせ、版のズレをルーペで確認し
た。
【0054】
【表2】
【0055】
【発明の効果】本発明により、寸法安定性にすぐれた低
熱収縮支持体および熱現像写真感光材料を提供できた。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2H123 BA00 BA21 BA32 BA36 BA37 BA38 BC00 BC11 BC16 CB00 CB03 4F071 AA09 AA22 AA33 AA50 AA54 AA60 AF08Y AF10Y AF54 AF61Y AG28 AH19 BA01 BB06 BB08 BC01 4F100 AJ06A AK12A AK25A AK45A AK48A AK49A BA01 EH17 EJ38 EJ42 GB90 JA03A JA12A JD04A JL04A JN17 YY00A

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 飽和吸湿量の1/2到達所要時間が0分
    以上30分以下であることを特徴とする低熱収縮性フィ
    ルム。
  2. 【請求項2】 該フィルムの水蒸気透過係数が5×10
    -8(cm3(STP)・cm-1・sec -1・cmHg-1)以上5×10-5
    (cm3(STP)・cm-1・sec -1・cmHg-1)以下であることを
    特徴とする請求項1に記載のフィルム。
  3. 【請求項3】 熱処理に相当する熱現像直後の寸法変化
    がMD方向TD方向とも0%以上+0.05%以下であ
    ることを特徴とする請求項1、2に記載の低熱収縮性フ
    ィルム。
  4. 【請求項4】 該熱現像前後の寸法変化がMD方向TD
    方向とも−0.04%以上+0.04%以下であること
    を特徴とする請求項1、2、3に記載の低熱収縮性フィ
    ルム。
  5. 【請求項5】 該フィルムが、シンジオタクチック−ポ
    リスチレン、アタクチック−ポリスチレン、ポリカーボ
    ネイト、三酢酸セルロース、ポリメチルメタクリレー
    ト、ポリイミド(カプトン)、ナイロン66または二酢
    酸セルロースである高分子原料から製膜されていること
    を特徴とする請求項1〜4に記載のフィルム。
  6. 【請求項6】 該高分子原料シンジオタクチックポリス
    チレンまたはポリカーボネイトであることを特徴とする
    請求項1〜5に記載のフィルム。
  7. 【請求項7】 該フィルムが135℃以上200℃以下
    で0.3Kg/cm 2 以上15Kg/cm2以下の張力
    をかけて熱処理されていることを特徴とする請求項1〜
    6に記載のフィルム。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7に記載の低熱収縮性フィル
    ムを支持体として用いることを特徴とする熱現像写真感
    光材料。
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