JP2002023300A - 熱現像感光材料およびその画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明の目的は、保存安定性に優れ、現像後
のカブリ上昇が抑制され、かつ黒ポツ発生が少ない熱現
像感光材料およびその画像形成方法を提供することにあ
る。 【解決手段】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩及び
還元剤を有する熱現像感光材料において、現像温度１２
２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる画像の
特性曲線における光学濃度０．３５と３．２の点を結ぶ
直線の傾き（γ₁）が１０以上であることを特徴とする
熱現像感光材料。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、熱現像処理により
画像形成する熱現像感光材料およびその画像形成方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、印刷製版や医療の分野では、画像
形成材料の湿式処理に伴う廃液が、作業性の上で問題と
なっており、近年では環境保全、省スペースの観点から
も処理廃液の減量が強く望まれている。そこで、レーザ
ー・イメージセッターやレーザー・イメージャーにより
効率的な露光が可能で、高解像度で鮮明な黒色画像を形
成することができる写真技術用途の光熱写真材料に関す
る技術が必要とされている。

【０００３】この技術として、例えば米国特許第３，１
５２，９０４号、同第３，４８７，０７５号及びＤ．モ
ーガン（Ｍｏｒｇａｎ）による「ドライシルバー写真材
料（Ｄｒｙ Ｓｉｌｖｅｒ Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ
Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）」（Ｈａｎｄｂｏｏｋ ｏｆ
Ｉｍａｇｉｎｇ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，ＭａｒｃｅｌＤ
ｅｋｋｅｒ，Ｉｎｃ．４８，１９９１）等に記載されて
いるように、支持体上に有機銀塩、感光性ハロゲン化銀
粒子、還元剤及びバインダーを含有する熱現像感光材料
（以降、単に感光材料ともいう）が知られている。

【０００４】上記の熱現像感光材料においては、感光材
料中に還元剤が含有されているため、未露光状態での長
期保存性、特に高温下での保存安定性に問題を有してい
た。また、熱現像処理後に定着処理を行わないため、長
期保存下でのカブリ上昇という問題があった。また、印
刷製版に用いられる熱現像感光材料は、硬調であること
が必要な要件であり、これらの硬調な感光材料は、特に
未露光部分や画像濃度の低い部分に微小な砂状の黒化し
た点、いわゆる黒ポツと呼ばれる故障が発生しやすいと
いう重大な課題があった。

【０００５】以上のような現状を踏まえ、より高画質
で、かつ保存安定性に優れた熱現像感光材料の出現が切
望されている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記課題を
鑑みなされたものであり、その目的は、保存安定性に優
れ、現像処理後のカブリ上昇が抑制され、かつ黒ポツ発
生が少ない熱現像感光材料およびその画像形成方法を提
供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の上記課題は、以
下の構成により達成された。

【０００８】１．支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩及
び還元剤を有する熱現像感光材料において、現像温度１
２２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる画像
の特性曲線における光学濃度０．３５と３．２の点を結
ぶ直線の傾き（γ₁）が１０以上であることを特徴とす
る熱現像感光材料。

【０００９】２．支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩及
び還元剤を有する熱現像感光材料において、現像温度１
２２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる画像
の特性曲線における光学濃度１．０と３．２の点を結ぶ
直線の傾き（γ₂）が１５以上であることを特徴とする
熱現像感光材料。

【００１０】３．支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩及
び還元剤を有する熱現像感光材料において、現像温度１
２２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる画像
の特性曲線における光学濃度０．３５と３．２の点を結
ぶ直線の傾き（γ₁）が１０以上であり、かつ光学濃度
１．０と３．２の点を結ぶ直線の傾き（γ₂）が１５以
上であることを特徴とする熱現像感光材料。

【００１１】４．支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩及
び還元剤を有する熱現像感光材料において、現像温度１
２２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる画像
の最高濃度Ｄｍａｘを銀量Ｇ（ｇ／ｍ²）で割った値
（カバーリングパワー値）が２．８以上であり、かつ最
低濃度Ｄｍｉｎが０．２５以下であることを特徴とする
熱現像感光材料。

【００１２】５．支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩及
び還元剤を有する熱現像感光材料において、現像温度１
２２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる画像
の光学濃度１．０を得るのに必要な露光量から露光量の
対数で＋０．５の露光を与えた時に得られる画像濃度が
４．０以上であることを特徴とする熱現像感光材料。

【００１３】６．有機銀塩を有する面側の構成層の少な
くとも１層が、硬調化剤を含有することを特徴とする前
記１〜５項のいずれか１項記載の熱現像感光材料。

【００１４】７．有機銀塩を有する面側の構成層の少な
くとも１層が、フタラジンおよびその誘導体、およびフ
タラジノンおよびその誘導体から選ばれた少なくとも１
種の化合物を含有することを特徴とする前記１〜６項の
いずれか１項記載の熱現像感光材料。

【００１５】８．有機銀塩を有する面側の構成層の少な
くとも１層が、フタル酸およびその誘導体から選ばれた
少なくとも１種の化合物を含有することを特徴とする前
記１〜７項のいずれか１項記載の熱現像感光材料。

【００１６】９．有機銀塩を有する面側の構成層の少な
くとも１層が、前記一般式（１）または一般式（２）で
表される化合物を含有することを特徴とする前記１〜８
項のいずれか１項記載の熱現像感光材料。

【００１７】１０．有機銀塩を有する面側の構成層の少
なくとも１層が、前記一般式（３）または一般式（４）
で表される化合物の少なくとも１種含有することを特徴
とする前記１〜９項のいずれか１項記載の熱現像感光材
料。

【００１８】１１．有機銀塩を有する面側の構成層の少
なくとも１層が、酸無水物を含有することを特徴とする
前記１〜１０項のいずれか１項記載の熱現像感光材料。

【００１９】１２．前記１〜１１項のいずれか１項記載
の熱現像感光材料を露光後、熱現像処理して画像を形成
せしめることを特徴とする熱現像感光材料の画像形成方
法。

【００２０】以下に本発明を更に詳しく説明する。本発
明でいう現像温度および現像時間とは、オーブンを所定
温度に加熱した状態で、本発明の熱現像感光材料を所定
温度で所定時間加熱したものをいう。

【００２１】本発明において、熱現像感光材料を現像温
度１２２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる
画像の特性曲線は、下記に記載の方法により得ることが
できる。

【００２２】熱現像感光材料の画像形成面側に、波長７
８０ｎｍの半導体レーザーを用いて、特開昭５９−１３
０４９４号記載の高周波重畳法により、縦マルチモード
にした露光源を有する露光機で、レーザー操作によるウ
ェッジを介して露光を行った後、感光材料をオーブン
で、１２２℃で１８秒間熱現像処理する。得られた試料
を光学濃度計で４２０ｎｍ以上の光をカットするフィル
ターを介して測定し、横軸が露光量（対数）、縦軸が光
学濃度からなる特性曲線を作製する。得られた特性曲線
において、光学濃度０．３５と３．２の点を結ぶ直線の
傾きをγ₁とし、光学濃度１．０と３．２の点を結ぶ直
線の傾きをγ₂と定義する。また、最高濃度Ｄｍａｘお
よび最低濃度Ｄｍｉｎを求める。ここでいう濃度とは、
熱現像処理後に光学濃度計で測定した光学濃度のことで
あり、支持体および構成層の濃度全てを含んだ値で表示
する。

【００２３】また、銀量Ｇ（ｇ／ｍ²）は、１ｍ²当たり
の有機銀塩およびハロゲン化銀の全て含めた銀含有量で
あり、銀量は公知の方法で測定し、求めることができ
る。

【００２４】本発明に係る関係を満たすためには、下記
のような手段を適宜組み合わせることにより達成するこ
とができる。

【００２５】（１）有機銀塩の平均粒径が２μｍ以下で
あり、かつ単分散平板状粒子を含むこと （２）ハロゲン化銀粒子が０．０１μｍ未満のハロゲン
化銀粒子を含むこと （３）請求項６に係る発明である、有機銀塩を有する面
側の構成層の少なくとも１層に、硬調化剤を含有させる
こと （４）請求項７に係る発明である、有機銀塩を有する面
側の構成層の少なくとも１層に、フタラジンおよびその
誘導体またはフタラジノンおよびその誘導体から選ばれ
た少なくとも１種の化合物を含有させること （５）請求項８に係る発明である、有機銀塩を有する面
側の構成層の少なくとも１層に、フタル酸およびその誘
導体から選ばれた少なくとも１種の化合物を含有させる
こと （６）請求項９に係る発明である、有機銀塩を有する面
側の構成層の少なくとも１層に、前記一般式（１）また
は一般式（２）で表される化合物を少なくとも１種含有
させること （７）請求項１０に係る発明である、有機銀塩を有する
面側の構成層の少なくとも１層に、前記一般式（３）ま
たは一般式（４）で表される化合物を少なくとも１種含
有させること （８）請求項１１に係る発明である、有機銀塩を有する
面側の構成層の少なくとも１層に、酸無水物を含有させ
ること （９）感光材料が、１２２℃、１８秒で熱現像処理した
ときの寸法変化率が０．０５％以内であること。

【００２６】前記達成手段の（２）に係る粒子サイズ
０．０１μｍ未満のハロゲン化銀粒子を作製する方法と
しては、予め調製された有機銀塩の溶液もしくは分散
液、または有機銀塩を含むシート材料にハロゲン化銀形
成成分を作用させて、有機銀塩の一部を感光性ハロゲン
化銀に変換することが好ましく用いられる。このように
して形成されたハロゲン化銀は、有機銀塩と有効に接触
しており好ましい作用を呈する。本発明でいうハロゲン
化銀形成成分とは、有機銀塩と反応して感光性ハロゲン
化銀を生成しうる化合物であり、どのような化合物がこ
れに該当し有効であるかは次のごとき簡単な試験で判別
することができる。すなわち、有機銀塩と試験されるべ
き化合物を混合し、必要ならば加熱した後に、Ｘ線回折
法によりハロゲン化銀に特有のピークがあるかを調べる
ものである。かかる試験によって有効であることが確か
められたハロゲン化銀形成成分としては、無機ハロゲン
化物、オニウムハライド類、ハロゲン化炭化水素類、Ｎ
−ハロゲン化合物、その他の含ハロゲン化合物があり、
その具体例については米国特許第４，００９，０３９
号、同第３，４５７，０７５号、同第４，００３，７４
９号、英国特許第１，４９８，９５６号及び特開昭５３
−２７０２７号、同５３−２５４２０号に詳説されるが
以下にその一例を示す。

【００２７】（１）無機ハロゲン化物：例えば、ＭＸ_n
で表されるハロゲン化物（ここでＭはＨ、ＮＨ₄及び金
属原子を表し、ｎはＭがＨ及びＮＨ₄の時は１を、Ｍが
金属原子の時はその原子価を表す。金属原子としては、
リチウム、ナトリウム、カリウム、セシウム、マグネシ
ウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、亜鉛、
カドミウム、水銀、錫、アンチモン、クロム、マンガ
ン、鉄、コバルト、ニッケル、ロジウム、セリウム等が
ある。Ｘはハロゲン原子を表す）。また、臭素水などの
ハロゲン分子も有効である。

【００２８】（２）オニウムハライド類：例えば、トリ
メチルフェニルアンモニウムブロマイド、セチルエチル
ジメチルアンモニウムブロマイド、トリメチルベンジル
アンモニウムブロマイドの様な第４級アンモニウムハラ
イド、テトラエチルフォスフォニウムブロマイドの様な
第４級フォスフォニウムハライド、トリメチルスルフォ
ニウムアイオダイドの様な第３級スルフォニウムハライ
ドがある。

【００２９】（３）ハロゲン化炭化水素類：例えば、ヨ
ードフォルム、ブロモフォルム、四塩化炭素、２−ブロ
ム−２−メチルプロパン等。

【００３０】（４）Ｎ−ハロゲン化合物：例えば、Ｎ−
クロロ琥珀酸イミド、Ｎ−ブロム琥珀酸イミド、Ｎ−ブ
ロムフタルイミド、Ｎ−ブロムアセトアミド、Ｎ−ヨー
ド琥珀酸イミド、Ｎ−ブロムフタラゾン、Ｎ−ブロムオ
キサゾリノン、Ｎ−クロロフタラゾン、Ｎ−ブロモアセ
トアニリド、Ｎ，Ｎ−ジブロモベンゼンスルホンアミ
ド、Ｎ−ブロモ−Ｎ−メチルベンゼンスルホンアミド、
１，３−ジブロモ−４，４−ジメチルヒダントイン、Ｎ
−ブロモウラゾール等がある。

【００３１】（５）その他のハロゲン含有化合物：例え
ば、塩化トリフェニルメチル、臭化トリフェニルメチ
ル、２−ブロム酢酸、２−ブロムエタノール、ジクロロ
ベンゾフェノン等がある。

【００３２】また、粒子サイズが０．０１μｍ〜０．１
μｍのハロゲン化銀粒子を作製するには、有機銀粒子と
は別に予めシングルジェットもしくはダブルジェット法
などの写真技術の分野で公知の任意の方法、例えば、ア
ンモニア法、中性法、酸性法等のいずれかの方法でもハ
ロゲン化銀粒子を調製できる。この様に予め調製し、次
いで、本発明の他の成分と混合して本発明に用いる組成
物中に導入することができる。この場合、感光性ハロゲ
ン化銀と有機銀塩の接触を充分に行わせるため、例え
ば、感光性ハロゲン化銀を調製するときの保護ポリマー
として米国特許第３，７０６，５６４号、同第３，７０
６，５６５号、同第３，７１３，８３３号、同第３，７
４８，１４３号、英国特許第１，３６２，９７０号に記
載されたポリビニルアセタール類などのゼラチン以外の
ポリマーを用いる手段や、英国特許第１，３５４，１８
６号に記載されているような感光性ハロゲン化銀乳剤の
ゼラチンを酵素分解する手段、または米国特許第４，０
７６，５３９号に記載されているように感光性ハロゲン
化銀粒子を界面活性剤の存在下で調製することによっ
て、保護ポリマーの使用を省略する手段等の各手段を適
用することができる。粒子サイズが０．０１μｍ〜０．
１μｍのハロゲン化銀粒子は、感光性を有し、光センサ
ーとしての役目を有していることが好ましい。また、ハ
ロゲン化銀の形状としては特に制限はなく、立方体、八
面体のいわゆる正常晶や正常晶でない球状、棒状、平板
状等の粒子がある。ハロゲン化銀組成としても特に制限
はなく、塩化銀、塩臭化銀、塩沃臭化銀、臭化銀、沃臭
化銀、沃化銀のいずれであってもよい。

【００３３】粒子サイズ０．０１μｍ未満のハロゲン化
銀粒子の量は、全ハロゲン化銀粒子の量に対して１％以
上含有することが好ましく、更に５％以上７０％以下が
粒子サイズ０．０１μｍ未満のハロゲン化銀粒子である
ことが特に好ましい。

【００３４】本発明の熱現像感光材料に使用される感光
性ハロゲン化銀は、また、英国特許第１，４４７，４５
４号に記載されている様に、有機銀塩を調製する際にハ
ライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と共
存させこれに銀イオンを注入することで有機銀塩の生成
とほぼ同時に生成させることができる。

【００３５】これらのハロゲン化銀形成成分は、有機銀
塩に対して化学量論的には少量用いられる。通常、その
範囲は有機銀塩１モルに対し、０．００１〜０．７モ
ル、好ましくは０．０３〜０．５モルである。ハロゲン
化銀形成成分は上記の範囲で２種以上併用されてもよ
い。上記のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩の一
部をハロゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反応時
間、反応圧力等の諸条件は、作製の目的にあわせ適宜設
定することができるが、通常、反応温度は２０〜７０
℃、その反応時間は０．１秒〜７２時間であり、その反
応圧力は大気圧に設定されるのが好ましい。この反応は
また、後述する結合剤として使用されるポリマーの存在
下に行われることが好ましい。この際のポリマーの使用
量は、有機銀塩１質量部当たり０．０１〜１００質量
部、好ましくは０．１〜１０質量部である。

【００３６】本発明における感光性ハロゲン化銀粒子は
化学増感されてもよい。好ましい化学増感法としては、
当業界でよく知られているように硫黄増感法、セレン増
感法、テルル増感法、金化合物や白金、パラジウム、イ
リジウム化合物等の貴金属増感法や還元増感法を用いる
ことができる。硫黄増感法、セレン増感法、テルル増感
法に好ましく用いられる化合物としては、公知の化合物
を用いることができるが、特開平７−１２８７６８号等
に記載の化合物を使用することができる。貴金属増感法
に好ましく用いられる化合物としては、例えば、塩化金
酸、カリウムクロロオーレート、カリウムオーリチオシ
アネート、硫化金、金セレナイド、あるいは米国特許第
２，４４８，０６０号、英国特許第６１８，０６１号な
どに記載されている化合物を好ましく用いることができ
る。還元増感法の具体的な化合物としては、アスコルビ
ン酸、二酸化チオ尿素の他に、例えば、塩化第一スズ、
アミノイミノメタンスルフィン酸、ヒドラジン誘導体、
ボラン化合物、シラン化合物、ポリアミン化合物等を用
いることができる。また、乳剤のｐＨを７以上またはｐ
Ａｇを８．３以下に保持して熟成することにより還元増
感することができる。また、粒子形成中に銀イオンのシ
ングルアディション部分を導入することにより還元増感
することができる。この化学増感の方法及び手順につい
ては、例えば、米国特許第４，０３６，６５０号、英国
特許第１，５１８，８５０号、特開昭５１−２２４３０
号、同５１−７８３１９号、同５１−８１１２４号に記
載されている。また、ハロゲン化銀形成成分により有機
銀塩の一部を感光性ハロゲン化銀に変換する際に、米国
特許第３，９８０，４８２号に記載されているように、
増感を達成するために低分子量のアミド化合物を共存さ
せてもよい。

【００３７】また、これらの感光性ハロゲン化銀には、
照度不軌や、階調調整の為に元素周期律表の６族から１
０族に属する金属、例えば、Ｒｈ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｉｒ、
Ｏｓ、Ｆｅ等のイオン、その錯体または錯イオンを含有
させることが好ましい。特に錯イオンとして添加するの
が好ましく、例えば、照度不軌のために〔ＩｒＣｌ₆〕
^2-等のＩｒ錯イオンを添加することが好ましい。

【００３８】本発明において、有機銀塩は還元可能な銀
源であり、還元可能な銀イオン源を含有する有機酸及び
ヘテロ有機酸の銀塩、特に長鎖（１０〜３０、好ましく
は１５〜２５の炭素原子数）の脂肪族カルボン酸及び含
窒素複素環が好ましい。配位子が、４．０〜１０．０の
銀イオンに対する総安定定数を有する有機または無機の
銀塩錯体も有用である。好適な銀塩の例は、Ｒｅｓｅａ
ｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ（以下、ＲＤとする）第
１７０２９及び２９９６３に記載されており、次のもの
がある。有機酸の塩（例えば、没食子酸、シュウ酸、ベ
ヘン酸、アラキジン酸、ステアリン酸、パルミチン酸、
ラウリン酸等の塩）；銀のカルボキシアルキルチオ尿素
塩（例えば、１−（３−カルボキシプロピル）チオ尿
素、１−（３−カルボキシプロピル）−３，３−ジメチ
ルチオ尿素等）；アルデヒドとヒドロキシ置換芳香族カ
ルボン酸とのポリマー反応生成物の銀錯体（例えば、ア
ルデヒド類（ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ブ
チルアルデヒド等）、ヒドロキシ置換酸類（例えば、サ
リチル酸、安息香酸、３，５−ジヒドロキシ安息香酸、
５，５−チオジサリチル酸））、チオン類の銀塩または
錯体（例えば、３−（２−カルボキシエチル）−４−ヒ
ドロキシメチル−４−（チアゾリン−２−チオン、及び
３−カルボキシメチル−４−チアゾリン−２−チオ
ン））、イミダゾール、ピラゾール、ウラゾール、１，
２，４−チアゾール及び１Ｈ−テトラゾール、３−アミ
ノ−５−ベンジルチオ−１，２，４−トリアゾール及び
ベンゾトリアゾールから選択される窒素酸と銀との錯体
または塩；サッカリン、５−クロロサリチルアルドキシ
ム等の銀塩；メルカプチド類の銀塩等が挙げられる。こ
れらのうち、好ましい銀源はベヘン酸銀、アラキジン酸
銀及び／またはステアリン酸銀である。

【００３９】有機銀塩化合物は、水溶性銀化合物と銀と
錯形成する化合物とを混合することにより得られるが、
正混合法、逆混合法、同時混合法、特開平９−１２７６
４３号に記載されている様なコントロールドダブルジェ
ット法等が好ましく用いられる。例えば、有機酸にアル
カリ金属塩（例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウ
ムなど）を加えて有機酸アルカリ金属塩ソープ（例え
ば、ベヘン酸ナトリウム、アラキジン酸ナトリウムな
ど）を作製した後に、コントロールドダブルジェットに
より、前記ソープと硝酸銀などを添加して有機銀塩の結
晶を作製する。その際にハロゲン化銀粒子を混在させて
もよい。

【００４０】本発明において、有機銀塩は平均粒径が２
μｍ以下で、かつ単分散であることが好ましい。ここで
いう単分散とは、下記式で求められる分散度が５０％以
下をいう。更に好ましくは４０％以下であり、特に好ま
しくは０．１％以上、３５％以下となる粒子である。

【００４１】分散度（％）＝（粒径の標準偏差）／（粒
径の平均値）×１００ 有機銀塩の平均粒径とは、有機銀塩の粒子が、例えば、
球状、棒状、あるいは平板状の粒子の場合には、有機銀
塩粒子の体積と同等な球を考えたときの直径をいう。平
均粒径は、好ましくは０．０５〜１．５μｍ、特に０．
０５〜１．０μｍが好ましい。また、本発明の有機銀塩
においては、全有機銀塩の６０％以上が平板状粒子であ
ることが好ましい。本発明でいう平板状粒子とは、平均
粒径と厚さの比、いわゆる下記式で表されるアスペクト
比（以降、ＡＲと略す）が３以上のものをいう。

【００４２】ＡＲ＝平均粒径（μｍ）／厚さ（μｍ） 有機銀塩をこれらの形状にするためには、前記有機銀塩
結晶をバインダーや界面活性剤などと共に、ボールミル
などで分散粉砕することで得られる。この範囲のＡＲ値
にすることで、濃度が高く、かつ画像保存性に優れた感
光材料が得られる。

【００４３】本発明においては、熱現像感光材料の失透
を防ぐためには、ハロゲン化銀及び有機銀塩の総量が銀
量に換算して、１ｍ²当たり０．５ｇ以上、２．２ｇ以
下であることが好ましい。

【００４４】請求項６に係る発明では、本発明の効果を
より発現させるため、熱現像感光材料の有機銀塩を有す
る面側の構成層の少なくとも１層に、硬調化剤が含有さ
れることが特徴の一つである。硬調化剤としては、特に
制限はないが、ヒドラジン誘導体、ビニル化合物、４級
オニウム化合物の少なくとも１種を含有することが好ま
しい。

【００４５】ヒドラジン誘導体としては、下記一般式
〔Ｈ〕で表される化合物が挙げられる。

【００４６】

【化２】

【００４７】式中、Ａ₀はそれぞれ置換基を有してもよ
い脂肪族基、芳香族基、複素環基又は−Ｇ₀−Ｄ₀基を、
Ｂ₀はブロッキング基を表し、Ａ₁、Ａ₂はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基、スルホニル
基又はオキザリル基を表す。ここで、Ｇ₀は−ＣＯ−
基、−ＣＯＣＯ−基、−ＣＳ−基、−Ｃ（＝ＮＧ₁Ｄ₁）
−基、−ＳＯ−基、−ＳＯ₂−基又は−Ｐ（Ｏ）（Ｇ₁Ｄ
₁）−基を表し、Ｇ₁は単なる結合手、−Ｏ−基、−Ｓ−
基又は−Ｎ（Ｄ₁）−基を表し、Ｄ₁は脂肪族基、芳香族
基、複素環基又は水素原子を表し、分子内に複数のＤ₁
が存在する場合、それらは同じであっても異なってもよ
い。Ｄ₀は水素原子、脂肪族基、芳香族基、複素環基、
アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基又はアリールチオ基を表す。好ましいＤ₀として
は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基等
が挙げられる。

【００４８】一般式〔Ｈ〕において、Ａ₀で表される脂
肪族基は、好ましくは炭素数１〜３０のものであり、特
に炭素数１〜２０の直鎖、分岐又は環状のアルキル基が
好ましく、例えば、メチル基、エチル基、ｔ−ブチル
基、オクチル基、シクロヘキシル基、ベンジル基が挙げ
られ、これらは更に適当な置換基（例えば、アリール
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ
基、アリールチオ基、スルホキシ基、スルホンアミド
基、スルファモイル基、アシルアミノ基、ウレイド基
等）で置換されていてもよい。

【００４９】一般式〔Ｈ〕において、Ａ₀で表される芳
香族基は、単環又は縮合環のアリール基が好ましく、例
えばベンゼン環又はナフタレン環が挙げられ、Ａ₀で表
される複素環基としては、単環又は縮合環で窒素、硫
黄、酸素原子から選ばれる少なくとも一つのヘテロ原子
を含む複素環が好ましく、例えば、ピロリジン環、イミ
ダゾール環、テトラヒドロフラン環、モルホリン環、ピ
リジン環、ピリミジン環、キノリン環、チアゾール環、
ベンゾチアゾール環、チオフェン環、フラン環が挙げら
れる。Ａ₀の芳香族基、複素環基及び−Ｇ₀−Ｄ₀基は置
換基を有していてもよい。Ａ₀として、特に好ましいも
のはアリール基及び−Ｇ₀−Ｄ₀基である。

【００５０】又、一般式〔Ｈ〕において、Ａ₀は耐拡散
基又はハロゲン化銀吸着基を少なくとも一つ含むことが
好ましい。耐拡散基としては、カプラー等の不動性写真
用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラス
ト基としては、写真的に不活性であるアルキル基、アル
ケニル基、アルキニル基、アルコキシ基、フェニル基、
フェノキシ基、アルキルフェノキシ基等が挙げられ、置
換基部分の炭素数の合計は８以上であることが好まし
い。

【００５１】一般式〔Ｈ〕において、ハロゲン化銀吸着
促進基としては、チオ尿素、チオウレタン基、メルカプ
ト基、チオエーテル基、チオン基、複素環基、チオアミ
ド複素環基、メルカプト複素環基或いは特開昭６４−９
０４３９号に記載の吸着基等が挙げられる。

【００５２】一般式〔Ｈ〕において、Ｂ₀はブロッキン
グ基を表し、好ましくは−Ｇ₀−Ｄ₀基であり、Ｇ₀は−
ＣＯ−基、−ＣＯＣＯ−基、−ＣＳ−基、−Ｃ（＝ＮＧ
₁Ｄ₁）−基、−ＳＯ−基、−ＳＯ₂−基又は−Ｐ（Ｏ）
（Ｇ₁Ｄ₁）−基を表す。好ましいＧ₀としては−ＣＯ−
基、−ＣＯＣＯ−基が挙げられ、Ｇ₁は単なる結合手、
−Ｏ−基、−Ｓ−基又は−Ｎ（Ｄ₁）−基を表し、Ｄ₁は
脂肪族基、芳香族基、複素環基又は水素原子を表し、分
子内に複数のＤ₁が存在する場合、それらは同じであっ
ても異なってもよい。Ｄ₀は水素原子、脂肪族基、芳香
族基、複素環基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルチオ基又はアリールチオ基を表し、好
ましいＤ₀としては水素原子、アルキル基、アルコキシ
基、アミノ基等が挙げられる。Ａ₁、Ａ₂はともに水素原
子、又は一方が水素原子で他方はアシル基（アセチル
基、トリフルオロアセチル基、ベンゾイル基等）、スル
ホニル基（メタンスルホニル基、トルエンスルホニル基
等）、又はオキザリル基（エトキザリル基等）を表す。

【００５３】次に一般式〔Ｈ〕で表される化合物の具体
例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。

【００５４】

【化３】

【００５５】

【化４】

【００５６】更に好ましいヒドラジン誘導体は、下記一
般式（Ｈ−１）、（Ｈ−２）、（Ｈ−３）、（Ｈ−４）
で表される。

【００５７】

【化５】

【００５８】一般式（Ｈ−１）において、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及
びＲ₁₃はそれぞれ独立に置換もしくは無置換のアリール
基またはヘテロアリール基を表すが、アリール基として
具体的には、例えば、フェニル、ｐ−メチルフェニル、
ナフチルなどが挙げられる。ヘテロアリール基として、
具体的にはトリアゾール残基、イミダゾール残基、ピリ
ジン残基、フラン残基、チオフェン残基などが挙げられ
る。また、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃はそれぞれ任意の連結基
を介して結合してもよい。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃が置換基
を有する場合、その置換基としては、例えば、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、複素環
基、４級化された窒素原子を含むヘテロ環基、ヒドロキ
シル基、アルコキシ基（エチレンオキシ基もしくはプロ
ピレンオキシ基単位を繰り返し含む基を含む）、アリー
ルオキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカ
ルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイ
ル基、ウレタン基、カルボキシル基、イミド基、アミノ
基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、ウレイド
基、チオウレイド基、スルファモイルアミノ基、セミカ
ルバジド基、チオセミカルバジド基、ヒドラジノ基、４
級のアンモニウム基、（アルキル、アリール、またはヘ
テロ環）チオ基、メルカプト基、（アルキルまたはアリ
ール）スルホニル基、（アルキルまたはアリール）スル
フィニル基、スルホ基、スルファモイル基、アシルスル
ファモイル基、（アルキルもしくはアリール）スルホニ
ルウレイド基、（アルキルもしくはアリール）スルホニ
ルカルバモイル基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ
基、リン酸アミド基などが挙げられる。Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及び
Ｒ₁₃として、好ましくはいずれもが置換もしくは無置換
のフェニル基であり、より好ましくはＲ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ
₁₃のいずれもが無置換のフェニル基である。

【００５９】Ｒ₁₄はヘテロアリールオキシ基又はヘテロ
アリールチオ基を表すが、ヘテロアリールオキシ基とし
て、具体的には、ピリジルオキシ基、ピリミジルオキシ
基、インドリルオキシ基、ベンゾチアゾリルオキシ基、
ベンズイミダゾリルオキシ基、フリルオキシ基、チエニ
ルオキシ基、ピラゾリルオキシ基、イミダゾリルオキシ
基等が挙げられる。ヘテロアリールチオ基として、具体
的には、ピリジルチオ基、ピリミジルチオ基、インドリ
ルチオ基、ベンゾチアゾリルチオ基、ベンズイミダゾリ
ルチオ基、フリルチオ基、チエニルチオ基、ピラゾリル
チオ基、イミダゾリルチオ基等が挙げられる。Ｒ₁₄とし
て、好ましくはピリジルオキシ基又はチエニルオキシ基
である。

【００６０】Ａ₁、Ａ₂はともに水素原子、又は一方が水
素原子で他方はアシル基（アセチル、トリフルオロアセ
チル、ベンゾイル等）、スルホニル基（メタンスルホニ
ル、トルエンスルホニル等）又はオキザリル基（エトキ
ザリル等）を表す。好ましくはＡ₁、Ａ₂ともに水素原子
の場合である。

【００６１】一般式（Ｈ−２）において、Ｒ₂₁は置換も
しくは無置換のアルキル基、アリール基またはヘテロア
リール基を表すが、アルキル基として、具体的には、メ
チル基、エチル基、ｔ−ブチル基、２−オクチル基、シ
クロヘキシル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基等が
挙げられる。アリール基及びヘテロアリール基として、
具体的にはＲ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃と同様のものが挙げられ
る。また、Ｒ₂₁が置換基を有する場合の置換基の具体的
な例としては、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃の置換基と同様のも
のが挙げられる。Ｒ₂₁として好ましくはアリール基また
はヘテロアリール基であり、特に好ましくは置換もしく
は無置換のフェニル基である。

【００６２】Ｒ₂₂は水素、アルキルアミノ基、アリール
アミノ基、ヘテロアリールアミノ基を表すが、アルキル
アミノ基として、具体的にはメチルアミノ基、エチルア
ミノ基、プロピルアミノ基、ブチルアミノ基、ジメチル
アミノ基、ジエチルアミノ基、エチルメチルアミノ基等
が挙げられる。アリールアミノ基としてはアニリノ基、
ヘテロアリール基としてはチアゾリルアミノ基、ベンズ
イミダゾリルアミノ基、ベンズチアゾリルアミノ基等が
挙げられる。Ｒ₂₂として、好ましくはジメチルアミノ基
またはジエチルアミノ基である。Ａ₁、Ａ₂は一般式（Ｈ
−１）で記載したＡ₁、Ａ₂と同様である。

【００６３】一般式（Ｈ−３）において、Ｒ₃₁、Ｒ₃₂は
各々水素原子または一価の置換基を表すが、一価の置換
基としては、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂及びＲ₁₃の置換基として挙げら
れた基が挙げられ、好ましくは、アルキル基、アリール
基、ヘテロアリール基、アルコキシ基、アミノ基が挙げ
られる。更に好ましくはアリール基またはアルコキシ基
である。特に好ましいのは、Ｒ₃₁とＲ₃₂の少なくとも一
つがｔｅｒｔ−ブトキシ基であるものであり、別の好ま
しい構造は、Ｒ₃₁がフェニル基のとき、Ｒ₃₂がｔｅｒｔ
−ブトキシ基である。

【００６４】Ｇ₃₁、Ｇ₃₂は各々−ＣＯ−基、−ＣＯＣＯ
−基、−Ｃ（＝Ｓ）−、スルホニル基、スルホキシ基、
−Ｐ（＝Ｏ）Ｒ₃₃−基又はイミノメチレン基を表し、Ｒ
₃₃はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニル
オキシ基、アリールオキシ基又はアミノ基を表す。但
し、Ｇ₃₁がスルホニル基のとき、Ｇ₃₂はカルボニル基で
はない。Ｇ₃₁、Ｇ₃₂として、好ましくは−ＣＯ−基、−
ＣＯＣＯ−基、スルホニル基または−ＣＳ−であり、よ
り好ましくは互いに−ＣＯ−基または互いにスルホニル
基である。Ａ₁、Ａ₂は、各々一般式（Ｈ−１）で記載し
たＡ₁、Ａ₂と同様である。

【００６５】一般式（Ｈ−４）において、Ｒ₄₁、Ｒ₄₂お
よびＲ₄₃は、各々一般式（Ｈ−１）におけるＲ₁₁、Ｒ₁₂
およびＲ₁₃と同義である。Ｒ₄₁、Ｒ₄₂およびＲ₄₃として
好ましくはいずれもが置換もしくは無置換のフェニル基
であり、より好ましくはＲ₄₁、Ｒ₄₂及びＲ₄₃のいずれも
が無置換のフェニル基である。Ｒ₄₄、Ｒ₄₅は各々無置換
または置換アルキル基を表すが、具体的な例としてはメ
チル基、エチル基、ｔ−ブチル基、２−オクチル基、シ
クロヘキシル基、ベンジル基、ジフェニルメチル基等が
挙げられる。Ｒ₄₄、Ｒ₄₅として好ましくは互いにエチル
基である。Ａ₁、Ａ₂は、各々一般式（Ｈ−１）で記載し
たＡ₁、Ａ₂と同様である。

【００６６】以下に、本発明の一般式（Ｈ−１）〜（Ｈ
−４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は
これらに限定されるものではない。

【００６７】

【化６】

【００６８】

【化７】

【００６９】

【化８】

【００７０】

【化９】

【００７１】

【化１０】

【００７２】これら本発明の一般式（Ｈ−１）〜（Ｈ−
４）で表される化合物は、公知の方法により容易に合成
することができる。例えば、米国特許第５，４６４，７
３８号、同５，４９６，６９５号を参考にして合成する
ことができる。

【００７３】その他に好ましく用いることのできるヒド
ラジン誘導体は、米国特許第５，５４５，５０５号カラ
ム１１〜２０に記載の化合物Ｈ−１〜Ｈ−２９、米国特
許第５，４６４，７３８号カラム９〜１１に記載の化合
物１〜１２である。これらのヒドラジン誘導体は公知の
方法で合成することができる。

【００７４】次に、本発明で好ましく用いることのでき
るビニル化合物及び４級オニウム化合物について説明す
る。本発明においては、ビニル化合物としては下記一般
式（Ｇ）で、４級オニウム化合物としては下記一般式
（Ｐ）で表される化合物が好ましい。

【００７５】

【化１１】

【００７６】一般式（Ｇ）において、ＸとＲはシスの形
で表示してあるが、ＸとＲがトランスの形も一般式
（Ｇ）に含まれる。このことは具体的化合物の構造表示
においても同様である。

【００７７】一般式（Ｇ）において、Ｘは電子吸引性基
を表し、Ｗは水素原子、アルキル基、アルケニル基、ア
ルキニル基、アリール基、ヘテロ環基、ハロゲン原子、
アシル基、チオアシル基、オキサリル基、オキシオキサ
リル基、チオオキサリル基、オキサモイル基、オキシカ
ルボニル基、チオカルボニル基、カルバモイル基、チオ
カルバモイル基、スルホニル基、スルフィニル基、オキ
シスルホニル基、チオスルホニル基、スルファモイル
基、オキシスルフィニル基、チオスルフィニル基、スル
フィナモイル基、ホスホリル基、ニトロ基、イミノ基、
Ｎ−カルボニルイミノ基、Ｎ−スルホニルイミノ基、ジ
シアノエチレン基、アンモニウム基、スルホニウム基、
ホスホニウム基、ピリリウム基又はインモニウム基を表
す。

【００７８】Ｒはハロゲン原子、ヒドロキシル基、アル
コキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アル
ケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニ
ルオキシ基、アミノカルボニルオキシ基、メルカプト
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ヘテロ環チオ
基、アルケニルチオ基、アシルチオ基、アルコキシカル
ボニルチオ基、アミノカルボニルチオ基、ヒドロキシル
基又はメルカプト基の有機又は無機の塩（例えば、ナト
リウム塩、カリウム塩、銀塩等）、アミノ基、アルキル
アミノ基、環状アミノ基（例えば、ピロリジノ基）、ア
シルアミノ基、オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環基
（５〜６員の含窒素ヘテロ環、例えばベンツトリアゾリ
ル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル
基等）、ウレイド基又はスルホンアミド基を表す。Ｘと
Ｗ、ＸとＲは、それぞれ互いに結合して環状構造を形成
してもよい。ＸとＷが形成する環としては、例えば、ピ
ラゾロン、ピラゾリジノン、シクロペンタンジオン、β
−ケトラクトン、β−ケトラクタム等が挙げられる。

【００７９】一般式（Ｇ）について更に説明すると、Ｘ
の表す電子吸引性基とは、置換基定数σｐが正の値をと
りうる置換基のことである。具体的には、置換アルキル
基（ハロゲン置換アルキル等）、置換アルケニル基（シ
アノビニル等）、置換・未置換のアルキニル基（トリフ
ルオロメチルアセチレニル、シアノアセチレニル等）、
置換アリール基（シアノフェニル等）、置換・未置換の
ヘテロ環基（ピリジル、トリアジニル、ベンゾオキサゾ
リル等）、ハロゲン原子、シアノ基、アシル基（アセチ
ル、トリフルオロアセチル、ホルミル等）、チオアセチ
ル基（チオアセチル、チオホルミル等）、オキサリル基
（メチルオキサリル等）、オキシオキサリル基（エトキ
サリル等）、チオオキサリル基（エチルチオオキサリル
等）、オキサモイル基（メチルオキサモイル等）、オキ
シカルボニル基（エトキシカルボニル等）、カルボキシ
ル基、チオカルボニル基（エチルチオカルボニル等）、
カルバモイル基、チオカルバモイル基、スルホニル基、
スルフィニル基、オキシスルホニル基（エトキシスルホ
ニル等）、チオスルホニル基（エチルチオスルホニル
等）、スルファモイル基、オキシスルフィニル基（メト
キシスルフィニル等）、チオスルフィニル基（メチルチ
オスルフィニル等）、スルフィナモイル基、ホスホリル
基、ニトロ基、イミノ基、Ｎ−カルボニルイミノ基（Ｎ
−アセチルイミノ等）、Ｎ−スルホニルイミノ基（Ｎ−
メタンスルホニルイミノ等）、ジシアノエチレン基、ア
ンモニウム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、ピリ
リウム基、インモニウム基が挙げられるが、アンモニウ
ム基、スルホニウム基、ホスホニウム基、インモニウム
基等が環を形成したヘテロ環状のものも含まれる。σｐ
値として０．３０以上の置換基が特に好ましい。

【００８０】Ｗとして表されるアルキル基としては、例
えば、メチル、エチル、トリフルオロメチル等が、アル
ケニル基としては、例えば、ビニル、ハロゲン置換ビニ
ル、シアノビニル等が、アルキニル基としては、例え
ば、アセチレニル、シアノアセチレニル等が、アリール
基としては、例えば、ニトロフェニル、シアノフェニ
ル、ペンタフルオロフェニル等が、ヘテロ環基として
は、例えば、ピリジル、ピリミジル、トリアジニル、ス
クシンイミド、テトラゾリル、トリアゾリル、イミダゾ
リル、ベンゾオキサゾリル等が挙げられる。Ｗとしては
σｐ値が正の電子吸引性基が好ましく、更にはその値が
０．３０以上のものが好ましい。

【００８１】上記Ｒの置換基の内、好ましくはヒドロキ
シル基、メルカプト基、アルコキシ基、アルキルチオ
基、ハロゲン原子、ヒドロキシル基又はメルカプト基の
有機又は無機の塩、ヘテロ環基が挙げられ、更に好まし
くはヒドロキシル基、アルコキシ基、ヒドロキシル基又
はメルカプト基の有機又は無機の塩、ヘテロ環基が挙げ
られ、特に好ましくはヒドロキシル基、ヒドロキシル基
又はメルカプト基の有機又は無機の塩が挙げられる。

【００８２】また上記Ｘ及びＷの置換基の内、置換基中
にチオエーテル結合を有するものが好ましい。

【００８３】次に一般式（Ｇ）で表される化合物の具体
例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。

【００８４】

【化１２】

【００８５】

【化１３】

【００８６】

【化１４】

【００８７】

【化１５】

【００８８】

【化１６】

【００８９】

【化１７】

【００９０】

【化１８】

【００９１】

【化１９】

【００９２】

【化２０】

【００９３】

【化２１】

【００９４】

【化２２】

【００９５】

【化２３】

【００９６】

【化２４】

【００９７】

【化２５】

【００９８】

【化２６】

【００９９】

【化２７】

【０１００】

【化２８】

【０１０１】

【化２９】

【０１０２】

【化３０】

【０１０３】

【化３１】

【０１０４】一般式（Ｐ）において、Ｑは窒素原子又は
燐原子を表し、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄は、各々水素原子
又は置換基を表し、Ｘ^-はアニオンを表す。尚、Ｒ₁〜Ｒ
₄は互いに連結して環を形成してもよい。

【０１０５】Ｒ₁〜Ｒ₄で表される置換基としては、アル
キル基（メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、
ヘキシル基、シクロヘキシル基等）、アルケニル基（ア
リル基、ブテニル基等）、アルキニル基（プロパルギル
基、ブチニル基等）、アリール基（フェニル基、ナフチ
ル基等）、複素環基（ピペリジニル基、ピペラジニル
基、モルホリニル基、ピリジル基、フリル基、チエニル
基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロチエニル基、
スルホラニル基等）、アミノ基等が挙げられる。

【０１０６】Ｒ₁〜Ｒ₄が互いに連結して形成しうる環と
しては、ピペリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
キヌクリジン環、ピリジン環、ピロール環、イミダゾー
ル環、トリアゾール環、テトラゾール環等が挙げられ
る。

【０１０７】Ｒ₁〜Ｒ₄で表される基は各々ヒドロキシル
基、アルコキシ基、アリールオキシ基、カルボキシル
基、スルホ基、アルキル基、アリール基等の置換基を有
してもよい。Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃及びＲ₄としては、各々水素
原子及びアルキル基が好ましい。

【０１０８】Ｘ^-が表すアニオンとしては、ハロゲンイ
オン、硫酸イオン、硝酸イオン、酢酸イオン、ｐ−トル
エンスルホン酸イオン等の無機及び有機のアニオンが挙
げられる。

【０１０９】更に好ましくは、下記一般式（Ｐａ）、
（Ｐｂ）又は（Ｐｃ）で表される化合物、及び下記一般
式〔Ｔ〕で表される化合物である。

【０１１０】

【化３２】

【０１１１】式中、Ａ¹、Ａ²、Ａ³、Ａ⁴及びＡ⁵は、各
々含窒素複素環を完成させるための非金属原子群を表
し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでもよく、ベ
ンゼン環が縮合しても構わない。Ａ¹、Ａ²、Ａ³、Ａ⁴及
びＡ⁵で構成される複素環は、各々置換基を有してもよ
く、それぞれ同一でも異なっていてもよい。置換基とし
ては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、ハロゲン原子、アシル基、アル
コキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ス
ルホ基、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アルコキシ
基、アリールオキシ基、アミド基、スルファモイル基、
カルバモイル基、ウレイド基、アミノ基、スルホンアミ
ド基、スルホニル基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト
基、アルキルチオ基又はアリールチオ基を表す。Ａ¹、
Ａ²、Ａ³、Ａ⁴及びＡ⁵の好ましい例としては、５〜６員
環（ピリジン、イミダゾール、チオゾール、オキサゾー
ル、ピラジン、ピリミジン等の各環）を挙げることがで
き、更に好ましい例として、ピリジン環が挙げられる。

【０１１２】Ｂ_Pは２価の連結基を表し、ｍは０又は１
を表す。２価の連結基としては、アルキレン基、アリー
レン基、アルケニレン基、−ＳＯ₂−、−ＳＯ−、−Ｏ
−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ⁶）−（Ｒ⁶はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す）を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。Ｂ_pとして好ましくは、ア
ルキレン基、アルケニレン基を挙げることができる。

【０１１３】Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁵は、各々炭素数１〜２０
のアルキル基を表す。又、Ｒ¹及びＲ ²は同一でも異って
いてもよい。アルキル基とは、置換或いは無置換のアル
キル基を表し、置換基としては、Ａ¹、Ａ²、Ａ³、Ａ⁴及
びＡ⁵の置換基として挙げた置換基と同様である。

【０１１４】Ｒ¹、Ｒ²及びＲ⁵の好ましい例としては、
各々炭素数４〜１０のアルキル基である。更に好ましい
例としては、置換或いは無置換のアリール置換アルキル
基が挙げられる。

【０１１５】Ｘ_p ^-は分子全体の電荷を均衡させるのに必
要な対イオンを表し、例えば、塩素イオン、臭素イオ
ン、沃素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、ｐ−トルエ
ンスルホナート、オキザラート等を表す。ｎ_pは分子全
体の電荷を均衡させるのに必要な対イオンの数を表し、
分子内塩の場合にはｎ_pは０である。

【０１１６】

【化３３】

【０１１７】上記一般式〔Ｔ〕で表されるトリフェニル
テトラゾリウム化合物のフェニル基の置換基Ｒ₅、Ｒ₆、
Ｒ₇は、各々水素原子もしくは電子吸引性度を示すハメ
ットのシグマ値（σｐ）が負のものが好ましい。

【０１１８】フェニル基におけるハメットのシグマ値は
多くの文献、例えばジャーナル・オブ・メディカルケミ
ストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍｅｄｉｃａｌ Ｃ
ｈｅｍｉｓｔｒｙ）２０巻、３０４頁、１９７７年に記
載のＣ．ハンシュ（Ｃ．Ｈａｎｓｃｈ）等の報文等に見
ることが出来、特に好ましい負のシグマ値を有する基と
しては、例えばメチル基（σｐ＝−０．１７、以下何れ
もσｐ値）、エチル基（−０．１５）、シクロプロピル
基（−０．２１）、ｎ−プロピル基（−０．１３）、ｉ
ｓｏ−プロピル基（−０．１５）、シクロブチル基（−
０．１５）、ｎ−ブチル基（−０．１６）、ｉｓｏ−ブ
チル基（−０．２０）、ｎ−ペンチル基（−０．１
５）、シクロヘキシル基（−０．２２）、アミノ基（−
０．６６）、アセチルアミノ基（−０．１５）、ヒドロ
キシ基（−０．３７）、メトキシ基（−０．２７）、エ
トキシ基（−０．２４）、プロポキシ基（−０．２
５）、ブトキシ基（−０．３２）、ペントキシ基（−
０．３４）等が挙げられ、これらは何れも一般式〔Ｔ〕
の化合物の置換基として有用である。

【０１１９】ｎは１或いは２を表し、Ｘ_T ^n-で表される
アニオンとしては、例えば、塩化物イオン、臭化物イオ
ン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫酸、
過塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン酸等
の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的にはｐ−
トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベンゼン
スルホン酸アニオン、ｐ−ドデシルベンゼンスルホン酸
アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニオ
ン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル硫
酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等の硼酸系
アニオン、ジ−２−エチルヘキシルスルホサクシネート
アニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオン、
セチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の高級脂
肪酸アニオン、ポリアクリル酸アニオン等のポリマーに
酸根のついたもの等を挙げることができる。

【０１２０】以下、４級オニウム化合物の具体例を下記
に挙げるが、これらに限定されるものではない。

【０１２１】

【化３４】

【０１２２】

【化３５】

【０１２３】

【化３６】

【０１２４】上記４級オニウム化合物は公知の方法に従
って容易に合成でき、例えば上記テトラゾリウム化合物
はＣｈｅｍｉｃａｌ Ｒｅｖｉｅｗｓ ｖｏｌ．５５
ｐ．３３５〜４８３に記載の方法を参考にできる。上記
硬調化剤の添加量は有機銀塩１モルに対し１０^-5〜１モ
ル、好ましくは１０^-4〜５×１０^-1モルの範囲である。

【０１２５】請求項７に係る発明では、有機銀塩を有す
る面側の構成層の少なくとも１層に、フタラジン、フタ
ラジン誘導体もしくはその金属塩、またはフタラジノ
ン、フタラジノン誘導体もしくはその金属塩から選ばれ
た少なくとも１種の化合物を含有させることが特徴の一
つである。

【０１２６】好ましい化合物の例としては、フタラジ
ン、４−（１−ナフチル）フタラジン、６−クロロフタ
ラジン、５，７−ジメトキシフタラジンおよび２，３−
ジヒドロフタラジン、フタラジノン、４−（１−ナフチ
ル）フタラジノン、６−クロロフタラジノン、５，７−
ジメトキシフタラジノンおよび２，３−ジヒドロ−１，
４−フタラジンジオンなどの誘導体などがあげられる。
この中でも特にはフタラジンおよびその誘導体が好まし
い。

【０１２７】これらの化合物は、有機銀塩を含む面側で
あればいずれの層にも添加することができるが、好まし
くは、表面保護層または有機銀塩含有層である。添加量
は銀１ｇ当たり０．０５〜３ｇ、より好ましくは、０．
５〜１．５ｇである。

【０１２８】これらの化合物は、溶液、粉末、固体微粒
子分散物などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒
子分散は、公知の微細化手段（例えば、ボールミル、振
動ボールミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミ
ル、ローラーミルなど）で行われる。また、固体微粒子
分散する際に分散助剤を用いてもよい。また、添加は、
いかなる時期でもよいが、塗布直前の塗布液に添加する
ことが好ましい。

【０１２９】請求項８に係る発明では、有機銀塩を有す
る面側の構成層の少なくとも１層が、フタル酸およびそ
の誘導体から選ばれた少なくとも１種の化合物を含有す
ることが特徴の一つである。好ましい化合物の例として
は、フタル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル
酸、テトラクロロ無水フタル酸、２，３−ジカルボキシ
ナフタレン等やこれらの金属塩；金属塩の金属として、
好ましくはＮａ、Ｋ等のアルカリ金属、Ｃａ、Ｍｇ等の
アルカリ土類金属、Ｆｅ、Ｎｉ等の遷移金属等が挙げら
れる。これらの化合物は、溶液、粉末、固体微粒子分散
物などいかなる方法で添加してもよい。固体微粒子分散
は、公知の微細化手段（例えば、ボールミル、振動ボー
ルミル、サンドミル、コロイドミル、ジェットミル、ロ
ーラーミルなど）で行われる。また、固体微粒子分散す
る際に分散助剤を用いてもよい。

【０１３０】これらの化合物は、有機銀塩を含む面側で
あればいずれの層にも添加することができるが、好まし
くは、表面保護層または有機銀塩含有層である。添加量
は、銀に対して０．１〜５０モル％の量含まれることが
好ましく、０．５〜２０モル％含まれることがさらに好
ましい。フタル酸類の量が少なくなると、画像形成が困
難となり、また多くなりすぎると、色調が赤変しやすく
なり、好ましくない。

【０１３１】また、フタル酸類の添加は、いかなる時期
でもよいが、塗布直前の塗布液に添加することが好まし
い。

【０１３２】請求項９に係る発明では、有機銀塩を有す
る面側の構成層の少なくとも１層が、前記一般式（１）
または一般式（２）で表される化合物の少なくとも１種
含有することが特徴の一つである。

【０１３３】一般式（１）及び（２）において、Ｔ₁で
表される脂肪族炭化水素基からなる２価の連結基として
は、直鎖、分岐または環状のアルキレン基（好ましくは
炭素数１〜２０、より好ましくは１〜１６、更に好まし
くは１〜１２）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜
２０、より好ましくは２〜１６、更に好ましくは２〜１
２）又はアルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、よ
り好ましくは２〜１６、更に好ましくは２〜１２）であ
り、置換基を有していてもよい。

【０１３４】Ｊ₁で表される酸素原子、硫黄原子または
窒素原子を一つ以上含む２価の連結基としては、例え
ば、以下のものが挙げられる。また、これらの組み合わ
せであってもよい。

【０１３５】

【化３７】

【０１３６】式中、Ｒｅ、Ｒｆは各々、前述したＲａ〜
Ｒｄに定義した内容に同義である。Ａｒで表される芳香
族炭化水素基としては、好ましくは炭素数６〜３０、よ
り好ましくは炭素数６〜２０の単環または縮環のアリー
ル基であり、例えば、フェニル基、ナフチル基等が挙げ
られるが、特に好ましく用いられるのはフェニル基であ
る。

【０１３７】Ａｒで表される芳香族複素環基としては、
Ｎ、ＯおよびＳのうちの少なくとも一つの原子を含む５
ないし１０員の不飽和の複素環基であり、これらの基中
の複素環は単環であってもよいし、更に他の環と縮合環
を形成してもよい。このような複素環基中の複素環とし
て好ましくは、５ないし６員の芳香族複素環及びそのベ
ンゾ縮合環であり、より好ましくは窒素原子を含む５な
いし６員の芳香族複素環およびそのベンゾ縮合環であ
り、更に好ましくは窒素原子を１ないし２原子含む５な
いし６員の芳香族複素環およびそのベンゾ縮合環であ
る。

【０１３８】芳香族複素環基の具体例としては、例え
ば、チオフェン、フラン、ピロール、イミダゾール、ピ
ラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾ
ール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリ
ン、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フ
タラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、
シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリ
ン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾ
ール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベン
ゾチアゾール、ベンゾチアゾリン、ベンゾトリアゾー
ル、テトラザインデン、カルバゾール、等から誘導され
る基が挙げられる。

【０１３９】上記記載の中でも、イミダゾール、ピラゾ
ール、ピリジン、ピラジン、インドール、インダゾー
ル、チアジアゾール、オキサジアゾール、キノリン、フ
ェナジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、
ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾチア
ゾール、ベンゾチアゾリン、ベンゾトリアゾール、テト
ラザインデン、カルバゾールからなる基が好ましく、更
に好ましくは、イミダゾール、ピリジン、ピラジン、キ
ノリン、フェナジン、テトラゾール、チアゾール、ベン
ゾオキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンゾチアゾー
ル、ベンゾチアゾリン、ベンゾトリアゾール、カルバゾ
ールから誘導される基が挙げられる。

【０１４０】Ａｒで表される芳香族炭化水素基並びに芳
香族複素環基は置換基を有していても良く、置換基とし
ては、例えば、Ｔ₁の置換基として挙げた基と同様のも
のを挙げることができ、好ましい範囲も同様である。こ
れらの置換基は更に置換されてもよく、また、置換基が
二つ以上ある場合には各々、同じでも異なってもよい。
更に、Ａｒで表される基として、好ましく用いられるの
は、芳香族複素環基である。

【０１４１】Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ及びＲｆで
各々表される脂肪族炭化水素基としては、直鎖、分岐ま
たは環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、よ
り好ましくは１〜１６、更に好ましくは１〜１２であ
る）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より
好ましくは２〜１６、更に好ましくは２〜１２であ
る）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より
好ましくは２〜１６、更に好ましくは２〜１２である）
であり、アリール基としては、炭素数６〜２０の単環ま
たは縮環のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル等
が挙げられ、好ましくはフェニル）であり、複素環基と
しては、３〜１０員の飽和、不飽和の複素環基（例え
ば、２−チアゾリル、１−ピペラジニル、２−ピリジ
ル、３−ピリジル、２−フリル、２−チエニル、２−ベ
ンズイミダゾリル、カルバゾリル等）であり、これらの
基中の複素環は単環であっても、他の環と縮合環を形成
してもよい。

【０１４２】Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ及びＲｆで
各々表されるアシル基としては、炭素数１〜１２の脂肪
族或いは芳香族の基であり、具体的にはアセチル、ベン
ゾイル、ホルミル、ピバロイル等の基が挙げられる。

【０１４３】ＲａとＲｂ、ＲｃとＲｄ、ＲａとＲｃ或い
はＲｂとＲｄの間で結合して形成する含窒素複素環基と
しては、３ないし１０員の飽和、不飽和の複素環基（例
えば、ピペリジン環、ピペラジン環、アクリジン環、ピ
ロリジン環、ピロール環、モルフォリン環等の環基）が
挙げられる。

【０１４４】Ｍ₁で表される分子内の電荷を中和するに
必要なイオンとして用いられる酸アニオンの具体例とし
ては、例えば、ハロゲンイオン（例えば塩素イオン、臭
素イオン、沃素イオン等）、ｐ−トルエンスルホン酸イ
オン、過塩素酸イオン、４フッ化ホウ素イオン、硫酸イ
オン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンス
ルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン
等が挙げられる。

【０１４５】以下に一般式（１）及び（２）で表される
化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定され
ない。

【０１４６】

【化３８】

【０１４７】

【化３９】

【０１４８】

【化４０】

【０１４９】

【化４１】

【０１５０】

【化４２】

【０１５１】本発明に係る一般式（１）及び（２）で表
される化合物は、市販のものを用いても良いし、あるい
は既知の方法を参考にして、合成できる。例えば、日本
化学会編、新実験化学講座１４巻（III）１７３９〜１
７４１頁（１９７８）等に記載の方法で合成することが
できる。

【０１５２】本発明に係る一般式（１）及び（２）で表
される化合物は、本発明の熱現像写真感光材料におい
て、画像形成層でも非画像形成層でも添加することがで
きるが、添加層として好ましくは感光層である画像形成
層である。

【０１５３】本発明に係る一般式（１）及び（２）で表
される化合物は所望の目的により異なるが、Ａｇ１モル
当たりの添加量で示して１０^-4〜１モル／Ａｇ、好まし
くは１０^-3〜０．３モル／Ａｇ、更に好ましくは１０^-3
〜０．１モル／Ａｇ添加することが好ましい。

【０１５４】また、一般式（１）及び（２）の化合物は
各々、一種のみを用いても二種以上を併用してもよい。
一般式（１）及び（２）の化合物は、水或いは適当な有
機溶媒、例えば、アルコール類（メタノール、エタノー
ル、プロパノール、フッ素化アルコール等）、ケトン類
（アセトン、メチルエチルケトン等）、ジメチルホルム
アミド、ジメチルスルホキシド、メチルセロソルブなど
に溶解して用いることができる。また、既によく知られ
ている乳化分散法によって、ジブチルフタレート、トリ
クレジルフォスフェート、グリセリルトリアセテートあ
るいはジエチルフタレートなどのオイル、酢酸エチルや
シクロヘキサノンなどの補助溶媒を用いて溶解し、機械
的に乳化分散物を作製して用いることができる。あるい
は固体分散法として知られている方法によって、粉末を
水の中にボールミル、コロイドミル、サンドグラインダ
ーミル、マントンゴーリン、マイクロフルイダイザーあ
るいは超音波によって分散し用いることができる。ま
た、固体微粒子分散する際に分散助剤を用いてもよい。

【０１５５】請求項１０に係る発明では、有機銀塩を有
する面側の構成層の少なくとも１層が、前記一般式
（３）または一般式（４）で表される化合物の少なくと
も１種含有することが特徴の一つである。

【０１５６】一般式（３）において、Ｍは水素原子また
はアルカリ金属原子である。Ｒは２価の連結基を表し、
好ましくはアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン
基、−ＳＯ₂−、−ＳＯ−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−
又は−Ｎ（Ｒ₆）−（Ｒ₆はアルキル基、アリール基、ま
たは水素原子を表す）を単独または組み合わせて構成さ
れるものを表す。ｎは０または１を表す。Ａｒは芳香族
環または１個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニウムまた
はテルリウム原子を有する複素芳香環であり、それぞれ
置換基を有してもよい。好ましくは、ベンゼン、ナフ
ト、ベンズイミダゾール、ナフトイミダゾール、ベンゾ
チアゾール、ナフトチアゾール、ベンズオキサゾール、
ナフトオキサゾール、ベンゾセレナゾール、ベンゾテト
ラゾール、イミダゾール、オキサゾール、ピラゾール、
トリアゾール、トリアジン、ピリミジン、ピリダジン、
ピラジン、ピリジン、プリン、キノリンまたはキナゾリ
ンである。

【０１５７】一般式（４）におけるＡｒ、Ｒ、ｎは一般
式（３）のそれぞれと同義である。上記の芳香族環およ
び複素芳香環は、例えば、ハロゲン原子（例えば、Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉ）、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキ
シル基、アルキル基（例えば、１個以上の炭素原子、好
ましくは１〜４個の炭素原子を有するもの）及びアルコ
キシ基（例えば、１個以上の炭素原子、好ましくは１〜
４個の炭素原子を有するもの）からなる群から選ばれる
置換基を有しうる。

【０１５８】好ましい例を以下に列挙するが、本発明は
これらに限定されるものではない。 Ｍ−１ ２−メルカプトベンズイミダゾール Ｍ−２ ２−メルカプトベンズオキサゾール Ｍ−３ ２−メルカプトベンゾチアゾール Ｍ−４ ５−メチル−２−メルカプトベンズイミダゾー
ル Ｍ−５ ６−エトキシ−２−メルカプトベンゾチアゾー
ル Ｍ−６ ２，２′−ジチオビス（ベンゾチアゾール） Ｍ−７ ３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール Ｍ−８ ４，５−ジフェニル−２−メルカプトイミダゾ
ール Ｍ−９ ２−メルカプトイミダゾール Ｍ−１０ １−エチル−２−メルカプトベンズイミダゾ
ール Ｍ−１１ ２−メルカプトキノリン Ｍ−１２ ８−メルカプトプリン Ｍ−１３ ２−メルカプト−４（３Ｈ）−キナゾリノン Ｍ−１４ ７−トリフルオロメチル−４−キノリンチオ
ール Ｍ−１５ ２，３，５，６−テトラクロロ−４−ピリジ
ンチオール Ｍ−１６ ４−アミノ−６−ヒドロキシ−２−メルカプ
トピリミジンモノヒドレート Ｍ−１７ ２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−
チアジアゾール Ｍ−１８ ３−アミノ−５−メルカプト−１，２，４−
トリアゾール Ｍ−１９ ４−ヒドロキシ−２−メルカプトピリミジン Ｍ−２０ ２−メルカプトピリミジン Ｍ−２１ ４，６−ジアミノ−メルカプトピリミジン Ｍ−２２ ２−メルカプト−４−メチルピリミジンヒド
ロクロリド Ｍ−２３ ３−メルカプト−５−フェニル−１，２，４
−トリアゾール Ｍ−２４ ２−メルカプト−４−フェニルオキサゾール これらの化合物は、有機銀塩を含有する面側の構成層中
に含まれることが好ましいが、有機銀塩を含む画像形成
層中に、銀１モル当たり０．００１〜１．０モルの範囲
で用いるのが好ましい。特に好ましくは、銀１モル当た
り０．０１〜０．５モルの範囲の量が好ましい。

【０１５９】請求項１１に係る発明では、有機銀塩を有
する面側の構成層の少なくとも１層が、酸無水物を含有
することが特徴の一つである。

【０１６０】本発明に使用できる酸無水物は、モノカル
ボン酸が２分子脱水縮合してＡ−ＣＯ−Ｏ−ＣＯ−Ｂ構
造を分子内に有するものを含み、式中Ａ及びＢは直鎖状
の分子構造を有する置換基でも、又Ａ及びＢの一部が結
合した環状の構造を有する置換基でも良い。直鎖状のも
のは２分子の脂肪族モノカルボン酸が脱水して形成され
るもので、例えば、無水酢酸、無水プロパン酸、無水ブ
タン酸、無水アミル酸、無水カプロン酸、無水ラウリル
酸、無水ステアリン酸、無水セバシン酸、無水アラキジ
ン酸、無水ベヘン酸等が挙げられ、脂肪族カルボン酸の
炭素数は１〜３０までが好ましい。又環状の構造のもの
としては芳香属カルボン酸、例えば、無水安息香酸、ピ
リジンカルボン酸無水物、或いはこれらの誘導体等が含
まれる下記一般式（５）で示される酸無水物が挙げられ
る。本発明においては、環状構造を有する酸無水物とし
て、下記一般式（５）で示される酸無水物が好ましい。

【０１６１】

【化４３】

【０１６２】式中、Ｚ₁及びＺ₂は、各々酸無水物母核を
構成する原子群を表し、Ｒ¹¹及びＲ ¹²は、各々水素原
子、ハロゲン原子（塩素原子、フッ素原子等）、ニトリ
ル基、水酸基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ
基、ブトキシ基等）又は置換基を有してもよい脂肪族
基、芳香族基、ヘテロ環基を表し、ｎ及びｍは各々０、
１〜４の整数を表し、ｎが２以上のとき隣接する置換基
が縮合環を形成しても良い。Ｌ¹¹はＺ₁とＺ₂の環を結合
する２価の連結基を表す。

【０１６３】Ｚ₁及びＺ₂における酸無水物母核を構成す
る原子群としては、炭素原子を４〜１２個有する飽和又
は不飽和環或いはヘテロ環で、該環上のカルボン酸基が
隣接して縮合したものであり、飽和環としてヘキシル環
及びベンゼン環を、不飽和環としてベンゼン環及びナフ
タレン環を、ヘテロ感としてピリジン環、イミダゾール
環、ピリミジン環、オキサゾール環、トリアゾール環等
を表す。

【０１６４】Ｒ¹¹及びＲ¹²における置換基を有してもよ
い脂肪族基としては、メチル基、エチル基、ブチル基等
のアルキル基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン
基、オクテン基等のアルケニル基、アセチレン基やビア
セチン基等のアルキン基、エチル、スルホンアミド基、
オクチルスルホンアミド基、エチルカルバミド基、ブチ
ルカルバミド基等が挙げられ、又同芳香族基としてはフ
ェニル基、ナフチル基で該環上に更にアルキル基（メチ
ル基、エチル基、ブチル基、オクチル基等）、アルケニ
ル基（エチレン基、ブチレン基、オクテン基等）、ハロ
ゲン原子（塩素原子、臭素原子、フッ素原子等）、ニト
リル基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基等）、
水酸基、アミノ基を有したものが挙げられ、又同ヘテロ
環基としてはピリジン環、ピリミジン環、イミダゾール
環、トリアゾール環、オキサゾール環、チアゾール環、
フラン環、チオフェン環等が挙げられる。

【０１６５】Ｚ₁及びＺ₂上の置換基Ｒ¹¹及びＲ¹²は、各
々ｎが２以上の場合、隣接する置換基が環を形成しても
よい。

【０１６６】Ｒ¹¹及びＲ¹²に置換してもよい置換基とし
て、それぞれ置換されてもよいアルコキシ基（メトキシ
基、エトキシ基、プロピルオキシ基、ブトキシ基、オク
トキシ基、ドデカノキシ基、ドコサノキシ基、２−エチ
ルヘキサノキシ基）、ハロゲン化アルコキシ基（トリフ
ロロメトキシ基、パーフロロオクタノキシ基）、シクロ
アルコキシ基（シクロヘキサノキシ基、シクロオクタノ
キシ基、シクロペンタノキシ基等）、芳香族基（フェノ
キシ基、ナフテノキシ基等）、ヘテロ環基（ピリジル
基、フリル基、チオフェニル基、ピペラジル基、イミダ
ゾリル基、トリアゾール基、テトラゾール基等）、アル
キルアミノ基（メチルアミノ基、プロピルアミノ基、オ
クチルアミノ基、テトラデシル基）、ジアルキルアミノ
基（ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジオクチル
アミノ基）、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチ
オ基、ブチルチオ基、オクチルチオ基）が挙げられ、ア
ルキル基部分は炭素数１〜２５が好ましい。隣接する置
換基Ｒ¹¹とＲ¹²が環を形成する場合、環としてはベンゼ
ン環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール
環、ピリジン環、フリル環、チオフェン環、ピペラジン
環を挙げることができる。Ｌ¹¹は−ＳＯ₂−基、−ＳＯ
−基、-Ｓ−ＳＯ₂−、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＣＯＮＨ−、
−ＳＯ₂ＮＨ-、−ＣＯＮＨ−基又はこれらと脂肪族基、
芳香属基、ヘテロ環基等の組み合わせを挙げることがで
きる。

【０１６７】一般式（５）で示される酸無水物の好まし
い化合物例を下記に示す。

【０１６８】

【化４４】

【０１６９】

【化４５】

【０１７０】

【化４６】

【０１７１】酸無水物は、カルボン酸基のある化合物を
通常の脱水縮合によって合成することや市販品を入手す
ることができる。又、熱現像材料中に添加する場合は、
公知の添加方法に従って添加することができる。メタノ
ールやエタノール等のアルコール類、メチルエチルケト
ンやアセトン等のケトン類、ジメチルスルホオキシドや
ジメチルホルムアミド等の極性溶媒等に溶解して添加す
ることができる。又、サンドミル分散やジェットミル分
散、超音波分散やホモジナイザー分散により１μｍ以下
の微粒子にして水や有機溶媒に分散して添加することも
できる。微粒子分散技術については多くの技術が開示さ
れているが、これらに準じて平均粒子径が０．０５〜１
０μｍの微粒子分散体を添加することができる。

【０１７２】本発明においては、画像形成層に隣接する
構成層中に上記一般式（５）で表される酸無水物を含有
することが好ましい。

【０１７３】本発明において、特性曲線で規定した関係
を達成するための手段の一つとしては、熱現像感光材料
の１２２℃、１８秒での加熱現像による熱寸法変化率を
０．０５％に設定することが好ましい。より好ましくは
０．００１％〜０．０４％である。

【０１７４】本発明において、熱現像処理前後の熱寸法
変化率は、下記の方法で測定する。試料を１２ｃｍ×１
５ｃｍに断裁し、２５℃、６０％ＲＨで４時間以上調湿
する。その後、１０ｃｍ間隔の一対の孔をあけ、この間
隔をピンゲージで測長する（Ｌ₁）。次に、１２２℃で
１８秒間加熱処理した試料を、再び２５℃、６０％ＲＨ
で４時間以上調湿した後、同様にピンゲージで測長し
（Ｌ₂）、寸法変化率（１００×（Ｌ₂−Ｌ₁）／Ｌ₁：
％）を求める。

【０１７５】上記の寸法変化率の範囲に設定するために
は、以下に記載する技術手段を適宜組み合わせることに
より得ることができる。

【０１７６】１）使用する支持体の熱処理時の搬送張力
を９．８×１０³〜４．９×１０⁵Ｐａ、好ましくは４．
９×１０⁴〜２．９×１０⁵Ｐａ、熱処理温度を１４０〜
２００℃、好ましくは１５０〜１８０℃で行なう。

【０１７７】２）使用する支持体の長手方向（ＭＤ）の
ヤング率をＸ（ｋｇ／ｍｍ²）、幅方向（ＴＤ）のヤン
グ率をＹ（ｋｇ／ｍｍ²）とするとき、０．９≦（Ｘ／
Ｙ）≦１．１、０≦｜Ｘ−Ｙ｜≦５０を満足する支持体
を用いる。支持体を形成するポリマー素材としては、Ｔ
ｇの高いもの、例えば、ポリエステル系ポリマー、ポリ
カーボネート系ポリマー、ポリアリレート系ポリマー、
ポリエーテルイミド系ポリマー、ポリサルホン系ポリマ
ー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、シンジオタクチ
ックポリスチレン系ポリマー等が挙げられ、これらの中
でもポリエステル系ポリマー、ポリカーボネート系ポリ
マー、ポリアリレート系ポリマーが好ましく、特にポリ
エステル系ポリマーが好ましい。

【０１７８】また、好ましい支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略す）及びシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体を含むプラ
スチックの支持体が挙げられる。支持体の厚さは、厚い
ほど熱容量が大きくなり、寸法変化を抑える点では好ま
しいが、厚すぎると搬送トラブルが起きやすくなり、ま
た支持体に熱が奪われ画像形成層が充分加熱されなくな
ってしまい写真性能の劣化を引き起こしてしまう。ま
た、薄すぎると加熱されすぎて寸法変化が大きくなって
しまったり、搬送トラブルが発生することから、支持体
の厚みとしては５０〜３００μｍ程度、好ましくは７０
〜１８０μｍである。また、熱処理したプラスチック支
持体を用いることができる。採用できるプラスチックと
しては、上記プラスチックが挙げられる。支持体の熱処
理とは、これらの支持体を製膜後、画像形成層が塗布さ
れるまでの間に、支持体のガラス転移点おり３０℃以上
高い温度で、好ましくは３５℃以上高い温度で、さらに
好ましくは４０℃以上高い温度で加熱することである。

【０１７９】３）感光材料の残留溶剤量を１ｍｇ／ｍ²
以上、５０ｍｇ／ｍ²以下、好ましくは５ｍｇ／ｍ²以
上、３０ｍｇ／ｍ²以下となるように、溶剤組成、乾燥
条件等をコントロールする。

【０１８０】４）熱現像感光材料の平衡含水率が２質量
％以内であること。熱現像感光材料の平衡含水率（Ｄ）
とは、２５℃、６０％ＲＨの雰囲気下で調湿平衡にある
熱現像感光材料の質量Ｗと該熱現像感光材料の水分含量
ｗを用いて以下の式で表される。

【０１８１】Ｄ（質量％）＝（ｗ／Ｗ）×１００ 本発明では、熱現像感光材料の２５℃、６０％ＲＨでの
平衡含水率を、２質量％以下にすることが好ましいが、
より好ましくは０．００５質量％以上、２質量％以下、
さらに好ましくは０．０１質量％以上、１質量％以下で
ある。平衡含水率２質量％以下は、水の溶解度が２質量
％以下の有機溶媒を用いて塗布することで達成される。
有機溶媒の具体例としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、ヘキサン、シクロヘキサン、ジエチルエーテル、
ジイソプロピルエーテル、ハイドロフルオロエーテル、
塩化メチレン、クロロホルム、トリクロロエチレン等が
挙げられる。なお、水の溶解度が２質量％以下の有機溶
媒は単独でも、複数種用いてもよい。更に、塗布液の水
分量が２質量％以下の条件を満たす範囲で、以下に説明
する水混和性の溶媒と併用して用いてもよい。別な方法
としては、水混和性の溶媒を用いて後述のようなポリマ
ーラテックスの２５℃、６０％ＲＨでの平衡含水率が、
０．０１質量％以上、２質量％以下、更に好ましくは
０．０１質量％以上、１質量％以下のものを用いること
で達成できる。平衡含水率の定義と測定法については、
例えば「高分子工学講座１４、高分子材料試験法（高分
子学会編、地人書館）」などを参考にすることができ
る。更に他の方法として、熱現像感光材料を塗布乾燥し
た後に、水分を除く乾燥剤を内封した、水を透過しない
包装材料で覆った包装形態で保管することである。水分
を除く乾燥剤としては、接触させることにより水分が除
かれるものであれば特に制限はないが、シリカゲル、モ
レキュラーシーブズ、無水硫酸マグネシウム、無水硫酸
ナトリウム、純鉄、鉄化合物等が挙げられるが、より好
ましくはシリカゲルである。

【０１８２】平衡含水率の実際の測定は、以下の方法で
行う。熱現像感光材料を２５℃、６０％ＲＨの環境下で
２４時間調湿した後、同雰囲気下でフィルム面積として
４６．３ｃｍ²を切り出し、質量を測定した後、これを
５ｍｍ程度に細かく刻んで専用バイアル瓶に収納し、セ
プタムとアルミキャップで密閉した後、ヒューレット・
パッカード社製ヘッドスペースサンプラーＨＰ７６９４
型にセットする。ヘッドスペースサンプラーを１２０
℃、２０分加熱し、蒸発した水分をカールフィッシャー
法にて定量を行う。

【０１８３】本発明の熱現像感光材料は、支持体上に少
なくとも一層の画像形成層を有している。支持体上に画
像形成層のみを形成してもよいが、画像形成層の上に少
なくとも１層の非画像形成層を形成することが好まし
い。画像形成層に通過する光の量または波長分布を制御
するために、画像形成層と同じ側にフィルター染料層及
び／または反対側にアンチハレーション染料層、いわゆ
るバッキング層を形成してもよいし、画像形成層に染料
または顔料を含ませてもよい。用いられる染料として
は、所望の波長範囲で目的の吸収を有するものであれば
いかなる化合物でもよいが、例えば特開昭５９−６４８
１号、同５９−１８２４３６号、米国特許第４，２７
１，２６３号、同第４，５９４，３１２号、欧州特許公
開５３３，００８号、欧州特許公開６５２，４７３号、
特開平２−２１６１４０号、同４−３４８３３９号、同
７−１９１４３２号、同７−３０１８９０号などに記載
の化合物が好ましく用いられる。

【０１８４】また、これらの非画像形成層には、バイン
ダーやマット剤を含有することが好ましく、更にポリシ
ロキサン化合物やワックスや流動パラフィンのようなス
ベリ剤を含有してもよい。画像形成層は、複数層にして
も良く、また階調の調節のため画像形成層を高感度層／
低感度層または低感度層／高感度層にしてもよい。

【０１８５】本発明の熱現像感光材料は、熱現像処理に
て写真画像を形成するもので、還元可能な銀源（有機銀
塩）、感光性ハロゲン化銀、還元剤及び必要に応じて銀
の色調を抑制する色調剤を、通常（有機）バインダーマ
トリックス中に分散した状態で含有している熱現像感光
材料であることが好ましい。本発明の熱現像感光材料
は、常温で安定であるが、露光後高温（例えば、８０〜
１４０℃）に加熱することで現像される。加熱すること
で有機銀塩（酸化剤として機能する）と還元剤との間の
酸化還元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応
は、露光でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によ
って促進される。露光領域中の有機銀塩の反応によって
生成した銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対
照をなし画像の形成がなされる。この反応過程は、外部
から水等の処理液を供給することなしで進行する。

【０１８６】本発明の熱現像感光材料には、還元剤を内
蔵させている。好適な還元剤の例は、米国特許第３，７
７０，４４８号、同第３，７７３，５１２号、同第３，
５９３，８６３号及びＲＤ１７０２９及び２９９６３に
記載されており、以下のものが挙げられる。アミノヒド
ロキシシクロアルケノン化合物（例えば、２−ヒドロキ
シピペリジノ−２−シクロヘキセノン）；還元剤の前駆
体としてアミノリダクトン類（ｒｅｄｕｃｔｏｎｅｓ）
エステル（例えば、ピペリジノヘキソースリダクトンモ
ノアセテート）；Ｎ−ヒドロキシ尿素誘導体（例えば、
Ｎ−ｐ−メチルフェニル−Ｎ−ヒドロキシ尿素）；アル
デヒド又はケトンのヒドラゾン類（例えば、アントラセ
ンアルデヒドフェニルヒドラゾン）；ホスファーアミド
フェノール類；ホスファーアミドアニリン類；ポリヒド
ロキシベンゼン類（例えば、ヒドロキノン、ｔ−ブチル
−ヒドロキノン、イソプロピルヒドロキノン及び（２，
５−ジヒドロキシ−フェニル）メチルスルホン）；スル
フヒドロキサム酸類（例えば、ベンゼンスルフヒドロキ
サム酸）；スルホンアミドアニリン類（例えば、４−
（Ｎ−メタンスルホンアミド）アニリン）；２−テトラ
ゾリルチオヒドロキノン類（例えば、２−メチル−５−
（１−フェニル−５−テトラゾリルチオ）ヒドロキノ
ン）；テトラヒドロキノキサリン類（例えば、１，２，
３，４−テトラヒドロキノキサリン）；アミドオキシム
類；アジン類（例えば、脂肪族カルボン酸アリールヒド
ラザイド類とアスコルビン酸の組み合わせ）；ポリヒド
ロキシベンゼンとヒドロキシルアミンの組み合わせ、リ
ダクトン及び／又はヒドラジン；ヒドロキサン酸類；ア
ジン類とスルホンアミドフェノール類の組み合わせ；α
−シアノフェニル酢酸誘導体；ビス−β−ナフトールと
１，３−ジヒドロキシベンゼン誘導体の組み合わせ；５
−ピラゾロン類；スルホンアミドフェノール還元剤；２
−フェニルインダン−１，３−ジオン等；クロマン；
１，４−ジヒドロピリジン類（例えば、２，６−ジメト
キシ−３，５−ジカルボエトキシ−１，４−ジヒドロピ
リジン）；ビスフェノール類（例えば、ビス（２−ヒド
ロキシ−３−ｔ−ブチル−５−メチルフェニル）メタ
ン、ビス（６−ヒドロキシ−ｍ−トリ）メシトール（ｍ
ｅｓｉｔｏｌ）、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−
メチルフェニル）プロパン、４，５−エチリデン−ビス
（２−ｔ−ブチル−６−メチル）フェノール）、紫外線
感応性アスコルビン酸誘導体及び３−ピラゾリドン類
等。中でも特に好ましい還元剤は、ヒンダードフェノー
ル類である。ヒンダードフェノール類としては、下記一
般式（Ａ）で表される化合物が挙げられる。

【０１８７】

【化４７】

【０１８８】式中、Ｒは水素原子、又は炭素原子数１〜
１０のアルキル基（例えば、−Ｃ₄Ｈ₉、２，４，４−ト
リメチルペンチル）を表し、Ｒ′及びＲ″は各々炭素原
子数１〜５のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ｔ
−ブチル）を表す。

【０１８９】一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を
以下に示す。ただし、本発明は、以下の化合物に限定さ
れるものではない。

【０１９０】

【化４８】

【０１９１】前記一般式（Ａ）で表される化合物を始め
とする還元剤の使用量は、好ましくは銀１モル当り１×
１０^-2〜１０モル、特に１×１０^-2〜１．５モルであ
る。

【０１９２】本発明の熱現像感光材料において、上述し
た各成分と共に色調剤、色調付与剤若しくは付活剤トー
ナーと称せられる添加剤（以下色調剤と呼ぶ）が使用さ
れる事が望ましい。色調剤は有機銀塩と還元剤の酸化還
元反応に関与して、生ずる銀画像を濃色、特に黒色にす
る機能を有する。本発明に用いられる好適な色調剤の例
は、ＲＤ１７０２９号に開示されており、次のものが挙
げられる。

【０１９３】イミド類（例えば、フタルイミド）；環状
イミド類、ピラゾリン−５−オン類、及びキナゾリノン
（例えば、スクシンイミド、３−フェニル−２−ピラゾ
リン−５−オン、１−フェニルウラゾール、キナゾリン
及び２，４−チアゾリジンジオン）；ナフタールイミド
類（例えば、Ｎ−ヒドロキシ−１，８−ナフタールイミ
ド）；コバルト錯体（例えば、コバルトのヘキサミント
リフルオロアセテート）、メルカプタン類（例えば、３
−メルカプト−１，２，４−トリアゾール）；Ｎ−（ア
ミノメチル）アリールジカルボキシイミド類（例えば、
Ｎ−（ジメチルアミノメチル）フタルイミド）；ブロッ
クされたピラゾール類、イソチウロニウム（ｉｓｏｔｈ
ｉｕｒｏｎｉｕｍ）誘導体及びある種の光漂白剤の組み
合わせ（例えば、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレン（１−カル
バモイル−３，５−ジメチルピラゾール）、１，８−
（３，６−ジオキサオクタン）ビス（イソチウロニウム
トリフルオロアセテート）、及び２−（トリブロモメチ
ルスルホニル）ベンゾチアゾールの組み合わせ）；メロ
シアニン染料（例えば、３−エチル−５−（（３−エチ
ル−２−ベンゾチアゾリニリデン（ベンゾチアゾリニリ
デン））−１−メチルエチリデン）−２−チオ−２，４
−オキサゾリジンジオン）；フタラジノン、フタラジノ
ン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩（例えば、４−
（１−ナフチル）フタラジノン、６−クロロフタラジノ
ン、５，７−ジメチルオキシフタラジノン、及び２，３
−ジヒドロ−１，４−フタラジンジオン）；フタラジノ
ンとスルフィン酸誘導体の組み合わせ（例えば、６−ク
ロロフタラジノン＋ベンゼンスルフィン酸ナトリウム又
は８−メチルフタラジノン＋ｐ−トリスルホン酸ナトリ
ウム）；フタラジン＋フタル酸の組み合わせ；フタラジ
ン（フタラジンの付加物を含む）とマレイン酸無水物、
及びフタル酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸又はｏ
−フェニレン酸誘導体及びその無水物（例えば、フタル
酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸及びテト
ラクロロフタル酸無水物）から選択される少なくとも１
つの化合物との組み合わせ；キナゾリンジオン類、ベン
ズオキサジン、ナルトキサジン誘導体；ベンズオキサジ
ン−２，４−ジオン類（例えば、１，３−ベンズオキサ
ジン−２，４−ジオン）；ピリミジン類及び不斉−トリ
アジン類（例えば、２，４−ジヒドロキシピリミジ
ン）、及びテトラアザペンタレン誘導体（例えば、３，
６−ジメルカプト−１，４−ジフェニル−１Ｈ，４Ｈ−
２，３ａ，５，６ａ−テトラアザペンタレン）。これら
の内、好ましい色調剤としてはフタラゾン又はフタラジ
ンである。

【０１９４】本発明の熱現像感光材料には、例えば、特
開昭６３−１５９８４１号、同６０−１４０３３５号、
同６３−２３１４３７号、同６３−２５９６５１号、同
６３−３０４２４２号、同６３−１５２４５号、米国特
許第４，６３９，４１４号、同第４，７４０，４５５
号、同第４，７４１，９６６号、同第４，７５１，１７
５号、同第４，８３５，０９６号に記載された増感色素
が使用できる。また、例えば、ＲＤ１７６４３IV−Ａ項
（１９７８年１２月ｐ．２３）、同Ｉｔｅｍ１８３１Ｘ
項（１９７８年８月ｐ．４３７）に記載もしくは引用さ
れた文献に記載されている増感色素も有用である。特
に、各種スキャナー光源の分光特性に適した分光感度を
有する増感色素を有利に選択することができ、例えば、
特開平９−３４０７８号、同９−５４４０９号、同９−
８０６７９号記載の化合物が好ましく用いられる。

【０１９５】これらの増感色素は単独に用いてもよい
が、それらの組合せを用いてもよく、増感色素の組合せ
は、特に強色増感の目的でしばしば用いられる。増感色
素とともに、それ自身分光増感作用をもたない色素ある
いは可視光を実質的に吸収しない物質であって、強色増
感を示す物質を乳剤中に含んでもよい。有用な増感色
素、強色増感を示す色素の組合せおよび強色増感を示す
物質は、ＲＤ１７６４３（１９７８年１２月発行）第２
３頁IVのＪ項、あるいは特公平９−２５５００号、同４
３−４９３３号、特開昭５９−１９０３２号、同５９−
１９２２４２号、特開平５−３４１４３２号等に記載さ
れている。

【０１９６】本発明の熱現像感光材料中には、カブリ防
止剤が含まれてよい。有効なカブリ防止剤として、例え
ば、米国特許第３，５８９，９０３号などで知られてい
る水銀化合物は環境的に好ましくない。そのため非水銀
カブリ防止剤の検討が古くから行われてきた。非水銀カ
ブリ防止剤としては、例えば米国特許第４，５４６，０
７５号及び同第４，４５２，８８５号及び特開昭５９−
５７２３４号に開示されている様なカブリ防止剤が好ま
しい。

【０１９７】本発明において、長期保存での濃度変動を
更に向上するには、熱現像処理後のカブリを低減する酸
化剤を用いることである。このような酸化剤として好ま
しくは、例えば特開昭５０−１１９６２４号、同５０−
１２０３２８号、同５１−１２１３３２号、同５４−５
８０２２号、同５６−７０５４３号、同５６−９９３３
５号、同５９−９０８４２号、同６１−１２９６４２
号、同６２−１２９８４５号、特開平６−２０８１９１
号、同７−５６２１号、同７−２７８１号、同８−１５
８０９号、米国特許第５，３４０，７１２号、同第５，
３６９，０００号、同第５，４６４，７３７号、同第
３，８７４，９４６号、同第４，７５６，９９９号、同
第５，３４０，７１２号、欧州特許第６０５，９８１Ａ
１号、同第６２２，６６６Ａ１号、同第６３１，１７６
Ａ１号、特公昭５４−１６５号、特開平７−２７８１
号、米国特許第４，１８０，６６５号及び同第４，４４
２，２０２号に記載されている化合物等を用いることが
できるが、好ましくは下記一般式（Ｉ）で表されるポリ
ハロゲン化合物である。

【０１９８】

【化４９】

【０１９９】式中、Ａは脂肪族基、芳香族基または複素
環基を表し、Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃はそれぞれ水素原子、また
は電子吸引性基を表し、同一でも異なっていてもよい。
Ｙは２価の連結基を表す。ｎは０又は１を表す。

【０２００】Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃で表される電子吸引性基と
して、好ましくはσｐ値が０．０１以上の置換基であ
り、より好ましくは０．１以上の置換基である。ハメッ
トの置換基定数に関しては、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ｍ
ｅｄｉｃｉｎａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，１９７３，Ｖ
ｏｌ．１６，Ｎｏ．１１，１２０７〜１２１６等を参考
にすることができる。

【０２０１】電子吸引性基としては、例えばハロゲン原
子（フッ素原子（σｐ値：０．０６）、塩素原子（σｐ
値：０．２３）、臭素原子（σｐ値：０．２３）、ヨウ
素原子（σｐ値：０．１８））、トリハロメチル基（ト
リブロモメチル（σｐ値：０．２９）、トリクロロメチ
ル（σｐ値：０．３３）、トリフルオロメチル（σｐ
値：０．５４））、シアノ基（σｐ値：０．６６）、ニ
トロ基（σｐ値：０．７８）、脂肪族・アリールもしく
は複素環スルホニル基（例えば、メタンスルホニル（σ
ｐ値：０．７２））、脂肪族・アリールもしくは複素環
アシル基（例えば、アセチル（σｐ値：０．５０）、ベ
ンゾイル（σｐ値：０．４３））、アルキニル基（例え
ば、Ｃ₃Ｈ₃（σｐ値：０．０９））、脂肪族・アリール
もしくは複素環オキシカルボニル基（例えば、メトキシ
カルボニル（σｐ値：０．４５）、フェノキシカルボニ
ル（σｐ値：０．４５））、カルバモイル基（σｐ値：
０．３６）、スルファモイル基（σｐ値：０．５７）な
どが挙げられる。

【０２０２】Ｘ₁、Ｘ₂、Ｘ₃は好ましくは電子吸引性基
であり、より好ましくはハロゲン原子（フッ素原子（σ
ｐ値：０．０６）、塩素原子（σｐ値：０．２３）、臭
素原子（σｐ値：０．２３）、ヨウ素原子（σｐ値：
０．１８））、トリハロメチル基（トリブロモメチル
（σｐ値：０．２９）、トリクロロメチル（σｐ値：
０．３３）、トリフルオロメチル（σｐ値：０．５
４））、シアノ基（σｐ値：０．６６）、ニトロ基（σ
ｐ値：０．７８）、脂肪族・アリールもしくは複素環ス
ルホニル基（例えば、メタンスルホニル（σｐ値：０．
７２））、脂肪族・アリールもしくは複素環アシル基
（例えば、アセチル（σｐ値：０．５０）、ベンゾイル
（σｐ値：０．４３））、アルキニル基（例えば、Ｃ₃
Ｈ₃（σｐ値：０．０９））、脂肪族・アリールもしく
は複素環オキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボ
ニル（σｐ値：０．４５）、フェノキシカルボニル（σ
ｐ値：０．４５））、カルバモイル基（σｐ値：０．３
６）、スルファモイル基（σｐ値：０．５７）などであ
る。特に好ましくはハロゲン原子である。ハロゲン原子
の中でも、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子
であり、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特
に好ましくは臭素原子である。

【０２０３】Ｙは２価の連結基を表し、具体的には−Ｓ
Ｏ₂−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ₁₀₁）−ＳＯ
₂−、−Ｎ（Ｒ₁₀₁）−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ₁₀₁）−ＣＯＯ
−、−ＣＯＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ
Ｏ−、−ＳＣＯ−、−ＳＣＯＯ−、−Ｃ（Ｚ₁₁）
（Ｚ₁₂）−、アルキレン、アリーレン、２価のヘテロ環
およびこれらの任意の組み合わせで形成される２価の連
結基を表す。Ｒ₁₀₁は水素原子またはアルキル基を表す
が、好ましくは水素原子である。Ｚ₁₁およびＺ₁₂は水素
原子もしくは電子吸引性基を表すが、同時に水素原子で
あることはない。電子吸引性基として好ましくは、ハメ
ットの置換基定数σｐ値が０．０１以上の置換基であ
り、より好ましくは０．１以上の置換基である。Ｚ₁₁お
よびＺ₁₂の電子吸引性基として好ましいものは、前記Ｘ
₁、Ｘ₂、Ｘ₃と同じである。

【０２０４】Ｚ₁₁およびＺ₁₂として好ましくは、ハロゲ
ン原子、シアノ基、ニトロ基である。ハロゲン原子の中
でも、好ましくは塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子であ
り、更に好ましくは塩素原子、臭素原子であり、特に好
ましくは臭素原子である。Ｙとして好ましくは、−ＳＯ
₂−、−ＳＯ−又は−ＣＯ−を表し、より好ましくは−
ＳＯ₂−を表す。ｎは好ましくは１である。

【０２０５】Ａで表される脂肪族基は、直鎖、分岐又は
環状のアルキル基（好ましくは炭素数１〜３０、より好
ましくは１〜２０、更に好ましくは１〜１２であり、例
えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブ
チル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、シクロプロピル、シ
クロペンチル、シクロヘキシル等が挙げられる）、アル
ケニル基（好ましくは炭素数２〜３０、より好ましくは
２〜２０、更に好ましくは２〜１２であり、例えば、ビ
ニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニル等が挙げ
られる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜３０、
より好ましくは２〜２０、更に好ましくは２〜１２であ
り、例えばプロパルギル、３−ペンテニル等が挙げられ
る）であり、置換基を有していてもよい。置換基として
は、例えばカルボキシ基、アシル基、アシルアミノ基、
スルホニルアミノ基、カルバモイル基、スルファモイル
基、オキシカルボニルアミノ基又はウレイド基などがあ
る。脂肪族炭化水素基として、好ましくはアルキル基で
あり、より好ましくは鎖状アルキル基である。Ａで表さ
れる芳香族基として、好ましくはアリール基であり、ア
リール基としては、好ましくは炭素数６〜３０の単環ま
たは二環のアリール基（例えばフェニル、ナフチル等）
であり、より好ましくは炭素数６〜２０のフェニル基、
更に好ましくは６〜１２のフェニル基である。アリール
基は置換基を有してもよく、置換基としては、例えば、
カルボキシル基、アシル基、アシルアミノ基、スルホニ
ルアミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、オキ
シカルボニルアミノ基又はウレイド基などがある。Ａで
表されるヘテロ環基は、Ｎ、Ｏ又はＳ原子の少なくとも
一つを含む３ないし１０員の飽和もしくは不飽和のヘテ
ロ環であり、これらは単環であってもよいし、更に他の
環と縮合環を形成してもよい。

【０２０６】Ａで表されるヘテロ環基として、好ましく
は５ないし６員の芳香族ヘテロ環基であり、より好まし
くは窒素原子を含む５ないし６員の芳香族ヘテロ環基で
あり、更に好ましくは窒素原子を１ないし２原子含む５
ないし６員の芳香族ヘテロ環基である。ヘテロ環の具体
例としては、例えば、ピロリジン、ピペリジン、ピペラ
ジン、モルフォリン、チオフェン、フラン、ピロール、
イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリ
ダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、イン
ダゾール、プリン、チアジアゾール、オキサジアゾー
ル、キノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリ
ン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジ
ン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、チ
アゾール、オキサゾール、ベンズイミダゾール、ベンズ
オキサゾール、ベンズチアゾール、インドレニンなどが
挙げられる。ヘテロ環として好ましくは、チオフェン、
フラン、ピロール、イミダゾール、ピラゾール、ピリジ
ン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジ
ン、インドール、インダゾール、キノリン、チアジアゾ
ール、オキサジアゾール、キノリン、フタラジン、ナフ
チリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プ
テリジン、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、
ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチア
ゾール、インドレニンであり、より好ましくはピリジ
ン、トリアジン、キノリン、チアジアゾール、ベンズチ
アゾール、オキサジアゾールであり、特に好ましくは、
ピリジン、キノリン、チアジアゾール、オキサジアゾー
ルである。

【０２０７】上記ポリハロゲン化合物のうち、一般式
（Ｉ−ａ）で表される化合物がより好ましく用いられ
る。

【０２０８】

【化５０】

【０２０９】一般式（Ｉ−ａ）中、Ａ、Ｘ₁、Ｘ₂、
Ｘ₃、ｎは一般式（Ｉ）におけるものと同義であり、好
ましい範囲も同様である。

【０２１０】以下に、本発明に用いられるポリハロゲン
化合物の具体例を挙げるが、もちろんこれらに限定され
るものではない。

【０２１１】

【化５１】

【０２１２】

【化５２】

【０２１３】

【化５３】

【０２１４】本発明において酸化剤は、１０ｍｇ／ｍ²
〜３ｇ／ｍ²含有することが好ましく、５０ｍｇ／ｍ²〜
１ｇ／ｍ²がより好ましい。

【０２１５】本発明において酸化剤は、溶液、粉末、固
体微粒子分散物などいかなる方法で添加してもよく、特
に画像形成層に、固体微粒子分散されていることが好ま
しい。分散の際に分散助剤を用いてもよい。また、増感
色素、還元剤、色調剤など他の添加剤と混合した溶液と
して添加してもよい。

【０２１６】また、上記の酸化剤以外の好適なカブリ防
止剤としては、米国特許第３，８７４，９４６号及び同
第４，７５６，９９９号に開示されているような化合
物、特開平９−２８８３２８号段落番号〔００３０〕〜
〔００３６〕に記載されている化合物、特開平９−９０
５５０号段落番号〔００６２〕〜〔００６３〕に記載さ
れている化合物、米国特許第５，０２８，５２３号及び
欧州特許第６００，５８７号、同第６３１，１７６号、
同第６０５，９８１号に開示されている化合物などが好
ましく用いられる。

【０２１７】本発明の熱現像感光材料に好適なバインダ
ーは、透明又は半透明で、一般に無色であり、天然ポリ
マー合成樹脂やポリマー及びコポリマー、その他フィル
ムを形成する媒体、例えば：ゼラチン、アラビアゴム、
ポリ（ビニルアルコール）、ヒドロキシエチルセルロー
ス、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチ
レート、ポリ（ビニルピロリドン）、カゼイン、デンプ
ン、ポリ（アクリル酸）、ポリ（メチルメタクリル
酸）、ポリ（塩化ビニル）、ポリ（メタクリル酸）、コ
ポリ（スチレン−無水マレイン酸）、コポリ（スチレン
−アクリロニトリル）、コポリ（スチレン−ブタジエ
ン）、ポリ（ビニルアセタール）類（例えば、ポリ（ビ
ニルホルマール）及びポリ（ビニルブチラール））、ポ
リ（エステル）類、ポリ（ウレタン）類、フェノキシ樹
脂、ポリ（塩化ビニリデン）、ポリ（エポキシド）類、
ポリ（カーボネート）類、ポリ（ビニルアセテート）、
セルロースエステル類、ポリ（アミド）類がある。親水
性でも疎水性でもよいが、本発明においては、熱現像処
理後のカブリを低減させるために、疎水性透明バインダ
ーを使用することが好ましい。好ましいバインダーとし
ては、ポリビニルブチラール、セルロースアセテート、
セルロースアセテートブチレート、ポリエステル、ポリ
カーボネート、ポリアクリル酸、ポリウレタンなどがあ
げられる。その中でもポリビニルブチラール、セルロー
スアセテート、セルロースアセテートブチレート、ポリ
エステルは特に好ましく用いられる。

【０２１８】また、他の好ましいバインダーとしては、
以下に述べるポリマーラテックスである。ポリマーラテ
ックスは、画像形成層に含有することが好ましい。ポリ
マーラテックスは全バインダーの５０質量％以上含有す
ることが好ましい。本発明において「ポリマーラテック
ス」とは、水不溶な疎水性ポリマーが微細な粒子として
水溶性の分散媒中に分散したものである。分散状態とし
てはポリマーが分散媒中に乳化されているもの、乳化重
合されたもの、ミセル分散されたもの、あるいはポリマ
ー分子中に部分的に親水的な構造を持ち分子鎖自身が分
子状分散したものなどいずれでもよい。

【０２１９】なお、本発明におけるポリマーラテックス
については、「合成樹脂エマルジョン（奥田平、稲垣寛
編集、高分子刊行会発行（１９７８））」、「合成ラテ
ックスの応用（杉村孝明、片岡靖男、鈴木聡一、笠原啓
司編集、高分子刊行会発行（１９９３））」、「合成ラ
テックスの化学（室井宗一著、高分子刊行会発行（１９
７０））」などに記載されている。

【０２２０】分散粒子の平均粒径は１〜５０，０００ｎ
ｍ、より好ましくは５〜１，０００ｎｍ程度の範囲が好
ましい。分散粒子の粒径分布に関しては、特に制限は無
く、広い粒径分布を持つものでも、単分散の粒径分布を
持つものでもよい。ポリマーラテックスとしては、通常
の均一構造のポリマーラテックス以外、いわゆるコア／
シェル型のラテックスでもよい。この場合、コアとシェ
ルは、ガラス転移温度を変えると好ましい場合がある。
本発明のにおけるポリマーラテックスの最低造膜温度
（ＭＦＴ）は−３０〜９０℃、より好ましくは０〜７０
℃である。最低造膜温度をコントロールするために、造
膜助剤を添加してもよい。造膜助剤は可塑剤ともよば
れ、ポリマーラテックスの最低造膜温度を低下させる有
機化合物（通常有機溶剤）で、例えば前述の「合成ラテ
ックスの化学（室井宗一著、高分子刊行会発行（１９７
０））」に記載されている。

【０２２１】ポリマーラテックスに用いられるポリマー
種としては、アクリル樹脂、酢酸ビニル樹脂、ポリエス
テル樹脂、ポリウレタン樹脂、ゴム系樹脂、塩化ビニル
樹脂、塩化ビニリデン樹脂、ポリオレフィン樹脂、また
はこれらの共重合体などがある。ポリマーとしては、直
鎖のポリマーでも枝分かれしたポリマーでも、また架橋
されたポリマーでもよい。またポリマーとしては単一の
モノマーが重合したいわゆるホモポリマーでもよいし、
２種以上のモノマーが重合したコポリマーでもよい。コ
ポリマーの場合は、ランダムコポリマーでもブロックコ
ポリマーでもよい。ポリマーの分子量は数平均分子量で
５，０００〜１，０００，０００、好ましくは１０，０
００〜１００，０００程度が好ましい。分子量が小さす
ぎるものは、画像形成層の力学強度が不十分であり、大
きすぎるものは製膜性が悪く好ましくない。

【０２２２】本発明の熱現像感光材料の画像形成層のバ
インダーとして用いられるポリマーラテックスの具体例
としては、メチルメタクリレート／エチルアクリレート
／メタクリル酸コポリマーのラテックス、メチルメタク
リレート／２−エチルヘキシルアクリレート／スチレン
／アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン／ブタ
ジエン／アクリル酸コポリマーのラテックス、スチレン
／ブタジエン／ジビニルベンゼン／メタクリル酸コポリ
マーのラテックス、メチルメタクリレート／塩化ビニル
／アクリル酸コポリマーのラテックス、塩化ビニリデン
／エチルアクリレート／アクリロニトリル／メタクリル
酸コポリマーのラテックスなどが挙げられる。

【０２２３】また、このようなポリマーは市販もされて
いて、以下のようなポリマーが利用できる。例えば、ア
クリル樹脂の例として、セビアンＡ−４６３５、４６５
８３、４６０１（以上、ダイセル化学工業（株）製）、
Ｎｉｐｏｌ Ｌｘ８１１、８１４、８２１、８２０、８
５７（以上、日本ゼオン（株）製）など、ポリエステル
樹脂としては、ＦＩＮＥＴＥＸ ＥＳ６５０、６１１、
６７５、８５０（以上、大日本インキ化学（株）製）、
ＷＤ−ｓｉｚｅ、ＷＭＳ（以上、イーストマンケミカル
製）など、ポリウレタン樹脂としては、ＨＹＤＲＡＮ
ＡＰ１０、２０、３０、４０（以上、大日本インキ化学
（株）製）など、ゴム系樹脂としては、ＬＡＣＳＴＡＲ
７３１０Ｋ、３３０７Ｂ、４７００Ｈ、７１３２Ｃ
（以上、大日本インキ化学（株）製）、Ｎｉｐｏｌ Ｌ
ｘ４１６、４１０、４３８Ｃ、２５０７、（以上、日本
ゼオン（株）製）など、塩化ビニル樹脂としては、Ｇ３
５１、Ｇ５７６（以上、日本ゼオン（株）製）など、塩
化ビニリデン樹脂としては、Ｌ５０２、Ｌ５１３（以
上、旭化成工業（株）製）など、オレフィン樹脂として
は、ケミパールＳ１２０、ＳＡ１００（以上、三井石油
化学（株）製）などを挙げることができる。これらのポ
リマーは単独で用いてもよいし、必要に応じて２種以上
ブレンドして用いてもよい。

【０２２４】ポリマーラテックスのポリマー種として
は、アクリレートまたはメタクリレート成分のごときカ
ルボン酸成分を０．１〜１０質量％程度含有するものが
好ましい。ポリマーラテックスを画像形成層に用いると
きには、画像形成層は全バインダーの５０質量％以上が
上記ポリマーラテックスであることが好ましく、７０質
量％以上が上記ポリマーラテックスであることがより好
ましい。その場合、画像形成層には、必要に応じて全バ
インダーの５０質量％以下の範囲で、ゼラチン、ポリビ
ニルアルコール、メチルセルロース、ヒドロキシプロピ
ルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シプロピルメチルセルロースなどの親水性ポリマーを添
加してもよい。これらの親水性ポリマーの添加量は、画
像形成層の全バインダーの３０質量％以下が好ましい。

【０２２５】画像形成層にポリマーラテックスを用いる
場合は、画像形成層は水系の塗布液を塗布後、乾燥して
調製することが好ましい。ただし、ここで言う「水系」
とは、塗布液の溶媒（分散媒）の５０質量％以上が水で
あることをいい、好ましくは溶媒の６５質量％以上が水
である。塗布液の水以外の成分は、メチルアルコール、
エチルアルコール、イソプロピルアルコール、メチルセ
ルソルブ、エチルセルソルブ、ジメチルホルムアミド、
酢酸エチルなどの水混和性の有機溶媒を用いることがで
きる。具体的な溶媒組成の例としては、以下のようなも
のがある。水／メタノール＝９０／１０、水／メタノー
ル＝７０／３０、水／エタノール＝９０／１０、水／イ
ソプロパノール＝９０／１０、水／ジメチルホルムアミ
ド＝９５／５、水／メタノール／ジメチルホルムアミド
＝８０／１５／５、水／メタノール／ジメチルホルムア
ミド＝９０／５／５（ただし数字は質量％を表す）。

【０２２６】画像形成層には、架橋のための架橋剤、塗
布性改良のための界面活性剤などを添加してもよい。画
像形成層にポリマーラテックスを含有する場合、熱画像
形成層塗布液は、いわゆるチキソトロピー流体であるこ
とが好ましい。チキソトロピー性とは剪断速度の増加に
伴い、粘度が低下する性質を言う。粘度測定には、いか
なる装置を使用してもよいが、レオメトリックスファー
イースト株式会社製ＲＦＳフルードスペクトロメーター
が好ましく用いられ、２５℃で測定される。本発明にお
ける有機銀塩含有塗布液もしくは熱画像形成層塗布液
は、剪断速度０．１Ｓ^-1における粘度が４００ｍＰａ・
ｓ以上、１００，０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、さ
らに好ましくは５００ｍＰａ・ｓ以上、２０，０００ｍ
Ｐａ・ｓ以下である。また、剪断速度１０００Ｓ^-1にお
いては、１ｍＰａ・ｓ以上、２００ｍＰａ・ｓ以下が好
ましく、さらに好ましくは５ｍＰａ・ｓ以上、８０ｍＰ
ａ・ｓ以下である。

【０２２７】チキソトロピー性を発現する系は、各種知
られており高分子刊行会編「講座・レオロジー」、室
井、森野共著「高分子ラテックス」（高分子刊行会発
行）などに記載されている。流体がチキソトロピー性を
発現させるには、固体微粒子を多く含有することが必要
である。また、チキソトロピー性を強くするには、増粘
線形高分子を含有させること、含有する固体微粒子の異
方形でアスペクト比が大きくすること、アルカリ増粘、
界面活性剤の使用などが有効である。

【０２２８】画像形成層の全バインダー量は０．２〜３
０ｇ／ｍ²、より好ましくは１〜１５ｇ／ｍ²の範囲であ
る。

【０２２９】また、熱現像感光材料の表面を保護したり
擦り傷を防止するために、画像形成層の外側に非画像形
成層を有することができる。これらの非画像形成層に用
いられるバインダーは、画像形成層に用いられるバイン
ダーと同じ種類でも異なった種類でもよい。

【０２３０】本発明においては、熱現像の速度を速める
ために画像形成層のバインダー量が０．５〜３０ｇ／ｍ
²であることが好ましい。さらに好ましくは１〜１５ｇ
／ｍ²である。０．５ｇ／ｍ²未満では、未露光部の濃度
が大幅に上昇し、使用に耐えない場合がある。

【０２３１】本発明においては、画像形成層側にマット
剤を含有することが好ましく、熱現像後の画像の傷つき
防止のためには、熱現像感光材料の表面にマット剤を配
することが好ましく、そのマット剤を画像形成層側の全
バインダーに対し、質量比で０．５〜３０％含有するこ
とが好ましい。また、支持体をはさみ画像形成層の反対
側に非画像形成層を設ける場合は、非画像形成層側の少
なくとも１層中にマット剤を含有することが好ましく、
マット剤の形状は、定形、不定形どちらでもよいが、好
ましくは定形で、球形が好ましく用いられる。

【０２３２】本発明の熱現像感光材料は、支持体上に画
像形成層のみを形成してもよいが、画像形成層の上に少
なくとも１層の非画像形成層を形成することが好まし
い。画像形成層に通過する光の量又は波長分布を制御す
るために、画像形成層と同じ側にフィルター染料層およ
び／又は反対側にアンチハレーション染料層、いわゆる
バッキング層を形成してもよいし、画像形成層に染料又
は顔料を含ませてもよい。

【０２３３】またこれらの非画像形成層には、前記のバ
インダーやマット剤を含有することが好ましく、さらに
ポリシロキサン化合物やワックスや流動パラフィンのよ
うなスベリ剤を含有してもよい。

【０２３４】また、本発明の熱現像感光材料には、塗布
助剤として各種の界面活性剤を用いることができる。そ
の中でもフッ素系界面活性剤が、帯電特性を改良した
り、斑点状の塗布故障を防ぐために好ましく用いられ
る。

【０２３５】本発明においては、アンチハレーション層
を画像形成層に対して光源から遠い側に設けることがで
きる。アンチハレーション層は所望の波長範囲での最大
吸収が０．１以上、２以下であることが好ましく、さら
に好ましくは０．２以上、１．５以下の露光波長の吸収
であり、かつ処理後の可視領域においての吸収が０．０
０１以上、０．２未満であることが好ましく、さらに好
ましくは０．００１以上、０．１５未満の光学濃度を有
する層であることが好ましい。また印刷製版用に用いる
場合は、４００ｎｍでの吸収が０．００１以上、０．２
未満であることが好ましく、さらに好ましくは０．００
１以上、０．１５未満の光学濃度を有する層であること
が特に好ましい。

【０２３６】本発明でハレーション防止染料を使用する
場合、こうした染料は波長範囲で目的の吸収を有し、処
理後に可視領域での吸収が充分少なく、上記アンチハレ
ーション層の好ましい吸光度スペクトルの形状が得られ
ればいかなる化合物でもよい。例えば、以下に挙げるも
のが開示されているが、本発明はこれに限定されるもの
ではない。単独の染料としては、特開昭５９−５６４５
８号、特開平２−２１６１４０号、同７−１３２９５
号、同７−１１４３２号、米国特許第５，３８０，６３
５号、特開平２−６８５３９号第１３頁左下欄１行目か
ら同第１４頁左下欄９行目、同３−２４５３９号第１４
頁左下欄から同第１６頁右下欄記載の化合物があり、処
理で消色する染料としては、特開昭５２−１３９１３６
号、同５３−１３２３３４号、同５６−５０１４８０
号、同５７−１６０６０号、同５７−６８８３１号、同
５７−１０１８３５号、同５９−１８２４３６号、特開
平７−３６１４５号、同７−１９９４０９号、特公昭４
８−３３６９２号、同５０−１６６４８号、特公平２−
４１７３４号、米国特許第４，０８８，４９７号、同第
４，２８３，４８７号、同第４，５４８，８９６号、同
第５，１８７，０４９号などに記載されている。

【０２３７】本発明における熱現像感光材料は、支持体
の一方の側に少なくとも１層の画像形成層を有し、他方
の側にバック層を有する、いわゆる片面記録材料である
ことが好ましい。

【０２３８】本発明においてバック層は、所望の波長範
囲での最大吸収が０．３以上、２以下であることが好ま
しく、さらに好ましくは０．５以上、２以下の吸収であ
り、かつ処理後の可視領域においての吸収が、０．００
１以上、０．５未満であることが好ましく、さらに好ま
しくは０．００１以上、０．３未満の光学濃度を有する
層であることが好ましい。また印刷製版用に用いる場合
は、４００ｎｍでの吸収が０．００１以上、０．２未満
であることが好ましく、さらに好ましくは０．００１以
上、０．１５未満の光学濃度を有する層であることが特
に好ましい。バック層に用いるハレーション防止染料の
例としては、前述のアンチハレーション層と同じであ
る。

【０２３９】各種の添加剤は、画像形成層、非画像形成
層、又はその他の形成層のいずれに添加してもよい。本
発明の熱現像感光材料には、例えば、界面活性剤、酸化
防止剤、安定化剤、可塑剤、紫外線吸収剤、被覆助剤等
を用いてもよい。これらの添加剤及び上述したその他の
添加剤は、ＲＤ１７０２９（１９７８年６月ｐ．９〜１
５）に記載されている化合物を好ましく用いることがで
きる。

【０２４０】本発明で用いる支持体の製膜方法及び下引
製造方法は、公知の方法を用いることができるが、好ま
しくは、特開平９−５００９４号の段落〔００３０〕〜
〔００７０〕に記載された方法を用いることである。

【０２４１】本発明の熱現像感光材料は、いかなる方法
で現像されてもよいが、通常イメージワイズに露光した
熱現像感光材料を昇温して現像される。好ましい現像温
度としては、１０５〜１４５℃であり、さらに好ましく
は１０７〜１４０℃である。現像時間としては１〜１８
０秒であり、７〜５０秒がさらに好ましく、８〜２５秒
が特に好ましい。

【０２４２】本発明の熱現像感光材料は、熱現像機で熱
現像されることが特徴であるが、熱現像感光材料は熱現
像部の温度バラツキの影響を受けやすく、現像ムラが出
やすい。そのため特開平９−２９７３８４号、同９−２
９７３８５号、同９−２９７３８６号に開示されている
ようにヒートドラム方式の自動熱現像機や、ＷＯ９８／
２７４５８号に開示されているような平面搬送型の自動
熱現像機が用いられる。特に印刷製版用の用途に用いる
熱現像感光材料は、寸法安定性を良好にするために平面
搬送型の自動熱現像機で処理されることが好ましい。ま
た熱現像部の前にプレヒート部を有しており、プレヒー
トの温度は８０〜１２０℃である自動熱現像機が好まし
く用いられる。プレヒートにより現像が進み、濃度ムラ
が少なくなるので走査ムラにも効果的である。さらに特
開平１１−１３３５７２号に記載されているような固定
された加熱体に感光材料の一方の面に接触し、感光材料
の他方の面を複数のローラーで加熱体に押さえつけなが
ら感光材料を搬送する装置を用いて熱現像処理すること
も好ましい。

【０２４３】本発明の熱現像感光材料は、いかなる方法
で露光されてもよいが、露光光源としてレーザー光が好
ましい。本発明によるレーザー光としては、ガスレーザ
ー、ＹＡＧレーザー、色素レーザー、半導体レーザーな
どが好ましい。その中でも干渉縞や網点の露光ムラを防
止するために、縦マルチ露光や斜めに露光することが好
ましい。

【０２４４】本発明における縦マルチ露光とは、縦マル
チである走査レーザー光を発するレーザー走査露光機を
用いて行われる。縦マルチ化するには、合波による、戻
り光を利用する、高周波重畳をかけるなどの方法がよ
い。具体的には、特開昭５９−１０９６４号に記載の方
法が好ましく用いられる。なお、縦マルチとは、露光波
長が単一でないことを意味し、通常露光波長の分布が５
ｎｍ以上、好ましくは１０ｎｍ以上になるとよい。露光
波長の分布の上限には特に制限はないが、通常６０ｎｍ
程度である。斜め露光とは、熱現像感光材料の露光面と
走査レーザー光のなす角が、実質的に垂直になることが
ないレーザー走査露光機を用いて露光をすることであ
る。具体的には、特開平５−１１３５４８号に記載の方
法が好ましく用いられる。ここで、「実質的に垂直にな
ることがない」とは、レーザー走査中に最も垂直に近い
角度として、好ましくは５５度以上、８８度以下、より
好ましくは６０度以上、８６度以下、更に好ましくは６
５度以上、８４度以下、最も好ましくは７０度以上、８
２度以下であることをいう。

【０２４５】レーザー光が、熱現像感光材料に走査され
るときの感光材料露光面でのビームスポット直径は、好
ましくは２００μｍ以下、より好ましくは１００μｍ以
下である。これは、スポット径が小さい方がレーザー入
射角度の垂直からのずらし角度を減らせる点で好まし
い。なお、ビームスポット直径の下限は５μｍである。
このようなレーザー走査露光を行うことにより、干渉縞
様のムラの発生等のような反射光に係る画質劣化を減じ
ることが出来る。

【０２４６】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明す
るが、本発明の態様はこれに限定されない。

【０２４７】実施例１ 《熱現像感光材料の作製》 （下引済み写真用支持体の作製）市販の２軸延伸熱固定
済みの厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルムの両面に８Ｗ／
ｍ²・分のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引
塗布液ａ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し
乾燥させて下引層Ａ−１とし、又反対側の面に下記帯電
防止加工した下引塗布液ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍに
なるように塗設し、乾燥させて帯電防止加工下引層Ｂ−
１とした。

【０２４８】 〔下引塗布液ａ−１〕 ブチルアクリレート（３０質量％）、ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％） 、スチレン（２５質量％）、２−ヒドロキシエチルアクリレート （２５質量％）の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ （Ｃ−１） ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ ポリスチレン微粒子（平均粒径３μｍ） ０．０５ｇ コロイダルシリカ（平均粒径９０μｍ） ０．１ｇ 水で１Ｌに仕上げる。

【０２４９】 〔下引塗布液ｂ−１〕 ＳｎＯ₂／Ｓｂ（９／１の質量比、平均粒径０．１８μｍ） ２００ｍｇ／ｍ²になる量 ブチルアクリレート（４０質量％）、スチレン（２０質量％）、グリシジル アクリレート（４０質量％）、の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ （Ｃ−１） ０．６ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１Ｌに仕上げる。

【０２５０】引き続き、下引層Ａ−１及び下引層Ｂ−１
の表面上に８Ｗ／ｍ²・分のコロナ放電を施し、下引層
Ａ−１の上には下記下引上層塗布液ａ−２を、乾燥膜厚
０．１μｍになる様に下引上層Ａ−２として塗設し、又
下引層Ｂ−１の上には下記下引上層塗布液ｂ−２を乾燥
膜厚０．８μｍになる様に、帯電防止機能を持つ下引上
層Ｂ−２として塗設した。

【０２５１】 〔下引上層塗布液ａ−２〕 ゼラチン ０．４ｇ／ｍ²になる質量 （Ｃ−１） ０．２ｇ （Ｃ−２） ０．２ｇ （Ｃ−３） ０．１ｇ シリカ粒子（平均粒径３μｍ） ０．１ｇ 水で１Ｌに仕上げる。

【０２５２】 〔下引上層塗布液ｂ−２〕 （Ｃ−４） ６０ｇ （Ｃ−５）を成分とするラテックス液（固形分２０％） ８０ｇ 硫酸アンモニウム ０．５ｇ （Ｃ−６） １２ｇ ポリエチレングリコール（質量平均分子量６００） ６ｇ 水で１Ｌに仕上げる。

【０２５３】

【化５４】

【０２５４】

【化５５】

【０２５５】〈支持体の熱処理〉上記の下引済み支持体
の下引乾燥工程に於いて、支持体を１４０℃で加熱し、
その後徐々に冷却した。その際、１×１０⁵Ｐａの張力
で搬送した。

【０２５６】（感光性乳剤Ａの調製） 〈ハロゲン化銀乳剤Ａの調製〉水９００ｍｌ中に、イナ
ートゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶解
して、温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀
７４ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（９８／２）のモル比
の臭化カリウムと沃化カリウムを硝酸銀に対し等モル、
〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕塩を銀１モル当たり１×１０^-6
モル及び塩化ロジウム塩を銀１モル当たり１×１０^-6モ
ル含む水溶液３７０ｍｌを、１０分間かけて等速でダブ
ルジェット法にて添加した。その後、４−ヒドロキシ−
６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデンを添
加し、ＮａＯＨでｐＨを５．０に調整して平均粒子サイ
ズ０．０６μｍ、分散度４５％の〔１００〕面比率８７
％の非単分散立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳剤にゼ
ラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ、脱塩処理後、フェ
ノキシエタノール０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐＡｇ
７．５に調整した。更に、塩化金酸、無機硫黄、二酸化
チオ尿素及び２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェ
ニルジフェニルフォスフィンセレニドで化学増感を行
い、ハロゲン化銀乳剤Ａを得た。

【０２５７】〈ベヘン酸ナトリウム溶液の調製〉９４５
ｍｌの純水に、ベヘン酸３２．４ｇ、アラキジン酸９．
９ｇ、ステアリン酸５．６ｇを９０℃で溶解した。次に
高速で攪拌しながら、１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウ
ム水溶液９８ｍｌを添加した。次に、濃硝酸０．９３ｍ
ｌを加えた後、５５℃に冷却して３０分攪拌させてベヘ
ン酸ナトリウム溶液を得た。

【０２５８】〈プレフォーム乳剤Ａの調製〉上記調製し
たベヘン酸ナトリウム溶液に、前記ハロゲン化銀乳剤Ａ
を１５．１ｇ添加し、水酸化ナトリウム溶液でｐＨ８．
１に調整した後に、１モル／Ｌの硝酸銀溶液１４７ｍｌ
を１分間かけて加え、更に１５分攪拌し、限外濾過によ
り水溶性塩類を除去した。作製したベヘン酸銀は、長辺
平均サイズ０．８μｍの針状粒子であった。分散物のフ
ロックを形成後、水を取り除き、更に６回の水洗と水の
除去を行った後、乾燥させプレフォーム乳剤Ａを調製し
た。

【０２５９】〈有機銀塩Ａを含有する感光性乳剤Ａの調
製〉得られたプレフォーム乳剤Ａに、ポリビニルブチラ
ール（平均分子量３，０００）のメチルエチルケトン溶
液（１７質量％）５４４ｇとトルエン１０７ｇを、徐々
に添加、混合した後、４０００ｐｓｉで分散させた。分
散後、電子顕微鏡写真で有機銀塩粒子を観察した結果、
平均粒径は０．７μｍで、分散度６０％の非単分散有機
銀塩であった。また、塗布乾燥後も同様に有機銀塩粒子
を観察したところ、同じ粒子が確認できた。この乳剤２
４０ｇに対して、臭化カルシウムの０．０１％メタノー
ル溶液を４．７ｍｌ添加して感光性乳剤Ａを得た。この
中のハロゲン化銀粒子を電子顕微鏡で観察したところ、
０．０１μｍ以下のハロゲン化銀粒子は認められなかっ
た。

【０２６０】（感光性乳剤Ｂの調製） 〈ハロゲン化銀乳剤Ｂの調製〉水９００ｍｌ中に、イナ
ートゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶解
して、温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀
７４ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（９８／２）のモル比
の臭化カリウムと沃化カリウムを硝酸銀に対し等モル、
〔Ｉｒ（ＮＯ）Ｃｌ₅〕塩を銀１モル当たり１×１０^-6
モル及び塩化ロジウム塩を銀１モル当たり１×１０^-6モ
ル含む水溶液３７０ｍｌを、ｐＡｇ７．７に保ちながら
コントロールドダブルジェット法で添加した。その後４
−ヒドロキシ−６−メチル−１，３，３ａ，７−テトラ
ザインデンを添加しＮａＯＨでｐＨを５に調整して平均
粒子サイズ０．０６μｍ、分散度１２％の〔１００〕面
比率４９％の単分散立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳
剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ、脱塩処理後
フェノキシエタノール０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐ
Ａｇ７．５に調整した。更に塩化金酸、無機硫黄、二酸
化チオ尿素及び２，３，４，５，６−ペンタフルオロフ
ェニルジフェニルフォスフィンセレニドで化学増感を行
い、ハロゲン化銀乳剤Ｂを得た。

【０２６１】〈ベヘン酸ナトリウム溶液の調製〉９４５
ｍｌの純水に、ベヘン酸３２．４ｇ、アラキジン酸９．
９ｇ、ステアリン酸５．６ｇを９０℃で溶解した。次に
高速で攪拌しながら、１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウ
ム水溶液９８ｍｌを添加した。次に濃硝酸０．９３ｍｌ
を加えた後、５５℃に冷却して３０分攪拌させてベヘン
酸ナトリウム溶液を得た。

【０２６２】〈プレフォーム乳剤Ｂの調製〉上記調製し
たベヘン酸ナトリウム溶液に、前記ハロゲン化銀乳剤Ｂ
を１５．１ｇ添加し、水酸化ナトリウム溶液でｐＨ８．
１に調整した後、１モル／Ｌの硝酸銀溶液１４７ｍｌを
７分間かけて加え、更に２０分攪拌し限外濾過により水
溶性塩類を除去した。調製したベヘン酸銀は、長辺平均
サイズ０．８μｍの針状粒子であった。分散物のフロッ
クを形成後、水を取り除き、更に６回の水洗と水の除去
を行った後、乾燥させてプレフォーム乳剤Ｂを調製し
た。

【０２６３】〈有機銀塩Ｂを含有する感光性乳剤Ｂの調
製〉得られたプレフォーム乳剤Ｂに、ポリビニルブチラ
ール（平均分子量３０００）のメチルエチルケトン溶液
（１７質量％）５４４ｇとトルエン１０７ｇを、徐々に
添加して混合した後、４０００ｐｓｉで分散させた。分
散後、電子顕微鏡写真で有機銀塩粒子を観察した。３０
０個の有機銀塩粒子の粒径と厚みを測定した結果、２０
５個がＡＲ３以上で、分散度２５％の単分散平板状有機
銀塩であった。尚、平均粒径は０．７μｍであった。又
塗布乾燥後も同様に有機銀塩粒子を観察したところ、同
じ粒子が確認できた。この乳剤２４０ｇに対して、ピリ
ジニウムプロミドペルブロミドの６％メタノール溶液を
３ｍｌ、臭化カルシウムの０．１％メタノール溶液を
１．７ｍｌ添加して感光性乳剤Ｂを得た。この中のハロ
ゲン化銀を電子顕微鏡で観察したところ、０．０１μｍ
未満のハロゲン化銀粒子が観察された。また、５００個
のハロゲン化銀粒子の粒径を測定したところ、０．０１
μｍ未満の粒子は全体のハロゲン化銀粒子の４５個数％
であった。

【０２６４】（バック層面側塗布）以下の組成のバック
層塗布液１とバック保護層塗布液１を、それぞれ塗布前
に準絶対濾過精度２０μｍのフィルタを用いて濾過した
後、押し出しコーターで前記作製した支持体の帯電防止
加工した下引層Ｂ−２面上に、合計ウェット膜厚が３０
μｍになるよう、毎分１２０ｍの速度で塗布し、６０℃
で４分間乾燥を行った。

【０２６５】 〔バック層塗布液１〕 セルロースアセテートブチレート（１０％メチルエチルケトン溶液） １５ｍｌ／ｍ² 染料−Ａ ７ｍｇ／ｍ² 染料−Ｂ ７ｍｇ／ｍ²

【０２６６】

【化５６】

【０２６７】 〔バック保護層塗布液１〕 セルロースアセテートブチレート（１０％メチルエチルケトン溶液） ５ｍｌ／ｍ² マット剤（単分散度１５％、平均粒子サイズ８μｍの単分散シリカ） １５ｍｇ／ｍ² （ＣＨ₃）₃ＳｉＯ−〔（ＣＨ₃）₂ＳｉＯ〕₂₀−〔ＣＨ₃ＳｉＯ｛ＣＨ₂ＣＨ₂ ＣＨ₂Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀（ＣＨ₂ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₅ＣＨ₃｝〕₃₀−Ｓｉ （ＣＨ₃）₃ １０ｍｇ／ｍ² フッ素系界面活性剤：Ｃ₉Ｆ₁₇（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₂Ｃ₉Ｆ₁₇ １０ｍｇ／ｍ² （画像形成層面側塗布）以下の組成の画像形成層塗布液
とその上に保護層塗布液を、準絶対濾過精度２０μｍの
フィルタを用いて濾過したのち、表１の組合せで、押し
出しコーターで前記支持体の下引上層Ａ−２面上に、毎
分１００ｍの速度で重層塗布した。その際、塗布銀量が
１．５ｇ／ｍ²になる様に調整して塗布した。その後、
試料１０１は６５℃、１分乾燥を行い、試料１０２は５
５℃、１０分で乾燥を行った。その際、試料１０１には
表面保護層塗布液１を、試料１０２には表面保護層塗布
液２を用いた。

【０２６８】 〔画像形成層塗布液Ａ〕 感光性乳剤Ａ ２４０ｇ 増感色素（０．１％メタノール溶液） １．７ｍｌ ２−（４−クロロベンゾイル）安息香酸（１２％メタノール溶液） ９．２ｍｌ ２−メルカプトベンズイミダゾール（１％メタノール溶液） １１ｍｌ 例示化合物Ｏ−２５ ０．４ｇ 例示化合物Ａ−２（２０％メタノール溶液） ２９．５ｍｌ フタラジン ０．２ｇ ４−メチルフタル酸 ０．２５ｇ テトラクロロフタル酸 ０．２ｇ ヘキサメチレンジイソシアネート（１０％メタノール溶液） １．２ｍｌ 〔画像形成層塗布液Ｂ〕 感光性乳剤Ｂ ２４０ｇ 増感色素（０．１％メタノール溶液） １．７ｍｌ ２−（４−クロロベンゾイル）安息香酸（１２％メタノール溶液） ９．２ｍｌ 例示化合物Ｍ−１：２−メルカプトベンズイミダゾール （１％メタノール溶液） １１ｍｌ ビニル化合物：例示化合物７２−１２ ０．５ｇ ヒドラジン誘導体：例示化合物Ｈ−３−１０ ０．５ｇ ４級オニウム化合物：例示化合物Ｐ−１７ ０．１ｇ 一般式（１）又は（２）で表される化合物：例示化合物１２ ０．５ｇ 酸無水物：例示化合物５−４ ０．５ｇ 例示化合物Ｏ−２５ ０．４ｇ 例示化合物Ａ−１（２０％メタノール溶液） ２９．５ｍｌ フタラジン ０．２ｇ ４−メチルフタル酸 ０．２５ｇ テトラクロロフタル酸 ０．２ｇ ポリエステルポリウレタン化合物（東洋紡社製 ＵＲ８３００ 平均分子量 ３９０００） ２０ｇ アルコキシシラン化合物：Ｐｈ−ＮＨ−（ＣＨ₂）−Ｓｉ−（ＯＣＨ₃）₃ １ｇ 〔表面保護層塗布液１〕 アセトン ５ｍｌ／ｍ² メチルエチルケトン ２１ｍｌ／ｍ² セルロースアセテートブチレート ２．３ｇ／ｍ² メタノール ７ｍｌ／ｍ² フタラジン ２５０ｍｇ／ｍ² マット剤：平均粒径５．５μｍのシリカ １０ｍｇ／ｍ² ビニルスルホン化合物：ＶＳ−１ ３５ｍｇ／ｍ² フッ素系界面活性剤：Ｃ₁₂Ｆ₂₅（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀Ｃ₁₂Ｆ₂₅ １０ｍｇ／ｍ² 〔表面保護層塗布液２〕 アセトン ５ｍｌ／ｍ² メチルエチルケトン ２１ｍｌ／ｍ² セルロースアセテートブチレート ２．３ｇ／ｍ² メタノール ７ｍｌ／ｍ² フタラジン ２５０ｍｇ／ｍ² コロイダルシリカ ５０ｍｇ／ｍ² マット剤：平均粒径３．５μｍの単分散シリカ １０ｍｇ／ｍ² ビニルスルホン化合物：ＶＳ−１ ３５ｍｇ／ｍ² フッ素系界面活性剤：Ｃ₈Ｆ₁₇（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₂Ｃ₈Ｆ₁₇ １０ｍｇ／ｍ² Ｃ₈Ｆ₁₇−ＳＯ₃Ｌｉ ８ｍｇ／ｍ²

【０２６９】

【化５７】

【０２７０】以上のようにして表１に記載の構成よりな
る熱現像感光材料１０１及び１０２を作製した。なお、
作製した試料中に残存する溶媒メチルエチルケトン（Ｍ
ＥＫ）の量、は７０ｍｇ／ｍ²であった。また、試料１
０２の画像形成層側の表面のビッカース硬度は１００で
あった。また、得られた試料を２５℃、６０％ＲＨの環
境下で２４時間調湿した後、同雰囲気下でフィルム面積
として４６．３ｃｍ²を切り出し、質量を測定した後、
これを５ｍｍ程度に細かく刻んで専用バイアル瓶に収納
し、セプタムとアルミキャップで密閉した後、ヒューレ
ット・パッカード社製ヘッドスペースサンプラーＨＰ７
６９４型にセットし、ヘッドスペースサンプラーを１２
０℃、２０分加熱し、蒸発した水分をカールフィッシャ
ー法にて試料の平衡含水率を定量したところ、試料１０
１は６％、試料１０２は０．７％であった。

【０２７１】《各試料の露光及び熱現像処理》上記作製
した各熱現像感光材料に、特開昭５９−１３０４９４号
に記載の高周波重畳法を用いて縦マルチモードにした波
長７８０ｎｍの半導体レーザーを露光源とする露光機に
より、ウェッジを介した露光を画像形成層面側より行っ
た後、オーブンで１２２℃、１８秒間の熱現像処理を行
い、各熱現像済感光材料を作製した。

【０２７２】《各特性値の算出と諸性能の評価》 〔直線の傾きγ₁の算出〕作製した各現像済み試料を、
光学濃度計（コニカ社製ＰＤ−６）で４２０ｎｍ以上の
光をカットするフィルターを介して測定し、横軸−露光
量（ＬｏｇＥ）、縦軸−光学濃度（Ｄ）からなる特性曲
線を作製した。得られた特性曲線における光学濃度０．
３５と３．２の点を結ぶ直線の傾きγ₁を算出した。

【０２７３】〔直線の傾きγ₂の算出〕上記作製した特
性曲線において、光学濃度１．０と３．２の点を結ぶ直
線の傾きγ₂を算出した。

【０２７４】〔カバーリングパワー値（ＣＰ値）と最低
濃度の算出〕上記作製した特性曲線における最高濃度Ｄ
ｍａｘを銀量Ｇ（ｇ／ｍ²）で割った値を算出し、これ
をカバーリングパワー値（ＣＰ値と略す）とした。なお
銀量Ｇは、有機銀塩およびハロゲン化銀を全て含めた値
である。また、同時に特性曲線における最低濃度Ｄｍｉ
ｎも測定した。

【０２７５】〔過露光時の光学濃度の算出〕上記特性曲
線において、光学濃度１．０の露光点から露光量（Ｌｏ
ｇＥ）で＋０．５の露光点における画像濃度を測定し
た。

【０２７６】なお、以上記載した各光学濃度は、熱現像
処理後に光学濃度計で測定した光学濃度のことであり、
支持体および構成層の濃度全てを含んだ値である。

【０２７７】〔生試料の保存安定性評価〕上記作製した
各熱現像感光材料を２分割し、一方を２３℃、５０％Ｒ
Ｈで３日間保存した。他方を５５℃、８０％ＲＨ雰囲気
下で３日間保存し、強制劣化処理を施した。その後、上
記と同様の方法で画像形成面側より露光を行った。

【０２７８】露光済み試料を、コダックポリクロームグ
ラフィックス社製の印刷製版ドライフィルム用熱現像機
であるドライビュープロセッサー２７７１で、１２１
℃、２０秒で熱現像処理した。なお、このドライフィル
ム用自動現像機は、約１１０℃のプレヒート部を有する
平面搬送タイプの熱現像機であり、試料先端が熱現像機
に入ってから先端が出るまでの全所要時間は、４８秒で
あった。得られた試料の光学濃度を測定し、上記と同様
の方法にて特性曲線を作製し、感度を算出した。感度
は、濃度２．５を与える露光量の逆数で表した。保存安
定性は、２３℃、５０％ＲＨで３日間保存した試料感度
をＳａ、５５℃、８０％ＲＨで３日間処理した試料の感
度をＳｂとしたときに、ｌｏｇ（Ｓａ／Ｓｂ）を算出
し、これを尺度とした。この値は０が最も安定性が良好
で、０から大きく離れると保存安定性が悪いことを表
す。

【０２７９】〔現像済み試料の画像保存性評価〕上記生
試料の保存性評価と同様の方法にて露光、熱現像処理を
施し、特性曲線を作製した後、現像済み熱現像感光材料
を、画像保存性評価として光を当てながら４０℃、６０
％の恒温恒湿器に５日間投入したのち、再度濃度測定を
行った。具体的には、恒温恒湿器への投入前の濃度点
３．５と、恒温恒湿機による光照射後の同濃度点の濃度
値を測定し、（処理前の濃度３．５−処理後の濃度）を
算出し、これを画像保存性の尺度とした。

【０２８０】〔黒ポツの評価〕上記作製した熱現像処理
済みの各試料の未露光部分を１００倍のルーペで目視観
察して、黒ポツの評価を１〜５のランク評価を行った。
全く黒ポツが見られないものを５ランクとし、黒ポツの
量と大きさが増すにつれ４、３、２、１と評価を下げて
いった。ランク３未満は実用に耐えないと判断した。

【０２８１】以上により得られた各結果を表１に示す。

【０２８２】

【表１】

【０２８３】表１より明らかなように、本発明に係る特
性曲線で表される各特性値を有し、かつ本発明に係る各
化合物を含有する試料１０２は、比較試料１０１に対
し、生、処理後の保存安定性及び黒ポツ耐性に優れてい
ることが判る。

【０２８４】実施例２ 《熱現像感光材料の作製》 （ハロゲン化銀粒子Ｃの調製）水７００ｍｌに、フタル
化ゼラチン２２ｇおよび臭化カリウム３０ｍｇを、溶解
して温度を４０℃、ｐＨを５．０に合わせた後、硝酸銀
１８．６ｇを含む水溶液１５９ｍｌと臭化カリウムを含
む水溶液１５９ｍｌを、等速添加によるダブルジェット
法で１０分間かけて添加した。次いで、硝酸銀５５．４
ｇを含む水溶液４７６ｍｌとＫ₃〔ＩｒＣｌ₆〕^3-を８×
１０^-6モル／リットル及び臭化カリウムを１モル／リッ
トル含む水溶液とを、等速添加によるダブルジェット法
で１５分かけて添加した。その後、ｐＨ５．９、ｐＡｇ
８．０に調整した。得られた粒子は、平均粒子サイズ
０．０８μｍ、分散度４５％、（１００）面積率４０％
の非単分散立方体ハロゲン化銀粒子であった。このハロ
ゲン化銀粒子Ｃを、温度６０℃に昇温して銀１モル当た
り８．５×１０^-5モルのチオ硫酸ナトリウム、１．１×
１０^-5モルの２，３，４，５，６−ペンタフルオロフェ
ニルジフェニルフォスフィンセレニド、１×１０^-6モル
のテルル化合物−１、３．３×１０^-6モルの塩化金酸、
２．３×１０^-4モルのチオシアン酸を添加して熟成し
た。その後、温度を５０℃にして８×１０^-4モルの増感
色素Ｃを攪拌しながら添加し、更に、３．５×１０^-2モ
ルの沃化カリウムを添加して３０分間攪拌し、３０℃に
急冷してハロゲン化銀粒子Ｃの調製を完了した。

【０２８５】

【化５８】

【０２８６】（有機銀塩Ｃ微結晶分散物の調製）ベヘン
酸４０ｇ、ステアリン酸７．３ｇ、蒸留水５００ｍｌ
を、９０℃で１５分間混合し、激しく攪拌しながら１モ
ル／ＬのＮａＯＨ水溶液１８７ｍｌを１５分かけて添加
し、１モル／Ｌの硝酸水溶液６１ｍｌを添加して５０℃
に降温した。次に、１モル／Ｌの硝酸銀水溶液１２４ｍ
ｌを添加して、そのまま５分間攪拌した。その後、吸引
濾過で固形分を濾過し、濾水の伝導度が３０μＳ／ｃｍ
になるまで固形分を水洗した。こうして得られた固形分
は、乾燥させないでウェットケーキとして取り扱い、乾
燥固形分３４．８ｇ相当のウェットケーキに対して、ポ
リビニルアルコール１２ｇおよび水１５０ｍｌを添加
し、よく混合してスラリーとした。平均直径０．５ｍｍ
のジルコニアビーズ８４０ｇを用意して、スラリーと一
緒にベッセルに入れ、分散機（１／４Ｇ−サンドグライ
ンダーミル：アイメックス（株）社製）にて３０分間分
散し、体積加重平均１．６μｍで分散度５５％の非単分
散の有機銀塩Ｃ微結晶分散物を得た。粒子サイズの測定
は、Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｔ
ｄ．製 Ｍａｓｔｅｒ ＳａｉｚｅｒＸにて行った。

【０２８７】（ハロゲン化銀粒子Ｄの調製）水７００ｍ
ｌに、フタル化ゼラチン２２ｇおよび臭化カリウム３０
ｍｇを、溶解して温度４０℃にてｐＨを５．０に合わせ
た後、硝酸銀１８．６ｇを含む水溶液１５９ｍｌと臭化
カリウムを含む水溶液を、ｐＡｇ７．７に保ちながらコ
ントロールドダブルジェット法で１０分間かけて添加し
た。ついで、硝酸銀５５．４ｇを含む水溶液４７６ｍｌ
とＫ₃〔ＩｒＣｌ₆〕^3-を８×１０^-6モル／リットル及び
臭化カリウムを１モル／リットル含む水溶液とを、ｐＡ
ｇ７．７に保ちながらコントロールドダブルジェット法
で３０分かけて添加した。その後ｐＨ５．９、ｐＡｇ
８．０に調整した。得られた粒子は、平均粒子サイズ
０．０７μｍ、分散度１５％の（１００）面比率８５％
の単分散立方体ハロゲン化銀粒子であった。

【０２８８】このハロゲン化銀粒子Ｄを、温度６０℃に
昇温して銀１モル当たり８．５×１０^-5モルのチオ硫酸
ナトリウム、１．１×１０^-5モルの２，３，４，５，６
−ペンタフルオロフェニルジフェニルフォスフィンセレ
ニド、２×１０^-6モルのテルル化合物−１、３．３×１
０^-6モルの塩化金酸、２．３×１０^-4モルのチオシアン
酸を添加して、１２０分間熟成した。その後、温度を５
０℃にして８×１０^-4モルの増感色素Ｃを攪拌しながら
添加し、更に、３．５×１０^-2モルの沃化カリウムを添
加して３０分間攪拌し、３０℃に急冷してハロゲン化銀
粒子Ｄの調製を完了した。

【０２８９】（有機銀塩Ｄ微結晶分散物の調製）ベヘン
酸４０ｇ、ステアリン酸７．３ｇ、蒸留水５００ｍｌ
を、９０℃で１５分間混合し、激しく攪拌しながら１モ
ル／ＬのＮａＯＨ水溶液１８７ｍｌを１５分かけて添加
し、１モル／Ｌの硝酸水溶液６１ｍｌを添加して５０℃
に降温した。次に、１モル／Ｌの硝酸銀水溶液１２４ｍ
ｌを添加してそのまま３０分間攪拌した。その後、吸引
濾過で固形分を濾過し、濾水の伝導度が３０μＳ／ｃｍ
になるまで固形分を水洗した。こうして得られた固形分
は、乾燥させないでウェットケーキとして取り扱い、乾
燥固形分３４．８ｇ相当のウェットケーキに対して、ポ
リビニルアルコール１２ｇおよび水１５０ｍｌを添加
し、よく混合してスラリーとした。平均直径０．５ｍｍ
のジルコニアビーズ８４０ｇを用意してスラリーと一緒
にベッセルに入れ、分散機（１／４Ｇ−サンドグライン
ダーミル：アイメックス（株）社製）にて４時間分散
し、体積加重平均１．２μｍで分散度２０％の単分散の
有機銀塩Ｄ微結晶分散物を得た。粒子サイズの測定は、
Ｍａｌｖｅｒｎ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｔｄ．製
Ｍａｓｔｅｒ ＳａｉｚｅｒＸにて行った。この分散
物に、フェニルプロミドペルブロミドの６％メタノール
溶液を３ｍｌ添加した。分散物中のハロゲン化銀を電子
顕微鏡で観察したところ、０．０１μｍ未満のハロゲン
化銀粒子が観察できた。

【０２９０】（各素材の固体微粒子分散物の調製）テト
ラクロロフタル酸、４−メチルフタル酸、１，１−ビス
（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，
５，５−トリメチルヘキサン、フタラジン、トリブロモ
メチルスルフォニルベンゼンについて、下記の方法にて
各固体微粒子分散物を調製した。

【０２９１】テトラクロロフタル酸５．４ｇに対して、
ヒドロキシプロピルセルロース０．８１ｇと水９４．２
ｍｌとを添加し、よく攪拌してスラリーとして１０時間
放置した。その後、平均直径０．５ｍｍのジルコニアビ
ーズを、１００ｍｌとスラリーとを一緒にベッセルに入
れて、有機銀塩微結晶分散物の調製に用いたものと同じ
型の分散機で、５時間分散してテトラクロロフタル酸の
固体微結晶分散物を得た。固体微粒子の粒子サイズは、
７０質量％が１．０μｍ以下であった。その他の素材に
ついても、所望の平均粒径を得るために、適宜分散剤の
使用量および分散時間を変更して、各固体微粒子分散物
を得た。

【０２９２】（各塗布液の調製） 〔画像形成層塗布液Ｃ〕上記調製した有機銀塩Ｃ微結晶
分散物に対して、下記の各組成物を添加して画像形成層
塗布液Ｃを調製した。

【０２９３】 有機銀塩Ｃ微結晶分散物 １モル ハロゲン化銀粒子Ｃ ０．０５モル バインダー：ＳＢＲラテックス（ＬＡＣＳＴＡＲ ３３０７Ｂ 大日本インキ化学工業社製） ４３０ｇ テトラクロロフタル酸 ５ｇ １，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，５，５− トリメチルヘキサン ９８ｇ フタラジン ９．０ｇ トリブロモメチルフェニルスルホン １２ｇ ４−メチルフタル酸 ７ｇ ビニル化合物：例示化合物８−３ ８ｇ ヒドラジン誘導体：例示化合物Ｈ−６ ５ｇ なお、ＬＡＣＳＴＡＲ ３３０７Ｂは、スチレン−ブタ
ジエン系コポリマーのラテックスであり、分散粒子の平
均粒径は０．１〜０．１５μｍ、ポリマーの２５℃、６
０％ＲＨにおける平衡含水率は０．６％であった。

【０２９４】〔画像形成層塗布液Ｄ〕上記調製した有機
銀塩Ｄ微結晶分散物に対して、下記の各組成物を添加し
て画像形成層塗布液Ｄを調製した。

【０２９５】 有機銀塩Ｄ微結晶分散物 １モル ハロゲン化銀粒子Ｄ ０．０５モル バインダー：ＳＢＲラテックス（ＬＡＣＳＴＡＲ ３３０７Ｂ 大日本インキ化学工業社製） ４３０ｇ テトラクロロフタル酸 ５ｇ １，１−ビス（２−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３，５，５− トリメチルヘキサン ９８ｇ フタラジン ９．０ｇ トリブロモメチルフェニルスルホン １２ｇ ４−メチルフタル酸 ７ｇ ビニル化合物：例示化合物８−３ ８ｇ ヒドラジン誘導体：例示化合物Ｈ−６ ５ｇ 〔表面保護層塗布液３〕下記の各組成物を添加して表面
保護層塗布液３を調製した。

【０２９６】 イナートゼラチン １０ｇ 界面活性剤Ａ ０．２６ｇ 界面活性剤Ｂ ０．０９ｇ シリカ微粒子（平均粒径２．５μｍ） ０．１ｇ １，２−（ビスビニルスルホンアセトアミド）エタン ０．１ｇ 水 ６５ｇ 〔表面保護層塗布液４〕下記の各組成物を添加して表面
保護層塗布液４を調製した。

【０２９７】 イナートゼラチン １０ｇ 界面活性剤Ａ ０．２６ｇ 界面活性剤Ｂ ０．０９ｇ シリカ微粒子（平均粒径２．５μｍ） ０．９ｇ コロイダルシリカ ０．５ｇ １，２−（ビスビニルスルホンアセトアミド）エタン ０．５ｇ 水 ６４ｇ 〔バック層塗布液２〕下記の各組成物を添加してバック
層塗布液２を調製した。

【０２９８】 ポリビニルアルコール ３０ｇ 染料−Ｃ ５ｇ 水 ２５０ｇ シルデックスＨ１２１（洞海化学（株）製真球状シリカ平均サイズ１２μｍ） １．８ｇ

【０２９９】

【化５９】

【０３００】（熱現像感光材料の作製）上記のように調
製した画像形成層塗布液Ｃ、Ｄを、それぞれ準絶対濾過
精度２０μｍのフィルタを用いて濾過したのち、実施例
１で作製したと同様の下引加工済みのＰＥＴ支持体上の
下引上層Ａ−２面上に、銀塗布量として１．６ｇ／ｍ²
になるように塗布を行い、試料２０１、２０２を作製し
た。次いで、その上に試料２０１では、準絶対濾過精度
２０μｍのフィルタを用いて濾過した表面保護層塗布液
３を、また、試料２０２では準絶対濾過精度２０μｍの
フィルタを用いて濾過した表面保護層塗布液４を、それ
ぞれゼラチンの塗布量が１．８ｇ／ｍ²になるように塗
布した。ついで、試料２０１は５５℃、１分乾燥を行
い、試料２０２は６５℃、２０分で乾燥を行った。乾燥
後、画像形成層と反対側の下引上層Ｂ−２面上に、上記
調製したバック層塗布液２を、７８０ｎｍにおける光学
濃度が０．７になるように塗布し、表２に記載の構成に
よる熱現像感光材料試料２０１及び２０２を作製した。
なお、試料２０２の画像形成層側表面のビッカース硬度
は１１０であった。

【０３０１】塗布乾燥後、電子顕微鏡写真にてそれぞれ
の感光材料に含まれるハロゲン化銀粒子を観察した。５
００個のハロゲン化銀粒子の粒径を測定したところ、試
料２０１は０．０１μｍ未満のハロゲン化銀粒子はほと
んど観察できなかったが、試料２０２は０．０１μｍ未
満の粒子は、全体のハロゲン化銀粒子の５０個数％であ
った。

【０３０２】《各試料の露光、熱現像処理、各特性値の
算出及び諸性能の評価》以上により作製した熱現像感光
材料である試料２０１、２０２を用いて、実施例１と同
様の方法にて、露光、熱現像を施し、各特性値の算出及
び保存安定性、黒ポツ耐性の評価を行い、得られた結果
を表２に示す。

【０３０３】

【表２】

【０３０４】表２より明らかなように、実施例１と同様
に本発明に係る特性曲線で表される各特性値を有し、か
つ本発明に係る各化合物を含有する試料２０２は、比較
試料２０１に対し、生、処理後の保存安定性及び黒ポツ
耐性に優れていることが判る。

【０３０５】実施例３ 《熱現像感光材料の作製》下引済み支持体及び表面保護
層を以下に記載のものに変更した以外は、実施例２で作
製した試料２０１及び２０２と同様にして、試料３０１
及び３０２を作製した。

【０３０６】（下引き加工処理をしたＰＥＴ支持体の作
製） 〔支持体の作製〕テレフタル酸とエチレングリコールを
用い、常法に従いＩＶ（固有粘度）が０．６６（フェノ
ール／テトラクロルエタン＝６／４質量比中、２５℃で
測定）のＰＥＴを得た。これをペレット化した後、１３
０℃で４時間乾燥し、３００℃で溶融後Ｔ型ダイから押
し出した後急冷し、熱固定後の膜厚が１２０μｍになる
ように未延伸フィルムを作製した。これを周速の異なる
ロールを用い３．３倍に縦延伸、ついでテンターで４．
５倍に横延伸を実施した。この時の温度は、それぞれ１
１０℃、１３０℃であった。ついで、２４０℃で２０秒
間熱固定後、これと同じ温度で横方向に４％緩和した。
その後、テンターのチャック部をスリットした後、両端
にナール加工を行い、４７Ｎ／ｃｍ²で巻き取った。こ
のようにして、幅２．４ｍ、長さ３５００ｍ、厚み１２
０μｍの支持体を作製した。

【０３０７】〔下引き加工処理〕上記作製した支持体の
両面に、下記下引層ａと下引層ｂを順次塗布し、それぞ
れ１８０℃、４分間乾燥した。次いで、下引層ａと下引
層ｂを塗布した上の一方の面に下記導電層と保護層を順
次塗布し、それぞれ１８０℃、４分間乾燥して下引層を
有するＰＥＴ支持体を作製した。このようにして作製し
た下引層を有するＰＥＴ支持体を、２００℃に設定した
全長２００ｍの熱処理ゾーンに入れ、張力３０Ｎ／ｃｍ
²、搬送速度２０ｍ／分で搬送した。その後で、４０℃
のゾーンに１５秒間通し、１００Ｎ／ｃｍ²の巻き取り
張力で巻き取った。

【０３０８】 〈下引層ａ〉 ポリマーラテックス：スチレン／ブタジエン／ヒドロキシエチルメタ クリレート／ジビニルベンゼン＝６７／３０／２．５／０．５（質量％） １６０ｍｇ／ｍ² ２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−ｓ−トリアジン ４ｍｇ／ｍ² マット剤（ポリスチレン、平均粒子径２．４μｍ） ３ｍｇ／ｍ² 〈下引層ｂ〉 アルカリ処理ゼラチン（Ｃａ²⁺含量３０ｐｐｍ、ゼリー強度２３０ｇ） ５０ｍｇ／ｍ² 化合物Ｃ ７８０ｎｍの光学濃度が０．７となる塗布量

【０３０９】

【化６０】

【０３１０】 〈導電層〉 ジュリマーＥＴ−４１０（日本純薬（株）製） ３８ｍｇ／ｍ² ＳｎＯ₂／Ｓｂ（９／１質量比、平均粒子径０．２５μｍ） １２０ｍｇ／ｍ² マット剤（ポリメチルメタクリレート、平均粒子径５μｍ） ７ｍｇ／ｍ² メラミン １３ｍｇ／ｍ² 〈保護層〉 ケミパールＳ−１２０（三井石油化学（株）製） ５００ｍｇ／ｍ² スノーテックス−Ｃ（日産化学（株）製） ４０ｍｇ／ｍ² デナコールＥＸ−６１４Ｂ（長瀬化成工業（株）製） ３０ｍｇ／ｍ² （熱現像感光材料の作製）上記作製した下引層を有する
ＰＥＴ支持体の下引層の上に、実施例２で調製したのと
同様の画像形成層塗布液Ｃ、Ｄを、それぞれ塗布銀量が
１．６ｇ／ｍ²になるように塗布して試料３０１、３０
２を作製した。ついで、試料３０１では画像形成層Ｃの
上に下記表面保護層塗布液５を、また、試料３０２では
画像形成層Ｄの上に下記表面保護層塗布液６を、それぞ
れポリマーラテックスの塗布量が２．０ｇ／ｍ²になる
ように塗布して、表３に示す構成からなる熱現像感光材
料である試料３０１及び３０２を作製した。

【０３１１】〈表面保護層塗布液５〉４０％のポリマー
ラテックス（メチルメタクリレート／スチレン／２−エ
チルヘキシルアクリレート／２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート／メタアクリル酸：５９／９／２６／５／１
の質量比の共重合体）５００ｇに、水２６２ｇを加え、
造膜助剤としてベンジルアルコール１４ｇ、化合物Ｄを
２．５ｇ、セロゾール５２４（中京油脂社製）２．５
ｇ、化合物Ｅを１２ｇ、化合物Ｆを１ｇ、化合物Ｇを２
ｇ、化合物Ｈを７．５ｇ、マット剤として平均粒径３μ
ｍのポリメチルメタクリレート微粒子０．５ｇを順次加
えて、さらに水を加えて１０００ｇとし、２５℃におけ
る粘度が５ｃｐ、ｐＨが４．５の表面保護層塗布液５を
調製した。

【０３１２】

【化６１】

【０３１３】〈表面保護層塗布液６〉４０％のポリマー
ラテックス（メチルメタクリレート／スチレン／２−エ
チルヘキシルアクリレート／２−ヒドロキシエチルメタ
クリレート／メタアクリル酸：５９／９／２６／５／１
の質量比の共重合体）５００ｇに、水２６２ｇを加え、
造膜助剤としてベンジルアルコール１４ｇ、化合物Ｄを
２．５ｇ、セロゾール５２４（中京油脂社製）３．６
ｇ、化合物Ｅを１２ｇ、化合物Ｆを１ｇ、化合物Ｇを２
ｇ、化合物Ｈを７．５ｇ、マット剤として平均粒径３μ
ｍのポリメチルメタクリレート微粒子３．４ｇ及びコロ
イダルシリカ１ｇを順次加えて、さらに水を加えて１０
００ｇとし、２５℃における粘度が５ｃｐ、ｐＨが３．
４の表面保護層塗布液６を調製した。

【０３１４】《各試料の露光、熱現像処理、各特性値の
算出及び諸性能の評価》以上により作製した熱現像感光
材料である試料３０１、３０２を用いて、実施例１と同
様の方法にて、露光、熱現像を施し、各特性値の算出及
び保存安定性、黒ポツ耐性の評価を行い、得られた結果
を表３に示す。

【０３１５】

【表３】

【０３１６】表３より明らかなように、実施例１と同様
に本発明に係る特性曲線で表される各特性値を有し、か
つ本発明に係る各化合物を含有する試料３０２は、比較
試料３０１に対し、生、処理後の保存安定性及び黒ポツ
耐性に優れていることが判る。

【０３１７】実施例４ 《各試料の露光、熱現像処理》実施例１で作製した試料
１０１と１０２を用いて、図１に示す構造の自動熱現像
機を用いた以外は実施例１と同様にして、露光、熱現像
処理を行った。

【０３１８】図１は、感光材料シートＡを処理するのに
必要な温度に加熱された加熱体である植毛鋼板からなる
プレートヒータ１２０と、感光材料シートＡをプレート
ヒータ１２０の表面に接触させつつ、プレートヒータ１
２０に対して相対的に移動させる（滑らせる）供給ロー
ラ対１２６と、プレートヒータ１２０からシートＡへの
伝熱のため、感光材料シートＡのプレートヒータ１２０
との接触面の裏側を押圧する手段である押さえローラ１
２２とを備える。プレートヒータ１２０は平板プレート
としている。このプレートヒータ１２０は、その内部に
ニクロム線の発熱体を平面状に敷設して収容した板状の
加熱部材であり、感光材料の現像温度に維持される。感
光材料は露光後、駆動装置により駆動される供給ローラ
対１２６を介して自動熱現像機１８に案内される。そし
て、供給ローラ対１２６の駆動移送により、シリコンゴ
ムからなる押さえローラ１２２とプレートヒータ１２０
との間を通過し、熱処理が施される。熱処理を終えた感
光材料は排出ローラ対１２８を介して排出される。擦り
傷などをなるべく避けるために、感光材料のバック層側
がプレートヒータ１２０に接する。押さえローラ１２２
は、プレートヒータ１２０の一方の面に接して、または
感光材料の厚み以下の間隔をもってプレートヒータ１２
０の搬送方向全長に亘り、所定のピッチで配設され、そ
れらの押さえローラ１２２とプレートヒータ１２０とに
よってシート搬送路１２４を形成している。シート搬送
路１２４の両端には、感光材料の移送手段である供給ロ
ーラ対１２６と排出ローラ対１２８とが配設されてい
る。

【０３１９】《各特性値の算出及び諸性能の評価》以上
の熱現像自動現像機を用いて熱現像処理した熱現像感光
材料試料４０１、４０２について、実施例１と同様の方
法で、各特性値の算出及び保存安定性、黒ポツ耐性の評
価を行い、得られた結果を表４に示す。

【０３２０】

【表４】

【０３２１】表４より明らかなように、実施例１と同様
に本発明に係る特性曲線で表される各特性値を有し、か
つ本発明に係る各化合物を含有する試料４０２は、比較
試料４０１に対し、生、処理後の保存安定性及び黒ポツ
耐性に優れていることが判る。

【０３２２】

【発明の効果】本発明により、保存安定性に優れ、現像
後のカブリ上昇が抑制され、かつ黒ポツ発生が少ない熱
現像感光材料およびその画像形成方法を提供することが
できた。

【図面の簡単な説明】

【図１】自動熱現像機の概略図である。

【符号の説明】

Ａ 感光材料シート １２０ プレートヒータ １２２ 押さえローラ １２２ａ 最上流押さえローラ １２２ｂ 最下流押さえローラ １２４ シート搬送路 １２５ 保温カバー １２６ 供給ローラ対 １２８ 排出ローラ対

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩及び
   還元剤を有する熱現像感光材料において、現像温度１２
   ２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる画像の
   特性曲線における光学濃度０．３５と３．２の点を結ぶ
   直線の傾き（γ₁）が１０以上であることを特徴とする
   熱現像感光材料。
2. 【請求項２】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩及び
   還元剤を有する熱現像感光材料において、現像温度１２
   ２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる画像の
   特性曲線における光学濃度１．０と３．２の点を結ぶ直
   線の傾き（γ ₂）が１５以上であることを特徴とする熱
   現像感光材料。
3. 【請求項３】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩及び
   還元剤を有する熱現像感光材料において、現像温度１２
   ２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる画像の
   特性曲線における光学濃度０．３５と３．２の点を結ぶ
   直線の傾き（γ₁）が１０以上であり、かつ光学濃度
   １．０と３．２の点を結ぶ直線の傾き（γ₂）が１５以
   上であることを特徴とする熱現像感光材料。
4. 【請求項４】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩及び
   還元剤を有する熱現像感光材料において、現像温度１２
   ２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる画像の
   最高濃度Ｄｍａｘを銀量Ｇ（ｇ／ｍ²）で割った値（カ
   バーリングパワー値）が２．８以上であり、かつ最低濃
   度Ｄｍｉｎが０．２５以下であることを特徴とする熱現
   像感光材料。
5. 【請求項５】 支持体上にハロゲン化銀、有機銀塩及び
   還元剤を有する熱現像感光材料において、現像温度１２
   ２℃、現像時間１８秒で熱現像処理して得られる画像の
   光学濃度１．０を得るのに必要な露光量から露光量の対
   数で＋０．５の露光を与えた時に得られる画像濃度が
   ４．０以上であることを特徴とする熱現像感光材料。
6. 【請求項６】 有機銀塩を有する面側の構成層の少なく
   とも１層が、硬調化剤を含有することを特徴とする請求
   項１〜５のいずれか１項記載の熱現像感光材料。
7. 【請求項７】 有機銀塩を有する面側の構成層の少なく
   とも１層が、フタラジンおよびその誘導体、およびフタ
   ラジノンおよびその誘導体から選ばれた少なくとも１種
   の化合物を含有することを特徴とする請求項１〜６のい
   ずれか１項記載の熱現像感光材料。
8. 【請求項８】 有機銀塩を有する面側の構成層の少なく
   とも１層が、フタル酸およびその誘導体から選ばれた少
   なくとも１種の化合物を含有することを特徴とする請求
   項１〜７のいずれか１項記載の熱現像感光材料。
9. 【請求項９】 有機銀塩を有する面側の構成層の少なく
   とも１層が、下記一般式（１）または一般式（２）で表
   される化合物を含有することを特徴とする請求項１〜８
   のいずれか１項記載の熱現像感光材料。 【化１】 〔式中、Ａｒは芳香族炭化水素基または芳香族複素環基
   を表し、Ｔ₁は脂肪族炭化水素基からなる２価の連結基
   または連結基を表し、Ｊ₁は酸素原子、硫黄原子または
   窒素原子を一つ以上含む２価の連結基または連結基を表
   す。Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ及びＲｄは各々、水素原子、アシ
   ル基、脂肪族炭化水素基、アリール基または複素環基を
   表し、更に、一般式（１）において、ＲａとＲｂ、Ｒｃ
   とＲｄ、ＲａとＲｃあるいはＲｂとＲｄの間で結合し、
   一般式（２）において、ＲａとＲｂ、ＲａとＲｃあるい
   はＲｂとＲｃの間で結合し、含窒素複素環基を形成する
   ことができる。Ｍ₁は分子内の電荷を中和するに必要な
   イオンを表す。〕
10. 【請求項１０】 有機銀塩を有する面側の構成層の少な
    くとも１層が、下記一般式（３）または一般式（４）で
    表される化合物の少なくとも１種含有することを特徴と
    する請求項１〜９のいずれか１項記載の熱現像感光材
    料。 一般式（３） Ａｒ−（Ｒ）_n−ＳＭ 〔式中、Ｍは水素原子またはアルカリ金属原子である。
    Ｒは２価の連結基を表し、ｎは０または１を表す。Ａｒ
    は芳香族環または１個以上の窒素、硫黄、酸素、セレニ
    ウムまたはテルリウム原子を有する複素芳香環であり、
    それぞれ置換基を有してもよい。〕 一般式（４） Ａｒ−（Ｒ）_n−Ｓ−Ｓ−（Ｒ）_n−Ａｒ 〔式中のＡｒ、Ｒ、ｎは上記一般式（３）のそれぞれと
    同義である。〕
11. 【請求項１１】 有機銀塩を有する面側の構成層の少な
    くとも１層が、酸無水物を含有することを特徴とする請
    求項１〜１０のいずれか１項記載の熱現像感光材料。
12. 【請求項１２】 請求項１〜１１のいずれか１項記載の
    熱現像感光材料を露光後、熱現像処理して画像を形成せ
    しめることを特徴とする熱現像感光材料の画像形成方
    法。