JP3373142B2 - 熱現像写真画像形成方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像後の平面性が
良好な熱現像写真画像形成方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来写真感光材料は、撮影後現像液を用
いて湿式現像を行っていた。しかし、この方法では、下
記のような不具合があり改善が望まれていた。 現像、漂白、定着、乾燥を行なうため、現像処理に時
間を要する。 現像液を入れたタンクを複数個必要とするため、現像
機を小型軽量化できない。 現像液の補充、廃棄および現像タンクの洗浄等の手間
を要する。 これを改善するために、ＵＳ−３１５２９０４号特許、
ＵＳ−３４５７０７５号特許、特公昭４３−４９２１
号、特公昭４３−４９２４号等に記載の熱による現像方
法（以下熱現像と略することがある）を用いた写真感材
が挙げられる。この一つの例として感光層中にあらかじ
め現像薬の前駆体を含ませておき、これを熱により分解
し現像薬とし、現像する方法等が挙げられる。このよう
な熱現像方式では、現像処理は熱を与えるだけでよく短
時間で処理が可能であり、現像機も小型化できる。さら
に現像液の補充や廃棄の心配が無い。

【０００３】しかしこのような熱現像を行った後の写真
感材の平面性には多くの問題があった。この顕著なもの
が現像処理方向と平行に０．３ｃｍ〜５ｃｍ周期で発生
するトタン板状の凹凸故障（「縦スジ故障」）と、現像
処理方向に対し斜め方向に０．５ｃｍ〜３ｃｍ周期で発
生するトタン板状の凹凸故障（「斜めスジ故障」）であ
る。これらの発生機構の詳細は異なるが、基本的には熱
現像温度が感材の支持体のガラス転移温度（Ｔg）を超
えて変形しやすくなったことによる。即ち感光層の塗布
乾燥工程の熱に耐えるため、熱現像前駆体の分解温度は
１００℃以上にする必要があり、その結果熱現像処理は
１００℃以上で行なう必要がある。一方支持体は、コス
ト、力学強度（弾性率、引裂強度）、透明性の観点から
ポリエチレンテレフタレ−ト（ＰＥＴ）を使用するのが
好ましいが、このＴgは８０℃であり、１００℃以上で
は軟化し変形しやすくなっていることによる。即ち、Ｔ
gを超えた温度で熱現像しても変形しにくく、平面性を
良好に保つ熱現像方法を開発することが課題であった。
このような課題は特にグラフィックアーツ（Ｇ／Ａ）用
感材にで顕著となる。これは、５０ｃｍ〜１００ｃｍの
大サイズの感材を取り扱うためであり、大サイズでこの
ような平面性の故障が発生しやすいためである。このよ
うな課題を解決する方法としてＷＯ９５／３０９３４に
記載されているような熱ロ−ル上にロ−ルを多数組み合
わせた熱現像機を用いて熱現像する方法が公開されてい
るが平面性を十分に改良できず上記「縦スジ故障」「斜
めスジ故障」が解決しきれていない。この故障はさらに
大サイズの感材で顕著であった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、熱現像後の
平面性が良好な熱現像写真画像形成方法の提供にある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】これらの課題は、写真感
光材料を熱により現像処理を行なう方法において、表面
に凹凸を付与するか、表面に滑り剤を付与するか、表面
素材がガラス転移温度の高いものであるか、導電性層を
設けるかのいずれかの写真感光材料と、表面粗さＲａ＝
０．５〜１５０μｍである熱現像処理の際に接触する熱
現像機の加熱部の表面粗さが写真感光材料の表面粗さと
逆の関係にある抑え部材を有する熱現像機とを接触させ
て、該写真感光材料と接触する熱現像機の加熱部と該写
真感光材料との間のきしみ値が１０ｇ以上５００ｇ以下
としたことを特徴とする熱現像写真画像形成方法により
達成された。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明では写真感光材料と接触す
る熱現像機の加熱部と、写真感光材料との間のきしみ値
が１０ｇ以上５００ｇ以下、より好ましくは２０ｇ以上
４００ｇ以下、さらに好ましくは３０ｇ以上３５０ｇ以
下にすることが好ましい。本発明で云うきしみ値とは、
感材表面と熱現機の加熱部を構成する部材を面接触させ
たときの摩擦の大きさを示す値である。即ち水平で平滑
な台に張り付けた写真感材の上に、所定の重量を持った
荷重の平滑面に加熱部の構成部材を張り付けたものを置
き、これを所定の速度で引っ張る時に要する力を測定し
たものである。この値が大きいほど感材と熱現機の加熱
部との間はきしみ易く、すべり難いことを示している。
本発明ではこの値が小さいほど上記縦スジ故障、斜めス
ジ故障、中でも縦スジ故障を発現しにくいことを新たに
見いだしたものである。これは以下のような理由によ
る。通常熱現像機は感材に熱を与えるため、熱源（ヒー
トロールやパネルヒーター）に感材を接触させるが、熱
現像時間を短縮するために感材を熱源に押しつけ伝熱効
率を上げることが行われる。これは通常駆動ベルトやロ
ーラーを用いて感材を熱源に押しつけることで達成され
る。ところで感材は熱により膨張するが熱源部で押さえ
つけられていると自由に膨張することができず、発生し
た熱膨張応力を吸収するため、感材が波板状に変形（座
屈）する。これが縦スジ故障である。これを解決する手
法として、本発明では感材と熱現機の加熱部のきしみ値
を小さくすることで、熱膨張した感材を加熱部材表面で
すべらせ熱膨張応力を逃がすことで波板状に変形させな
いことを特徴としている。従ってきしみ値が小さいほど
平面性故障は発生しにくく、本発明の範囲以上のきしみ
値では平面性故障が発生し好ましくない。しかしきしみ
値は小さすぎると別の弊害（熱現機の中でスリップによ
る擦り傷）を発生しやすく、本発明の範囲以下は好まし
くない。

【０００７】このようなきしみ値は感材と熱現機の加熱
部の両方から達成することができる。 (1)感材 感材表面（感光層側、バック層側）に凹凸を付与するの
が好ましい。さらに、感材表面（感光層側、バック層
側）に滑り層を付与したり、ガラス転移温度の高いポリ
マ−を感材層and/orバック層のバインダ−として使用す
るのも好ましい。 表面凹凸の付与 凹凸が無いと平面どうしがぴったりくっつくと、きしみ
値は大きくなり易い。この対策として表面に凹凸を付与
することが有効である。これには、(イ)微粒子を含む層
を儲けこれにより凹凸を付与する方法、(ロ)感材表面に
エンボス加工（型押し加工）により凹凸を付与する方
法、を挙げることができる。(イ)の方法としては、シリ
カ、アルミナ、硫酸バリウム、炭酸カルシウム、チタニ
ア、酸化スズ、酸化インジウム、タルクのような無機
物、あるいはポリスチレン、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリメタクリレート、ポリアクリロニトリル、セル
ロ−ス、ゼラチン等の有機微粒子をバインダーといっし
ょに塗設する方法が挙げられる。これらの微粒子の形状
は特に制限がなく、針状でも、球形でも、板状でも破砕
状でも用いることができる。好ましい大きさは０．１〜
１５μm、より好ましくは０．２〜１０μm、さらに好ま
しくは０．３〜７μmである。マット剤の添加量は片面
１ｍ²あたり０．１〜５０ｍｇ、より好ましくは０．２
〜３０ｍｇ、さらに好ましくは０．３〜２０ｍｇであ
る。

【０００８】表面滑り剤の付与 感材の片面あるいは両面に滑り剤を塗設することできし
み値を小さくすることも好ましい。この時目安となるの
が動摩擦係数であり、これを０．０１以上０．３以下、
より好ましくは０．０３以上０．２以下、さらに好まし
くは０．０５以上０．１５以下にするのが好ましい。好
ましい滑り剤として、例えば、特公昭５３−２９２号公
報に開示されているようなポリオルガノシロキサン、米
国特許第４、２７５、１４６号明細書に開示されている
ような高級脂肪酸アミド、特公昭５８−３３５４１号公
報、英国特許第９２７、４４６号明細書或いは特開昭５
５−１２６２３８号及び同５８−９０６３３号公報に開
示されているような高級脂肪酸エステル（炭素数１０〜
２４の脂肪酸と炭素数１０〜２４のアルコールのエステ
ル）、そして、米国特許第３、９３３、５１６号明細書
に開示されているような高級脂肪酸金属塩、また、特開
昭５８−５０５３４に開示されているような、直鎖高級
脂肪酸と直鎖高級アルコールのエステル、世界公開９０
１０８１１５．８に開示されているような分岐アルキル
基を含む高級脂肪酸−高級アルコールエステル等が知ら
れている。好ましい塗布量は０．１〜１ｇ／ｍ²が好ま
しく、０． ５〜０．５ｇ／ｍ²がより好ましく、０．
５〜０．２ｇ／ｍ²がさらに好ましい。このような滑り
層の付与は、「発明協会公開技報 公技番号９４−６０
２３」２５ペ−ジ〜２８ペ−ジ（７．滑り剤）に記載の
方法で実施することができる。

【０００９】ガラス転位温度（Ｔg）の高い表面素材
の選択 ポリマーは一般的にＴgを超えると急激に柔らかくな
り、その結果きしみ値が大きくなり易い。このため、な
るべく高いＴgを有する素材を用いることが好ましい。
好ましいＴgは０℃以上２００℃以下、より好ましくは
２０℃以上１８０℃以下、さらに好ましくは３５℃以上
１５０℃以下である。例えば、ゼラチンやポリアクリレ
−ト（Ｔg）、ポリメチルメタクリレ−ト、ポリスチレ
ン、トリアセチルセルロ−ス、ジアセチルセルロ−ス、
ニトロセルロ−ス、ポリカ−ボネイト、ポリビニルブチ
ラ−ル、スチレン／ブタジエン共重合体、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリエステル、ポリ酢酸ビニルや、これらを中
心とした共重合体、ポリマ−ブレンドを挙げることがで
きる。これらの平均分子量（Ｍw）は５千以上１００万
以下が好ましく、１万以上３０万以下がより好ましい。

【００１０】さらに感材の少なくとも片面に導電性層を
付与することでもきしみ値低下と同様の効果が得られ
る。これは感材と熱現像機の「熱現部」、「抑え部材」と感
材の間で発生する静電気により感材が張り付き、熱収縮
応力を逃がしにくくなる結果、上記故障が発生しやすく
なるためである。このような導電性層は、抵抗が１０³
Ω以上１０¹²Ω以下、より好ましくは１０⁴Ω以上１０
¹¹Ω以下、さらに好ましくは１０⁵Ω以上１０¹⁰Ω以下
になるように塗設することが好ましい。この範囲以上で
はこれらの効果が十分に得られず、一方この範囲以下で
は帯電防止剤の添加量が多くなりすぎ、ヘイズ、着色の
原因になりやすい。なお、前記抵抗は、２５℃、相対湿
度１０％ＲＨで２時間調湿後の測定で表面電気抵抗を測
定したものである。このような導電性微粒子としては、
金属酸化物やイオン性化合物などを挙げることができ、
本発明で好ましく用いられる導電性微粒子は、導電性金
属酸化物及びその誘導体，導電性金属，炭素繊維，π共
役系高分子（ポリアリーレンビニレン等）などであり、
この中でも特に好ましい導電性材料は、結晶性の金属酸
化物からなる無機微粒子である。これらの導電性の無機
微粒子はその体積抵抗率が１０⁷Ωｃｍ以下、よりこの
ましくは１０⁶Ω以下、さらに好ましくは１０⁵Ωｃｍ以
下である。この範囲以上では、十分な帯電防止性をえる
ことができない。 このような導電性無機微粒子のなか
で、最も好ましい物は、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂、ＳｎＯ₂、Ａ
ｌ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＭｇＯ、ＢａＯ、Ｍｏ
Ｏ₃、Ｖ₂Ｏ₅の中から選ばれた少なくとも１種の結晶性
の金属酸化物或いはこれらの複合酸化物の微粒子であ
る。この中で特に好ましい物は、ＳｎＯ₂を主成分とし
酸化アンチモン約５〜２０％含有させ及び／又はさらに
他成分（例えば酸化珪素、ホウ素、リンなど）を含有さ
せた導電性材料である。

【００１１】また、イオン性の導電性ポリマ−、又はラ
テックスを用いても良い。用いられるイオン性の導電性
ポリマーは特に限定されず、アニオン性、カチオン性、
ベタイン性及びノニオン性のいづれでも良いが、その中
でも好ましいのはアニオン性、カチオン性である。より
好ましいのはアニオン性であるスルホン酸系、カルボン
酸系、リン酸系ポリマー又はラテックスであり、又３級
アミン系、４級アンモニウム系、ホスホニウム系であ
る。これらの有機／無機の導電性／非導電性微粒子は２
種以上まぜて用いることもてきる。

【００１２】これらの粒子の大きさは、導電性無機微粒
子のように一次粒子が集合して二次粒子を形成している
ものは、一次粒子径で好ましくは０．０００１〜１μ
ｍ、より好ましくは０．００１〜０．５μｍ、さらに好
ましくは０．００１〜０．３μｍである。二次粒子径は
好ましくは０．０１〜５μｍ、さらに好ましくは０．０
２〜３μｍであり、さらに好ましくは０．０３〜２μｍ
である。これ以外の単一粒子からなる微粒子の場合、
０．０１μｍから５μｍが好ましく、より好ましくは
０．０２μｍから３μｍ、さらに好ましくは０．０３μ
ｍから２μｍである。これらの非導電性、導電性の有機
／無機微粒子は、バインダ−なしで塗布液から塗布され
てもよいが、バインダーと共に塗布されることが更に好
ましい。その時の好ましい塗布量は０．００１ｇ／ｍ²
以上３ｇ／ｍ²であり、より好ましくは０．００１ｇ／
ｍ²以上１．０ｇ／ｍ²以下、更に好ましくは０．００５
ｇ／ｍ²以上０．５ｇ／ｍ²以下、特に好ましくは０．０
１ｇ／ｍ²以上０．３ｇ／ｍ²以下である。バインダーの
塗布量は０．００１ｇ／ｍ²以上２ｇ／ｍ²以下が好まし
く、より好ましくは０．００５ｇ／ｍ²以上１ｇ／ｍ²以
下、更に好ましくは０．０１ｇ／ｍ²以上０．５ｇ／ｍ²
以下である。この時、微粒子とバインダーの重量比は１
０００／１〜１／１０００が好ましく、より好ましくは
５００／１〜１／５００、更に好ましくは２５０／１〜
１／２５０である。

【００１３】(2)熱現像機 加熱部での現像ムラを無くすため、感材をしっかりと押
しつけ熱を均一に伝導する必要がある。このため加熱部
は「熱源部」と「抑え部材」の両方から形成されるのが一般
的であり、これらのうち少なくとも一方のきしみ値を本
発明の範囲内にするのが好ましく、さらに両方のきしみ
値を本発明の範囲内にするのが好ましい。このきしみ値
を達成するには加熱部構成素材の選定および表面設計の
両者で達成でき、これらは各々単独で実施しても、組み
合わせて実施しても良い。 熱源部：加熱ロ−ルやパネルヒ−タ−を用いるが、こ
れらは一般的に鉄やステンレスや銅、アルミニウム等の
金属が用いられる。このようなロ−ルにライニングを行
わず直接使用する場合、熱現像温度付近での表面の摩擦
係数の変化は小さく、その表面の粗さのみが問題とな
る。好ましい表面粗さＲa＝０．１〜１００μmである。
即ち本発明のきしみ値になるように機械的あるいは化学
的に表面に細かな凹凸を付与すればよい。一方加熱ロ−
ルの耐傷性向上の目的で加熱ロ−ル表面を無機物（クロ
ムメッキやアルミナ等の酸化薄膜の形成）でライニング
したり、あるいは感材の傷つき防止のために柔らかいゴ
ム状のもの（ＳＢＲ，シリコンゴム等）でライニングす
ることがある。前者は熱現像温度付近での表面の摩擦係
数の変化は小さく、その表面の粗さのみが問題となる。
好ましい表面粗さＲa＝０．１〜３００μm、より好まし
くは０．５〜１５０μm、さらに好ましくは１〜８０μm
である。これはメッキ方法、表面の酸化方法等の条件の
調整で本発明の範囲のきしみ値を達成すれば良い。一方
後者は本来柔らかい素材であり、熱現像中のきしみ値が
大きくなり易いため、表面粗さの付与のためには滑剤
（シリカやカ−ボンブラックや架橋ポリマ−の微粒子
等）を添加することで本発明のきしみ値を達成可能であ
る。さらに後者の対策としてエンボス加工により表面に
凹凸を付与することも有効である。

【００１４】抑え部材：抑え部材はロ−ルでもベルト
でもよく、これらを組み合わせることも好ましい。いず
れの場合でも、本発明のきしみ値を達成するためには、
感材表面に合わせて抑え部材の表面を設計する必要があ
る。 (イ)感材表面の凹凸が少ない場合：抑え部材表面に粗さ
を付与することが有効であり、滑剤（シリカやカ−ボン
ブラックや架橋ポリマ−の微粒子やガラス繊維やポリエ
ステルやナイロン等の繊維等）を添加することで本発明
のきしみ値を達成可能である。さらにエンボス加工によ
り表面に凹凸を付与することも有効である。 (ロ)感材表面が凹凸の場合：抑え部材は平滑な方がきし
み値は小さくなり易い。これは両者とも凹凸が大きいと
引っかかりが大きく、きしみ値が大きくなり易いためで
ある。このような表面を持った抑え部材は、抑え部材が
ロ−ルの場合、上記加熱ロ−ルと同様な方法で達成でき
る。一方ベルトの場合、ベルト内に有機あるいは無機微
粒子（例えば架橋ポリスチレン、架橋ポリメチルメタク
リレ−ト等のポリマ−ビ−ズやシリカ、アルミナ等の無
機酸化物）に配合しても良く、有機あるいは無機繊維
（ポリエステル、ポリアミド等のポリマ−繊維やガラス
繊維等の無機繊維を配合してもよい。あるいは凹凸を有
する織物を用いたり、この上にさらにシリコンゴム、ポ
リエステル、ポリアミド等のポリマ−素材を被覆しても
ちいても良い。さらに、ベルト表面に型押し（エンボ
ス）加工を行うことも好ましい。平滑性を付与する場
合、ベルトを成形加工する場合の金型をなるべく平滑に
しておくことが好ましく、さらにこの表面を研磨しさら
に平滑性を上げることも好ましい。これらのベルトはい
ずれの場合でも耐熱性が要求され、好ましい素材として
ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、シリコンゴム
等を挙げることができる。なかでも好ましいのがシリコ
ンゴムである。

【００１５】さらに「縦スジ故障」を解消するために有効
なのが、写真感材の熱現像前後の寸法変化であり、−
０．０７％以上＋０．０７％以下（−は熱現像前に比べ
熱現像後の寸法が収縮していることを示し、＋は伸張を
示す）にするのが好ましく、−０．０５％以上＋０．０
５％以下がより好ましく、−０．０３％以上＋０．０３
％以下がさらに好ましい。このような写真感材を達成す
るには支持体の熱寸法変化を小さくすることであり、１
２０℃１分熱処理した時の熱寸法変化を縦方向（ＭＤ）
横方向（ＴＤ）とも−０．０７％以上＋０．０７％以下
（−は収縮、＋は伸張を示す）が好ましく、−０．０５
％以上＋０．０６％以下がより好ましく、−０．０３％
以上＋０．０５％以下がさらに好ましい。このような支
持体は、１３０℃以上２２０℃以下、より好ましくは１
３５℃以上２００℃以下、さらに好ましくは１４０℃以
上１８０℃以下で、０．１ｋｇ／１ｍ以上６ｋｇ／１ｍ
幅以下、０．２ｋｇ／１ｍ以上５ｋｇ／１ｍ幅以下、
０．３ｋｇ／１ｍ以上３ｋｇ／１ｍ幅以下の低張力で２
秒以上１０分以下、より好ましくは８秒以上７分以下、
さらに好ましくは１５秒以上５分以下熱処理することで
達成できる。これらの熱処理は少なくとも片面塗布後か
ら感光層塗布までに行うのが好ましい。より好ましくは
乳剤側下引き層塗布およびバック層塗布完了から感光層
塗布までの間に実施する。これにより塗布後の面状の低
下を防止できる。このような支持体はポリエチレンテレ
フタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（Ｐ
ＥＮ）、ポリカーボネイト（ＰＣ）、ポリアリレート
（ＰＡｒ）等およびこれらの共重合体、ポリマ−ブレン
ドが挙げられるが、中でも好ましいのがポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレンナフタレートでありさらに
好ましいのがポリエチレンテレフタレートである。これ
らの好ましい平均分子量（Ｍw）は１万以上１００万以
下、より好ましくは２万以上７０万以下、さらに好まし
くは５万以上５０万以下である。これらの支持体の厚み
は９０μm以上２００μm以下が好ましく、９５μm以上
１９０μm以下がより好ましく、１１０μm以上１８０μ
m以下がさらに好ましい。

【００１６】「斜めスジ故障」の解消のためには、下記２
つの対策が有効である。 製膜方向（ＭＤ）と幅方向（ＴＤ）の、熱現像前後の
感材の寸法変化（ Ｌ）の差を小さくする方法 製膜方向（ＭＤ）、幅方向（ＴＤ）の熱現像前後の感材
の寸法変化の差を０％以上０．０５％以下にするのが好
ましく、０％以上０．０４％以下にするのがさらに好ま
しく、０％以上０．０２％以下にするのがさらに好まし
い。このような写真感材を達成するためには熱収縮性の
感材層を上記支持体の片面あるいは両面に塗設するのが
好ましい。これは上記方法で熱処理した支持体の寸法変
化が、ＭＤ方向は収縮、ＴＤ方向は伸張しやすいためで
ある。これはＭＤ方向は搬送張力により熱処理中に延伸
され、これ熱現像中に収縮し、さらにＴＤ方向に伸張と
なるためである。このため熱現像で収縮性を有する感光
層を塗設するのが好ましい。これは、このような感光層
は塗布により形成されるためＭＤ、ＴＤ等方的に収縮す
るが、ＭＤ方向は支持体の収縮方向と同一方向であり応
力が掛かりにくいのに対し、ＴＤ方向は伸張しようとす
る支持体に対し有効に収縮応力がかかり、収縮方向にす
ることができるためである。その結果、ＭＤ／ＴＤの寸
法変化の差を上記の範囲にすることができる。このよう
な感光層単体の熱収縮量は１２０℃３０秒の熱処理前後
で０．０１％以上１．０％以下であることが好ましく、
０．０２％以上０．８％以下がより好ましく、０．０３
％以上０．６％以下がさらに好ましい。このような熱収
縮性の感光層はポリマーバインダーを水系溶剤に分散あ
るいは溶解した塗布液で形成するのが好ましい。これは
残留した水分が熱現像中に揮発することで収縮性を付与
しやすいためである。水分散性のポリマーバインダーと
しては、スチレン・ブタジエン・アクリロニトリル共重
合体（ＳＢＲ）、塩化ビニリデン（ＰＶｄＣ）系共重合
体、ポリアクリレート系重合体、酢酸ビニル樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリメタクリレー
ト系重合体のラテックスを挙げることができる。これら
の分子量（Ｍw）は５千〜１００万が好ましく、１万〜
２０万がより好ましい。より具体的には、アクリル樹脂
系としてセビアンＡ−４６３５，４６５８３，４６０１
（ダイセル化学工業製）、Nipol Lx811,814,824,820,85
7（日本ゼオン製）、ゴム系樹脂としてLACSTAR7310K,33
07B,4700H,7132C（大日本インキ化学製）、Nipol Lx41
6,410,438c,2507（日本ゼオン製）、塩化ビニリデン樹
脂としてL502,L513（旭化成工業製）、オレフィン樹脂
としてケミパ−ルS120,SA100（三井石油化学製）が挙げ
られる。これらは単独で用いても良く、混合して用いて
もよい。これらのラテックス中の固形分濃度は１０％以
上８０％以下、より好ましくは２０％以上７０％以下で
あることがより好ましい。

【００１７】また水溶性のポリマーバインダーとして
は、ゼラチン、水溶性ポリエステル（例えばスルホイソ
フタル酸を共重合したＰＥＴ）、ポリビニルピロリド
ン、デンプン、アラビアゴム、ポリビニルアルコ−ル、
ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、キチン、キトサン
等を挙げることができる。これらの分子量（Ｍw）は５
千〜１００万が好ましく、１万〜２０万がより好まし
い。これらは単独で用いても良く、混合して用いてもよ
い。これらの水溶性バインダ−を水系溶液に溶解して用
いる。水系溶液は水以外の溶剤としてメタノ−ル、エタ
ノ−ル、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ジメチ
ルホルムアミド、アセトン等を挙げることができる。こ
れらの混合溶剤のうち少なくとも３０vol％以上が水で
あるものを本発明では水系溶液と呼ぶ。また、水系溶液
に溶解した水溶性バインダ−の固形分濃度は１wt％以上
５０wt％以下が好ましく、３wt％以上３０wt％以下がよ
り好ましい。

【００１８】熱現像後の冷却を６５℃まで２秒以上６
０秒以下で行う方法 熱現像後感材を急激に冷却しないことが、斜めスジ故障
を発生させないために重要である。これは急激な熱収縮
が斜めスジを発生させるためであり、特にガラス転移温
度(Ｔg)近傍の冷却速度が重要となる。このため、熱現
像終了から６５℃に達するまでの時間を２秒以上６０秒
以下にするのが好ましく、より好ましくは３秒以上５０
秒以下であり、さらに好ましくは４秒以上４０秒以下で
ある。このような冷却速度は、下記の方法で達成でき
る。 (イ)感材の搬送速度を遅くする。好ましくは０．１ｍ／
分以上１０ｍ／分以下、より好ましくは０．２ｍ／分以
上７ｍ／分以下、さらに好ましくは０．３ｍ以上５ｍ以
下である。 (ロ)熱現像部出口を保温する。好ましい温度は４０℃以
上１００℃以下、より好ましくは４５℃以上９０℃以
下、さらに好ましくは５０℃以上８０℃以下である。

【００１９】これらの方法のうちの方法を実施する場
合、バインダーの中に感光剤としてハロゲン化銀を分散
するのが好ましい。この時同時に造核剤を添加するのが
好ましい。これはこのような感光層中で発生する熱現像
中の収縮応力により発生する感度曲線の傾き（階調＝
γ）の低下を防止する効果があるためである。このよう
な造核剤として、アミン誘導体、オニウム塩、ジスルフ
ィド誘導体、ヒドロキシメチル誘導体、ヒドロキサム誘
導体、アシルヒドラジド誘導体、アクリロニトリル誘導
体、水素供与体を挙げることができるが、なかでも好ま
しいのが下式に示すような構造を持つヒドラジン系誘導
体である。

【００２０】

【化１】

【００２１】式中、Ｒ₂ は脂肪族基、芳香族基またはヘ
テロ環基を表し、Ｒ₁ は水素原子またはブロック基を表
し、Ｇ₁ は−ＣＯ−、−ＣＯＣＯ−、−Ｃ＝Ｓ−、−Ｓ
Ｏ₂−、−ＳＯ−、−ＰＯ（Ｒ₃ ）−基（Ｒ₃ はＲ₁ に
定義した基と同じ範囲内より選ばれ、Ｒ₁ と異なってい
てもよい。）またはイミノメチレン基を表す。Ａ₁ 、Ａ
₂ はともに水素原子、あるいは一方が水素原子で他方が
置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、または置
換もしくは無置換のアリールスルホニル基、または置換
もしくは無置換のアシル基を表す。ｍ₁ は０または１で
あり、ｍ₁ が０のとき、Ｒ₁ は脂肪族基、芳香族基また
はヘテロ環基を表す。これらの造核剤の好ましい化合物
例として下記のようなものを挙げることができる。

【００２２】特開平７−７７７８３号公報、４８頁２行
〜３７行に記載の化合物で、具体的には４９頁〜５８頁
に記載の化合物、Ａ−１）〜Ａ−７３）。特開平７−８
４３３１号公報に記載の（化２１）、（化２２）および
（化２３）で表される化合物で、具体的には同公報、６
頁〜８頁に記載の化合物。特開平７−１０４４２６号公
報に記載の一般式〔Ｎａ〕および一般式〔Ｎｂ〕で表さ
れる化合物で、具体的には同公報、１６頁〜２０頁に記
載のＮａ−１〜Ｎａ−２２の化合物およびＮｂ−１〜Ｎ
ｂ−１２の化合物。特願平７−３７８１７号明細書に記
載の一般式（１）、一般式（２）、一般式（３）、一般
式（４）、一般式（５）、一般式（６）および一般式
（７）で表される化合物で、具体的には同明細書に記載
の１−１〜１−１９の化合物、２−１〜２−２２の化合
物、３−１〜３−３６の化合物、４−１〜４−５の化合
物、５−１〜５−４１の化合物、６−１〜６−５８の化
合物および７−１〜７−３８の化合物。米国特許第５，
５４５，５０５号明細書１９頁４３行〜２２頁３行に記
載の化合物、米国特許第５，５４５，５０７号明細書１
７頁４３行〜１８頁５３行に記載の化合物、米国特許第
５，５４５，５１５号明細書１２頁３１行〜１４頁１４
行に記載の化合物、米国特許第５，５５８，９８３号明
細書１６頁３１行〜１７頁１２行に記載の化合物、ＷＯ
特許９７／１１４０７号明細書２７頁４行〜３２頁７行
に記載の化合物。特願平８−７０９０８号明細書に記載
の造核促進剤。

【００２３】本発明の造核促進剤は、支持体に対して画
像形成層側の該画像形成層あるいは他のバインダー層の
どの層に添加しても良いが、該画像形成層あるいはそれ
に隣接するバインダー層に添加することが好ましい。本
発明の造核促進剤添加量は銀１モルに対し１×１０^-6〜
２×１０^-1モルが好ましく、１×１０^-5〜２×１０^-2モ
ルがより好ましく、２×１０^-5〜１×１０^-2モルが最も
好ましい。

【００２４】さらに本発明の感光層には有機酸銀塩を添
加することが好ましい。好ましい有機酸銀塩は炭素数１
０〜３０の脂肪族カルボン酸が好ましく、より好ましく
はベヘン酸銀、アラキジン酸銀、ステアリン酸銀、オレ
イン酸銀、ラウリン酸銀、カプロン酸銀、ミリスチン酸
銀、パルミチン酸銀、マレイン酸銀、フマル酸銀、リノ
−ル酸銀、酪酸銀、酒石酸銀等を挙げることができる
が、なかでも好ましいのがベヘン酸銀である。これらの
有機酸銀は分散し塗布するのが好ましく、ポリアクリル
酸、アクリル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、アク
リロイルメチルプロパンスルホン酸共重合体、カルボキ
シメチルセルロ−ス、カルボキシメチルデンプン等のポ
リマ−、特開昭５２−９２７１６、ＷＯ８８／０４７９
７４記載のアニオン系界面活性剤や公知のアニオン、ノ
ニオン、カチオン界面活性剤を使用するのも好ましい。

【００２５】感光層中には感光性ハロゲン化銀を用い
る。例えばリサ−チディスクロ−ジャ−１９７８年６月
の第１７０２９号、米国特許３，７００，４５８号に記
載のものを使用することができる。有機酸銀塩１モルに
対し０．０１〜０．５モル用いるのが好ましい。必要に
応じてロジウム、レニウム、ルテニウム、オスニウム、
イリジウム、コバルト、水銀、鉄から選ばれる金属の錯
体を少なくとも一種類を、銀１モルに対し１ｎモル〜１
０ｍモル含有するのがより好ましい。さらに、硫黄増感
法、セレン増感法、テルル増感法を用いることもでき
る。さらにシアニン色素、メロシアニン色素、コンプレ
ックスシアニン色素、コンプレックスメロシアニン色
素、ホロホ−ラ−シアニン色素、スチリル色素、ヘミシ
アニン色素、オキソノ−ル色素、ヘミオキソノ−ル色素
等の増感色素を用いることも好ましい。カブリ防止剤と
してチアゾニウム塩（例えば米国特許２６９４７１６記
載）、アザインデン（例えば米国特許２４４４６０５記
載）、ウラゾ−ル（例えば米国特許３２８７１３５記
載）、水銀塩（例えば米国特許２７２８６６３記載）、
有機ハロゲン化合物（例えば特開平６−２０８１９１，
同７−５６２１，同８−１５８０９、米国特許５４６４
７７３等に記載）等を用いることができる。現像を制御
するためにメルカプト化合物、ジスルフィド化合物、チ
オン化合物を用いるのも好ましい。感光層中に還元剤を
添加するのも好ましく、例えば特開昭５７−８２８２
９、同５６−１４６１３３等に記載の化合物を使用する
ことができる。

【００２６】アンチハレ−ションの目的で染料や顔料を
用いることも好ましく、ピラゾロアゾ−ル染料、アント
ラキノン染料、アゾ染料、アゾメチン染料、オキソノ−
ル染料、カルボシアニン染料、スチリル染料、トルフェ
ニルメタン染料、インドアニリン染料、インドフェノ−
ル染料、フタロシアニン等が挙げられる。これらは感光
層に添加しても良く、バック層に添加してもよい。さら
に感光層の反対面に、導電性、耐傷性、滑り性、アンチ
ハレ−ション等の機能付与の目的でバック層を付与する
ことも好ましい。これらは上述のような方法を用いるこ
とができる。これらの感光層、バック層の厚みの和は５
μm以上４０μm以下、８μm以上３５μm以下、１０μm
以上３０μm以下が好ましい。この範囲未満では熱収縮
性の効果が不十分であり、これを超えると熱収縮性が大
きくなりすぎ好ましくない。

【００２７】これらの感光層、バック層を塗設前に支持
体上に、グロー放電処理、コロナ処理、紫外線照射処
理、火炎処理などの表面処理を施すことも好ましい。こ
の中で接着性に優れ、最も好ましいのがコロナ放電処理
である。

【００２８】さらに支持体と感光層、バック層の間に下
塗り層を設けることも好ましい。下塗り層としては、第
１層として支持体によく接着する層（以下、下塗り第１
層と略す）を設け、その上に第２層として下塗り第１層
と写真層をよく接着する層（以下、下塗り第２層と略
す）を塗布するいわゆる重層法と、支持体と写真層をよ
く接着する層を一層のみ塗布する単層法とがある。重層
法における下塗り第１層では、例えば、塩化ビニル、塩
化ビニリデン、ブタジエン、酢酸ビニル、スチレン、ア
クリロニトリル、メタクリル酸エステル、メタクリル
酸、アクリル酸、イタコン酸、無水マレイン酸等の中か
ら選ばれた単量体を出発原料とする共重合体、エポキシ
樹脂、ゼラチン、ニトロセルロース、ポリ酢酸ビニルな
どが用いられる。また必要に応じて、トリアジン系、エ
ポキシ系、メラミン系、ブロックイソシアネートを含む
イソシアネート系、アジリジン系、オキサザリン系等の
架橋剤、コロイダルシリカ等の無機粒子、界面活性剤、
増粘剤、染料、防腐剤などを添加してもよい。（これら
については、E.H.Immergut ~Polymer Handbook" VI１８
７〜２３１、Intersciense Pub.New York １９６６や特
開昭５０−３９５２８、同５０−４７１９６、同５０−
６３８８１、同５１−１３３５２６、同６４−５３８、
同６３−１７４６９８、特願平１−２４０９６５、特開
平１−２４０９６５、同２−１８４８４４、特開昭４８
−８９８７０、同４８−９３６７２などに詳しい）。ま
た、下塗り第２層では、主としてゼラチンが用いられ
る。

【００２９】これらのの感光層、バック層、下塗り層を
塗設する方法については特に制限はない。従来ハロゲン
化銀写真感光材料の親水性コロイド層を塗設する公知の
方法を用いることができる。例えばディップコート法、
エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコ
ート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、或
いは、米国特許第２６８１２９４号記載のホッパーを使
用するエクストルージョンコート法、又は米国特許第２
７６１４１８号、同３５０８９４７号、同２７６１７９
１号記載の多層同時塗布方法を用いることができる。こ
のようにして調製した感材の大きさは縦、横とも３０cm
以上３００cm以下が好ましく、４５cm以上２００cm以下
がさらに好ましく、５５cm以上１５０cm以下がさらに好
ましい。この範囲未満では縦スジ、斜めスジの故障は発
生しにくく本発明の効果が発現しにくい。一方この範囲
を越えると取扱いが極めて困難となり好ましくない。

【００３０】以下に本発明で用いた測定法について述べ
る。 （１）きしみ値 下記手順に従って、図１に示したような引張試験機を応
用した装置を用い、２５℃６０％ＲＨ下でバック層のき
しみ値、感光層のきしみ値を測定し、その平均値をきし
み値とした。 (1-1)バック層のきしみ値 サンプル２を幅方向１８０ｍｍ、長手方向３００ｍｍ
の長方形に切り出す。 水平で平滑な台の試料ステージ５にサンプル２のバッ
ク層を上にして張りつける。 熱現像機駆動ベルトと同一素材を、幅６５ｍｍ、長手
方向７７ｍｍ、５００ｇの重さのウエイト１に張りつけ
る。 ウエイト１の６５ｍｍの辺の中央に糸を付け、もう一
端を引張試験機の移動ステ−ジ３に固定した滑車を介し
ロ−ドセルに取り付ける。 移動ステ−ジ３を２００ｍｍ／分の速度で引き下げ
る。この時ロ−ドセル６の検出した最大荷重をバック層
のきしみ値とする。 (1-2)感光層のきしみ値 上記方法と同様にして測定する。但しの感光層面を上
にすることと、の熱現機ヒ−トドラム表面と同一素材
を張り付ける点のみが異なる。

【００３１】（２）導電層の抵抗 試料を幅１ｃｍ、長さ５ｃｍに裁断し、長さ方向に銀ペ
イントを塗布した後、温度２５℃、相対湿度１０％ＲＨ
で２時間調湿後、１００Ｖの電圧を印加して幅方向の抵
抗を調べた。 （３）熱現像前後の寸法変化 (3-1)感光材料の寸法変化 感光材料を５ｃｍ×２５ｃｍに裁断し２５℃６０％ｒ
ｈ下で５時間以上調湿する。 ２０ｃｍ間隔の一対の孔を開け、この間隔をピンゲ−
ジで測長する（Ｌ1）。 １２０℃に加熱したヒ−トブロックにサンプルを３０
秒押しつけた後、再び２５℃６０％ｒｈ下で５時間以上
調湿する。 ピンゲ−ジで測長し（Ｌ2）、寸法変化（１００×(Ｌ
2−Ｌ1)／Ｌ1：％）を求める。 (3-2)感光層の寸法変化 感光材料に用いた支持体単体の寸法変化を上記(3-1)
と同様にして求める（Ｓ1(％)）。 上記(3-1)で求めた感光材料の寸法変化（Ｓ2(％)）と
の差（Ｓ2−Ｓ1：％）を感光層の寸法変化とする。

【００３２】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、これに限定されるものではない。

【００３３】実施例−１ （１）支持体の作成 平均粒径０．３μｍの球状シリカ粒子を６０ｐｐｍ添加
し、常法に従い直重法で重合した固有粘度０．５８のポ
リエチレンテレフタレ−ト（ＰＥＴ）をペレット化し１
７０℃で４時間乾燥した。これを３００℃で溶融後Ｔ型
ダイから押し出し静電印加法でドラム上で急冷し、熱固
定後の膜圧が１２５μｍになるように未延伸フィルムを
作成した。これを、３．２倍に縦延伸、ついで４．０倍
に横延伸を実施した、この時の温度はそれぞれ、９０
℃、１０５℃であった。この後、２３０℃で２０秒間熱
固定しさらに同じ温度で横方向に３％弛緩した後巻取
り、ＰＥＴ支持体を得た。

【００３４】（２）下塗層・バック層の付与 (2-1)下塗り層 塗布に先立ち下記表面処理を支持体の両面に行った。ピ
ラ−社製ソリッドステ−トコロナ処理機６ＫＶＡモデル
を用い、支持体の両面を室温下において２０ｍ／分で処
理する。この時の電流、電圧の読み取り値から、支持体
には０．３７５ｋＶ・Ａ・分／ｍ²の処理がなされてい
る。この時の処理周波数は９．６ｋＨｚ、電極と誘電体
ロ−ルのギャップクリアランスは１．６ｍｍであった。

【００３５】この支持体の片面に下記２層からなる接着
層を塗設した。 第１層 下記組成の下塗り液をワイヤ−バ−を用いて６ｍｌ／ｍ
²塗布し１２０℃で２分間乾燥した。 ブタジエン−スチレン共重合ラテックス １３ｍｌ （固形分４３％、ブタジエン／スチレン重量比＝３２／６８） ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−Ｓ−トリアジンナトリウ ７ｍｌ ム塩 ８％水溶液 ラウリルベンゼンスルホン酸ナトリウム １％水溶液 １．６ｍｌ 蒸留水 ８０ｍｌ

【００３６】第２層 上記下塗り第１層の上に、下記組成の下塗り液をワイヤ
−バ−を用いて９ｍｌ／ｍ²塗布し、１８５℃で５分間
乾燥した。 ゼラチン ０．９ｇ メチルセルロ−ス（メトロ−ズＳＭ１５ 置換度１．７９〜 ０．１ｇ １．８３） 酢酸（濃度９９％） ０．０２ｍｌ 蒸留水 ９９ｍｌ

【００３７】(2-2)バック層 この反対面（バック面）に下記導電層、滑り層を塗設し
た。 導電層 アクリル樹脂水分散液 ２．０重量部 （ジュリマ−ＥＴ４１０、固形分２０重量％、日本純薬(株)製） 酸化スズ−酸化アンチモン水分散物 １８．１重量部 （平均粒径０．１μm、１７重量％） ポリオキシエチレンフェニルエ−テル ０．１重量部 これに蒸留水を加えて１００重量部となるように調製し
た。これを塗布後１８０℃で３０秒乾燥し０．０４μm
の厚みの層を形成した。このようにして表１に示した表
面電気抵抗が１０⁶Ωの支持体を作成した。酸化スズ−
酸化アンチモン水分散物を３０重量部，６重量部、３重
量部にする以外は全て上と同様に調製し、表１に示した
表面電気抵抗がそれぞれ１０⁴、１０¹¹、１０¹⁴Ωの支
持体を作成した。

【００３８】（３）支持体の熱処理 下塗り層、バック層を塗設した支持体に対し、下記条件
で恒温ゾ−ン中を搬送しながら熱処理を施した。これら
の熱現像前後の寸法変化を、上記「感光材料の寸法変化」
と同様の方法で測定した。

【００３９】（４）感光層・バック層の塗布 (4-0) 感光層の塗布 スチレンブタジエンゴムラテックス（ＳＢＲ）、ゼラチ
ン（ｇｅｌ）、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）をバイ
ンダーに用いた感光層を塗設した。これらの層は、それ
ぞれ水溶液、ラテックス水分散液、有機溶剤溶液として
調製した。 (4-1) スチレンブタジエンゴムラテックス（ＳＢＲ）系
感光層の作成 （ハロゲン化銀粒子Ａの調製）水７００ｍｌにフタル化
ゼラチン２２ｇおよび臭化カリウム３０ｍｇを溶解し
て、温度４０℃にてｐＨを５．０に合わせた後、硝酸銀
１８．６ｇを含む水溶液１５９ｍｌと臭化カリウムを含
む水溶液をｐＡｇを７．７に保ちながらコントロールダ
ブルジェット法で１０分間かけて添加した。Ｋ₃[ＩｒＣ
ｌ₆ ] ^-3を８×１０^-6モル／リットルと臭化カリウムを
１モル／リットルで含む水溶液をｐＡｇを７．７に保ち
ながらコントロールダブルジェット法で３０分間かけて
添加した。その後ｐＨ５．９、ｐＡｇ８．０に調製し
た。得られた粒子は、平均粒子サイズ０．０７μｍ、投
影面積直径の変動係数８％、（１００）面積率８６％の
立方体粒子であった。上記のハロゲン化銀粒子Ｃを温度
６０℃に昇温して、銀１モル当たり８．５×１０^-5モル
のチオ硫酸ナトリウム、１．１×１０^-5モルの２，３，
４，５，６−ペンタフロロフェニルジフェニルスルフィ
ンセレニド、２×１０^-6モルのテルル化合物−１、3,3
×１０^-6モルの塩化金酸、２．３×１０^-4モルのチオシ
アン酸を添加して、１２０分間熟成した。その後、温度
を５０℃にして８×１０^-4モルの増感色素−Ｃを攪拌し
ながら添加し、更に３．５×１０^-2モルの沃化カリウム
を添加して３０分間攪拌し、３０℃に急冷却してハロゲ
ン化銀の調製を完了した。

【００４０】

【化２】

【００４１】（有機酸銀微結晶分散物の調製）ベヘン酸
４０ｇ，ステアリン酸７．３ｇ、蒸留水５００ｍｌを９
０℃で１５分間混合し、激しく攪拌しながら１Ｎ−Ｎａ
ＯＨ水溶液１８７ｍｌを１５分間かけて添加し、１Ｎ−
硝酸水溶液６１ｍｌを添加して５０℃に降温した。次
に、１Ｎ−硝酸水溶液１２４ｍｌを添加してそのまま３
０分間攪拌した。その後、吸引濾過で固形分を濾過し、
濾水の伝導度が３０μＳ／ｃｍになるまで固形分を水洗
した。こうして得られた固形分は、乾燥させないでウェ
ットケーキとして取扱い、乾燥固形分３４．８ｇ相当の
ウェットケーキに対して、ポリビニルアルコール１２ｇ
及び水１５０ｍｌを添加し、良く混合してスラリーとし
た。平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズ８４０ｇを
用意してスラリーと一緒にベッセルに入れ、分散機（１
／４Ｇ−サンドグラインダーミル：アイメックス（株）
社製）にて５時間分散し、体積加重平均１．５μｍの有
機酸銀微結晶分散物を得た。粒子サイズの測定は、Ｍａ
ｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｕｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｔｄ．製
Ｍａｓｔｅｒ ＳａｉｚｅｒＸにて行った。

【００４２】（素材固体微粒子分散物の調製）テトラク
ロロフタル酸、４−メチルフタルサン、１、１−ビス
（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，
５，５−トリメチルヘキサン、フタラジン、トリブロモ
メチルスルフォニルベンゼンについて固体微粒子分散物
を調製した。テトラクロロフタル酸に対して、ヒドロキ
シプロピルセルロース０．８１ｇと水９４．２ｍｌとを
添加して良く攪拌してスラリーとして１０時間放置し
た。その後、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビーズを
１００ｍｌとスラリーとを一緒にベッセルに入れて有機
酸銀微結晶分散物の調製に用いたものとおなじ型の分散
機で５時間分散してテトラクロロフタル酸の固体微結晶
分散物を得た。固体微粒子の粒子サイズは７０ｗｔ％が
１．０μｍ以下であった。

【００４３】（乳剤層塗布液の調製）先に調製した有機
酸銀微結晶分散物に対して下記の組成物を添加して、乳
剤塗布液を調製した。 有機酸銀微結晶分散物 １ モル ハロゲン粒子 Ａ ０．０５モル バインダー、 ＳＢＲラテックス （ＬＡＣＳＴＡＲ ３３０７Ｂ 大日本インキ化学工業（株）） ４３０ｇ 現像用素材： テトラクロロフタル酸 ５ｇ １、１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル） −３，５，５−トリメチルヘキサン ９８ｇ フタラジン ９．２ｇ トリブロモメチルフェノルスルホン １２ｇ ４−メチルフタル酸 ７ｇ ヒドラジン造核剤（表１に示す種類） ５．０×１０^-3mol/Ag 1mol

【００４４】（乳剤保護層塗布液の調製）イナートゼラ
チンに対して、下記の各組成物を添加して乳剤保護層塗
布液を調製した。このマット剤を変えることで感光層の
きしみ値を調整した。 イナートゼラチン １０ｇ 界面活性剤 Ａ ０．２６ｇ 界面活性剤 Ｂ ０．０９ｇ マット剤 表１に記載したものを添加 １，２−（ビスビニルスルホンアセトアミド）エタン ０．３ｇ 水 ６４ｇ

【００４５】（発色剤分散物Ａの調製）酢酸エチル３５
ｇに対して、下記化合物１をそれぞれ２．５ｇを添加し
て攪拌溶解した。この液に予め溶解したポリビニルアル
コール１０重量％溶液５０ｇを添加して５分間ホモジナ
イザーで分散した。その後、酢酸エチルを脱溶媒により
除き、その後、水で希釈して発色剤分散物を調製した。

【００４６】

【化３】

【００４７】（バック塗布液の調製）ポリビニルアルコ
ールに対して、下記の各組成物を添加して、バック塗布
液を調製した。下記マット剤を変えることで、バックの
きしみ値の異なるサンプルを作成した。 ポリビニルアルコール ３０ｇ 発色剤分散物Ａ ５０ｇ 添加剤−Ａ ２Ｏｇ 水 ２５０ｇ マット剤 表１に記載したものを添加

【００４８】

【化４】

【００４９】（乳剤層塗布液の調製）上記のように調製
した乳剤層塗布液をポリエチレンテレフタレート支持体
上に銀が１．６ｇ／ｍ² になるように塗布した。その上
に乳剤層保護層塗布液をゼラチンの塗布量が１．８ｇ／
ｍ² になるように塗布した。乾燥後、乳剤層と反対の面
にバック面塗布液を６６０ｎｍの光学濃度が０．７にな
るように塗布し、試料を作成した。

【００５０】(4-2) ゼラチン（ｇｅｌ）系感光層の作成 上記ＳＢＲ系感光層と同様にして作成した。ただし、
（乳剤層塗布液の調製）のところで用いたＳＢＲラテッ
クスの代わりにゼラチンを４３０ｇ用いた。

【００５１】(4-3) ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）系
感光層の作成 （有機酸銀乳剤Ｂの調製）ベヘン酸８４０ｇ、ステアリ
ン酸９５ｇを１２リットルの水に添加し９０℃に保ちな
がら、水酸化ナトリウム４８ｇ、炭酸ナトリウム６３ｇ
を１．５リットルの水に溶解したものを添加した。３０
分攪拌した後５０℃とし、Ｎ−ブロモサクシイミド１％
水溶液１．１リットルを添加し、次いで硝酸銀１７％水
溶液２．３リットルを攪拌しながら徐々に添加した。さ
らに温度を３５℃とし、攪拌しながら臭化カリウム２％
水溶液１．５リットルを２分間かけて添加した後３０分
間攪拌し、Ｎ−ブロモサクシイミド１％水溶液２．４リ
ットルを添加した。この水系混合物に攪拌しながら１．
２重量％ポリ酢酸ビニルの酢酸ブチル溶液３３００ｇを
加えた後１０分間静置し、２層に分離させ、水層を取り
除き、さらに残されたゲルを水で２回洗浄した。こうし
て得られたゲル状のベヘン酸／ステアリン酸銀および臭
化銀の混合物をポリビニルブチラール（電気化学工業
（株）製デンカブチラール＃３０００−Ｋ）の２．６％
２−ブタノン溶液１８００ｇで分散し、さらにポリビニ
ルブチラール（電気化学工業（株）製デンカブチラール
＃４０００−２）６００ｇ、イソプロピルアルコール３
００ｇと共に分散し有機酸銀塩乳剤（平均短径０．０５
μｍ、平均長径１．２μｍ、変動係数２５％の針状粒子
を得た。

【００５２】（乳剤層塗布液Ｂの調製）上記で得た有機
酸銀乳剤に銀１モル当たり以下の量になるように各薬品
を添加した。２５℃でフェニルチオスルホン酸ナトリウ
ム１０ｍｇ、増感色素Ａを４０ｍｇ、増感色素Ｂを８ｍ
ｇ、２−メルカプト−５−メチルベンゾイミダゾール
（Ｃ−１）２ｇ、２−メルカプト−５−メチルベンゾチ
アゾール（Ｃ−２）１ｇ、４−クロロベンゾフェノン−
２−カルボン酸（Ｃ−３）２１．５ｇと２−ブタノン５
８０ｇ、ジメチルホルムアミド２２０ｇを攪拌しながら
添加し３時間放置した。次いで、４，６−ジトリクロロ
メチル−２−フェニルトリアジン（Ｃ−４）４．５ｇ、
ジスルフィド化合物Ａを２ｇ、１，１−ビス（２−ヒド
ロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，５，５−ト
リメチルヘキサン（Ｃ−５）１６０ｇ、フタラジン（Ｃ
−６）１５ｇ、テトラクロロフタル酸（Ｃ−７）５ｇ、
ヒドラジン造核剤ＨＤ３を９．０×１０^-3ｍｏｌ／Ａｇ
１ｍｏｌ、メガファックスＦ−１７６Ｐ（大日本インキ
化学工業（株）製フッ素系界面活性剤）１．１ｇ、２−
ブタノン５９０ｇ、メチルイソブチルケトン１０ｇを攪
拌しながら添加した。

【００５３】（乳剤保護層塗布液Ｂの調製）ＣＡＢ１７
１−１５Ｓ（イーストマンケミカル（株）製酢酸酪酸セ
ルロース）７５ｇ、４−メチルフタル酸（Ｃ−８）５．
７ｇ、テトラクロロフタル酸（Ｃ−９）１．５ｇ、２−
トリブロモメチルスルフォニルベンゾチアゾール（Ｃ−
１０）１０ｇ、フタラゾン（Ｃ−１１）２ｇ、メガファ
ックスＦ−１７６Ｐ０．３ｇ、表１記載のマット剤、ｓ
ｕｍｉｄｕｒ Ｎ３５００（住友バイエルウレタン社製
ポリイソシアネート）５ｇを２−ブタノン３０７０ｇと
酢酸エチル３０ｇに溶解したものを調製した。この中の
マット剤を変えることで感光層のきしみ値を調整した。

【００５４】（バック面を有した支持体の作成）ポリビ
ニルブチラール（電気化学工業（株）製デンカブチラー
ル＃４０００−２）６ｇ、表１記載のマット剤、０．１
ｇのメガファックスＦ−１７６Ｐ−プロパノール６４ｇ
に攪拌しながら添加し溶解および混合させた。さらに、
４２０ｇの染料Ａをメタノール１０ｇとアセトン２０ｇ
に溶かした混合溶液および３−イソシアナトメチル−
３，５，５−トリメチルヘキシルイソシアネート０．８
ｇを酢酸エチル６ｇに溶かした溶液を添加し塗布液を調
製した。このマット剤によりバック面のきしみ値を変え
た。このバック面塗布液を７８０ｎｍの光学濃度０．７
となるように塗布した。 （感光層の塗設）さらに、バック層塗布面の反対側に上
記乳剤層塗布液を銀が２ｇ／ｍ² となるように塗布した
後、さらに上記乳剤面上に乳剤面保護層塗布液を乾燥厚
さ５μｍとなるように塗布した。

【００５５】

【化５】

【００５６】

【化６】

【００５７】（５）露光、熱現像、センシトメトリ− 上記感材を７８０nmにピ−クを持つ干渉フィルタ−を介
し、ステップウエッジを通して発光時間１０^-4secのキ
セノンフラッシュ光で露光した。これを、シリコンゴム
で被覆した直径３０cmのヒ−トドラムと、これを２７０
度ラップしたシリコンゴム製駆動ベルトからなる熱現像
機を用い、感光層をヒ−トドラムにバック層を駆動ベル
トに接触させ下記条件で熱現像を行った。 熱現像温度＝１２０℃ 熱現像時間＝３０秒 感材サイズ＝６０cm幅×９０cm長 なお、駆動ベルトの表面は下記２種類のものを用いた。 粗；表面の平均凹凸（Ｒａ）＝０．１ｍｍ 滑；表面の平均凹凸（Ｒａ）＝０．０１ｍｍ また熱現像後の冷却時間は、熱現像機出口にファンを設
置し、風量を調整することで制御した。冷却速度は感材
表面に張り付けた熱電対の温度をモニタ−し求め、表１
に示した。得られた画像を濃度計で計測し特性曲線を求
め、０．３と３．０の点を結ぶ直線の傾きから階調
（γ）を得、結果を表１に示した。

【００５８】（６）寸法変化の測定 上述の方法に従い、熱現像前後の寸法変化を測定し、表
１に示した。 （７）面状の評価 長手方向（熱現像処理方向）に対し平行（０度）〜２０
度の間で発生している筋を縦筋とし、２０度〜９０度の
間で発生している筋を斜め筋とした。これらの筋に対し
直交方向にレ−ザ−変位計（例えば、キ−エンス社製LC
2210型レ-ザ -フォ-カス変位計）で５０ｃｍ走査し凹凸
を測定し、山と谷の最大差を表１に示した。（８）結果 本発明を実施することで、平面性、写真性に優れた熱現
像感材を供給することができる。

【００５９】

【表１】

【００６０】

【表２】

【００６１】

【発明の効果】本発明を実施することで、熱現像後の平
面性が良好な熱現像写真画像形成方法および熱現像写真
感光材料を達成した。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のきしみ値測定装置を示す。

【符号の説明】 １ サンプルフィルムを張り付けたウエイト ２ サンプルフィルム ３ 引張試験機の移動ステ−ジ ４ 滑車 ５ 水平に取り付けた試料ステ−ジ ６ ロ−ドセル ７ 引張試験機

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) G03C 1/498

Claims (8)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 写真感光材料を熱により現像処理を行な
   う方法において、表面に凹凸を付与するか、表面に滑り
   剤を付与するか、表面素材がガラス転移温度の高いもの
   であるか、導電性層を設けるかのいずれかの写真感光材
   料と、表面粗さＲａ＝０．５〜１５０μｍである熱現像
   処理の際に接触する熱現像機の加熱部の表面粗さが写真
   感光材料の表面粗さと逆の関係にある抑え部材を有する
   熱現像機とを接触させて、該写真感光材料と接触する熱
   現像機の加熱部と該写真感光材料との間のきしみ値が１
   ０ｇ以上５００ｇ以下としたことを特徴とする熱現像写
   真画像形成方法。
2. 【請求項２】 該写真感光材料の熱現像前後の寸法変化
   が−０．０７％以上＋０．０７％以下であることを特徴
   とする請求項１に記載の熱現像写真画像形成方法。
3. 【請求項３】 該写真感光材料の前記導電性層の表面電
   気抵抗が、２５℃、相対湿度１０％ＲＨで２時間調湿後
   の測定で１０³以上１０¹²Ω以下であることを特徴とす
   る請求項１に記載の熱現像写真画像形成方法。
4. 【請求項４】 該写真感光材料の少なくとも１層が水系
   分散液あるいは水系溶液を塗布することで形成されたこ
   とを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の熱現像写
   真画像形成方法。
5. 【請求項５】 該写真感光材料を形成する写真感光層の
   熱現像前後の寸法変化が−０．３％以上−０．００１％
   以下であることを特徴とする請求項１ないし請求項３の
   いずれか１項に記載の熱現像写真画像形成方法。
6. 【請求項６】 該写真感光材料の写真感光層とバック層
   の厚みの和が３μｍ以上４０μｍ以下であることを特徴
   とする請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の
   熱現像写真画像形成方法。
7. 【請求項７】 該写真感光層中にヒドラジン系造核剤を
   含有することを特徴とする請求項１ないし請求項６のい
   ずれか１項に記載の熱現像写真画像形成方法。
8. 【請求項８】 該熱現像後６５℃まで２秒以上６０秒以
   下で冷却されることを特徴とする請求項１ないし請求項
   ７のいずれか１項に記載の熱現像写真画像形成方法。