JP2000314937A - 熱現像画像形成材料の現像方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱現像後の平面性が良好で、焼きボケが発生
せず、ＰＳ版に露光する過程での機器の自動搬送性が良
好な熱現像画像形成材料の熱現像方法を提供すること。 【解決手段】 ２軸延伸配向結晶化したポリエステル支
持体を有する熱現像画像形成材料に熱現像を施し、該熱
現像画像形成材料を熱現像の温度より８℃以上低く、且
つ該ポリエステル支持体のガラス転移温度より高い温度
条件下に置くことにより熱現像を停止することを特徴と
する熱現像画像形成材料の現像方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像画像形成材料
の熱現像方法、特に写真製版用に用いられる熱現像画像
形成材料の熱現像方法、更に詳しくはスキャナー、イメ
ージセッター用画像形成材料の熱現像方法に関するもの
である。更に詳しくは本発明は、熱現像でフィルム表面
にベコと呼ばれる凹凸ムラ、耳ワカメと呼ばれるフィル
ム四辺に現れる波打ち状の浮き上がりが発生することな
く、更に熱現像処理を行った後、熱現像画像形成材料を
印刷刷版（ＰＳ版）にコンタクト露光した後、ＰＳ版に
「焼きボケ」と呼ばれる故障が発生することがない、カ
ラー写真製版にも適する熱現像画像形成材料の熱現像方
法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】写真感光材料の露光方法の一つに、原図
を走査し、その画像信号に基づいてハロゲン化銀写真感
光材料上に露光を行い、原図の画像に対応するネガ画像
もしくはポジ画像を形成するいわゆるスキャナー方式に
よる画像形成方法が知られている。更にスキャナーから
フィルムに出力した後、返し工程を経ずに直接刷版に焼
き付けるケースやソフトなビームプロファイルを有する
スキャナー光源に対しては超硬調な特性を有するスキャ
ナー感光材料が求められている。支持体上に感光層を有
し、画像露光することで画像形成を行う感光材料は数多
く知られている。それらの中でも、環境保全や画像形成
手段が簡易にできるシステムとして、熱現像により画像
を形成する技術が挙げられる。

【０００３】近年写真製版分野において環境保全、省ス
ペースの観点から処理廃液の減量が強く望まれている。
そこで、レーザー・スキャナーまたはレーザー・イメー
ジセッターにより効率的に露光させることができ、高解
像度および鮮鋭さを有する鮮明な黒色画像を形成するこ
とができる写真製版用途の感光性熱現像材料に関する技
術が必要とされている。これら感光性熱現像材料では、
溶液系処理化学薬品の使用をなくし、より簡単で環境を
損なわない熱現像処理システムを顧客に対して供給する
ことができる。熱現像により画像を形成する方法は、例
えば米国特許第3,152,904号、同3,457,075号、および
Ｄ．モーガン(Morgan)とＢ．シェリー(Shely)による
「熱によって処理される銀システム（Thermally Proce
ssed Silver Systems）」（イメージング・プロセッ
シーズ・アンド・マテリアルズ（Imaging Processes an
d Materials) Neblette 第８版、スタージ(Sturge)、
V．ウォールワース(Walworth)、Ａ．シェップ(Shepp)編
集、第２頁、1969年）に記載されている。このような感
光材料は、還元可能な非感光性の銀源（例えば有機銀
塩）、触媒活性量の光触媒（例えばハロゲン化銀）、お
よび銀の還元剤を通常有機バインダーマトリックス中に
分散した状態で含有している。感光材料は常温で安定で
あるが、露光後高温（例えば８０℃以上）に加熱した場
合に、還元可能な銀源（酸化剤として機能する）と還元
剤との間の酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸
化還元反応は露光で発生した潜像の触媒作用によって促
進される。露光領域中の還元可能な銀塩の反応によって
生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対
照をなし、画像の形成がなされる。

【０００４】従来からこのタイプの熱現像感光材料は知
られているが、これらの感光材料の多くはトルエン、メ
チルエチルケトン（ＭＥＫ）、メタノールなどの有機溶
剤を溶媒とする塗布液を塗布することにより感光性層を
形成している。有機溶剤を溶媒として用いることは、製
造工程での人体への悪影響だけでなく溶剤の回収その他
のためコスト上も不利である。そこで、このような心配
のない水溶媒の塗布液を用いて感光性層（以降「水系感
光性層」ともいう。）を形成する方法が考えられてい
る。例えば特開昭49-52626号、特開昭53-116144号など
にはゼラチンをバインダーとする例が記載されている。
また特開昭50-151138号にはポリビニルアルコールをバ
インダーとする例が記載されている。さらに特開昭60-6
1747号にはゼラチンとポリビニルアルコールを併用した
例が記載されている。これ以外の例として特開昭58-287
37号には水溶性ポリビニルアセタールをバインダーとす
る感光性層の例が記載されている。確かにこのようなバ
インダーを用いると水溶媒の塗布液を用いて感光性層を
形成することができて環境面、コスト面のメリットは大
きい。

【０００５】一方、熱現像画像形成材料を熱現像するた
めの熱現像装置および方法は一般的には公知であり、例
えば米国特許第３，６２９，５４９号、米国特許第３，
６４８，０１９号；米国特許第３，７０９，４７２号；
米国特許第４，５１８，８４５号に開示されている。米
国特許第３，６２９，５４９号および同４，５１８，８
４５号は共に加熱部材内に同心円状に取り付けられた熱
的に絶縁されたドラムを有する現像装置を開示してい
る。また最近の国際公開ＷＯ９７／１３１８１号明細書
に開示された熱現像機は加熱ドラムの上に小径のローラ
ーを密に配置しドラムと小径ローラーで挟み込み、加熱
搬送するものである。

【０００６】しかし、印刷用の熱現像画像形成材料をこ
れらの方法で熱現像すると、熱現像中に発生する熱現像
画像形成材料の寸法変化のために、画像にベコや耳ワカ
メとよばれる波打ち状の浮き上がりが発生し、熱現像後
の熱現像画像形成材料をＰＳ版にコンタクト露光した
後、ＰＳ版に「焼きボケ」が発生してしまう不都合があ
る。この焼きボケ故障は、熱現像後の熱現像画像形成材
料の平面性が悪化し、局所的に浮き上がった所で発生す
るピントボケ故障であり、特に外周部に発生する耳ワカ
メは新聞用途のような大きな版においては、ＰＳ版に露
光する過程での機器の自動搬送にも不都合でしばしばジ
ャミング等の搬送故障の原因にもなる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明はこれらの従来
技術の問題点を解決することを課題とした。即ち、本発
明は、写真製版用、特にスキャナー、イメージセッター
用に適した熱現像画像形成材料の熱現像方法を提供する
ことを解決すべき課題とし、より具体的には、第一に熱
現像後の平面性が良好な熱現像画像形成材料の熱現像方
法を提供すること、第二に焼きボケの発生しない熱現像
画像形成材料の熱現像方法を提供すること、第三にＰＳ
版に露光する過程での機器の自動搬送性が良好な熱現像
画像形成材料の熱現像方法を提供することを解決すべき
課題とした。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明者は上記課題を解
決するために鋭意検討を重ねた結果、２軸延伸配向結晶
化したポリエステル支持体を有する熱現像画像形成材料
に熱現像を施した後に、所定の温度条件下に置くことに
よって熱現像を停止すれば、良好な熱現像を行うことが
できることを見出し、本発明を提供するに至った。即
ち、本発明によれば、２軸延伸配向結晶化したポリエス
テル支持体を有する熱現像画像形成材料に熱現像を施
し、該熱現像画像形成材料を熱現像の温度より８℃以上
低く、且つ該ポリエステル支持体のガラス転移温度より
高い温度条件下に置くことにより熱現像を停止すること
を特徴とする熱現像画像形成材料の現像方法が提供され
る。

【０００９】本発明の好ましい実施態様では、前記熱現
像画像形成材料を熱現像の終了時に、熱現像の温度より
８℃以上低く、且つ前記ポリエステル支持体のガラス転
移温度より高い温度に設定した対向ローラー間を通す。
また、熱現像および熱現像の停止を行うために、（ａ）
熱現像画像形成材料の送り方向に配置されている少なく
とも２個の、熱現像画像形成材料に所定温度の加熱処理
を施すための加熱体、（ｂ）熱現像画像形成材料を移送
するための移送手段、（ｃ）移送中の熱現像画像形成材
料を加熱体に押し付けるための押さえ手段、および
（ｄ）熱現像を停止させるための徐冷部の入り口に設置
された対向ローラーを有する装置を用いることが好まし
い。この装置の押さえ手段は加体熱対表面に付設されて
いる複数の押さえローラーであることが好ましく、ま
た、押さえローラーが回転駆動手段に接続され、熱現像
画像形成材料を移送する移送手段でもあることが好まし
い。さらに、加熱体と熱現像画像形成材料との接触面が
フッ素樹脂コーティングがなされているか、フッ素樹脂
で構成された処理シートが配設されていることが好まし
い。また、対向ローラーは加熱体を内蔵していることが
好ましい。

【００１０】本発明で熱現像する熱現像画像形成材料の
ポリエステル支持体は、画像形成層および／またはバッ
ク層との接着性を向上させる処理を施したのち、１３０
〜２００℃で熱緩和処理を施したものであることが好ま
しい。また、熱緩和処理を施したポリエステル支持体を
１２０℃で３０秒間加熱したときの熱収縮率は縦（Ｍ
Ｄ）方向で＋０．０１〜−０．０３％、横（ＴＤ）方向
で＋０．０４〜０％であることが好ましい。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下において、本発明の実施態様
および実施方法について詳細に説明する。本発明の熱現
像画像形成材料の現像方法は、２軸延伸配向結晶化した
ポリエステル支持体を有する熱現像画像形成材料に熱現
像を施し、該熱現像画像形成材料を熱現像の温度より８
℃以上低く、且つ該ポリエステル支持体のガラス転移温
度より高い温度条件下に置くことにより熱現像を停止す
ることを特徴とする。熱現像を停止させる温度は、熱現
像の温度よりも８℃以上は低くなければならない。８℃
未満であると熱現像が停止しないことが多く、実用面で
問題がある。熱現像を停止させる温度は、熱現像温度よ
りも８〜４５℃低いことが好ましく、８〜３８℃低いこ
とがより好ましく、８〜３０℃低いことがさらに好まし
く、８〜２２℃低いことがさらにより好ましく、８〜１
４℃低いことが特に好ましい。ただし、熱現像を停止さ
せる温度は、熱現像する熱現像画像形成材料のポリエス
テル支持体のガラス転移温度より高くなければならな
い。熱現像を停止させる温度は、ポリエステル支持体の
ガラス転移温度より５℃以上高いことが好ましく、１０
℃以上高いことが好ましく、１５℃以上高いことがより
好ましい。

【００１２】本発明の方法では、熱現像した熱現像画像
形成材料を熱現像を停止する上記温度条件に置くための
具体的手段は特に制限されない。好ましい手段として、
熱現像した熱現像画像形成材料を、上記温度条件に設定
した対向加熱ローラーの間に通す手段を例示することが
できる。このとき、対向加熱ローラーの一方を固定加熱
板に代えてもよい。本発明では、熱現像と熱現像の停止
を一つの装置内で行うことが好ましい。そのような装置
の詳細はとくに制限されるものではないが、例えば、熱
現像を行う熱現像処理部と現像停止を行う徐冷部を有
し、熱現像処理部の前に予備加熱部を有する装置を用い
ることができる。熱現像処理部は、熱現像画像形成材料
に所定の温度の加熱処理を施すための加熱体と、熱現像
画像形成材料を移送するための移送手段と、移送中に熱
現像画像形成材料を加熱体表面に押さえ付けるための押
さえ手段とを有し、移送手段と押さえ手段は一体となっ
ているものであるのが好ましい（同一手段でもよい）。
徐冷部の入口には対向ローラーが設置されているものが
好ましい。本発明の方法においては、この対向ローラー
の温度を熱現像温度より８℃以上低くポリエステル支持
体のガラス転移温度よりも高く設定して現像停止を行
う。

【００１３】本発明の方法に好ましく用いられる熱現像
機の一例を図１の断面図を参照しながら具体的に説明す
る。図１の熱現像機は熱現像画像形成材料１０を平面状
に矯正および予備加熱しながら加熱部に搬入する搬入ロ
ーラー対１１（下部ローラーがヒートローラー）と熱現
像後の熱現像画像形成材料１０を平面状に矯正しながら
加熱部から搬出する搬出ローラー対１２を有する。搬出
ローラー対１２は任意の温度に設定できるヒートローラ
ーである。熱現像画像形成材料１０は搬入ローラー対１
１から搬出ローラー対１２へと搬送される間に熱現像さ
れる。この熱現像中の熱現像画像形成材料１０を搬送す
る搬送手段は画像形成層を有する面が接触する複数のロ
ーラー１３が設置され、その反対側のバック面が接触す
る側にはテフロン系を布にした耐熱布が貼り合わされた
平滑面１４が設置され、熱現像画像形成材料１０が画像
形成層を有する面の接触する複数のローラー１３の駆動
により、バック面が平滑面１４の上を滑って搬送され
る。熱現像画像形成材料１０は熱寸法変化によって平面
が凹凸に変形するが、すぐにローラー対１３の平滑面１
４の挟み込みにより矯正されて平滑化しながら搬送され
る。加熱手段はローラー対１３の上部および平滑面１４
の下部に熱現像画像形成材料１０の両面から加熱される
ように加熱ヒーター１５が設置される。加熱手段として
板状ヒーターを用いた。ローラー対１３と平滑面１４と
のクリアランスは平滑面の部材により異なるが、熱現像
画像形成材料１０が搬送でき、かつ平面性が確保できる
クリアランスに適宜調整される。好ましくは−０．５〜
０．５ｍｍである。

【００１４】加熱部は、搬入ローラー対１１を有する予
備加熱部Ａと加熱ヒーター１５を備えた熱現像処理部Ｂ
と熱現像を停止させる徐冷部Ｃとで構成されるが、熱現
像処理部Ｂの上流の予備加熱部Ａは、熱現像温度よりも
低く（例えば１０〜４０℃程度低く）、熱現像画像形成
材料１０の支持体のガラス転移温度よりも高い温度で、
現像ムラが出ない様にするのが好ましい。また、熱現像
処理部Ｂの下流の徐冷部Ｃにはガイド板１６と、搬出ロ
ーラー対１２（下部がヒートローラー）とが設置されて
いる。搬出ローラー対１２の温度は、本発明にしたがっ
て熱現像温度より８℃以上低く、熱現像画像形成材料１
０のポリエステル支持体のガラス転移温度よりも高い温
度に設定する。本発明の現像方法を実施することによ
り、熱現像中に発生する画像形成材料の熱寸法変化に原
因するベコや耳ワカメ故障が改良され、更に熱現像後の
画像形成材料をＰＳ版にコンタクト露光する時に発生す
る焼きボケ故障が改良され、更にはコンタクト露光時の
自動製版装置でのジャミングも著しく改良される。

【００１５】本発明の方法に用いる熱現像画像形成材料
は、２軸延伸配向結晶化したポリエステル支持体を有す
るものであれば特に層構成や材料は制限されない。熱緩
和処理を施されたものが好ましく、該支持体上に、有機
銀塩、還元剤および感光性ハロゲン化を含む画像形成層
を有し、画像形成層上には少なくとも１層の保護層を有
するものであるのが好ましい。また、本発明に用いる熱
現像画像形成材料は支持体に対して画像形成層と反対側
に少なくとも１層のバック層を有することが好ましく、
画像形成層、保護層、そしてバック層を有するときのバ
インダーとしてポリマーラテックスを用いることが好ま
しい。これらの層にポリマーラテックスを用いることに
よって、水を主成分とする溶媒を用いた水系塗布が可能
になり、環境面、コスト面で有利になる。

【００１６】本発明に用いる熱現像画像形成材料にはポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート
などのポリエステルが用いられる。特に２軸延伸したポ
リエチレンテレフタレートは強度、寸法安定性、耐薬品
性などの点から好ましい。支持体の厚みは下塗り層を除
いたベース厚みで９０〜１８０μｍであることが好まし
い。本発明に用いる熱現像画像形成材料に用いる支持体
は２軸延伸時にフィルムに残存する内部歪みを緩和さ
せ、熱現像中に発生する熱収縮歪みを無くすために、１
３０℃〜１８０℃の温度範囲で熱緩和処理を施したもの
が好ましく用いられる。このような熱緩和処理は温度範
囲内の一定温度で実施してもよく、昇温しながら実施し
てもよい。また支持体の両面に下塗り層やバック層を塗
布する時に支持体のガラス転移温度を越える様な高温度
で乾燥する場合には、支持体の２軸延伸時にフィルムに
残存する内部歪みの熱緩和処理は下塗り層やバック層を
塗布乾燥後に行なうことが好ましい。

【００１７】支持体の熱処理はロール状で実施してもよ
く、ウエッブ状で搬送しながら実施してもよい。ウエッ
ブ状で搬送しながら実施する場合、熱処理時の支持体の
搬送張力を７ｋｇ／ｃｍ² 以下、特に４．２ｋｇ／ｃｍ
² 以下にすることが好ましい。この時の搬送張力の下限
には特に制限はないが、０．５ｋｇ／ｃｍ²程度であ
る。このような熱処理は、後における支持体の１２０
℃、３０秒加熱による熱収縮率が縦（ＭＤ）方向は−
０．０３％〜＋０．０１％、横（ＴＤ）方向は０〜＋
０．０４％である様に施すことが好ましい。支持体は必
要に応じてＳＢＲ、塩化ビニリデン、ポリエステル、ゼ
ラチン等をバインダーとする下塗り層を塗布してもよ
い。下塗り層は多層構成としてもよく、また支持体に対
して片面または両面に設けてもよく、これら下塗り層の
少なくとも一層を導電層とすることができる。下塗り層
の一般的厚みは０．０１〜５μｍ、より好ましくは０．
０５〜１μｍであってよく、導電層とするときの厚みは
０．０１〜１μｍ、より好ましくは０．０３〜０．８μ
ｍである。

【００１８】本発明に用いる熱現像画像形成材料の支持
体に隣接するバック層、または下塗り層中には、ゴミ付
着を減少させるために金属酸化物が含有されていること
が好ましく、バック層および下塗り層（支持体の両面に
設けられるもの）のうちの少なくとも１層を導電層とす
ることが好ましい。ただし、導電層は最外層のバック層
でない方が好ましい。ここで、用いられる金属酸化物は
特開昭６１−２００３３号、同５６−８２５０４号公報
に記載されているものが特に好ましい。導電性金属酸化
物の使用量は、画像形成材料１ｍ² 当たり０．０５〜２
０ｇが好ましく、特に０．１〜１０ｇが好ましい。金属
酸化物含有層の表面抵抗率は２５℃２５％ＲＨの雰囲気
下で１０¹²Ω以下で、好ましくは１０¹¹Ω以下がよい。
これにより良好な帯電防止性が得られる。このときの表
面抵抗率の下限は特に制限されないが、通常１０⁷ Ω程
度である。

【００１９】本発明においては、上記金属酸化物の他
に、さらに含フッ素界面活性剤を併用することによって
さらに良好な帯電防止性を得ることができる。本発明に
用いられる好ましい含フッ素界面活性剤としては、炭素
数４以上（通常１５以下）のフルオロアルキル基、フロ
オロアルケニル基、またはフルオロアリール基を有し、
イオン性基としてアニオン基（スルホン酸（塩）、硫酸
（塩）、カルボン酸（塩）、リン酸（塩））、カチオン
基（アミン塩、アンモニウム塩、芳香族アミン塩、スル
ホニウム塩、ホスホニウム塩）、ベタイン基（カルボキ
シアミン塩、カルボキシアンモニウム塩、スルホアミン
基、スルホアンモニウム塩、ホスホアンモニウム塩、）
またはノニオン基（置換、無置換のポリオキシアルキレ
ン基、ポリグリセリル基またはソルビタン残基）を有す
る界面活性剤が挙げられる。これらの含フッ素界面活性
剤は特開昭４９−１０７２２号、英国特許第１，３３
０，３５６号、米国特許第４，３３５，２０１号、同
４，３４７，３０８号、英国特許第１，４１７，９１５
号、特開昭５５−１４９９３８号、同５８−１９６５４
４号、英国特許第１，４３９，４０２号などに記載され
ている。これらの具体例のいくつかを以下に記す。

【００２０】

【化１】

【００２１】含フッ素界面活性剤を添加する層は画像形
成材料の少なくとも１層であれば特に限定されず、例え
ば表面保護層、乳剤層、中間層、下塗り層、バック層な
どを挙げることができる。その中でも好ましい添加場所
としては表面保護層であり、画像形成層側もしくはバッ
ク層側のどちらか一方でもよいが、少なくとも画像形成
層側の表面保護層に添加した場合はさらに好ましい。表
面保護層が２層以上から成る場合はそのいずれの層でも
よく、また表面保護層の上にさらにオーバーコートして
用いることもできる。含フッ素界面活性剤の使用量は画
像形成材料の１ｍ² 当たり０．０００１〜１ｇであれば
よいが、より好ましくは０．０００２〜０．２５ｇ、特
に好ましいのは０．０００３〜０．１ｇである。また、
含フッ素界面活性剤は、２種以上混合してもよい。

【００２２】ベック平滑度は、日本工業規格（ＪＩＳ）
Ｐ８１１９「紙および板紙のベック試験器による平滑度
試験方法」およびＴＡＰＰＩ標準法Ｔ４７９により容易
に求めることができる。本発明に用いる熱現像画像形成
材料の画像形成層を有する面およびその反対面の最外層
表面の少なくとも一方、好ましくは両方のベック平滑度
は、２０００秒以下であり、より好ましくは１０秒〜２
０００秒である。

【００２３】熱現像画像形成材料の画像形成層を有する
面の最外層表面およびその反対面の最外層表面のベック
平滑度は、前記両面の層に含有させるマット剤と称され
る微粒子の平均粒径および添加量を種々変化させること
によってコントロールすることができる。マット剤は画
像形成層を有する面においては支持体から最も離れた最
外層となる保護層に含有させることが好ましく、その反
対側においては最外層でないバック層に含有させること
が好ましい。本発明において好ましいマット剤の平均粒
径は、１〜１０μｍの範囲である。本発明において好ま
しいマット剤の添加量は、５〜４００ｍｇ／ｍ² 、特に
１０〜２００ｍｇ／ｍ² の範囲である。

【００２４】本発明に用いられるマット剤は、写真的諸
特性に悪影響を及ぼさない固体粒子であれば、どのよう
なものでもよい。無機系のマット剤としては、二酸化ケ
イ素、チタンおよびアルミニウムの酸化物、亜鉛および
カルシウムの炭酸塩、バリウムおよびカルシウムの硫酸
塩、カルシウムおよびアルミニウムのケイ酸塩など、有
機系のマット剤としては、セルロースエステル類、ポリ
メチルメタクリレート、ポリスチレンまたはポリジビニ
ルベンゼンおよびこれらのコポリマーなどの有機重合体
のマット剤が挙げられる。本発明では、特開平３−１０
９５４２号公報２頁左下欄８行目〜３頁右上欄４行目に
記載された多孔性のマット剤、特開平４−１２７１４２
号公報３頁右上欄７行目〜５頁右下欄４行に記載された
アルカリで表面修飾したマット剤、特開平６−１１８５
４２号公報の段落番号「０００５」から「００２６」に
記載された有機重合体のマット剤を用いることがより好
ましい。また、これらのマット剤を２種以上併用しても
よい。例えば、無機系のマット剤と有機系のマット剤の
併用、多孔性のマット剤と非多孔性のマット剤の併用、
不定形のマット剤と球形のマット剤の併用、平均粒径の
異なるマット剤の併用（例えば特開平６−１１８５４２
号に記載されている平均粒径が１．５μｍ以上のマット
剤と平均粒径が１μｍ以下のマット剤の併用）などがあ
る。

【００２５】本発明においては画像形成層を有する面お
よび／またはその反対面の最表面層に滑り剤を含有させ
ることが好ましい。本発明における滑り剤とは、特に制
限はなく物体表面に存在させた時に、存在させない場合
に比べて物体表面の摩擦係数を減少させる化合物であれ
ばいずれでもよい。本発明に用いられる滑り剤の代表的
なものとしては例えば米国特許第３，０４２，５２号、
英国特許第９５５，０６１号、米国特許第３，０８０，
３１７号、同第４，００４，９２７号、同第４，０４
７，９５８号、同第３，４８９，５６７号、英国特許第
１，１４３，１１８号等に記載のシリコーン系滑り剤、
米国特許第２，４５４，０４３号、同第２，７３２，３
０５号、同第２，９７６，１４８号、同第３，２０６，
３１１号、独国特許第１，２８４，２９５号、同第１，
２８４，２９４号等に記載の高級脂肪酸系、アルコール
系、酸アミド系滑り剤、英国特許第１，２６３，７２２
号、米国特許第３，９３３，５１６号等に記載の金属石
けん、米国特許第２，５８８，７６５号、同第３，１２
１，０６０号、英国特許第１，１９８，３８７号等に記
載のエステル系、エーテル系滑り剤、米国特許第３，５
０２，４７３号、同第３，０４２，２２２号に記載のタ
ウリン系滑り剤等がある。

【００２６】好ましく用いられる滑り剤の具体例として
は、セロゾール５２４（主成分カルナバワックス）、ポ
リロンＡ，３９３，Ｈ−４８１（主成分ポリエチレンワ
ックス）、ハイミクロンＧ−１１０（主成分エチレンビ
スステアリン酸アマイド）、ハイミクロンＧ−２７０
（主成分ステアリン酸アマイド）（以上、中京油脂
（株）製）などがある。滑り剤の使用量は添加層のバイ
ンダー量の０．１〜５０重量％であり、好ましは０．５
〜３０重量％である。

【００２７】感光層はバインダー中にハロゲン化銀、化
学増感剤、有機銀塩、還元剤、超硬調化剤、増感色素、
カブリ防止剤、可塑剤等を分散させたものである。バイ
ンダーとして用いられるのは、アクリル樹脂、酢酸ビニ
ル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系
樹脂、塩化ビニル樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレ
フィン樹脂が好ましく、より具体的にはメチルメタクリ
レート／エチルメタクリレート／メタクリル酸コポリマ
ー、メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリ
レート／ヒドロキシエチルメタクリレート／スチレン／
アクリル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／アクリ
ル酸コポリマー、スチレン／ブタジエン／ジビニルベン
ゼン／メタクリル酸コポリマー、メチルメタクリレート
／塩化ビニル／アクリル酸コポリマー、塩化ビニリデン
／エチルアクリレート／アクリロニトリル／メタクリル
酸コポリマーが挙げられ、さらに好ましくはスチレン／
ブタジエン系のポリマーラテックス（ＬＡＣＳＴＡＲ３
３０７Ｂ、Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ４３０、４３５）が好まし
く用いられる。これらの重量平均分子量で５０００〜１
００００００、より好ましくは１００００〜１００００
０程度が好ましい。さらにバインダー中に、全バインダ
ーの２０重量％以下の範囲でポリビニルアルコール、メ
チルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセ
ルロースなどの親水性ポリマーを添加してもよい。バイ
ンダーの塗布量は０．２〜３０ｇ／ｍ² 、より好ましく
は１．０〜１５ｇ／ｍ² の範囲が好ましい。

【００２８】ハロゲン化銀は、塩化銀、塩臭化銀、ヨウ
塩臭化銀のいずれでもよい。ハロゲン化銀の粒子サイズ
は、画像形成後の白濁を低く抑える目的のために小さい
ことが好ましく具体的には０．２０μｍ以下、より好ま
しくは０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下、更に好まし
くは０．０２μｍ以上０．１２μｍ以下がよい。ハロゲ
ン化銀粒子の形状としては立方体、八面体、平板状粒
子、球状粒子、棒状粒子、ジャガイモ状粒子等を挙げる
ことができるが、本発明においては特に立方体状粒子、
平板状粒子が好ましい。平板状ハロゲン化銀粒子を用い
る場合の平均アスペクト比は好ましくは１００：１〜
２：１、より好ましくは５０：１〜３：１がよい。更
に、ハロゲン化銀粒子のコーナーが丸まった粒子も好ま
しく用いることができる。感光性ハロゲン化銀粒子の外
表面の面指数（ミラー指数）については特に制限はない
が、分光増感色素が吸着した場合の分光増感効率が高い
｛１００｝面の占める割合が高いことが好ましい。その
割合としては５０％以上が好ましく、６５％以上がより
好ましく、８０％以上が更に好ましい。これらのハロゲ
ン化銀の形成方法は当業界ではよく知られており例え
ば、リサーチディスクロージャー１９７８年６月の第１
７０２９号、および米国特許第３，７００，４５８号に
記載されている方法を用いることができる。

【００２９】ハロゲン化銀粒子は、周期律表の第VII 族
あるいは第VIII族（第７族〜第１０族）の金属または金
属錯体を含有することが好ましく、より好ましくはロジ
ウム、レニウム、ルテニウム、オスニウム、イリジウム
である。これらは特開平７−２２５４４９号、特開昭６
３−２０４２号、特開平１−２８５９４１号、同２−２
０８５２号、同２−２０８５５号等に記載されている。
これらの化合物の添加量はハロゲン化銀１モル当たり１
×１０^-9モル〜１×１０^-5モルの範囲が好ましく、特に
好ましくは１×１０^-8モル〜１×１０^-4モルである。ハ
ロゲン化銀粒子は、コバルト、鉄、ニッケル、クロム、
パラジウム、白金、金、タリウム、銅、鉛、等の金属原
子を含有してもよく、コバルト、鉄、クロム、ルテニウ
ムの化合物については六シアノ金属錯体を好ましく用い
ることができる。これらの添加量はハロゲン化銀１モル
当たり１×１０^-9〜１×１０^-4モルが好ましい。また、
上記金属を含有させるには単塩、複塩、または錯塩の形
の金属塩にして粒子調製時に添加することができる。

【００３０】ハロゲン化銀乳剤は化学増感されることが
好ましく、硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感法、
貴金属増感法などを用いることができる。硫黄増感はゼ
ラチン中の硫黄化合物、チオ硫酸塩、チオ尿素類、チア
ゾール類、ローダニン類等を用いることができ、添加量
はハロゲン化銀１モル当たり１０^-7〜１０^-2モルであ
る。セレン増感剤としては特公昭４４−１５７４８号、
同４３−１３４８９号、特開平４−２５８３２号、同４
−１０９２４０号、同４−３２４８５５号等に記載の化
合物を用いることができる。テルル増感剤は特開平５−
３１３２８４号中の一般式（II）、（III）、（IV）で
示される化合物が好ましい。セレンおよびテルル増感剤
の使用量はハロゲン化銀１モル当たり１０^-8〜１０^-2モ
ルである。貴金属増感剤としては、金、白金、パラジウ
ム、イリジウム等が挙げられるが、特に金増感が好まし
く、ハロゲン化銀１モル当たり１０^-7〜１０^-2モル用い
る。本発明においては、還元増感を用いることができ
る。還元増感法の具体的な化合物としてはアスコルビン
酸、二酸化チオ尿素、塩化第一スズ、アミノイミノメタ
ンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、ボラン化合物、シ
ラン化合物、ポリアミン化合物等を用いることができ
る。

【００３１】有機銀塩は銀イオンを還元できる源を含む
任意の有機物質であり、特に（炭素数が１０〜３０、好
ましくは１５〜２８の）長鎖脂肪カルボン酸の銀塩が好
ましい。またメルカプト基またはチオン基を含む化合物
の銀塩およびこれらの誘導体を使用することもできる。
有機銀塩の形状は特に制限はないが、短軸と長軸を有す
る針状結晶が好ましい。短軸０．０１μｍ以上０．２０
μｍ以下、長軸０．１０μｍ以上５．０μｍ以下が好ま
しい。有機銀塩は凝集のない微粒子を得る目的で、分散
剤を使用した固体微粒子分散物とする方法が用いられ
る。

【００３２】有機銀塩を固体微粒子分散化する方法は、
分散助剤の存在下で公知の微細化手段（例えば、ボール
ミル、サンドミル、ジェットミル、高圧ホモジナイザ
ー）で分散することができる。分散剤として、ポリアク
リル酸、アクリル酸の共重合体、マレイン酸共重合体、
マレイン酸モノエステル共重合体、アクリロイルメチル
プロパンスルホン酸共重合体、カルボキシメチルデンプ
ン、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸、ペクチ
ン酸、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、
カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセル
ロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、ゼラチ
ン、特開昭５２−９２７１６号、Ｗ０８８／０４７９４
号に記載のアニオン性界面活性剤、特開平９−１７９２
４３号に記載の化合物を適宜選択して用いることができ
る。有機銀塩は銀量として０．１〜５ｇ／ｍ² が好まし
く、さらに好ましくは１〜３ｇ／ｍ² である。ハロゲン
化銀と有機酸銀の量比は有機銀塩１モルに対して感光性
ハロゲン化銀０．０１モル以上０．５モル以下が好まし
く、０．０２モル以上０．３モル以下がより好ましく、
０．０３モル以上０．２５モル以下が特に好ましい。

【００３３】熱現像画像形成材料は、有機銀塩のための
還元剤を含むことが好ましく、還元剤としてはフェニド
ン、ハイドロキノンおよびカテコール、ヒンダードフェ
ノール還元剤が好ましく、特にヒンダードフェノール還
元剤が好ましく、具体的には、ビスフェノール、クロマ
ノールである。還元剤は銀１モルに対して５〜５０％
（モル）含まれることが好ましく、１０〜４０％（モ
ル）で含まれることがさらに好ましい。熱現像画像形成
材料には、画質を向上させるため色調剤を添加するのが
好ましい。好ましい色調剤として環状イミド、コバルト
錯体、メルカプタン、フタラジノン、フタラジノン誘導
体、フタラジン、フタラジン誘導体が挙げられるが、よ
り好ましいのがフタラジノン、フタラジノン誘導体、フ
タラジン、フタラジン誘導体であり、特に好ましいのが
フタラジン、フタラジン誘導体である。色調剤は画像形
成層を有する面に銀１モル当たりの０．１〜５０％（モ
ル）の量含まれることが好ましく、０．５〜２０％（モ
ル）含まれることがさらに好ましい。

【００３４】硬調な画像を得るために、超硬調化剤とし
て一般式（１）で表される置換アルケン誘導体、一般式
（２）で表される置換イソオキサゾール誘導体、一般式
（３）で表される特定のアセタール化合物、およびヒド
ラジン誘導体が好ましく用いられる。

【００３５】

【化２】

【００３６】一般式（１）においてＲ¹ 、Ｒ² 、Ｒ
³ は、それぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｚ
は電子吸引性基またはシリル基を表す。一般域（１）に
おいてＲ ¹ とＺ、Ｒ² とＲ³ 、Ｒ¹ とＲ² 、あるいはＲ
³ とＺは、互いに結合して環状構造を形成していてもよ
い。一般式（２）においてＲ⁴ は、置換基を表す。一般
式（３）においてＸ、Ｙはそれぞれ独立に水素原子また
は置換基を表し、Ａ、Ｂはそれぞれ独立に、アルコキシ
基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アリールオキ
シ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ環オキシ
基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環アミノ基を表す。
一般式（３）においてＸとＹ、あるいはＡとＢは、互い
に結合して環状構造を形成していてもよい。

【００３７】一般式（１）で表される化合物の中でより
好ましいものは、Ｚがシアノ基、ホルミル基、アシル
基、アルコキシカルボニル基、イミノ基、またはカルバ
モイル基を表し、Ｒ¹ が電子吸引性基またはアリール基
を表し、Ｒ² またはＲ³ のどちらか一方が水素原子で、
他方がヒドロキシ基（またはその塩）、メルカプト基
（またはその塩）、アルコキシ基、アリールオキシ基、
ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、
ヘテロ環チオ基またヘテロ環基を表す化合物である。さ
らに好ましいものは、ＺとＲ¹ とが非芳香族の５員〜７
員の環状構造を形成していて、Ｒ² またはＲ³ のどちら
か一方が水素原子で、他方がヒドロキシ基（またはその
塩）、メルカプト基（またはその塩）、アルコキシ基、
アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ基、またはヘテロ環
基を表す化合物である。この時、Ｒ¹ と共に非芳香族の
環状構造を形成するＺとしては、アシル基、カルバモイ
ル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル基、スルホ
ニル基等が好ましく、またＲ¹ としては、アシル基、カ
ルバモイル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル
基、スルホニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ
基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基等が好ましい。

【００３８】一般式（２）において、置換基Ｒ⁴ は電子
吸引性基またはアリール基であり、好ましくは総炭素数
０〜３０の置換もしくは無置換のフェニル基、シアノ
基、アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、ヘテロ
環基、最も好ましくはシアノ基、ヘテロ環基またはアル
コキシカルボニル基である。

【００３９】一般式（３）のＸ、Ｙで表される置換基
は、好ましくは総炭素数１〜４０の、より好ましくは総
炭素数１〜３０の基であり、より好ましくはシアノ基、
アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルス
ルホニル基、アリールスルホニル基、アシル基、アシル
チオ基、アシルアミノ基、チオカルボニル基、ホルミル
基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ基、ヘテロ環基
または任意の電子吸引性基で置換されたフェニル基等で
ある。ＸとＹが、互いに結合して非芳香族の炭素環また
は非芳香族のヘテロ環を形成してる場合もまた好まし
い。形成される環状構造は５員〜７員環が好ましく、そ
の総炭素数は１〜４０、さらには３〜３０が好ましい。
環状構造を形成するＸおよびＹとしては、アシル基、カ
ルバモイル基、オキシカルボニル基、チオカルボニル
基、スルホニル基、イミノ基、Ｎ原子で置換したイミノ
基、アシルアミノ基、カルボニルチオ基等が好ましい。
一般式（３）においてＡ、Ｂはそれぞれ独立に、アルコ
キシ基、アルキルチオ基、アルキルアミノ基、アリール
オキシ基、アリールチオ基、アニリノ基、ヘテロ環チオ
基、ヘテロ環オキシ基またはヘテロ環アミノ基を表し、
これらの総炭素数１〜３０である。Ａ、Ｂは互いに結合
して環状構造を形成している場合がより好ましく、５員
〜７員環の非芳香族のヘテロ環がより好ましい。この場
合に、Ａ、Ｂが連結した例（−Ａ−Ｂ−）を挙げれば、
例えば−Ｏ−（ＣＨ₂ ）₂ −Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ₂ ）₃
−Ｏ−、−Ｓ−（ＣＨ₂ ）₂ −Ｓ−、−Ｓ−（ＣＨ₂ ）
₃−Ｓ−、−Ｓ−Ｐｈ−Ｓ−、−Ｎ（ＣＨ₃ ）−（ＣＨ
₂ ）₂ −Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ ₃ ）−（ＣＨ₂ ）₂ −Ｓ−、
−Ｏ−（ＣＨ₂ ）₃ −Ｓ−、−Ｏ−（ＣＨ₂ ）₃ −Ｓ
−、−Ｎ（ＣＨ₃ ）−Ｐｈ−Ｏ−、−Ｎ（ＣＨ₃ ）−Ｐ
ｈ−Ｓ−、−Ｎ（Ｐｈ）−（ＣＨ₂ ）₂ −Ｓ−等であ
る。

【００４０】一般式（１）〜一般式（３）で表される化
合物は、ハロゲン化銀に対して吸着するアルキルチオ
基、アリールチオ基、チオ尿素基、チオアミド基、メル
カプト複素環基、トリアゾール基などの基が組み込まれ
ていてもよい。一般式（１）〜一般式（３）で表される
化合物は、アルキル基、アラルキル基、アルコキシ基、
フェニル基、アルキルフェニル基、フェノキシ基、アル
キルフェノキシ基などバラスト基が組み込まれているも
のがより好ましい。一般式（１）〜一般式（３）で表さ
れる化合物は、その中にカチオン性基（４級のアンモニ
オ基を含む基、または４級化された窒素原子を含む含窒
素ヘテロ環基等）、エチレンオキシ基もしくはプロピレ
ンオキシ基の繰り返し単位を含む基、（アルキル、アリ
ール、またはヘテロ環）チオ基、あるいは塩基により解
離しうる解離性基（カルボキシ基、スルホ基、アシルス
ルファモイル基、カルバモイルスルファモイル基等）が
含まれているものがより好ましく、特にエチレンオキシ
基もしくはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む
基、あるいは（アルキル、アリール、またはヘテロ環）
チオ基が含まれているものが好ましい。一般式（１）〜
一般式（３）で表される化合物の使用量は、銀１モルに
対し１×１０^-6〜１モルが好ましく、１×１０^-5〜５×
１０^-1モルがより好ましく、２×１０^-5〜２×１０^-1モ
ルが最も好ましい。

【００４１】超硬調化剤として下記一般式（Ｈ）によっ
て表わされるヒドラジン誘導体を用いることも好まし
い。 Ｒ¹²−ＮＡ¹ −ＮＡ² −（Ｇ¹ ）_m1−Ｒ¹¹ （Ｈ） 式中、Ｒ¹²は脂肪族基、芳香族基またはヘテロ環基を表
し、これらは置換基を有していてもよい。脂肪族基は好
ましくは炭素数１〜３０のアルキル基、アルケニル基、
アルキニル基である。芳香族基は単環もしくは縮合環の
アリール基で、例えばフェニル基、ナフチル基が挙げら
れる。ヘテロ環基としては、単環または縮合環の、飽和
もしくは不飽和の、芳香族または非芳香族のヘテロ環基
である。中でも好ましいものはアリール基もしくはアル
キル基である。

【００４２】Ｒ¹²が有していてもよい置換基として好ま
しいものは、Ｒ¹²が脂肪族基を表す場合は、アルキル
基、アリール基、ヘテロ環基、アミノ基、アシルアミノ
基、スルホンアミド基、ウレイド基、スルファモイルア
ミノ基、イミド基、チオウレイド基、リン酸アミド基、
ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシ
ルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、カルバモイル基、カルボキシ
基（その塩を含む）、（アルキル、アリール、またはヘ
テロ環）チオ基、スルホ基（その塩を含む）、スルファ
モイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基が好まし
い。Ｒ¹²が芳香族基またはヘテロ環基を表す場合、アル
キル基（活性メチレン基を含む）、アラルキル基、ヘテ
ロ環基、置換アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミ
ド基、ウレイド基、スルファモイルアミノ基、イミド
基、チオウレイド基、リン酸アミド基、ヒドロキシ基、
アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、ア
シル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、カルバモイル基、カルボキシ基（その塩を含
む）、（アルキル、アリール、またはヘテロ環）チオ
基、スルホ基（その塩を含む）、スルファモイル基、ハ
ロゲン原子、シアノ基、ニトロ基等が好ましい。

【００４３】Ｒ¹¹は水素原子またはブロック基を表す。
ブロック基とは脂肪族基（具体的にはアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基）、芳香族基（単環もしくは縮
合環のアリール基）、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリ
ールオキシ基、アミノ基またはヒドラジノ基を表す。Ｒ
¹¹は置換されていても良く、置換基の例としてＲ¹²で例
示したものがあげられる。Ａ¹ 、Ａ² はともに水素原
子、あるいは一方が水素原子で他方が炭素数２０以下の
アルキルスルホニル基（好ましくはフェニルスルホニル
基、またはハメットの置換基定数の和が−０．５以上と
なるように置換されたフェニルスルホニル基）、または
アリールスルホニル基、またはアシル基（好ましくはベ
ンゾイル基、またはハメットの置換基定数の和が−０．
５以上となるように置換されたベンゾイル基、あるいは
脂肪族アシル基）を表す。ｍ１は０または１であり、ｍ
１が０の時、Ｒ¹¹は脂肪族基、芳香族基、またはヘテロ
環基を表す。Ａ¹ 、Ａ² としては水素原子が最も好まし
い。Ｇ¹ は−ＣＯ−、−ＣＯＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）−、
−ＳＯ² −、−ＳＯ−、−ＰＯ（Ｒ¹³）−基（Ｒ¹³はＲ
¹¹に定義した基と同じ範囲内より選ばれ、Ｒ¹¹と異なっ
ていてもよい。）またはイミノメチレン基を表す。

【００４４】一般式（Ｈ）のヒドラジン誘導体は、ハロ
ゲン化銀に対して吸着性の基（アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、チオ尿素基、チオアミド基、メルカプト複素
環基、トリアゾール基など）が組み込まれていてもよ
い。一般式（Ｈ）のＲ¹¹またはＲ¹²はその中にアルキル
基、アラルキル基、アルコキシ基、フェニル基、アルキ
ルフェニル基、フェノキシ基、アルキルフェノキシ基な
どのバラスト基または特開平１−１００５３０号に記載
のポリマーが組み込まれているものでもよい。一般式
（Ｈ）のＲ¹¹またはＲ¹²は、その中にカチオン性基（４
級のアンモニオ基を含む基、または４級化された窒素原
子を含む含窒素ヘテロ環基等）、エチレンオキシ基もし
くはプロピレンオキシ基の繰り返し単位を含む基、（ア
ルキル、アリール、またはヘテロ環）チオ基、あるいは
塩基により解離しうる解離性基（カルボキシ基、スルホ
基、アシルスルファモイル基、カルバモイルスルファモ
イル基等）が含まれていてもよい。ヒドラジン誘導体の
添加量は、銀１モルに対し１×１０^-6〜１×１０^-2モル
が好ましく、１×１０^-5〜５×１０^-3モルがより好まし
く、２×１０^-5〜５×１０ ^-3モルが最も好ましい。

【００４５】また、本発明で用いる熱現像画像形成材料
においては超硬調画像形成のために、前記の超硬調化剤
とともに硬調化促進剤を併用することができる。例え
ば、米国特許第５，５４５，５０５号に記載のアミン化
合物、同５，５４５，５０７号に記載のヒドロキサム酸
類、同５，５４５，５０７号に記載のアクリロニトリル
類、同５，５５８，９８３号に記載のヒドラジン化合
物、特開平９−２９７３６８号に記載のオニューム塩類
などを用いることができる。

【００４６】本発明で用いる増感色素としてはシアニン
色素、メロシアニン色素、コンプレックスシアニン色
素、コンプレックスメロシアニン色素、ホロポーラーシ
アニン色素、スチリル色素、ヘミシアニン色素、オキソ
ノール色素、ヘミオキソノール色素等を用いることがで
きる。赤色光への分光増感の例としては、Ｈｅ−Ｎｅレ
ーザー、赤色半導体レーザーやＬＥＤなど赤色光源に対
しては特開昭５４−１８７２６号、特開平６−７５３２
２号、特開平７−２８７３３８号、特公昭５５−３９８
１８号、特開昭６２−２８４３４３号、特開平７−２８
７３３８号に記載の化合物を用いることができる。７５
０〜１４００ｎｍの波長領域の半導体レーザー光源に対
しては、シアニン、メロシアニン、スチリル、ヘミシア
ニン、オキソノール、ヘミオキソノールおよびキサンテ
ン色素を含む種々の既知の色素により有利に増感させる
ことができる。また、Ｊ−ｂａｎｄを形成する色素とし
て米国特許５，５１０，２３６号、同３，８７１，８８
７号、特開平２−９６１３１号、特開昭５９−４８７５
３号に記載のものを好ましく用いることができる。本発
明における増感色素の使用量としては、感光性層のハロ
ゲン化銀１モル当たり１０^-6〜１モルが好ましく、１０
^-4〜１０^-1モルがさらに好ましい。

【００４７】カブリ防止剤、安定剤および安定剤前駆体
としては、米国特許第２，１３１，０３８号および同第
２，６９４，７１６号に記載のチアゾニウム塩、米国特
許第２，８８６，４３７号および同第２，４４４，６０
５号に記載のアザインデン、米国特許第２，７２８，６
６３号に記載の水銀塩、米国特許第３，２８７，１３５
号に記載のウラゾール、米国特許第３，２３５，６５２
号に記載のスルホカテコール、英国特許第６２３，４４
８号に記載のオキシム、ニトロン、ニトロインダゾー
ル、米国特許第２，８３９，４０５号に記載の多価金属
塩、米国特許第３，２２０，８３９号に記載のチウロニ
ウム塩、ならびに米国特許第２，５６６，２６３号およ
び同第２，５９７，９１５号に記載のパラジウム、白金
および金塩、米国特許第４，１０８，６６５号および同
第４，４４２，２０２号の記載のハロゲン置換有機化合
物、米国特許第４，１２８，５５７号および同第４，１
３７，０７９号、第４，１３８，３６５号および同第
４，４５９，３５０号に記載のトリアジンならびに米国
特許第４，４１１，９８５号の記載のリン化合物などを
使用できる。また、熱現像画像形成材料は、カブリ防止
や高感度化を目的として安息香酸類を含有しても良い。
好ましい安息香酸類の構造の例としては、米国特許第
４，７８４，９３９号、同４，１５２，１６０号、特開
平９−３２９８６５号、同９−３２９８６４号、同９−
２８１６３７号などに記載の化合物が挙げられ、有機銀
塩含有層に添加することが好ましい。安息香酸類の添加
量は、銀１モル当たり１マイクロモル以上２モル以下が
好ましく、１ミリモル以上０．５モル以下がさらに好ま
しい。

【００４８】本発明で用いる熱現像画像形成材料の画像
形成層には、現像を抑制あるいは促進させ現像を制御す
るため、分光増感効率を向上させるため、現像前後の保
存性を向上させるためなどにメルカプト化合物、ジスル
フィド化合物、チオン化合物を含有させることができ
る。メルカプト化合物はメルカプト置換複素芳香族化合
物が好ましく、この具体例としては、２−メルカプトベ
ンズイミダゾール、２−メルカプトベンズオキサゾー
ル、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプト
−５−メチルベンズイミダゾール、６−エトキシ−２−
メルカプトベンゾチアゾール、２，２′−ジチオビス−
ベンゾチアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリ
アゾール、４，５−ジフェニル−２−イミダゾールチオ
ール、２−メルカプトイミダゾール、１−エチル−２−
メルカプトベンズイミダゾール、２−メルカプトキノリ
ン、８−メルカプトプリン、２−メルカプト−４（３
Ｈ）−キナゾリノン、７−トリフルオロメチル−４−キ
ノリンチオール、２，３，５，６−テトラクロロ−４−
ピリジンチオール、４−アミノ−６−ヒドロキシ−２−
メルカプトピリミジンモノヒドレート、２−アミノ−５
−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール、３−アミ
ノ−５−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−
ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジン、２−メルカプ
トピリミジン、４，６−ジアミノ−２−メルカプトピリ
ミジン、２−メルカプト−４−メチルピリミジンヒドロ
クロリド、３−メルカプト−５−フェニル−１，２，４
−トリアゾール、２−メルカプト−４−フェニルオキサ
ゾールなどが挙げられる。これらのメルカプト化合物の
使用量は乳剤層中に銀１モル当たり０．０００１〜１．
０モルが好ましく、さらに好ましくは０．００１〜０．
３モルの量である。

【００４９】画像形成層には、可塑剤および潤滑剤とし
て多価アルコール（例えば、米国特許第２，９６０，４
０４号に記載された種類のグリセリンおよびジオー
ル）、米国特許第２，５８８，７６５号および同第３，
１２１，０６０号に記載の脂肪酸またはエステル、英国
特許第９５５，０６１号に記載のシリコーン樹脂などを
用いることができる。画像形成層である感光性層には色
調改良、イラジエーション防止の観点から各種染料や顔
料を用いることができるが、好ましい染料としてはアン
トラキノン染料（特開平５−３４１４４１号、特開平５
−１６５１４７号の化合物など）、アゾメチン染料（特
開平５−３４１４４１号記載の化合物）、インドアニリ
ン染料（特開平５−２８９２２７号、特開平５−３４１
４４１号、特開平５−１６５１４７号記載の化合物な
ど）およびアゾ染料（特開平５−３４１４４１号記載の
化合物など）が挙げられる。これらの化合物の使用量は
感光材料１ｍ² 当たり１μｇ以上１ｇ以下の範囲で用い
ることが好ましい。

【００５０】アンチハレーション層を感光性層に対して
光源から遠い側に設けることができる。アンチハレーシ
ョン層は所望の波長範囲での最大吸収が０．３以上２以
下であることが好ましく、さらに好ましくは０．５以上
２以下の露光波長の吸収であり、かつ処理後の可視領域
においての吸収が０．００１以上０．５未満であること
が好ましく、さらに好ましくは０．００１以上０．３未
満の光学濃度を有する層であることが好ましい。単独の
染料としては特開昭５９−５６４５８号、特開平２−２
１６１４０号、同７−１３２９５号、同７−１１４３２
号、米国特許第５，３８０，６３５号、特開平２−６８
５３９号、同３−２４５３９号などを用いることができ
る。処理で消色する染料としては特開昭５２−１３９１
３６号、同５３−１３２３３４号、同５６−５０１４８
０号、同５７−１６０６０号、同５７−６８８３１号、
同５７−１０１８３５号、同５９−１８２４３６号、特
開平７−３６１４５号、同７−１９９４０９号、特公昭
４８−３３６９２号、同５０−１６６４８号、特公平２
−４１７３４号、米国特許第４，０８８，４９７号、同
第４，２８３，４８７号、同第４，５４８，８９６号、
同第５，１８７，０４９号に記載のものを好ましく用い
ることができる。

【００５１】感光層の最外層に保護層を設けることも好
ましい。保護層用のバインダーとしてはアクリル系、ス
チレン系、アクリル／スチレン系、塩化ビニル系、塩化
ビニリデン系のポリマーラテックスが好ましく用いら
れ、具体的にはアクリル樹脂系のＶＯＮＣＯＲＴ Ｒ３
３７０、４２８０、Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ８５７、メチルメ
タクリレート／２−エチルヘキシルアクリレート／ヒド
ロキシエチルメタクリレート／スチレン／アクリル酸コ
ポリマー、塩化ビニル樹脂のＮｉｐｏｌ Ｇ５７６、塩
化ビニリデン樹脂のアロンＤ５０７１が好ましく用いら
れる。これらの層の中にイソシアネート等の架橋剤を添
加するのもより好ましい。保護層の好ましい塗布量は
０．５〜１０ｇ／ｍ² 、より好ましくは１〜７ｇ／
ｍ² 、さらに好ましくは１．５〜５ｇ／ｍ² である。さ
らに保護層中にマット剤を添加するのがより好ましい。
無機系のマット剤としては、二酸化ケイ素、チタンおよ
びアルミニウムの酸化物、亜鉛およびカルシウムの炭酸
塩、バリウムおよびカルシウムの硫酸塩、カルシウムお
よびアルミニウムのケイ酸塩など、有機系のマット剤と
しては、セルロースエステル類、ポリメチルメタクリレ
ート、ポリスチレンまたはポリジビニルベンゼンおよび
これらのコポリマーなどの有機重合体のマット剤が挙げ
られる。これらのマット剤を２種以上併用してもよい。
好ましいマット剤の平均粒径は、１〜１０μｍ、好まし
い添加量は、５〜４００ｍｇ／ｍ² 、特に１０〜２００
ｍｇ／ｍ² の範囲である。

【００５２】本発明で用いる熱現像画像形成材料はいか
なる方法で露光されても良いが、露光光源としてレーザ
ー光が好ましい。レーザー光としては、ガスレーザー、
ＹＡＧレーザー、色素レーザー、半導体レーザーなどが
好ましい。また、半導体レーザーと第２高調波発生素子
などを用いることもできる。本発明で用いる熱現像画像
形成材料は露光時のヘイズが低く、干渉縞が発生しやす
い傾向にある。この干渉縞発生防止技術としては、特開
平５−１１３５４８号などに開示されているレーザー光
を画像形成材料に対して斜めに入光させる技術や、ＷＯ
９５／３１７５４号などに開示されているマルチモード
レーザーを利用する方法が知られており、これらの技術
を用いることが好ましい。熱現像画像形成材料を露光す
るにはＳＰＩＥ ｖｏｌ．１６９ ＬａｓｅｒＰｒｉｎ
ｔｉｎｇ １１６−１２８頁（１９７９）、特開平４−
５１０４３号、ＷＯ９５／３１７５４号などに開示され
ているようにレーザー光が重なるように露光し、走査線
が見えないようにすることが好ましい。

【００５３】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的
に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、
操作等は、本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更す
ることができる。したがって、本発明の範囲は以下に示
す具体例に制限されるものではない。 ＜実施例１＞１．ハロゲン化銀乳剤の調製（乳剤Ａ） 水700mlにフタル化ゼラチン11gおよび臭化カリウム30m
g、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム10mgを溶解して
温度40℃にてpHを5.0に合わせた後、硝酸銀18.6gを含む
水溶液159mlと臭化カリウムを1モル/リットル、（Ｎ
Ｈ₄）₂ＲｈＣｌ₅（Ｈ ₂Ｏ）を5×10^-6モル／リットルお
よびＫ₃ＩｒＣｌ₆を2×10^-5モル／リットルで含む水溶
液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブルジェット法
で6分30秒間かけて添加した。ついで、硝酸銀55.5gを含
む水溶液476mlと臭化カリウムを1モル/リットルおよび
Ｋ₃ＩｒＣｌ₆を2×10^-5モル／リットルで含むハロゲン
塩水溶液をpAg7.7に保ちながらコントロールダブルジェ
ット法で28分30秒間かけて添加した。その後pHを下げて
凝集沈降させて脱塩処理をし、化合物Ａを0.17g、脱イ
オンゼラチン（カルシウム含有量として20ppm以下）23.
7g加え、pH5.9、pAg8.0に調整した。得られた粒子は平
均粒子サイズ0.08μm、投影面積変動係数9%、(100)面比
率90%の立方体粒子であった。こうして得たハロゲン化
銀粒子を60℃に昇温して銀1モル当たりベンゼンチオス
ルホン酸ナトリウム76μモルを添加し、3分後にチオ硫
酸ナトリウム154μモルを添加して、100分熟成し、４−
ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザ
インデンを5×10^-4モル加えた後、40℃に降温させた。
その後、40℃に温度を保ち、ハロゲン化銀1モルに対し
て12.8×10^-4モルの増感色素Ａ、6.4×10^-3モルの化合
物Ｂを撹拌しながら添加し、20分後に30℃に急冷してハ
ロゲン化銀乳剤Ａの調製を終了した。

【００５４】

【化３】

【００５５】２．有機酸銀分散物の調製（有機酸銀Ａ） アラキン酸6.1g、ベヘン酸37.6g、蒸留水700ml、tert-
ブタノール70ml、1N-NaOH水溶液123mlを混合し、75℃で
1時間攪拌し反応させ、65℃に降温した。次いで、硝酸
銀22gの水溶液112.5mlを45秒かけて添加し、そのまま5
分間放置し、30℃に降温した。その後、吸引濾過で固形
分を濾別し、固形分を濾水の伝導度が30μS/cmになるま
で水洗した。こうして得られた固形分は、乾燥させない
でウエットケーキとして取り扱い、乾燥固形分100ｇ相
当のウエットケーキに対し、ポリビニルアルコール(商
品名：PVA-217)5ｇおよび水を添加し、全体量を500ｇと
してからホモミキサーにて予備分散した。次に予備分散
済みの原液を分散機(商品名：マイクロフルイダイザー
Ｍ−１１０Ｓ−ＥＨ、マイクロフルイデックス・インタ
ーナショナル・コーポレーション製、Ｇ１０Ｚインタラ
クションチャンバー使用)の圧力を１７５０kg/cm²に調
節して、三回処理し、有機酸銀分散物Ａを得た。こうし
て得た有機酸銀分散物に含まれる有機酸銀粒子は平均短
径0.04μm、平均長径0.8μm、変動係数30%の針状粒子で
あった。粒子サイズの測定は、Malvern Instruments Lt
d.製MasterSizerXにて行った。冷却操作は蛇管式熱交換
器をインタラクションチャンバーの前後に各々装着し、
冷媒の温度を調節することで所望の分散温度に設定し
た。こうして、ベヘン酸銀含有率85モル％の有機酸銀Ａ
を調製した。

【００５６】３．1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチル
フェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン（還元剤）の固体
微粒子分散物の調製 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-
トリメチルヘキサン20gに対してクラレ(株)製ＭＰポリ
マーのMP-203を3.0gと水77mlを添加してよく攪拌して、
スラリーとして3時間放置した。その後、0.5mmのジルコ
ニアビーズを360g用意してスラリーと一緒にベッセルに
入れ、分散機（1／4Ｇサンドグラインダーミル：アイメ
ックス(株)製）にて3時間分散し還元剤固体微粒子分散
物を調製した。粒子径は、粒子の80wt%が0.3μm以上1.0
μm以下であった。

【００５７】４．トリブロモメチルフェニルスルホンの
固体微粒子分散物の調製 トリブロモメチルフェニルスルホン30gに対してヒドロ
キシプロピルメチルセルロース0.5g、化合物Ｃ0.5gと、
水88.5gを添加し良く攪拌してスラリーとして3時間放置
した。その後、還元剤固体微粒子分散物の調製と同様に
してトリブロモメチルフェニルスルホン（カブリ防止
剤）の固体微粒子分散物を調製した。粒子径は、粒子の
80wt%が0.3μm以上1.0μm以下であった。

【００５８】５．画像形成層塗布液の調製 上記で作成した有機酸銀微結晶分散物の銀１モルに対し
て、以下のバインダー、素材、およびハロゲン化銀乳剤
Ａを添加して、水を加えて、塗布液を調製した。塗布液
のｐＨは、７．５〜７．７である。 バインダー；ラックスター(LACSTAR)3307B 固形分として 406g （大日本インキ化学工業(株)製；SBRラテックスでガラス転移温度17℃） 1,1-ビス(2-ヒドロキシ-3,5-ジメチルフェニル)-3,5,5-トリメチルヘキサン 固形分として 119g トリブロモメチルフェニルスルホン 固形分として 21.6g ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム 0.44g ベンゾトリアゾール 1.25g ポリビニルアルコール（クラレ（株）製MP-203） 20g ｉｓｏ‐プロピルフタラジン 0.10モル オルトりん酸二水素ナトリウム 0.13g 化合物Ｄ 9.38g 超硬調化剤：化合物Ｃ−６２ 0.9g 染料Ａ 783nmの光学濃度が０．３になる塗布液量 ハロゲン化銀乳剤Ａ Ag量として0.05モル

【００５９】

【化４】

【００６０】６．保護層下層の塗布液の調製 メチルメタクリレート／２−エチルヘキシルアクリレー
ト／スチレン／ヒドロキシエチルメタクリレート／アク
リル酸＝５８／２６／９／５／２（Ｍｗ＝１０万）から
なるポリマーラテックス（固形分濃度３０wt％；造膜助
剤として、化合物Ｅをポリマー固形分に対し１５wt％）
１５０ｇに水２５ｇを加え、次いで化合物Ｆの５wt％水
溶液１．３ｇ、増粘剤としてポリビニルアルコール（ク
ラレ（株）製、ＰＶＡ−２３５）５wt％水溶液５０ｇ、
マット剤（平均粒径７μmのポリスチレン粒子）０．１
ｇを加え、塗布液を調製した。塗布液のｐＨは、６．５
〜７．０であった。

【００６１】７．保護層上層の塗布液の調製 メチルメタクリレート／ブチルアクリレート＝７３／２
７（Ｍｗ＝９万）からなるポリマーラテックス（固形分
濃度３０wt％、可塑剤として化合物Ｅをポリマー固形分
に対し１５wt％）１５０ｇに、化合物Ｆの５wt％水溶液
２．５ｇ、カルナヴァワックス（中共油脂（株）製セロ
ゾール５２４）３０wt％水分散液２．５ｇおよび造粘剤
としてポリビニルアルコール（クラレ（株）製、ＰＶＡ
−２３５）５wt％水溶液４６ｇ、マット剤（平均粒径７
μm のポリスチレン粒子）０．３ｇを加え、さらに化合
物Ｇの１０wt％水溶液を２５ｇを加え、塗布液を調製し
た。塗布液のｐＨは、２．５〜３．０であった。

【００６２】

【化５】

【００６３】８．バック／下塗り層のついたPET支持体
の作成 (1)支持体 テレフタル酸とエチレングリコールを用い、常法に従
い、ＩＶ（固有粘度)＝0.66（フェノール／テトラクロ
ルエタン＝６／４（重量比）中25℃で測定）のＰＥＴを
得た。これをペレット化した後、130℃で４時間乾燥
し、300℃で溶融後Ｔ型ダイから押し出し、その後急冷
し、熱固定後の膜厚が120μｍになるような厚みの未延
伸フイルムを作成した。これを周速の異なるロールを用
い、3.3倍に縦延伸、ついでテンターで4.5倍に横延伸を
実施した。このときの温度はそれぞれ、110℃、130℃で
あった。この後、240℃で20秒間熱固定後これと同じ温
度で横方向に4%緩和した。この後、テンターのチャック
部をスリットした後、両端にナール加工を行い、4.8kg/
cm²で巻きとった。このようにして、幅2.4m、長さ3500
m、厚み120μｍのロールを得た。支持体のガラス転移温
度は７８〜７９℃（ＤＳＣ）であった。

【００６４】 (2)下塗り層(a) ポリマーラテックスＶ−５ コア部９０重量％、シェル部１０重量％のコアシェルタイプのラテックス（コ ア部が塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチルメタクリレート／アクリロ ニトリル／アクリル酸＝９３／３／３／０．９／０．１（重量％）；シェル部が 塩化ビニリデン／メチルアクリレート／メチルメタクリレート／アクリロニトリ ル／アクリル酸＝８８／３／３／３／３（重量％）；重量平均分子量３８０００ ） 固形分量 ３．０g/m² 2,4-ジクロロ-6-ヒドロキシ-s-トリアジン ２３mg/m² マット剤（ポリスチレン、平均粒子径2.4μｍ） １．５mg/m²

【００６５】 (3)下塗り層(b) アルカリ処理ゼラチン （Ca⁺⁺含量30ppm、ゼリー強度230g） ８３mg/m² 化合物Ａ １mg/m² 化合物Ｈ ２mg/m² メチルセルロース ４mg/m² 化合物Ｉ ３mg/m²

【００６６】 (4)導電層（２５℃２５％ＲＨでの表面抵抗率１０⁹Ω） ジュリマーET-410（日本純薬（株）製） 96mg/m² ゼラチン 72mg/m² 化合物Ａ 0.2mg/m² ポリオキシエチレンフェニルエーテル 5mg/m² スミテックスレジンＭ−３ 18mg/m² （水溶性メラミン化合物住友化学工業(株)製） 染料Ａ （780nmの光学濃度≧1.0）25mg/m² SnO₂／Sb （9/1重量比、針状微粒子、長軸／短軸＝20〜30 石原産業(株)製） 230mg/m² マット剤（ポリスチレン、平均粒子径2.4μｍ） 0.5mg/m² 化合物Ｊ 2mg/m²

【００６７】 (5)バック層（１） ジュリマーET-410（日本純薬（株）製） 95mg/m² 化合物Ｊ 2mg/m² スミテックスレジンＭ−３ 3mg/m² （水溶性メラミン化合物住友化学工業(株)製） カルナヴァワックス（セロゾール５２４：中京油脂（株）製） 3mg/m² (6)バック層（２） 下塗層（ａ）と同処方 (7)バック層（３） ポリマーラテックス−（３）（Ｔｇ≒４５℃） （メチルメタクリレート／スチレン／2−エチルヘキシルアクリレート／ 2−ヒドロキシエチルメタクリレート／アクリル酸 ＝59／9／26／5／1（重量%の共重合体）） 1000mg/m² 滑剤Ａ 21mg/m² スミテックスレジンＭ−３ （水溶性メラミン化合物 住友化学工業(株)製） 218mg/m² 界面活性剤；化合物例Ｆ−５ 8mg/m² 化合物例Ｆ−３ 7mg/m² マット剤（メチルメタクリレート／アクリル酸＝９７／３（重量％）のコポリマ ー、平均粒子径５μm） 11mg/m²

【００６８】

【化６】

【００６９】支持体の片側に下塗り層(a)と下塗り層(b)
を順次塗布し、それぞれ180℃、４分間乾燥した。つい
で、下塗り層(a)と下塗り層(b)を塗布した反対側の面に
導電層とバック層（１）、（２）、（３）を順次塗布
し、それぞれ180℃、30秒間乾燥してバック／下塗り層
のついたPET支持体を作成した。このようにして作成し
たバック／下塗り層のついたPET支持体を150℃に設定し
た全長30m熱処理ゾーンに入れ、張力1.4kg/cm²、搬送速
度20m／分で自重搬送した。その後、40℃のゾーンに15
秒間通し、10kg/cm²の巻き取り張力で巻き取った。

【００７０】９．熱現像画像形成材料（試料）の作成 導電層、バック層（１）、（２）、（３）／下塗り層
（ａ）、（ｂ）を形成した厚み１２０μｍの上記ポリエ
チレンテレフタレート支持体の下塗り層（ａ）、（ｂ）
側に、前記画像形成層およびその上に保護層下層および
上層を塗布銀量１．６ｇ／ｍ² 、保護層のポリマーラテ
ックスの固形分の塗布量がそれぞれ下層は１．５ｇ／ｍ
² 、上層は２．５ｇ／ｍ² となるように同時に塗布し、
乾燥温度７０℃で３分間乾燥し、熱現像画像形成材料
（試料）を作成した。

【００７１】１０．熱現像 作成した熱現像画像形成材料の熱現像を、図１の熱現像
機を用いて行った。図１の予備加熱部Ａに設けられた６
つの搬入ローラー対１１の温度は、入り口側から順に７
５℃、９０℃、１０５℃、１１７℃、１２１℃、１２１
℃に設定した。また、熱現像処理部Ｂに設けられた６つ
の板状加熱ヒーター１５の温度はすべて１２２℃に設定
した。徐冷却部Ｃの搬出ローラー対１２（ヒートローラ
ー）の温度は、表１に示すように１０とおりに変えて実
施した。冷却速度は１２０℃／ｍｉｎとした。また、ラ
インスピード２０ｍｍ／ｓｅｃに設定した。

【００７２】１１．評価方法 １）ベコの評価 熱現像した熱現像画像形成材料を平坦な台の上に置き、
蛍光灯の光を反射させ反射光の歪みを目視評価して、熱
現像した熱現像画像形成材料の平面性を評価した。

【００７３】２）反り量（耳ワカメ）の評価 熱現像した熱現像画像形成材料の外周の１辺を１ｃｍ幅
でスリットし、このスリットした反対側の辺をまっすぐ
な定規に沿って置いた時、スリットの一端を定規に合わ
せると定規との間に隙間ができる。この隙間をスリット
辺の長さで規格化した価を「反り量」と定義して評価し
た。具体的には以下の手順で反り量を測定した。まず、
４辺を５０ｃｍに裁断した熱現像画像形成材料を上記の
所定の条件下で熱現像した後、図２に示すように、この
熱現像後の画像形成材料１の４辺の端部を幅１ｃｍにな
るようにスリット位置２でスリットした。スリットする
ことによって、スリット片４の辺８はたわみ（波打ち）
が消失し、図３のように円弧状となった。次に、図３に
示すように、スリット片４の辺３の反対側の辺８の一端
ａを定規６の一端に合わせ、スリット片の他端ｂと定規
との間の隙間（距離）５を計った。同様にｂ端を定規に
合わせａ端との隙間を計った。これらの値の平均値を反
り量とした。これを４辺のそれぞれについて測定した。
なお、画像形成材料の辺長が５０ｃｍでない時は、各辺
を１ｃｍ幅でスリット後上記方法によって反り量（Ａ）
を測定し、下記式に従って補正した。 反り量（mm／５０cm）＝Ａ（mm）×｛５０／形成材料の
辺長（cm）｝ 反り量が大きいと、熱現像画像形成材料の外周部が円弧
のようになり周長が長くなる分撓みが発生し、そこが焼
きボケの原因となる。熱現像画像形成材料の４辺の端部
のそれぞれの反り量は、好ましくは０〜４（ｍｍ／５０
ｃｍ）、より好ましくは０〜３（ｍｍ／５０ｃｍ）、さ
らに好ましくは０〜２（ｍｍ／５０ｃｍ）である。

【００７４】３）波打ち量（耳ワカメ）の評価 熱現像後の熱現像画像形成材料を平坦な台に置いた時に
発生する波打ち状の浮き上がった部分のそれぞれについ
て高さ（ｍｍ）と幅（ｍｍ）を掛け合わせ、これを各辺
ごとに加え合わせ、各辺の長さで規格化したものを「波
打ち量」と定義した。具体的には、以下の手順で波打ち
量を測定した。４辺を５０ｃｍに裁断した熱現像画像形
成材料を上記の所定の条件で熱現像した後、画像形成材
料１を水平で平滑な台７の上に感光層を上にして置い
た。３分後に、発生した波打ち１つ毎に、その最大高さ
（Ｈ_iｍｍ）と幅（Ｗ_iｍｍ）を定規、ノギス等を用いて
計測した。下記式に従いＨ_i（ｍｍ）×Ｗ_i（ｍｍ）を４
辺毎に積算し、４辺の端部の各波打ち量（ｍｍ² ／５０
ｃｍ）とした。

【００７５】

【数１】

【００７６】なお、画像形成材料の辺長が５０ｃｍでは
ない時は、上記方法によって波打ち量（Ｂ）を測定し、
下記式に従って補正した。 波打ち量（mm² ／５０cm）＝Ｂ（mm² ）×｛５０／形成
材料の辺長（cm）｝ ４辺の各波打ち量は、０〜５００（ｍｍ² ／５０ｃｍ）
であるのが好ましく、０〜４００（ｍｍ² ／５０ｃｍ）
であるのがより好ましく、０〜３００（ｍｍ²／５０ｃ
ｍ）であるのがさらに好ましい。

【００７７】３）ＰＳ版にコンタクト露光時の自動搬送
機での搬送テスト 新聞ファックス用全自動製版機（富士写真フイルム株式
会社製ＳＦＮＲ−III）に、表１に示した条件で熱現像
処理した熱現像画像形成材料を用いてＰＳ版にコンタク
ト露光し、ＰＳ版を現像処理した。ＰＳ版にコンタクト
露光中に全自動製版機での搬送性（ジャム）を、現像処
理したＰＳ版から焼きボケの発生の有無を目視で評価し
た。

【００７８】１２．評価結果 評価した結果を表１に示す。熱現像画像形成材料を本発
明の現像方法で処理すると、熱現像後の熱現像画像形成
材料の平面性が優れ、製版工程での搬送トラブルのな
い、またＰＳ版上に焼きボケが発生することのない取り
扱い性に優れた熱現像画像形成材料を得ることができ
る。

【００７９】

【表１】

【００８０】

【発明の効果】本発明の現像方法によると、熱現像後の
画像形成材料を印刷刷版にコンタクト露光する際に全自
動製版機の搬送性に優れ、かつＰＳ版上に焼きボケの発
生がない、取り扱い性に優れた熱現像画像形成材料を得
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 実施例で用いた熱現像機の構成を示す側面図
である。

【図２】 ４辺の反り及び反り量測定のためのスリット
位置を示す模式図である。

【図３】 反り量測定法を示す説明図である。

【図４】 ４辺の波打ち状態の画像形成材料の端面で示
す模式図である。

【符号の説明】

１０ 熱現像画像形成材料 １１ 搬入ローラー対 １２ 搬出ローラー対 １３ ローラー １４ 平滑面 １５ 加熱ヒーター １６ ガイド板 Ａ 予備加熱部 Ｂ 熱現像処理部 Ｃ 徐冷部 １ 熱現像後の画像形成材料 ２ スリット位置 ３，８ 辺 ４ スリット片 ５ ａ端で合わせたときの隙間 ６ 定規 ７ 水平な台 ａ，ｂ 辺８の一端 Ｈ_i 波打ちｉの最大高さ Ｈ_i+1 波打ちｉ＋１の最大高さ Ｈ_i+2 波打ちｉ＋２の最大高さ Ｗ_i 波打ちｉの幅 Ｗ_i+1 波打ちｉ＋１の幅 Ｗ_i+2 波打ちｉ＋２の幅

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ２軸延伸配向結晶化したポリエステル支
   持体を有する熱現像画像形成材料に熱現像を施し、該熱
   現像画像形成材料を熱現像の温度より８℃以上低く、且
   つ該ポリエステル支持体のガラス転移温度より高い温度
   条件下に置くことにより熱現像を停止することを特徴と
   する熱現像画像形成材料の現像方法。
2. 【請求項２】 熱現像を施した前記熱現像画像形成材料
   を、熱現像の温度より８℃以上低く、且つ前記ポリエス
   テル支持体のガラス転移温度より高い温度に設定した対
   向ローラー間を通すことを特徴とする請求項１記載の熱
   現像画像形成材料の現像方法。
3. 【請求項３】 前記熱現像および熱現像の停止を行うた
   めに、（ａ）熱現像画像形成材料の送り方向に配置され
   ている少なくとも２個の、熱現像画像形成材料に所定温
   度の加熱処理を施すための加熱体、（ｂ）熱現像画像形
   成材料を移送するための移送手段、（ｃ）移送中の熱現
   像画像形成材料を加熱体に押し付けるための押さえ手
   段、および（ｄ）熱現像を停止させるための徐冷部の入
   り口に設置された対向ローラーを有する装置を用いるこ
   とを特徴とする請求項１または２に記載の熱現像画像形
   成材料の現像方法。
4. 【請求項４】 前記ポリエステル支持体が、画像形成層
   および／またはバック層との接着性を向上させる処理を
   施したのち、１３０〜２００℃で熱緩和処理を施したも
   のであることを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載
   の熱現像画像形成材料の現像方法。
5. 【請求項５】 前記熱緩和処理を施したポリエステル支
   持体を１２０℃で３０秒間加熱したときの熱収縮率が縦
   （ＭＤ）方向で＋０．０１〜−０．０３％であり、横
   （ＴＤ）方向で＋０．０４〜０％であることを特徴とす
   る請求項４に記載の熱現像画像形成材料の現像方法。